CN111864092A - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示装置，包括阵列基板、发光器件层以及彩膜滤光片；发光器件层包括多个发光单元；彩膜滤光片包括多个与发光单元一一对应设置的滤光单元；在滤光单元内和/或在发光单元内掺杂纳米粒子实现对210nm‑380nm的紫外光的吸收。本发明可将紫外光完全吸收，提高了发光器件抗紫外光损伤能力。

Description

显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示装置。
背景技术
随着科技发展以及人们对产品要求的提高，有机发光二极管(OLED)显示屏寿命和耐候性成为日受关注的领域。对于现行的OLED显示屏，其显示主要通过每个像素点内的EL材料电致发光实现。其发光器件(EL)主要包括具有电子或空穴注入、电子或空穴传输及发光材料等大分子或小分子有机物。但上述有机物材料在紫外光(UV)的照射下已发生分解进而导致EL材料失效，最终OLED显示屏的寿命缩短。而对于OLED手机显示屏，其在户外太阳光的照射下易受到强烈的紫外光照射。故如何防止紫外光导致的OLED显示屏寿命问题成为迫切需要解决的问题。
对于现行的OLED显示屏，其主要通过偏光片对紫外光的消光及发光器件的阴极对紫外光的反射避免紫外光对发光材料的损伤。
如图1所示，为外挂式偏光片的OLED显示屏910的结构示意图，阵列基板91上设有发光层92，在发光层92上覆盖有封装层93、触控层94、偏光片95以及盖板96，但由于偏光片95自身厚度的限制，外挂式偏光片95会导致显示屏厚度的增大，不利于OLED显示屏的动态弯折。
如图2所示，为彩色滤光片集成的无偏光片的OLED显示屏921的结构示意图，为提高显示屏的可弯折性，可通过无偏光片的方式降低显示屏的整体厚度，现行的无偏光片技术相对于图1主要为设置与发光层92的像素点R、G、B对应的彩色滤光片97代替偏光片95，其原理主要是通过像素点R、G、B上方一一对应的彩色滤光单元R’、G’、B’吸收该像素点R、G、B以外其他颜色的光实现显示屏反射率的降低。但彩色滤光单元R’、G’、B’对于其他波长的光吸收不能达到100％，故仍少量光照射到彩色滤光单元R’、G’、B’下方的发光层92的像素点R、G、B内，故集成有彩色滤光片97的OLED显示屏无法完美地避免各波长的紫外光对发光材料的损伤。
发明内容
本发明提供一种显示装置，用于解决目前OLED显示屏结构的外挂偏光片或彩膜滤光片无法100％吸收外界紫外光，外界紫外光易照射到发光器件上，像素点内的发光材料在受到紫外线光照射时易受到损伤，进而缩短显示屏的寿命的技术问题。
本发明提供一种显示装置，包括阵列基板、发光器件层以及彩膜滤光片；所述发光器件层设于所述阵列基板上，包括多个发光单元；所述彩膜滤光片设于所述发光器件层上，包括多个与所述发光单元一一对应设置的滤光单元；其中，在所述滤光单元内和/或在所述发光单元内掺杂纳米粒子实现对210nm-380nm的紫外光的吸收。
进一步地，所述纳米粒子的尺寸范围在5nm-100nm。
进一步地，所述纳米粒子的形状包括球形、立方体、板形中的一种或多种。
进一步地，所述纳米粒子的材料为贵金属材料，包括但不限于金、银。
进一步地，所述发光单元包括红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素以及白色子像素；所述滤光单元包括红色色阻、绿色色阻以及蓝色色阻。
进一步地，所述发光器件层设有电子注入层；所述纳米粒子掺杂到所述电子注入层内，或者在电子注入层表面掺杂所述纳米粒子。
进一步地，通过涂布、蒸镀或喷墨打印的方式制作所述滤光单元并掺杂所述纳米粒子；所述滤光单元的厚度范围为在1um-100um。
进一步地，所述彩膜滤光片中还包括：多个黑色支撑柱，与所述滤光单元间隔设置；所述黑色支撑柱的厚度大于所述滤光单元的厚度3um-21um。
进一步地，所述彩膜滤光片中还包括：封装层，覆盖于所述黑色支撑柱及所述滤光单元上；所述封装层通过涂布、蒸镀或喷墨打印的方式制作。
进一步地，所述阵列基板包括像素定义层、多个支撑柱以及阴极层；所述像素定义层设有多个像素定义槽，所述发光单元设于所述像素定义槽内；所述多个支撑柱设于所述像素定义层上；所述阴极层设于所述发光单元上；其中，所述滤光单元设于所述阴极层上且位于所述支撑柱之间，并对应所述像素定义槽设置；所述滤光单元的厚度范围为1um-21um。
本发明的有益效果在于，提供一种显示装置，通过在所述滤光单元内和/或在所述发光单元内掺杂纳米粒子实现对210nm-380nm的紫外光的吸收，可将紫外光完全吸收，提高了发光器件抗紫外光损伤能力。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为外挂式偏光片的OLED显示屏的结构示意图。
图2为彩色滤光片集成的无偏光片的OLED显示屏的结构示意图。
图3为本发明实施例1中所述显示装置的结构示意图。
图4为本发明实施例中所述纳米粒子在受到紫外光照射时会产生等离激元效应的示意图。
图5为本发明实施例1中另一种所述阵列基板的结构示意图。
图6为本发明实施例2中所述显示装置的结构示意图。
图7为本发明实施例3中所述发光器件层的结构示意图。
附图中的标识如下：
1、阵列基板，2、发光器件层，3、彩膜滤光片，
10、纳米粒子，20、发光单元，21、空穴注入层，
22、有机发光层，23、电子注入层，31、滤光单元，
32、黑色支撑柱，33、封装层，100、显示装置。
101、衬底层，102、有源层，103、第一栅极绝缘层，
104、第一金属层，105、第二栅极绝缘层，106、第二金属层，
107、层间绝缘层，108、源漏极层，109、平坦层，
110、阳极层，111、像素定义层，112、支撑柱，
113、阴极层，114、薄膜封装层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。
实施例1
请参阅图3所示，本发明实施例1提供一种显示装置100，包括阵列基板1、发光器件层2以及彩膜滤光片3；所述发光器件层2设于所述阵列基板1上，包括多个发光单元20；所述彩膜滤光片3设于所述发光器件层2上，包括多个与所述发光单元20一一对应设置的滤光单元31；其中，在所述滤光单元31内掺杂纳米粒子10实现对210nm-380nm的紫外光的吸收，优选对250nm-380nm波段的紫外光吸收。
本实施例中，所述纳米粒子10的尺寸范围在5nm-100nm。通过调节纳米粒子10的尺寸参数可使其在紫外波段具有等离激元效应。
本实施例中，所述纳米粒子10的形状包括球形、立方体、板形中的一种或多种。不同形状和尺寸的纳米粒子10，有助于实现对210nm-380nm的紫外光的吸收。所述纳米粒子10受到紫外光照射时通过等离激元效应将紫外光转化为声子、热辐射等，进而可通过吸收紫外光实现对发光器件发光效率的提升。
本实施例中，所述纳米粒子10的材料为贵金属材料，包括但不限于金、银。掺杂的纳米粒子10在受到紫外光(图中用箭头表示)照射时会产生等离激元效应，如图4所示。纳米粒子10在紫外光的照射下，表面的自由电子与紫外光相互振荡进而形成表面波，纳米粒子10吸收紫外光激发出来的电子和空穴分布在纳米粒子10的两端，此时纳米粒子10可等效为电偶极子。通过调节纳米粒子10的形状、尺寸、材料等参数可实现对不同波长的紫外光的吸收。故可通过掺杂不同尺寸和形状的纳米粒子10可实现对整个紫外波段(250nm-380nm)的紫外光的吸收，可将紫外光完全吸收，提高了发光器件抗紫外光损伤能力。
由于纳米粒子只对紫外光具有等离激元效应，故下方所述发光器件层2上的所述发光单元20发出的红绿蓝三色光穿过所述彩膜滤光片3的滤光单元31时不受纳米粒子10的影响。
本实施例中，所述发光单元20包括红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素以及白色子像素；所述滤光单元31包括红色色阻、绿色色阻以及蓝色色阻。
本实施例中，通过涂布、蒸镀或喷墨打印的方式制作所述滤光单元31并掺杂所述纳米粒子10；所述滤光单元31的厚度范围为在1um-100um。
本实施例中，所述彩膜滤光片3中还包括：多个黑色支撑柱32，与所述滤光单元31间隔设置；所述黑色支撑柱32的厚度大于所述滤光单元31的厚度3um-21um。
本实施例中，所述彩膜滤光片3中还包括：封装层33，覆盖于所述黑色支撑柱32及所述滤光单元31上；所述封装层33通过涂布、蒸镀或喷墨打印的方式制作，起到平坦膜层表面作用，既作为所述彩膜滤光片3的保护层，又可以阻隔水氧侵袭。
在图3中，所述阵列基板1包括从下至上依次层叠设置的衬底层101、有源层102、第一栅极绝缘层103、第一金属层104、第二栅极绝缘层105、第二金属层106、层间绝缘层107、源漏极层108、平坦层109、阳极层110、像素定义层111以及多个支撑柱112；所述像素定义层111设有多个像素定义槽，所述发光单元20设于所述像素定义槽内；所述多个支撑柱112设于所述像素定义层环绕所述像素定义槽设置。
在所述发光单元20上还设有阴极层113及薄膜封装层114，所述阴极层113与所述阳极层110共同驱动所述发光单元20发光。所述薄膜封装层114覆盖于所述阴极层113上，用于阻隔水氧。
可理解的是，如图5所示，在其他实施例中所述阵列基板1还可以包括从下至上依次层叠设置的衬底层101、第一金属层104、第一栅极绝缘层103、有源层102、源漏极层108、平坦层109、阳极层110、像素定义层111以及多个支撑柱112。
实施例2
如图6所示，在实施例2中包括实施例1中大部分的技术特征，其区别在于，实施例2中的彩膜滤光片3与所述阵列基板1一体化设置，将所述滤光单元31设置在所述阴极层113和所述封装层33之间，从而不需设置彩膜滤光片3的黑色支撑柱32及封装层33。此时所述滤光单元31的厚度在1um-21um的范围内。
其中所述支撑柱112代替所述彩膜滤光片3的黑色支撑柱32的功能，因此其设置为黑色，与所述滤光单元31间隔设置。所述滤光单元31的厚度范围为在1um-100um。所述支撑柱112的厚度大于所述滤光单元31的厚度3um-21um。具体的，所述滤光单元31设于所述阴极层113上且位于所述支撑柱112之间，并对应所述像素定义槽设置。这样设置可进一步减少的厚度。
实施例3
在实施例3中包括实施例1或实施例2中大部分的技术特征，其区别在于，实施例3中在所述发光单元20内掺杂纳米粒子10实现对210nm-380nm的紫外光的吸收，可将紫外光完全吸收，提高了发光器件抗紫外光损伤能力。
可理解的是，在所述发光单元20内掺杂纳米粒子10可与在所述滤光单元31内掺杂纳米粒子10同时设置，从而进一步实现对210nm-380nm的紫外光的吸收，保证将紫外光完全吸收。
如图7所示，本实施例中，所述发光器件层2包括层叠设置的空穴注入层21、空穴传输层22、有机发光层23、电子传输层24以及电子注入层25。其中所述纳米粒子10掺杂到所述电子注入层25内，或者在电子注入层25表面掺杂所述纳米粒子10。
本实施例中，所述纳米粒子10的尺寸范围在5nm-100nm。通过调节纳米粒子10的尺寸参数可使其在紫外波段具有等离激元效应。
本实施例中，所述纳米粒子10的形状包括球形、立方体、板形中的一种或多种。不同形状和尺寸的纳米粒子10，有助于实现对210nm-380nm的紫外光的吸收。所述纳米粒子10受到紫外光照射时通过等离激元效应将紫外光转化为声子、热辐射等，进而可通过吸收紫外光实现对发光器件发光效率的提升。
本实施例中，所述纳米粒子10的材料为贵金属材料，包括但不限于金、银。掺杂的纳米粒子10在受到紫外光(图中用箭头表示)照射时会产生等离激元效应，如图4所示。纳米粒子10在紫外光的照射下，表面的自由电子与紫外光相互振荡进而形成表面波，纳米粒子10吸收紫外光激发出来的电子和空穴分布在纳米粒子10的两端，此时纳米粒子10可等效为电偶极子。通过调节纳米粒子10的形状、尺寸、材料等参数可实现对不同波长的紫外光的吸收。故可通过掺杂不同尺寸和形状的纳米粒子10可实现对整个紫外波段(250nm-380nm)的紫外光的吸收。
本发明的有益效果在于，提供一种显示装置，通过在所述滤光单元内和/或在所述发光单元内掺杂纳米粒子实现对210nm-380nm的紫外光的吸收，可将紫外光完全吸收，提高了发光器件抗紫外光损伤能力。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本发明实施例所提供的一种显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示装置，其特征在于，包括：
阵列基板；
发光器件层，设于所述阵列基板上，包括多个发光单元；以及
彩膜滤光片，设于所述发光器件层上，包括多个与所述发光单元一一对应设置的滤光单元；
其中，在所述滤光单元内和/或在所述发光单元内掺杂纳米粒子实现对210nm-380nm的紫外光的吸收。
2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述纳米粒子的尺寸范围在5nm-100nm。
3.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述纳米粒子的形状包括球形、立方体、板形中的一种或多种。
4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述纳米粒子的材料为贵金属材料，包括但不限于金、银。
5.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述发光单元包括红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素以及白色子像素；所述滤光单元包括红色色阻、绿色色阻以及蓝色色阻。
6.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述发光器件层设有电子注入层；所述纳米粒子掺杂到所述电子注入层内，或者在电子注入层表面掺杂所述纳米粒子。
7.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，通过涂布、蒸镀或喷墨打印的方式制作所述滤光单元并掺杂所述纳米粒子；所述滤光单元的厚度范围为在1um-100um。
8.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述彩膜滤光片中还包括：
多个黑色支撑柱，与所述滤光单元间隔设置；所述黑色支撑柱的厚度大于所述滤光单元的厚度3um-21um。
9.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述彩膜滤光片中还包括：
封装层，覆盖于所述黑色支撑柱及所述滤光单元上；所述封装层通过涂布、蒸镀或喷墨打印的方式制作。
10.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
所述阵列基板包括：
像素定义层，设有多个像素定义槽，所述发光单元设于所述像素定义槽内；
多个支撑柱，设于所述像素定义层上；以及
阴极层，设于所述发光单元上；
其中，所述滤光单元设于所述阴极层上且位于所述支撑柱之间，并对应所述像素定义槽设置；所述滤光单元的厚度范围为1um-21um。
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