CN111778483A

CN111778483A - 镀膜处理方法、基底及电子设备

Info

Publication number: CN111778483A
Application number: CN201910271531.7A
Authority: CN
Inventors: 王煜琨
Original assignee: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd
Current assignee: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd
Priority date: 2019-04-04
Filing date: 2019-04-04
Publication date: 2020-10-16
Anticipated expiration: 2039-04-04
Also published as: CN111778483B

Abstract

本公开是关于一种镀膜处理方法、基底及电子设备，该方法包括：对基底的任一侧进行遮蔽处理，以在基底的非图案区域形成遮蔽层；在基底的任一侧进行镀膜，以在非图案区域之外的图案区域中沉积光学膜层；褪除遮蔽层，以得到附着光学膜层的图案区域、未附着光学膜层的非图案区域，使基底在图案区域与非图案区域的光线反射率的差值不小于预设阈值。通过本公开的技术方案，实现图案区域与非图案区域的区别显示，丰富基底的光学呈现效果。

Description

镀膜处理方法、基底及电子设备

技术领域

本公开涉及终端技术领域，尤其涉及一种镀膜处理方法、基底及电子设备。

背景技术

目前，智能终端的销售市场的竞争日趋激烈，单纯通过硬件性能方面的提升已经很难满足消费者的购买需求，因而如何缓解电子设备日趋同质化的现象成为当前电子设备设计过程中亟待解决的问题之一。

发明内容

本公开提供一种镀膜处理方法、基底及电子设备，以解决相关技术中的技术问题。

根据本公开实施例的第一方面，提供一种镀膜处理方法，包括：

对基底的任一侧进行遮蔽处理，以在所述基底的非图案区域形成遮蔽层；

在基底的所述任一侧进行镀膜，以在所述非图案区域之外的图案区域中沉积光学膜层；

褪除所述遮蔽层，以得到附着所述光学膜层的图案区域、未附着所述光学膜层的非图案区域，使所述基底在所述图案区域与所述非图案区域的光线反射率的差值不小于预设阈值。

可选的，还包括：

在所述沉积光学膜层之前，清洗形成所述遮蔽层后的基底；或，

对形成遮蔽层后的基底覆盖保护膜，并在镀膜前去除所述保护膜。

可选的，所述保护膜为不含粘剂的防静电膜。

可选的，所述在基底的所述任一侧进行镀膜，包括：

通过蒸镀方式在所述任一侧沉积光学膜层。

可选的，所述蒸镀方式为电子束蒸镀，或者所述蒸镀方式为电子束蒸镀结合离子源助镀。

可选的，若所述基底为电子设备的玻璃盖板，则所述预设阈值为1％～5％。

可选的，所述对基底的任一侧进行遮蔽处理，包括：

通过油墨在所述非图案区域进行丝网印刷。

可选的，所述褪除所述遮蔽层包括：

采用加热分解或者溶解的方法褪除所述基底上的遮蔽层。

根据本公开实施例的第二方面，提供一种基底，所述基底上划分为图案区域和非图案区域，所述基底包括：

镀膜层，所述镀膜层位于图案区域，所述图案区域与所述非图案区域的光线反射率的差值达到预设阈值。

可选的，若所述基底为玻璃盖板，则所述阈值为1％～5％。

根据本公开实施例的第三方面，提供一种电子设备，包括：通过如第一方面中任一项所述方法处理得到的盖板玻璃。

本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：

由上述实施例可知，本公开可以实现对任一基底的图案区域进行光学膜层的加镀，从而实现图案区域与非图案区域的区别显示，丰富基底的光学呈现效果。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。

图1是根据一示例性实施例示出的一种镀膜处理方法的流程图；

图2是根据一示例性实施例示出的一种划分有图案区域和非图案区域的玻璃盖板的示意图；

图3是根据一示例性实施例示出的另一种镀膜处理方法的流程图；

图4a是根据一示例性实施例示出的一种经过遮蔽处理后的玻璃盖板的示意图；

图4b是根据一示例性实施例示出的一种经过遮蔽处理后的玻璃盖板的横截面示意图；

图5是根据一示例性实施例示出的一种经过保护膜覆盖后的玻璃盖板的横截面示意图；

图6是根据一示例性实施例示出的一种经过镀膜后的玻璃盖板示意图；

图7是根据一示例性实施例示出的又一种经过遮蔽处理后的玻璃盖板的示意图；

图8是根据一示例性实施例示出的又一种经过镀膜后的玻璃盖板示意图；

图9是根据一示例性实施例示出的另一种经过镀膜后的玻璃盖板示意图；

图10是根据一示例性实施例示出的一种经过再次镀膜处理后的玻璃盖板示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置和方法的例子。

在本公开使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本公开。在本公开和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。

应当理解，尽管在本公开可能采用术语第一、第二、第三等来描述各种信息，但这些信息不应限于这些术语。这些术语仅用来将同一类型的信息彼此区分开。例如，在不脱离本公开范围的情况下，第一信息也可以被称为第二信息，类似地，第二信息也可以被称为第一信息。取决于语境，如在此所使用的词语“如果”可以被解释成为“在……时”或“当……时”或“响应于确定”。

为对本公开进行进一步说明，提供下列实施例：

请参考图1，图1时本公开提供的一种镀膜处理方法，该方法可以包括以下步骤：

步骤101，对基底的任一侧进行遮蔽处理，以在所述基底的非图案区域形成遮蔽层。

在一实施例中，可以使用油墨在非图案区域进行丝网印刷以形成遮蔽层，因油墨具有良好的干燥速度，从而提高了丝网印刷的处理效率。

在一实施例中，清洗形成遮蔽层后的基底，以去除非遮蔽区域上所附着的颗粒，增强非遮蔽区域对于光学膜层附着力。

在另一实施例中，对形成遮蔽层后的基底覆盖保护膜，并在镀膜前去除保护膜。所覆盖的保护膜层起到在基底与外界环境中的污染物(如灰尘或液体)之间的隔离的作用，覆盖基底所用的保护膜可以为不含粘剂的防静电膜，使得在对带有遮蔽层的基底进行转运的应用场景中，充分保障非遮蔽区域的清洁状态，避免受到污染。

步骤102，在基底的所述任一侧进行镀膜，以在所述非图案区域之外的图案区域中沉积光学膜层。

在一实施例中，通过蒸镀方式在基底的任一侧沉积光学膜层，蒸镀方式具体可以为电子束蒸镀，或者电子束蒸镀结合离子源助镀。

在本实施例中，基于电子束的精准定位，可以准确地实现对于高纯度高精度的薄膜的加镀，此外，电子束蒸镀为待蒸发的物质提供更高的热量，使得蒸镀的速率也更快，因而镀膜效率也将大大提高。

通过离子助镀使得蒸发料离子经过电离后具有更高的电子伏特的动能，蒸发料离子以高速轰击基底，对于能够穿透基底层表面的离子，因其注入基底层而形成“合金”过渡层，从而提高了对于基底的附着力和所加镀的镀层的持久性。

步骤103，褪除所述遮蔽层，以得到附着所述光学膜层的图案区域、未附着所述光学膜层的非图案区域，使所述基底在所述图案区域与所述非图案区域的光线反射率的差值不小于预设阈值。

在一实施例中，褪除遮蔽层可以采用加热分解或者溶解的方法，基于所采用的印刷油墨易溶解于有机溶剂中，因而使用酒精、氯仿、丙酮、乙酸乙酯等有机溶剂可有效溶解含有油墨成分的遮蔽层。此外，基于所加镀的光学膜层的成分多为耐碱性较差的无机氧化物，因而，基于溶液溶解的遮蔽层褪除方法中，所使用的溶液的PH应不大于10。

在另一实施例中，可以通过加热分解实现对含有油墨成分的遮蔽层的处理且褪除效率更高。

在一实施例中，当基底的电子设备的玻璃盖板时，例如冕牌玻璃，折射率大致在1.52左右，对应的单层反射率为4.2％，考虑到双界面折射率以及忽略玻璃的消光系数，白玻璃透射率大致90％左右，反射率10％左右，在基底为玻璃盖板的情况下，经过实验后得证，当基底在图案区域与非图案区域的光线发射率的差值率不小于1％时，可实现在电子设备熄屏的状态下玻璃盖板上显示出所加镀的装饰图案的效果。

基于上述实施例可知，本公开的技术方案可以实现对任一基底的图案区域进行光学膜层的加镀，从而实现图案区域与非图案区域的区别显示，丰富基底的光学呈现效果。

为对本公开的镀膜处理方法进行详细说明，以待镀膜的基底为电子设备的玻璃盖板为例进行阐述：

图2是根据一示例性实施例示出的一种划分有图案区域和非图案区域的玻璃盖板的示意图，如图2所示，玻璃盖板2上可划分为非图案区域21和图案区域22，基于不同的图案呈现效果，非图案区域和图案区域可以按照实际情况进行设定，本申请对此不做限定。具体的镀膜处理方法可以如图3所示，图3是本公开提供的另一种镀膜处理方法的流程图，该方法可以包括以下步骤：

步骤301，使用丝网印刷油墨对玻璃盖板进行遮蔽处理，以在玻璃盖板上的非图案区域和部分图案区域形成遮蔽层。

图4a是根据一示例性实施例示出的一种经过遮蔽处理后的玻璃盖板的示意图，图4b是根据一示例性实施例示出的一种经过遮蔽处理后的玻璃盖板的横截面示意图，通过丝印油墨对非图案区域和部分图案区域进行遮蔽处理，从而在非图案区域和部分图案区域中形成如图4a、图4b所示的深色区域所表示的遮蔽层4，且遮蔽层4附着在玻璃盖板2的任一侧。

步骤302，对丝网印刷后的玻璃盖板进行清洗。

在本实施例中，清洗形成遮蔽层后的基底，以去除非遮蔽区域上所附着的颗粒，增强非遮蔽区域对于光学膜层附着力。

步骤303，在清洗后的玻璃盖板上覆盖保护膜。

在本实施例中，在玻璃盖板含有遮蔽层的同一侧覆盖保护膜，所覆盖的保护膜起到在基底与外界环境中的污染物(如灰尘或液体)之间的隔离的作用，覆盖基底所用的保护膜可以为不含粘剂的防静电膜，使得在对带有遮蔽层的基底进行转运的应用场景中，充分保障非遮蔽区域的清洁状态。

如图5所示，图5是根据一示例性实施例示出的一种经过保护膜覆盖后的玻璃盖板的横截面示意图，经过在遮蔽层4上增加保护膜5，且使得保护膜5完全覆盖玻璃盖板2及玻璃盖板上的遮蔽层4，从而保护玻璃盖板上的图案区域不受环境中的污染物(如灰尘或液体)的污染，进而保障了玻璃盖板中的图案区域与待加镀的膜层材料之间的附着力。

步骤304，去除保护膜。

步骤305，以蒸镀的方式在玻璃盖板的图案区域处沉积光学膜层。

在一实施例中，具体的蒸镀方式可以为电子束加热和离子助镀，光学膜层的材料可以选用可见光波段(即波长在380nm到780nm之间)的高透材料，例如SiO₂、TiO₂、Nb₂O₅等。

光学膜层的具体材料及堆叠方式根据需要的图案效果而定，在一实施例中，可以选择适应性的材料，例如SiO₂、TiO₂，从而形成一种(LH)²L形式的包含五层的膜层结构，其中L表示SiO₂、H表示TiO，对应的五层堆叠顺序分别为SiO₂/TiO₂/SiO₂/TiO₂/SiO₂。通过对图案区域的光学膜层的加镀，使得电子设备的玻璃盖板上的图案区域与非图案区域形成反射率差值不小于为1％，从而实现了在电子设备熄屏状态下能够看到所加镀的光学膜层对应的膜层图案；而当图案区域与非图案区域的反射率差值为1％～5％时，不仅在电子设备熄屏状态下获得较为清晰的图案显示，且能够实现在电子设备亮屏的状态下膜层图案隐藏的效果，因而为电子设备的玻璃盖板上的光学膜层的最佳堆叠效果。

步骤306，褪除玻璃盖板上的遮蔽层。

在一实施例中，针对使用油墨所形成的遮蔽层，可以使用诸如酒精、氯仿、丙酮、乙酸乙酯等有机溶液或者有机溶剂之间的组合对油墨进行溶解以去除遮蔽层，也可以使用加热分解的方法去除遮蔽层，本公开对遮蔽层的具体去除方式不做限定。

经过对玻璃盖板上的遮蔽层进行褪除处理后，可获得完成一次镀膜后的盖板玻璃，例如图6所示，图6是根据一示例性实施例示出的一种经过镀膜后的玻璃盖板示意图，经过对玻璃盖板上的遮蔽层褪除之后，可仅在玻璃盖板上未经遮蔽的区域处保留经过蒸镀处理后的光学膜层，从而在电子设备熄屏状态下，呈现出如图6所示的图案。

基于实际的显示图案的需要，可以通过多次“遮蔽-镀膜-褪除遮蔽层”的处理以形成第二次镀膜区域。在具体处理过程中，可以对玻璃盖板上未镀膜的非图案区域进行处理，亦可以对玻璃盖板上的已镀膜的图案区域进行镀膜处理，使得经过镀膜处理后的第二次镀膜区域呈现出不同于第一次镀膜区域的反射效果。

以图6所示的镀膜后的玻璃盖板为例，图6所示的图案作为第一次镀膜区域，以该玻璃盖板上的部分非图案区域作为待镀膜的区域，对再次进行镀膜处理的过程进行说明。如图7所示，图7是根据一示例性实施例示出的又一种经过遮蔽处理后的玻璃盖板的示意图，对待镀膜的区域进行遮蔽处理以得到第二次镀膜区域，经过遮蔽处理后的第二次镀膜区域可以包括部分未镀膜的非图案区域和全部已镀膜的图案区域，使得经过镀膜后可以得到图8所示出的又一种经过镀膜后的玻璃盖板示意图，对于未经镀膜处理的玻璃盖板上再次进行镀膜处理，可以根据图案效果的需要调整膜层厚度，使得加镀后的膜层呈现不同的反射效果。

如图8所示，区别于图6的膜层区域中所加镀的膜层厚度，熊猫图案眼睛周边的未镀膜区域作为待镀膜的区域，经过加镀不同的膜层厚度后所形成的第二次镀膜区域(即熊猫图案中眼睛周边的眼眶)呈现出区别于第一次镀膜过程中所加镀的膜层区域的反射效果，当然也可以使用不同的镀膜材料使得镀膜后的玻璃盖板呈现不同的反射效果，具体的镀膜流程与上述图3所对应的流程相同，这里不再赘述。

图9根据一示例性实施例示出的另一种经过镀膜后的玻璃盖板示意图，如图9所示，玻璃盖板上的图案区域清楚显示出经过镀膜处理后的图案，进一步的，可以将部分已镀膜的区域作为待镀膜的区域，经过再次对待镀膜的区域进行镀膜处理以形成第二次镀膜区域，基于第二次镀膜区域与第一次镀膜区域形成反射效果差，从而达到进一步丰富所镀膜的图案的效果。作为一示例性实施例，对图9中熊猫图案的眼睛再次进行镀膜，从而使得熊猫图案的眼睛部分呈现区别于其他已镀膜区域的不同的反射效果，例如图10所示的对于已镀膜区域加深后的显示效果，图10是根据一示例性实施例示出的一种经过再次镀膜处理后的玻璃盖板示意图。

基于上述实施例可知，本公开通过遮蔽镀膜以在电子设备的玻璃盖板上形成不同反射率的图案区域与非图案区域，且在含有光学膜层的加镀层的图案区域与不含有膜层的非图案区域形成反射率不小于1％的差值，使得能够在电子设备熄屏状态下显示图案的效果。需要说明的是，本公开对光学膜层的材料构成及材料的堆叠方式不做限定，任何可实现上述中的电子设备在熄屏状态下显示图案的效果的膜层的材料构成及其堆叠方式均应在本公开的保护范围之内。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后，将容易想到本公开的其它实施方案。本公开旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims

1.一种镀膜处理方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述方法，其特征在于，还包括：

3.根据权利要求2所述方法，其特征在于，所述保护膜为不含粘剂的防静电膜。

4.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述在基底的所述任一侧进行镀膜，包括：

通过蒸镀方式在所述任一侧沉积光学膜层。

5.根据权利要求4所述方法，其特征在于，所述蒸镀方式为电子束蒸镀，或者所述蒸镀方式为电子束蒸镀结合离子源助镀。

6.根据权利要求1所述方法，其特征在于，若所述基底为电子设备的玻璃盖板，则所述预设阈值为1％～5％。

7.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述对基底的任一侧进行遮蔽处理，包括：

通过油墨在所述非图案区域进行丝网印刷。

8.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述褪除所述遮蔽层包括：

采用加热分解或者溶解的方法褪除所述基底上的遮蔽层。

9.一种基底，其特征在于，所述基底上划分为图案区域和非图案区域，所述基底包括：

10.根据权利要求9所述结构，其特征在于，若所述基底为玻璃盖板，则所述阈值为1％～5％。

11.一种电子设备，其特征在于，包括：通过如权利要求1-8中任一项所述方法处理得到的盖板玻璃。