CN111751299A - 分析装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供不进行复杂的运算处理就能够准确地分析比色皿的收容物的分析装置。分析装置(1)具备：比色皿台(3)，通过将比色皿(2)的列以环状配置而成；驱动部(4)，使比色皿的列旋转；测光部(5)，对经过测光位置(P)的各比色皿照射光，对来自各比色皿的出射光进行测光；分析部(75)，基于测光数据(D1)对比色皿的收容物进行分析；可测定区域检测部(72)，在被照射区域(R1)之中，将出射光的变化量为规定变化量以下的比色皿的区域检测为可测定区域(R2)；以及基准定时设定部(73)，将可测定区域中包含的第1基准点(P1)经过测光位置的时刻，分别设定为用于确定在分析中使用的分析对象区域(R4)的基准定时。

Description

分析装置

技术领域

本发明主要涉及对被检体与试剂的反应液进行分析的分析装置。

背景技术

以往，已知通过使被检体与试剂反应从而对该被检体的成分进行分析的分析装置。在这种分析装置中，将收容了被检体及试剂的多个比色皿在比色皿台上以环状配置并使比色皿台旋转，使比色皿经过位于隔着比色皿配置的光源与分光检测器之间的测光位置。对此时透射比色皿的光量进行测定，从而对被检体的成分进行分析。

在一般的分析装置中，采用了步进电动机提供比色皿台的旋转动力。比色皿台被安装于旋转轴，在另一端安装了从动齿轮。步进电动机上安装的驱动齿轮与比色皿台侧的从动齿轮由同步带连结，从动齿轮追随于驱动齿轮的旋转而动作。

在理想情况下，通过对发给步进电动机的指令脉冲数进行计数，能够掌握比色皿台旋转的期间的比色皿的位置。但是，由于同步带的伸长等的影响，实际上比色皿位置相对于指令脉冲发生偏差。

为了将其消除，并掌握旋转中的准确的比色皿位置，也存在如下机型：在旋转轴上安装旋转编码器，对编码器的脉冲数进行计数，从而掌握从动侧的真正的旋转角度。但是，在具备能够配置大量比色皿的圆环状的比色皿台的分析装置中，由于比色皿台的旋转轴不存在，因此无法安装旋转编码器。

对此，在专利文献1中提出了如下方式：替代旋转编码器，在圆环状的比色皿台顶面上，搭载开设了与比色皿瓶数相同数量的狭缝的狭缝压板，由光传感器(检测板检测器)对该狭缝进行检测，从而掌握比色皿台的旋转位置。

在专利文献1的方式中，在从检测板检测器脉冲的下降沿经过了定时调整脉冲的脉冲宽度量之后的定时开始测光(参照专利文献1的图3)。由此，在圆周速度普通的情况下，测光位置成为比色皿(单元)的中心附近。但是，如果定时调整脉冲的脉冲宽度为固定值，在圆周速度快的情况下，测光位置从比色皿的中心位置偏离(参照专利文献1的图4)。于是，与检测板检测器脉冲宽度相应地，使定时调整脉冲的脉冲宽度增减，以便即使圆周速度变化，测光位置也成为比色皿的中心位置附近(参照专利文献1的图5)。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特许第4901766号公报

发明内容

本发明要解决的课题

在专利文献1中，因为需要与比色皿的速度(圆周速度)相应地总是调整定时调整脉冲的脉冲宽度，因此用于调整测光位置的运算处理复杂。

本发明为了解决上述问题而做出，其课题在于，提供不进行复杂的运算处理就能够准确地分析比色皿的收容物的分析装置。

用于解决课题的手段

本发明所涉及的分析装置的特征在于，具备：比色皿台，通过将比色皿的列以环状配置而成；驱动部，使所述比色皿的列沿环状方向反复地间歇旋转；测光部，向所述间歇旋转的期间中经过测光位置的各比色皿照射光，对来自经过该测光位置的各比色皿的被照射区域的出射光进行测光；分析部，基于所述测光而得到的测光数据，对所述比色皿的收容物进行分析；可测定区域检测部，在所述各比色皿的所述被照射区域之中，将伴随着所述比色皿的所述经过而所述出射光的变化量为规定变化量以下的所述比色皿的区域，检测为所述各比色皿各自的可测定区域；基准定时设定部，将所述各比色皿的可测定区域中包含的第1基准点经过所述测光位置的时刻，分别设定为用于确定所述各比色皿的所述分析中使用的分析对象区域的基准定时。

发明效果

根据本发明，能够提供不进行复杂的运算处理就能够准确地分析比色皿的收容物的分析装置。

附图说明

图1是表示本发明的一个实施方式所涉及的分析装置的构成的平面图。

图2是本发明的一个实施方式所涉及的分析装置的部分截面图。

图3是本发明的一个实施方式所涉及的分析装置的功能框图。

图4是表示光传感器的构成的侧视图。

图5中(a)及(b)是用于说明比色皿与狭缝的对应关系的图。

图6是表示从测光部的受光元件输出的电压信号及从光传感器的受光元件输出的电压信号的波形、以及这些波形与比色皿的对应关系的图。

图7是表示对各比色皿设定的分析对象区域的范围的数据的一例。

图8是将图7所示的起点及终点的数值转换为编码器脉冲数而得到的数据。

附图标记说明：

1 分析装置

2 比色皿

2a 一端

2b 一端

3 比色皿台

4 驱动部

5 测光部

6 光传感器(传感器)

7 控制部

8 显示部

9 狭缝压板

41 驱动齿轮

42 从动齿轮

43 步进电动机

44 编码器

51 光源

52 受光元件

61 光源

62 受光元件

71 存储部

72 可测定区域检测部

73 基准定时设定部

74 测定对象区域设定部

75 分析部

91 狭缝

91a 一端(第1端)

91b 一端(第2端)

D1 测光数据

D2 校正用测光数据

D3 校正数据

P 测光位置

P1 第1基准点

P2 第2基准点

R1 被照射区域

R2 可测定区域

R3 可测定外区域

R4 分析对象区域

V1 电压信号

V2 电压信号

t1 时刻

t2 时刻

t3 时刻(基准定时)

t4 时刻

t5 时刻

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施方式。此外，本发明不限定于下述的实施方式。

图1是表示本发明的一个实施方式所涉及的分析装置1的构成的平面图，图2是分析装置1的部分截面图，图3是分析装置1的功能框图。分析装置1是对被检体(例如血液、尿等)及试剂的反应液进行分析的装置，主要具备将比色皿2的列以环状配置而成的比色皿台3、驱动部4、测光部5、光传感器6、控制部7和显示部8。

比色皿台3在俯视下形成为环状，沿着环状方向(图1的圆弧状的箭头线)配置有多个比色皿2。比色皿2是收容被检体及试剂的容器，呈上表面开口的立方体或者长方体的形状。在比色皿台3的内侧或者周围，设有用于收容被检体容器的被检体库(省略图示)、用于收容试剂容器的试剂库(省略图示)等。在将比色皿2配置于比色皿台3之后，使用移液器(省略图示)，从被检体容器及试剂容器向比色皿2供给被检体及试剂。

驱动部4是如下部件：使比色皿2的列沿环状方向反复地间歇旋转，每当比色皿2旋转大致1周使比色皿2的列的位置位移规定的比色皿数。在本实施方式中，驱动部4具备驱动齿轮41、以及与比色皿台3连接的从动齿轮42。驱动齿轮41被安装于步进电动机43，通过驱动步进电动机43来使驱动齿轮41旋转，能够经由从动齿轮42使比色皿台3旋转。在步进电动机43搭载了编码器44，根据来自编码器44的编码器脉冲，能够对从动齿轮42的位置进行监视。此外，作为步进电动机43，也可以使用带伺服控制的步进电动机。

测光部5是如下部件：向比色皿2的列的间歇旋转的期间中经过测光位置P的各比色皿2照射光，对来自经过测光位置P的各比色皿2的被照射区域的出射光进行测光。在本实施方式中，测光部5具备设于比色皿台3的外侧的光源51、以及设于比色皿台3的内侧的受光元件52。

光源51例如由卤素灯构成，朝向受光元件52射出光。在比色皿台3旋转的期间，比色皿2横穿来自光源51的出射光的光路(图1的直线箭头线)。来自光源51的出射光的光路与比色皿2的路径相交叉的位置成为测光位置P。

如图2所示，在比色皿2经过测光位置P时，来自光源51的出射光被照射到比色皿2。向比色皿2的被照射区域入射的光经过内部，从比色皿2的被照射区域(准确地说，被照射区域的背面)出射，该出射光向受光元件52入射。受光元件52对来自比色皿2的出射光进行光电转换，将与光量相应的强度的电压信号V1向控制部7输出。

如图1所示，在比色皿台3，设有包含与各比色皿2对应地配置的各个狭缝91的狭缝压板9。狭缝91的个数是与比色皿2相同的数量，各狭缝91在比色皿台3的外周缘部沿环状方向排列。

光传感器6是对狭缝91进行检测的部件。如图4所示，光传感器6呈コ形，具备隔着比色皿台3的外周缘而对置的光源61和受光元件62。仅在狭缝91正经过光源61与受光元件62之间的期间，来自光源61的出射光到达受光元件62，由受光元件62进行光电转换而得到的电压信号V2被输出至控制部7。

关于各比色皿2与哪个狭缝91对应，能够利用公知的方法掌握。在本实施方式中，在初始化动作中，通过被设置在固定侧的原点传感器(省略图示)检测与比色皿台3一起旋转的原点检测用的压板(省略图示)，从而确定原点。之后，在使比色皿台3再次旋转时，对经过光传感器6的狭缝91进行计数，从而能够对哪个比色皿2正经过测光位置P或者测光部5附近进行监视。

图5的(a)及(b)是用于说明比色皿2与狭缝91的对应关系的图。具体而言，在图5的(a)及(b)的各图中，上侧的图是表示光源51及受光元件52与比色皿2的位置关系的概略平面图，下侧的图是表示上侧的图的同时刻的光传感器6与狭缝91的位置关系的概略平面图。在比色皿2经过测光部5的光源51与受光元件52之间时，与该比色皿2建立了对应的狭缝91经过光传感器6。具体而言，在光传感器6检测到狭缝91的上游侧的一端(第2端)91b时，与该狭缝91对应的比色皿2的上游侧的一端(后述的第2基准点P2)2a位于测光位置P。图5的(a)表示比色皿2的上游侧的一端刚要来到测光位置P前的状态。

之后，如图5的(b)所示，在光传感器6检测到狭缝91的下游侧的一端(第1端)91a时，比色皿2的环状方向的中点(后述的第1基准点P1)位于测光位置P。

图6是表示从测光部5的受光元件52输出的电压信号V1及从光传感器6的受光元件62输出的电压信号V2的波形、以及这些波形与比色皿2的对应关系的图。此外，在图6中为了方便，将比色皿2描绘为细长的形状。在比色皿未位于测光部5的光源51与受光元件52之间时，来自光源51的出射光原样到达受光元件52，因此电压信号V1较大，而且变化量小。

之后，在时刻t1，比色皿2的上游侧的一端2a来到光源51与受光元件52之间的测光位置P时，来自光源51的出射光经过比色皿2的内部而到达受光元件52，因此电压信号V1急剧变化。另外，此时狭缝91的上游侧的一端(第2端)91b来到光传感器6的光源61的正下，因此电压信号V2上升。

之后，在时刻t2，比色皿2的被检体及试剂的收容区域经过测光位置P时，电压信号V1的变化量变小而电压信号V1稳定。进而，在时刻t3，作为比色皿2的环状方向的中点的第1基准点P1经过测光位置P时，狭缝91的下游侧的一端(第1端)91a从光传感器6的光源61的正下脱离，因此电压信号V2下降。

之后，在时刻t4，比色皿2的被检体及试剂的收容区域的末端经过测光位置P时，电压信号V1急剧变化。之后，在时刻t5，比色皿2的下游侧的一端2b经过测光位置P时，来自光源51的出射光原样到达受光元件52，因此电压信号V1的变化量变小。

图3所示的控制部7是对分析装置1的各种动作进行控制的信息处理装置。控制部7具备存储部71、可测定区域检测部72、基准定时设定部73、测定对象区域设定部74和分析部75。

存储部71是存储控制部7所使用的各种数据的部件，能够由DRAM等易失性存储器、闪存等非易失性存储器、或者其双方构成。

可测定区域检测部72为：在图6所示的各比色皿2的被照射区域R1之中，将伴随着比色皿2经过而来自被照射区域R1的出射光的变化量为规定变化量以下的比色皿2的区域，检测为各比色皿2各自的可测定区域R2。如图6所示，在比色皿2的被检体及试剂的收容区域经过测光位置P的期间，电压信号V1(来自比色皿2的出射光)的变化量小。可测定区域检测部72将该变化量小的区域检测为可测定区域R2。

另外，可测定区域检测部72为：在各比色皿2的被照射区域R1之中，将伴随着比色皿2经过而来自比色皿2的出射光的变化量超过规定变化量、且比可测定区域R2更靠比色皿2的移动方向的上游侧的比色皿2的区域，检测为各比色皿2各自的可测定外区域R3。在图6所示的例子中，在时刻t1与时刻t2之间，电压信号V1的变化量变大。可测定区域检测部72将该变化量大的区域检测为可测定外区域R3。

图3所示的基准定时设定部73将各比色皿2的可测定区域R2中包含的第1基准点P1经过测光位置P的时刻t3，分别设定为用于确定在各比色皿2的收容物的分析中使用的分析对象区域R4的基准定时。在本实施方式中，第1基准点P1位于比色皿2的中点，如图5的(b)所示，在第1基准点P1位于测光位置P时，光传感器6检测狭缝91的下游侧的一端91a，因此如图6所示，从光传感器6的受光元件62输出的电压信号V2下降。基准定时设定部73将电压信号V2下降的时刻t3确定为基准定时。

此外，第1基准点P1只要是可测定区域R2中包含的点即可，不特别限定，但优选位于比色皿2的中间区域(例如，从将可测定区域R2以1：2划分的点到以2：1划分的点为止的区域)，尤其优选如本实施方式位于比色皿2的中点。

进而，基准定时设定部73将各比色皿2的可测定外区域R3中包含的第2基准点P2经过测光位置P的时刻，分别确定为各比色皿2中开始测光数据D1的存储的存储开始定时，使从该存储开始定时起规定期间的测光数据D1存储于存储部71。在本实施方式中，第2基准点P2位于比色皿2的上游侧的一端2a，在第2基准点P2位于测光位置P时，光传感器6检测狭缝91的上游侧的一端91b，因此如图6所示，在时刻t1，从光传感器6的受光元件62输出的电压信号V2上升。基准定时设定部73以电压信号V2的上升作为触发，确定为存储开始定时。

另外，所述规定期间只要使存储部71存储的测光数据D1包含可测定区域R2即可，不特别限定，但在本实施方式中，是电压信号V2的脉冲宽度的2倍的期间。因此，基准定时设定部73将相当于时刻t1至时刻t3的期间的2倍的时刻t1至时刻t5的期间的电压信号V1作为测光数据D1提取出来，并存储于存储部71。

第2基准点P2只要是可测定外区域R3中包含的点即可，不特别限定。基于基准定时t3确定分析对象区域R4的方法留待后述。此外，基准定时设定部73也可以不确定第2基准点P2，而使来自测光部5的电压信号V1原样作为测光数据D1存储于存储部71。

如图6所示，可测定区域R2中的电压信号V1的变化量虽然小，但由于比色皿2的成型加工中的制造误差等，非常难以使该变化量成为0。因此，为了提高分析精度，需要将可测定区域R2之中变化量尤其小的区域作为分析对象区域R4。

在本实施方式中，在向比色皿2收容被检体及试剂前，预先实施校正数据准备工序，事先对各比色皿2设定分析对象区域R4。具体而言，在校正数据准备工序中，使比色皿2成为收容了纯水等液体的状态，一边使从测光部5的光源射出光一边使比色皿台3旋转，在测光部5中对来自各比色皿2的出射光(在此为透射光)进行测光。测定对象区域设定部74使此时的数据作为校正用测光数据D2存储于存储部71。

进而，测定对象区域设定部74对校正用测光数据D2进行解析，在各比色皿2中，对透射光的变化量非常小的一定范围(例如2mm)的区域进行检测，将该区域设定为分析对象区域R4。

图7是表示对各比色皿2设定的分析对象区域R4的范围的数据的一例。起点及终点的数值通过相对于比色皿2的第1基准点P1的距离来表现，正值意味着第1基准点P1的下游侧，负值意味着第1基准点P1的上游侧。

进而，测定对象区域设定部74将表现分析对象区域R4的范围的距离，换算为分析工序时的比色皿2的通常的旋转速度(经过测光部5的速度)下的来自编码器44的编码器脉冲数。分析工序时的比色皿2的通常的经过速度例如是1000mm/s，在编码器脉冲的频率是50kHz的情况下，比色皿2以10μs(5个脉冲)经过0.1mm，因此图7所示的数据被转换为图8所示的校正数据D3。在校正数据D3中，针对各比色皿2，分析对象区域R4的起点及终点相对于基准定时t3的脉冲数作为校正值被建立了对应。测定对象区域设定部74使校正数据D3存储于存储部71。通过以上，校正数据准备工序结束。

在分析工序中，向比色皿2分注被检体及试剂，对反应液进行搅拌之后，使比色皿台3旋转，通过测光部5对来自各比色皿2的出射光进行测光，基准定时设定部73使测光数据D1存储于存储部71。之后，分析部75将测光数据D1及校正数据D3从存储部71读出，基于该读出的测光数据D1及校正数据D3，对比色皿2的收容物进行分析。具体而言，分析部75基于测光数据D1中对各比色皿2设定的基准定时t3、以及校正数据D3中与各比色皿2分别建立了对应的校正值，确定分析中使用的分析对象区域R4，基于该分析对象区域R4，对比色皿2的收容物进行分析。分析部75的分析结果被显示于显示部8。

如图6所示，各比色皿2的分析对象区域R4的范围以基准定时t3作为基准，起点被示为时刻t3+Δp1，终点被示为时刻t3+Δp2。分析部75从存储部71将校正数据D3读出，针对各比色皿2，对由基准定时设定部73设定的基准定时t3加上Δp1及Δp2，从而确定分析对象区域R4。例如，在No.1的比色皿2的情况下，Δp1＝25脉冲，Δp2＝125脉冲，因此分析部75将时刻t3+25脉冲(50μs)～t3+125脉冲(250μs)的范围确定为分析对象区域R4，基于与该范围对应的电压信号V1，对比色皿2中收容的被检体及试剂的反应液进行分析。具体而言，分析部75在与分析对象区域R4对应的电压信号V1之中，计算与从编码器44输入的编码器脉冲对应的多个(100个)测光点处的电压的平均值，基于该平均值进行分析。

(总结)

如上所述，在本实施方式中，基于来自比色皿2的出射光的变化量少的可测定区域R2中包含的第1基准点P1经过测光位置P的基准定时t3，确定所述变化量尤其少的分析对象区域R4。假如，分析工序时的比色皿2的速度等于为了生成校正数据D3而设想的通常的速度，由分析部75确定的分析对象区域R4等于由测定对象区域设定部74设定的理想的分析对象区域R4。另一方面，在分析工序时，由于步进电动机43以高速驱动，比色皿台3的旋转速度产生若干波动。因此，在比色皿2的速度比通常的速度快或慢的情况下，由分析部75确定的分析对象区域R4与由测定对象区域设定部74设定的理想的分析对象区域R4之间产生偏差。

但是，实际的分析对象区域R4大多位于比色皿2的中间区域附近。于是，在本实施方式中，将第1基准点P1设定于比色皿2的可测定区域R2内，尤其是设定于比色皿2的中间区域(例如中点)，以该第1基准点P1作为基准，生成了用于确定分析对象区域R4的校正数据D3。因此，与以大为偏离比色皿2的中间区域的点(例如可测定外区域R3内的点)作为基准的情况相比，能够大幅缩小校正数据D3中的校正值。因此，即使在比色皿2的速度与通常的速度不同的情况下，由分析部75确定的分析对象区域R4与由测定对象区域设定部74设定的理想的分析对象区域R4的偏差，也不会大到对分析精度造成影响的程度。

与此相对，在专利文献1的方式中，以检测板检测器脉冲的下降沿，即，与来自比色皿的出射光的变化量少的区域(可测定区域)相比更靠外侧的位置作为基准，确定了测光位置(分析对象区域)(专利文献1的图3～图5)。因此，在与比色皿的速度无关地使定时调整脉冲的脉冲宽度固定的情况下，测光位置有可能从理想的位置大为偏差。

另一方面，在本实施方式中，即使与比色皿2的速度无关地使校正数据D3中的校正值固定，由分析部75确定的分析对象区域R4也不会从理想的分析对象区域R4偏离很多，因此无需如专利文献1那样与比色皿的速度相应地对定时调整脉冲的脉冲宽度进行调整。因此，不进行复杂的运算处理就能够准确地分析比色皿的收容物。

(附记事项)

本发明不限定于上述实施方式，在权利要求书所示的范围内能够进行各种变更，通过对实施方式所公开的技术方案进行适宜组合而得到的方式也包含于本发明的技术范围内。

例如，在上述实施方式中，分析部75在确定了分析对象区域R4之后，在与分析对象区域R4对应的电压信号V1之中基于与编码器脉冲对应的多个测光点处的电压的平均值进行分析，但本发明不限定于此。分析部75也可以例如基于与分析对象区域R4对应的电压信号V1的积分值进行分析。

另外，在上述实施方式中，分析对象区域R4的范围被基于编码器脉冲数规定，但也可以替代编码器脉冲数，基于电动机指令脉冲数规定。另外，也可以将图7所示的表现分析对象区域R4的范围的距离换算为时间来生成校正数据D3。

另外，在上述实施方式中，为了设定比色皿2的第1基准点P1经过测光位置P的基准定时，设置与比色皿2相同数量的狭缝91，将由光传感器6检测到狭缝91的端部的时刻作为基准定时，但设定基准定时的方式不特别限定。例如，也可以在比色皿2的第1基准点P1，设置使来自比色皿2的出射光的强度或者波长与可测定区域R2中的其他区域不同的部件(例如，在比色皿2的表面形成的凸部或者凹部、或者彩色的记号)。在使出射光的强度不同的情况下，将电压信号V1的强度急剧变化的时刻设定为基准定时。在使出射光的波长不同的情况下，由颜色传感器构成测光部5的受光元件52，将电压信号V1的波长急剧变化的时刻设定为基准定时。

另外，在上述实施方式中，测光部5对透射了比色皿2的光进行测光，但本发明不限定于此。测光部5例如也可以对比色皿2照射光，对从比色皿2散射或者反射的光进行测光。

Claims (9)

1.一种分析装置，具备：

比色皿台，通过将比色皿的列以环状配置而成；

驱动部，使所述比色皿的列沿环状方向反复地间歇旋转；

测光部，向所述间歇旋转的期间中经过测光位置的各比色皿照射光，对来自经过该测光位置的各比色皿的被照射区域的出射光进行测光；

分析部，基于所述测光而得到的测光数据，对所述比色皿的收容物进行分析；

可测定区域检测部，在所述各比色皿的所述被照射区域之中，将伴随着所述比色皿的所述经过而所述出射光的变化量为规定变化量以下的所述比色皿的区域，检测为所述各比色皿各自的可测定区域；以及

基准定时设定部，将所述各比色皿的可测定区域中包含的第1基准点经过所述测光位置的时刻，分别设定为用于确定在所述各比色皿的所述分析中使用的分析对象区域的基准定时。

2.如权利要求1所述的分析装置，

所述比色皿是收容被检体及试剂并使其反应的比色皿，

所述分析部按每次所述间歇旋转，针对所述各比色皿的所述分析对象区域中的多个测光点，分析所述被检体及所述试剂的反应液。

3.如权利要求1或者权利要求2所述的分析装置，

所述第1基准点位于所述比色皿的所述环状方向的中间区域。

4.如权利要求1至权利要求3中的任一项所述的分析装置，

所述第1基准点位于所述比色皿的所述环状方向的中点。

5.如权利要求1至权利要求4中的任一项所述的分析装置，

所述可测定区域检测部为：在所述各比色皿的所述被照射区域之中，将伴随着所述比色皿的所述经过而所述出射光的变化量超过规定变化量、且比所述可测定区域更靠所述比色皿的移动方向的上游侧的所述比色皿的区域，检测为所述各比色皿各自的可测定外区域，

所述基准定时设定部为：将所述各比色皿的所述可测定外区域中包含的第2基准点经过所述测光位置的时刻，分别确定为所述各比色皿中开始存储所述测光数据的存储开始定时，使从该存储开始定时起规定期间的所述测光数据存储于存储部。

6.如权利要求5所述的分析装置，

所述分析部将所述测光数据从所述存储部读出，基于该读出的测光数据中的所述基准定时、以及与所述各比色皿分别建立了对应的校正值，确定在所述分析中使用的分析对象区域，基于该分析对象区域，分析所述比色皿的收容物。

7.如权利要求1至权利要求6中的任一项所述的分析装置，还具备：

狭缝压板，设于所述比色皿台，包括与所述各比色皿对应地配置的各狭缝；以及

传感器，对所述狭缝进行检测，

在所述传感器检测到所述各狭缝的第1端时，与该狭缝对应的所述比色皿的所述第1基准点位于所述测光位置。

8.如权利要求5至权利要求7中的任一项所述的分析装置，还具备：

狭缝压板，设于所述比色皿台，包括与所述各比色皿对应地配置的各狭缝；以及

传感器，对所述狭缝进行检测，

在所述传感器检测到所述各狭缝的第2端时，与该狭缝对应的所述比色皿的所述第2基准点位于所述测光位置。

9.如权利要求1至权利要求6中的任一项所述的分析装置，

在所述各比色皿的所述第1基准点，设有使所述出射光的强度或者波长与所述可测定区域中的其他区域不同的部件。

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