CN111730920B - 功能膜结构及其制备方法、制冷膜和制冷制品 - Google Patents
功能膜结构及其制备方法、制冷膜和制冷制品 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111730920B CN111730920B CN202010750910.7A CN202010750910A CN111730920B CN 111730920 B CN111730920 B CN 111730920B CN 202010750910 A CN202010750910 A CN 202010750910A CN 111730920 B CN111730920 B CN 111730920B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- stress buffer
- buffer layer
- film
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 8
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title description 19
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 108
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 139
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 117
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 40
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 34
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 27
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 22
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 22
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 4
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 4
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims description 4
- CHJAYYWUZLWNSQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,2,2-trifluoroethene;ethene Chemical group C=C.FC(F)=C(F)Cl CHJAYYWUZLWNSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920001780 ECTFE Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 claims description 3
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 claims description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 3
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 claims description 3
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 26
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 26
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 abstract description 22
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 11
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 abstract description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 429
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 188
- 229910010421 TiNx Inorganic materials 0.000 description 35
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 29
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 28
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 19
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 17
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNEMGFATAVGQSF-UHFFFAOYSA-N 1-(2-amino-6,7-dihydro-4H-[1,3]thiazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]ethanone Chemical compound NC=1SC2=C(CN(CC2)C(CC=2OC(=NN=2)C=2C=NC(=NC=2)NC2CC3=CC=CC=C3C2)=O)N=1 ZNEMGFATAVGQSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 239000010426 asphalt Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxomagnesium;hydrate Chemical compound O.[Mg]=O.[Mg]=O.[Mg]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N oxorhodium Chemical compound [Rh]=O SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 229910003450 rhodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
- B32B15/09—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyesters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/20—Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
- B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B9/041—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of metal
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B9/045—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25B—REFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
- F25B23/00—Machines, plants or systems, with a single mode of operation not covered by groups F25B1/00 - F25B21/00, e.g. using selective radiation effect
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本发明涉及功能膜结构及其制备方法、制冷膜和制冷制品，功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的反射层和应力缓冲层，所述应力缓冲层中具有孔隙，所述孔隙的孔径为80nm‑100nm，所述孔隙在所述应力缓冲层中的体积百分比为30%‑40%。在制备本发明制冷膜的过程中，功能膜结构中的应力缓冲层中的孔隙能够释放粘结层固化为粘结层时体积变化引起的收缩应力，因此，本发明的制冷膜中各膜层间的界面结合优异，整体附着力高。应力缓冲层中孔隙的孔径和孔隙的体积百分比能够兼顾应力缓冲层的应力缓冲效果和结合力。同时，本发明的制冷膜还具有优异的抗氧化能力和抗盐雾能力等性能，使用寿命长，降温效果好。
Description
技术领域
本发明涉及薄膜技术领域，特别是涉及功能膜结构及其制备方法、制冷膜和制冷制品。
背景技术
如图1所示，传统的反射膜结构1包括柔性基膜11和依次层叠设置的银反射膜12、粘结层13和柔性基体14，虽然具有较高的反射率，但是，粘结层在固化后会产生较大的收缩应力，导致银反射膜发生形变，使得银反射膜与柔性基膜的界面结合处会产生较大的应力，进而导致银反射膜与柔性基膜剥离。另外，由于银反射膜的耐腐蚀性差，尤其是在高温高湿等环境中，会严重影响反射膜结构的使用寿命。
发明内容
基于此，有必要针对上述问题，提供功能膜结构及其制备方法、制冷膜和制冷制品。
一种功能膜结构，包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的反射层和应力缓冲层，所述应力缓冲层中具有孔隙，所述孔隙的孔径为80nm-100nm，所述孔隙在所述应力缓冲层中的体积百分比为30%-40%。
在其中一个实施例中，所述应力缓冲层的厚度为500nm-1000nm。
在其中一个实施例中，所述应力缓冲层的材料包括金属、金属氧化物中的至少一种。
在其中一个实施例中，所述功能膜结构还包括设置于所述基膜和所述反射层之间的第一阻隔层，所述第一阻隔层的材料包括金属氮化物、非金属氮化物中的至少一种，所述第一阻隔层的厚度为10nm-30nm；和/或，设置于所述反射层和所述应力缓冲层之间的第二阻隔层，所述第二阻隔层的材料包括金属氮化物，所述第二阻隔层的厚度为20nm-60nm。
在其中一个实施例中，所述反射层的材料包括银、银合金、铝、铝合金中的至少一种，所述反射层的厚度为80nm-200nm。
在其中一个实施例中，所述基膜的材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇-1,4-环己烷二甲醇酯、聚己内酰胺、聚己二酰己二胺、聚十二内酰胺、聚癸二酰癸二胺、聚乙烯、聚丙烯、聚-4-甲基-1-戊烯、氟乙烯丙烯共聚物、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯塑料、聚甲基丙烯酸甲酯、聚偏氟乙烯、乙烯三氟氯乙烯共聚物中的至少一种。
本发明还涉及一种功能膜结构的制备方法，包括以下步骤：
提供基膜；
在所述基膜的表面设置反射层；以及
在所述反射层的远离所述基膜的表面形成应力缓冲层，其中所述应力缓冲层中具有孔隙，所述孔隙的孔径为80nm-100nm，所述孔隙在所述应力缓冲层中的体积百分比为30%-40%。
在其中一个实施例中，通过磁控溅射法形成所述应力缓冲层，其中，沉积角范围为60°-70°，靶基距为11cm-13cm。
本发明还涉及一种制冷膜，包括聚合物膜和所述的功能膜结构，所述功能膜结构通过粘结层设置于所述聚合物膜，其中，所述功能膜结构中的所述应力缓冲层远离所述反射层的表面与所述粘结层接触。
本发明还涉及一种制冷制品，其特征在于，包括基体以及设置于所述基体上的所述的制冷膜，其中，所述基膜远离所述反射层的表面作为入光侧。
功能膜结构在后续通过粘结层进行粘结固定的应用过程中，粘结层会固化，其自身的体积会收缩，而与其接触的其它膜层一起收缩，使得功能膜结构内部产生收缩应力。本发明功能膜结构在粘结层固化体积变小的过程中，应力缓冲层也会受到压缩应力的作用，而应力缓冲层为多个柱状晶形成的膜层结构，相邻的柱状晶并非完全紧密排列，而是具有孔隙，从而达到释放粘结层固化时体积变化引起的收缩应力，避免功能膜结构中的各个膜层发生形变，保证各膜层间的界面结合力，进而有效提高了功能膜结构的整体附着力。其中，应力缓冲层中孔隙的孔径为80nm-100nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为30%-40%时，能够兼顾应力缓冲层的应力缓冲效果和结合力，确保功能膜结构的作用。
同时，功能膜结构的整体附着力的提升，有效防止功能膜结构与外界环境的接触，能够进一步提高功能膜结构的抗氧化能力和抗盐雾能力等性能。因此，本发明的功能膜结构的使用寿命能够显著增长。
附图说明
图1为传统反射膜结构示意图；
图2为本发明实施例1功能膜结构示意图；
图3位本发明实施例2功能膜结构示意图；
图4位本发明实施例3功能膜结构示意图；
图5位本发明实施例4-14功能膜结构示意图；
图6为本发明实施例4-14制冷膜结构示意图。
图中：1、反射膜结构，11、基膜，12、反射膜，13、粘结层，14、基体；
2、功能膜结构，21、基膜，22、第一阻隔层，23、反射层，24、第二阻隔层，25、应力缓冲层，3、粘结层，4、聚合物膜。
具体实施方式
以下将对本发明提供的功能膜结构及其制备方法、制冷膜和制冷制品。
本发明提供的功能膜结构2，如图2，包括基膜21以及依次层叠设置于所述基膜21上的反射层23和应力缓冲层25，所述应力缓冲层25中具有孔隙，所述孔隙的孔径为80nm-100nm，所述孔隙在所述应力缓冲层25中的体积百分比为30%-40%。
在应用时，通常将基膜21远离反射层23的表面作为入光侧，光经过基膜21后到达反射层23，经过反射层23的反射，大部分光线经过应力缓冲层25和基膜21被反射回大气环境中。
应力缓冲层25远离所述反射层23的表面作为背光侧，用于与聚合物膜粘结共同构成制冷膜。通常，通过粘结层将所述应力缓冲层与所述聚合物膜进行粘结。本发明的功能膜结构2在后续通过粘结层进行粘结固定的过程中，应力缓冲层25中的孔隙能够释放粘结层固化时体积变化引起的收缩应力，从而避免功能膜结构2中的各个膜层发生形变，保证各膜层间的界面结合力，进而有效提高了功能膜结构2的整体附着力，使得功能膜结构2与聚合物膜的结合性能显著提升。
考虑到应力缓冲层25中孔隙尺寸较小以及孔隙在应力缓冲层25中的体积百分比较小时，应力缓冲层25的应力缓冲效果不明显，然而，应力缓冲层25中孔隙尺寸太大以及孔隙在应力缓冲层25中的体积百分比过高时，虽然应力缓冲层25的应力缓冲效果会更好，但是会导致应力缓冲层25的结合力下降。所以，应力缓冲层25中所述孔隙的孔径为80nm-100nm，所述孔隙在所述应力缓冲层25中的体积百分比为30%-40%，以兼顾应力缓冲层25的应力缓冲效果和结合力。
具体的，本发明中孔隙的孔径也可以是平均孔径。
同时，功能膜结构2与聚合物膜的结合性能显著提升，有效防止功能膜结构2与外界环境的接触，能够提高功能膜结构2的抗氧化能力和抗盐雾能力等性能。
其中，应力缓冲层的厚度为500nm-1000nm。应力缓冲层厚度过低时，不足以提供缓冲效果，厚度过高，则与反射层的粘附力会下降。优选地，应力缓冲层的厚度为600nm-900nm，更优选地，应力缓冲层的厚度为700nm。
上述功能膜结构的制备方法包括，
S1：提供基膜；
S2：在所述基膜的表面设置反射层；
S3：在所述反射层的远离所述基膜的表面形成应力缓冲层，其中所述应力缓冲层中具有孔隙，所述孔隙的孔径为80nm-100nm，所述孔隙在所述应力缓冲层中的体积百分比为30%-40%。其中，沉积角范围为60°-70°，靶基距为11cm-13cm。
应力缓冲层25的制备方法不限，比如：磁控溅射法、电子蒸镀法等，只要可形成孔隙即可。发明人通过实验发现，通过磁控溅射法形成的应力缓冲层25与反射层23的粘结效果最佳。应力缓冲层25可起到缓冲作用的原理如下：所述应力缓冲层为多个柱状晶形成的膜层结构，相邻的柱状晶并非完全紧密排列，而是具有一定间距，形成孔隙。其中的孔隙的存在能够释放粘结层固化时体积变化引起的收缩应力。具体为，该柱状晶在接触了粘结层之后，粘结层自身收缩，与粘结层接触的柱状晶的顶端会跟着倾斜，而柱状晶的远离柱状晶的底端基本保持不动，此孔隙的存在正好给予了柱状晶倾斜的立体空间，即，这一过程可认为是：释放粘结层固化时体积变化引起的收缩应力。从而，避免功能膜结构2中的各个膜层发生形变，使得功能膜结构2与聚合物膜的结合性能显著提升。
所述功能膜结构2与聚合物膜的结合性能显著提升可通过剥离力来进行佐证。提供一传统的反射膜结构，其与本发明的所述功能膜结构的区别在于，没有设置所述应力缓冲层测试其剥离力，参照GB/T2792-2014号标准，传统反射膜结构在第5天的剥离力3N/25mm。而本发明功能膜结构2在第5天的剥离力基本在7N/25mm-12N/25mm，优选地，本发明的功能膜结构2在第5天之后的剥离力在10N/25mm-12N/25mm，更优选地，本发明的功能膜结构2在30天之后的剥离力仍保持在10N/25mm-12N/25mm。当采用更优选的范围“所述孔隙的孔径为85nm-95nm，所述孔隙在所述应力缓冲层中的体积百分比为34%-38%”，所述功能膜结构2在第5天之后的剥离力在10N/25mm-12N/25mm，在第30天之后的剥离力保持在8N/25mm-12N/25mm，优选地，所述功能膜结构2在第5天之后的剥离力在11N/25mm-12N/25mm，在第30天之后的剥离力保持在11N/25mm-12N/25mm，均远超过传统反射膜结构。
进一步，所述应力缓冲层25的材料包括金属、金属氧化物中的至少一种，金属和金属氧化物具有良好的塑性，使得应力缓冲层的作用能够更好的发挥。
具体地，所述金属包括Ti、Al中的至少一种，所述金属氧化物包括TiO2。
本发明中功能膜结构2，还包括设置于所述基膜21和所述反射层23之间的第一阻隔层22；和/或，设置于所述反射层23和所述应力缓冲层25之间的第二阻隔层24。
其中，第一阻隔膜和第二阻隔膜能够有效阻隔氧、水气等对反射层23的腐蚀，从而有效提高了功能膜结构2的抗氧化能力和抗盐雾能力等性能，避免因反射层23被腐蚀而影响其反射功能。进而，不仅能够延长功能膜结构2在常规环境下的使用寿命，同时还可以更好的应用于环境潮湿或存在腐蚀性气体等特殊户外环境，如沿海地区。
在应用时，如图5和图6，同时设置第一阻隔膜和第二阻隔膜对反射层23的防腐效果最好，通常将基膜21作为入光侧，光经过基膜21和第一阻隔层22后到达反射层23，经过反射层23的反射，大部分光线经过第一阻隔层22和基膜21被反射回大气环境中。
非金属氮化物材料制成的膜层的透光率较高，而金属氮化物材料制成的膜层的热吸收性能佳，且具有更好的结合力和耐腐蚀性能。在应用时，所述第一阻隔层22的材料包括金属氮化物、非金属氮化物中的至少一种，考虑到基膜21为入光侧，为了保证透光率，所述第一阻隔层22的材料进一步优选为非金属氮化物。而第二阻隔层24对是否透光无特殊需求，因此优选热吸收性能佳、且结合力和耐腐蚀性能更好的金属氮化物。
具体地，金属氮化物包括TiNx、AlNx中的至少一种，非金属氮化物包括SiNx、BNx中的至少一种。
进一步的，考虑到第一阻隔层22的厚度过小时不能起到抗腐蚀的作用，而过厚时透光率变差，会降低反射层23的反射率，所以，所述第一阻隔层22的厚度优选为10nm-30nm。
同样，考虑到第二阻隔层24的厚度过小不能起到抗腐蚀的作用，过厚时使其应力增大，导致功能膜整体附着力下降，所以，所述第二阻隔层24的厚度优选为20nm-60nm。
而且，本发明增设的第一阻隔层22、第二阻隔层24和应力缓冲层25不会影响反射层23的反射率，功能膜结构2的反射率与传统反射膜结构1的反射率相比降幅不超过0.5%。
反射层23的材料直接决定了功能膜结构2的反射效果，因此反射层23的材料选择银、银合金、铝、铝合金等具有高反射率的材料中的至少一种。
同样，反射层23过薄会导致其反射率低，但过厚又使其应力增大，导致附着力下降，同时还会增加成本。所以，所述反射层23的厚度优选为80nm-200nm，以兼顾反射层23的反射率、附着力和成本。
另外，本发明的基膜21的材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇-1,4-环己烷二甲醇酯、聚己内酰胺、聚己二酰己二胺、聚十二内酰胺、聚癸二酰癸二胺、聚乙烯、聚丙烯、聚-4-甲基-1-戊烯、氟乙烯丙烯共聚物、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯塑料、聚甲基丙烯酸甲酯、聚偏氟乙烯、乙烯三氟氯乙烯共聚物中的至少一种，以使基膜21具有辐射制冷的功能，能够以大气窗口进行辐射制冷，进一步提高功能膜结构2的制冷效果。同时，所述材料还具有很好的成膜性和透光率，以保证光线进入反射层23进行反射降温。
具体的，基膜21还包括颗粒填料以提高基膜21的辐射制冷功能，颗粒填料可采用硅酸铝、二氧化硅、氧化铝、氧化锌、氧化锆、氧化铈、氧化镧、氧化铑、硫酸钡、硫化锌、氧化镁中的一种或几种，也可采用珠光粉、重钙粉、滑石粉、钛白粉、陶瓷粉、陶瓷珠、玻璃珠中的一种或几种。
本发明还提供一种制冷膜，包括聚合物膜4以及依次层叠设置于所述聚合物膜4上的粘结层3、所述的功能膜结构2，其中，所述应力缓冲层25贴合于所述粘结层3。
具体的，所述聚合物膜4具有柔性。
在制备本发明制冷膜的过程中，功能膜结构2中的应力缓冲层25中的孔隙能够释放粘结层固化为粘结层3时体积变化引起的收缩应力，因此，本发明的制冷膜中各膜层间的界面结合优异，整体附着力高。
同时，本发明的制冷膜还具有优异的抗氧化能力和抗盐雾能力等性能，使用寿命长，降温效果好。
本发明还提供一种制冷制品，包括基体以及设置于所述基体上的所述的制冷膜，其中，所述基膜21为入光侧。
所述基体的材料包括金属、塑料、橡胶、混凝土、水泥、沥青、纸张、纺织品、木材、瓷砖、玻璃、有机合成材料中的一种。
以下，将通过以下具体实施例对所述功能膜结构及其制备方法、制冷膜和制冷制品做进一步的说明。
实施例1
如图2，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的反射层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例2
如图3，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例3
如图4，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例4
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例5
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为30%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例6
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为40%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例7
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为80nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例8
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为100nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例9
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Al。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例10
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为TiO2。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例11
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为500nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例12
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为1000nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例13
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为400nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例14
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为1100nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例15
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为25%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例16
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为45%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例17
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为70nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例18
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯；第一阻隔层的厚度为20nm，第一阻隔层的材料为TiNx；反射层的厚度为90nm，反射层的材料为银；第二阻隔层的厚度为48nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为800nm，应力缓冲层的材料为Ti。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为110nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为34%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例19
如图5，该例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度40μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸丁二醇酯，基膜内分布二氧化硅粒子；第一阻隔层的厚度为10nm，第一阻隔层的材料为BNx；反射层的厚度为80nm，反射层的材料为铝；第二阻隔层的厚度为20nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为700nm，应力缓冲层的材料为TiO2。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为90nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为38%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘结层上，得到制冷膜。
实施例20
如图5，该实施例的功能膜结构包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的第一阻隔层、反射层、第二阻隔层和应力缓冲层。
该实施例的功能膜结构中，基膜的厚度60μm，基膜的材料为聚萘二甲酸乙二醇酯，基膜内分布丙烯酸树脂粒子；第一阻隔层的厚度为30nm，第一阻隔层的材料为AlNx；反射层的厚度为200nm，反射层的材料为银合金；第二阻隔层的厚度为60nm，第二阻隔层的材料为TiNx；应力缓冲层的厚度为700nm，应力缓冲层的材料为TiO2。制得的应力缓冲层中孔隙孔径为95nm，孔隙在应力缓冲层中的体积百分比为37%。
如图6，将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，应力缓冲层贴合于粘胶上，得到制冷膜。
对比例1
该对比例的功能膜结构包括基膜以及设置于基膜上的反射膜。
该对比例的功能膜结构中，基膜的厚度为50μm，基膜的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯，反射膜的厚度为90nm，反射膜的材料为银。
将功能膜结构以胶粘的方式安装在聚合物膜上，反射膜贴合于粘结层上，得到制冷膜。
将实施例1-20以及对比例1的制冷膜进行性能测试，结果见表1。其中，剥离力的测试方法参照标准GBT2792-2014；剥离力第1天测试结果为熟化完成后经普通环境放置1天后所测剥离力的值；剥离力第5天测试结果为熟化完成后经普通环境放置5天后所测剥离力的值；剥离力第30天测试结果为熟化完成后经普通环境放置30天后所测剥离力的值。
表1
| 剥离力第1天测试结果（N/25mm） | 剥离力第5天测试结果（N/25mm） | 剥离力第30天测试结果（N/25mm） | 高温高湿环境(60℃，90%RH)试验 | 盐雾实验 | 300nm~2500nm反射率（%） | |
| 实施例1 | 13 | 7 | 3 | 3天开始出现氧化 | 2h出现明显腐蚀 | 93.5 |
| 实施例2 | 13 | 6 | 3 | 15天开始出现氧化 | 5天出现明显腐蚀 | 93 |
| 实施例3 | 13 | 12 | 10 | 5天开始出现氧化 | 1天出现明显腐蚀 | 93.5 |
| 实施例4 | 13 | 12 | 10 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例5 | 12 | 12 | 12 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例6 | 11 | 11 | 11 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例7 | 13 | 12 | 9 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例8 | 11 | 11 | 11 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例9 | 10 | 10 | 10 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例10 | 12 | 11 | 8 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例11 | 14 | 10 | 8 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例12 | 11 | 11 | 11 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例13 | 13 | 8 | 6 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例14 | 8 | 8 | 8 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例15 | 11 | 8 | 6 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例16 | 9 | 9 | 9 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例17 | 13 | 9 | 7 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例18 | 13 | 9 | 9 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 93 |
| 实施例19 | 12 | 8 | 6 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 89 |
| 实施例20 | 12 | 7 | 6 | 30天仍未出现氧化 | 30天仍未出现腐蚀 | 85 |
| 对比例1 | 13 | 3 | 1 | 3天出现明显氧化 | 2h出现明显腐蚀 | 93.5 |
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (9)
1.一种功能膜结构，其特征在于，包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的反射层和应力缓冲层，所述应力缓冲层的材料包括金属、金属氧化物中的至少一种，所述应力缓冲层为多个柱状晶形成的膜层结构，相邻的柱状晶之间具有孔隙，所述孔隙的孔径为80nm-100nm，所述孔隙在所述应力缓冲层中的体积百分比为30%-40%。
2.根据权利要求1所述的功能膜结构，其特征在于，所述应力缓冲层的厚度为500nm-1000nm。
3.根据权利要求1所述的功能膜结构，其特征在于，所述功能膜结构还包括设置于所述基膜和所述反射层之间的第一阻隔层，所述第一阻隔层的材料包括金属氮化物、非金属氮化物中的至少一种，所述第一阻隔层的厚度为10nm-30nm；和/或，
设置于所述反射层和所述应力缓冲层之间的第二阻隔层，所述第二阻隔层的材料包括金属氮化物，所述第二阻隔层的厚度为20nm-60nm。
4.根据权利要求1所述的功能膜结构，其特征在于，所述反射层的材料包括银、银合金、铝、铝合金中的至少一种，所述反射层的厚度为80nm-200nm。
5.根据权利要求1所述的功能膜结构，其特征在于，所述基膜的材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇-1,4-环己烷二甲醇酯、聚己内酰胺、聚己二酰己二胺、聚十二内酰胺、聚癸二酰癸二胺、聚乙烯、聚丙烯、聚-4-甲基-1-戊烯、氟乙烯丙烯共聚物、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯塑料、聚甲基丙烯酸甲酯、聚偏氟乙烯、乙烯三氟氯乙烯共聚物中的至少一种。
6.一种如权利要求1-5任一项所述的功能膜结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供基膜；
在所述基膜的表面设置反射层；以及
在所述反射层的远离所述基膜的表面形成应力缓冲层，其中所述应力缓冲层中具有孔隙，所述孔隙的孔径为80nm-100nm，所述孔隙在所述应力缓冲层中的体积百分比为30%-40%。
7.根据权利要求6所述的功能膜结构的制备方法，其特征在于，通过磁控溅射法形成所述应力缓冲层，其中，沉积角范围为60°-70°，靶基距为11cm-13cm。
8.一种制冷膜，其特征在于，包括聚合物膜和权利要求1-5任一项所述的功能膜结构，所述功能膜结构通过粘结层设置于所述聚合物膜，其中，所述功能膜结构中的所述应力缓冲层远离所述反射层的表面与所述粘结层接触。
9.一种制冷制品，其特征在于，包括基体以及设置于所述基体上的权利要求8所述的制冷膜，其中，所述基膜远离所述反射层的表面作为入光侧。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010750910.7A CN111730920B (zh) | 2020-07-30 | 2020-07-30 | 功能膜结构及其制备方法、制冷膜和制冷制品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010750910.7A CN111730920B (zh) | 2020-07-30 | 2020-07-30 | 功能膜结构及其制备方法、制冷膜和制冷制品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111730920A CN111730920A (zh) | 2020-10-02 |
| CN111730920B true CN111730920B (zh) | 2020-11-17 |
Family
ID=72656566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202010750910.7A Active CN111730920B (zh) | 2020-07-30 | 2020-07-30 | 功能膜结构及其制备方法、制冷膜和制冷制品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN111730920B (zh) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015088246A (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 凸版印刷株式会社 | 基材、ディスプレイ用基材、及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| CN109747244A (zh) * | 2017-11-07 | 2019-05-14 | 上海箩箕技术有限公司 | 电子设备 |
| CN110103559A (zh) * | 2019-05-13 | 2019-08-09 | 宁波瑞凌新能源科技有限公司 | 一种辐射降温材料及其制备方法和应用 |
| JP2019165043A (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 電子回路装置および回路基板の製造方法 |
| JP2020012865A (ja) * | 2018-07-13 | 2020-01-23 | ソニー株式会社 | 光学部品の固定構造、光学ユニット及び装置 |
| CN210572842U (zh) * | 2019-10-31 | 2020-05-19 | 宁波瑞凌新能源科技有限公司 | 一种复合银反射膜 |
-
2020
- 2020-07-30 CN CN202010750910.7A patent/CN111730920B/zh active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015088246A (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 凸版印刷株式会社 | 基材、ディスプレイ用基材、及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| CN109747244A (zh) * | 2017-11-07 | 2019-05-14 | 上海箩箕技术有限公司 | 电子设备 |
| JP2019165043A (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 電子回路装置および回路基板の製造方法 |
| JP2020012865A (ja) * | 2018-07-13 | 2020-01-23 | ソニー株式会社 | 光学部品の固定構造、光学ユニット及び装置 |
| CN110103559A (zh) * | 2019-05-13 | 2019-08-09 | 宁波瑞凌新能源科技有限公司 | 一种辐射降温材料及其制备方法和应用 |
| CN210572842U (zh) * | 2019-10-31 | 2020-05-19 | 宁波瑞凌新能源科技有限公司 | 一种复合银反射膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN111730920A (zh) | 2020-10-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI497732B (zh) | 物理鋼化玻璃、太陽能電池上蓋板、太陽能電池背板結構及太陽能電池板 | |
| JP5959746B2 (ja) | 光透過性積層体 | |
| US6461718B2 (en) | Retroreflective sheet | |
| JP5613093B2 (ja) | フィルム、太陽電池用バックシートおよびフィルムの製造方法 | |
| CN111114031A (zh) | 辐射制冷薄膜、辐射制冷复合膜、辐射制冷制品 | |
| WO2018192261A1 (zh) | 一种棱镜型反光膜及其制备方法 | |
| CN111730920B (zh) | 功能膜结构及其制备方法、制冷膜和制冷制品 | |
| KR20090085022A (ko) | 태양 전지 이면 시일용 시트 및 태양 전지 모듈 | |
| US20210301970A1 (en) | Laminate for vacuum insulation material, and vacuum insulation material using the laminate | |
| CN210572842U (zh) | 一种复合银反射膜 | |
| CN110568535A (zh) | 一种反光膜及其制备方法 | |
| CN111204988B (zh) | 一种柔性薄膜型热控涂层及其制备方法 | |
| CN101762095A (zh) | 一种抛物线型太阳能反射板 | |
| TW202224931A (zh) | 多層結構體 | |
| JP6723446B2 (ja) | 耐候性ミラー | |
| KR20170137824A (ko) | 투명 가스 배리어 적층 필름 및 그것을 사용한 전자 페이퍼 | |
| CN202399592U (zh) | 隔热膜 | |
| US20040101692A1 (en) | Sparkling laminate film and sparkling shaped article | |
| WO2015064312A1 (ja) | フィルムミラーおよびこれを用いた太陽熱反射用光反射装置 | |
| JP2005114777A (ja) | 反射シート | |
| JP2000114564A (ja) | 太陽電池モジュールおよびその製造方法 | |
| CN220923472U (zh) | 一种四氟乙烯氟膜板 | |
| JP3883738B2 (ja) | 透明積層体 | |
| CN201040738Y (zh) | 一种单层胶合玻璃 | |
| CN219486783U (zh) | 辐射制冷膜和覆膜金属板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |