CN111653689B - 透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法 - Google Patents

透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111653689B
CN111653689B CN202010542730.XA CN202010542730A CN111653689B CN 111653689 B CN111653689 B CN 111653689B CN 202010542730 A CN202010542730 A CN 202010542730A CN 111653689 B CN111653689 B CN 111653689B
Authority
CN
China
Prior art keywords
sub
film
mixed
film layer
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202010542730.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN111653689A (zh
Inventor
黄海涛
舒适
姚琪
顾仁权
崔钊
徐传祥
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN202010542730.XA priority Critical patent/CN111653689B/zh
Publication of CN111653689A publication Critical patent/CN111653689A/zh
Priority to PCT/CN2021/098994 priority patent/WO2021254219A1/zh
Priority to US17/795,069 priority patent/US20230058002A1/en
Application granted granted Critical
Publication of CN111653689B publication Critical patent/CN111653689B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K59/879—Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
    • B29D11/00278—Lenticular sheets
    • B29D11/00298—Producing lens arrays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
    • B29D11/00365—Production of microlenses
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
    • B29D11/00432—Auxiliary operations, e.g. machines for filling the moulds
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
    • G02B3/0018—Reflow, i.e. characterized by the step of melting microstructures to form curved surfaces, e.g. manufacturing of moulds and surfaces for transfer etching
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/844—Encapsulations
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/858—Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/1201—Manufacture or treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本发明涉及一种透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法。所述透镜阵列的制备方法，包括：在衬底上形成混合膜层，混合膜层包括阵列排布的第一混合子膜与第二混合子膜，液体在第一混合子膜的表面的接触角小于液体在第二混合子膜的表面的接触角；在混合膜层上涂覆光固化树脂；在光固化树脂形成阵列排布的液滴后，对光固化树脂进行光固化，得到阵列排布的透镜，液滴呈透镜状；液滴位于第一混合子膜上，透镜位于第一混合子膜上。根据本发明的实施例，可以简化制备透镜阵列的工艺，降低制备成本，有利于量产。

Description

透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法。
背景技术
相关技术中，Micro OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)器件采用单晶硅晶圆(Wafer)为背板，除具有OLED自发光、厚度薄、视角大、响应时间短、发光效率高等特性外，更容易实现高PPI(像素密度)、体积小、易于携带、功耗低等优异特性，特别适合应用于头盔显示器、立体显示镜以及眼镜式显示器等AR(Augmented Reality，增强现实)/VR(Virtual Reality，虚拟现实)显示设备。但是Micro LED亮度低，导致显示偏暗。因此，如何提高Micro OLED的显示亮度是需要解决的。
发明内容
本发明提供一种透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法，以解决相关技术中的不足。
根据本发明实施例的第一方面，提供一种透镜阵列的制备方法，包括：
在衬底上形成混合膜层，所述混合膜层包括阵列排布的第一混合子膜与第二混合子膜，液体在所述第一混合子膜的表面的接触角小于液体在所述第二混合子膜的表面的接触角；
在所述混合膜层上涂覆光固化树脂；
在所述光固化树脂形成阵列排布的液滴后，对所述光固化树脂进行光固化，得到阵列排布的透镜，所述液滴呈透镜状；所述液滴位于所述第一混合子膜上，所述透镜位于所述第一混合子膜上。
在一个实施例中，所述在衬底上形成混合膜层，包括：
在所述衬底上形成第一膜层；
在所述第一膜层上形成第二膜层；所述第二膜层包括阵列排布的第一区域与第二区域；
分别对所述第一区域与所述第二区域进行曝光，以使所述第一膜层的材料与所述第二膜层的材料发生聚合反应，得到所述混合膜层，所述第一区域的曝光时长大于所述第二区域的曝光时长，所述第一混合子膜位于所述第一区域，所述第二混合子膜位于所述第二区域。
在一个实施例中，所述第一膜层的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或聚酰亚胺；所述第二膜层的材料为丙烯酸或丙烯酰胺。
在一个实施例中，所述第一区域的曝光时长为3s～13s，所述第二区域的曝光时长为0.2s～1.1s。
在一个实施例中，对所述第一区域与所述第二区域进行曝光的光辐照度为30mW/cm2～80mW/cm2。
在一个实施例中，液体在所述第一混合子膜的表面的接触角为10度～50度，液体在所述第二混合子膜的表面的接触角为60度～90度。
根据本发明实施例的第二方面，提供一种显示装置的制备方法，包括：上述任一实施例所述的透镜阵列的制备方法。
在一个实施例中，所述对所述光固化树脂进行光固化，得到阵列排布的透镜之后，还包括：
在所述阵列排布的透镜上形成保护层。
在一个实施例中，所述在衬底上形成混合膜层之前，还包括：
在衬底上形成阵列排布的多个子像素；相邻的子像素之间存在非显示区；所述混合膜层位于所述阵列排布的多个子像素远离所述衬底的一侧；所述子像素在所述衬底上的投影位于所述第一混合子膜在所述衬底上的投影内，所述第二混合子膜在所述衬底上的投影位于所述非显示区在所述衬底上的投影内。
在一个实施例中，所述形成混合膜层之前，还包括：
在所述阵列排布的多个子像素上形成封装层，所述封装层位于所述子像素与所述混合膜层之间。
在一个实施例中，所述多个子像素包括至少一种颜色的子像素；在所述阵列排布的多个子像素上形成封装层之后，还包括：
在所述封装层上形成彩膜层，所述彩膜层位于所述封装层与所述混合膜层之间，所述彩膜层包括黑矩阵与至少一种颜色的滤光片；所述黑矩阵位于相邻的滤光片之间；所述子像素的颜色与所述滤光片的颜色一一对应；对于同一种颜色，所述子像素在所述衬底上的投影位于所述滤光片在所述衬底上的投影内，所述黑矩阵在所述衬底上的投影位于所述非显示区在所述衬底上的投影内。
根据本发明实施例的第三方面，提供一种显示装置，包括：
衬底；
阵列排布的多个子像素，位于所述衬底上；相邻的子像素之间存在非显示区；
混合膜层，位于所述阵列排布的多个子像素远离所述衬底的一侧；所述混合膜层包括阵列排布的第一混合子膜与第二混合子膜，液体在所述第一混合子膜的表面的接触角小于液体在所述第二混合子膜的表面的接触角；所述子像素在所述衬底上的投影位于所述第一混合子膜在所述衬底上的投影内，所述第二混合子膜在所述衬底上的投影位于所述非显示区在所述衬底上的投影内；
阵列排布的透镜，所述透镜位于所述第一混合子膜上。
根据上述实施例可知，由于形成的混合膜层包括阵列排布的第一混合子膜与第二混合子膜，液体在第一混合子膜的表面的接触角小于液体在第二混合子膜的表面的接触角，因此，在混合膜层上涂覆光固化树脂后，可以通过不同接触角的界面之间的物理排斥作用，使光固化树脂在混合膜层的表面形成阵列排布的液滴，且液滴位于第一混合子膜上，然后，对光固化树脂进行光固化，可以得到阵列排布的透镜。本发明实施例提供的技术方案，简化了制备透镜阵列的工艺，降低了制备成本，有利于量产。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。
图1是根据本发明实施例示出的一种显示装置的结构示意图；
图2是根据本发明实施例示出的一种透镜的结构示意图；
图3是根据本发明实施例示出的一种显示装置的制备方法的流程图；
图4～图7是根据本发明实施例示出在显示装置的制备过程中产生的中间结构的结构示意图；
图8是根据本发明实施例示出的另一种显示装置的制备方法的流程图；
图9～图11是根据本发明实施例示出在显示装置的制备过程中产生的中间结构的结构示意图；
图12是根据本发明实施例示出的一种混合膜层的结构示意图；
图13是根据本发明实施例示出的一种透镜的SEM图；
图14是根据本发明实施例示出的一种透镜阵列的制备方法的流程图；
图15是根据本发明实施例示出的另一种透镜阵列的制备方法的流程图。
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本发明相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本发明的一些方面相一致的装置和方法的例子。
本发明实施例提供一种显示装置。如图1所示，该显示装置包括：衬底11、阵列排布的多个子像素12、混合膜层13以及阵列排布的透镜14。
如图1所示，阵列排布的多个子像素12位于衬底11上，相邻的子像素12之间存在非显示区NA。混合膜层13位于阵列排布的多个子像素12远离衬底11的一侧；混合膜层13包括阵列排布的第一混合子膜131与第二混合子膜132，液体在第一混合子膜131的表面的接触角小于液体在第二混合子膜132的表面的接触角；子像素12在衬底11上的投影位于第一混合子膜131在衬底11上的投影内，第二混合子膜132在衬底11上的投影位于非显示区NA在衬底11上的投影内。透镜14位于第一混合子膜131上。
在一个实施例中，液体在第一混合子膜131的表面的接触角为10度～50度，例如，液体在第一混合子膜131的表面的接触角为10度、20度、30度或50度。
在一个实施例中，液体在第二混合子膜的表面的接触角为60度～90度。例如，液体在第二混合子膜的表面的接触角为60度、70度、75度、80度或90度。
在一个实施例中，上述的显示装置可以是Micro OLED显示装置。衬底11可以是单晶硅晶圆(Wafer)。因此，Micro OLED显示装置也可以称为硅基OLED显示装置。
在一个实施例中，上述的显示装置还包括驱动电路层15，驱动电路层15位于衬底11上，驱动电路层15包括子像素12的像素电路(未示出)，用于驱动子像素12发光。
在一个实施例中，每个子像素12可以包括阳极、有机发光层以及阴极，阳极位于驱动电路层15上，有机发光层位于阳极上，阴极位于有机发光层上。其中，各个子像素12的阳极可以不相连，各个子像素12的阴极可以相互连接，形成面电极。
在一个实施例中，阵列排布的多个子像素12可以包括红色子像素121、绿色子像素122以及蓝色子像素123。红色子像素121用于发红色的光，绿色子像素122用于发绿色的光，蓝色子像素123用于发蓝色的光。
在一个实施例中，如图1所示，上述的显示装置还包括封装层16，封装层16覆盖在阵列排布的多个子像素12上。其中，封装层16用于阻隔水氧，保护子像素12。封装层16可以包括第一无机层、有机层以及第二无机层，其中，第一无机层位于阵列排布的多个子像素12上，有机层位于第一无机层上，第二无机层位于有机层上。第一无机层的材料可以是氮化硅，有机层的材料可以是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，第二无机层的材料可以是氮氧化硅，但不限于此。
在一个实施例中，如图1所示，上述的显示装置还包括彩膜层17，彩膜层17位于封装层16上。彩膜层17包括黑矩阵171、红色滤光片172、绿色滤光片173与蓝色滤光片174。红色子像素121在衬底11上的投影位于红色滤光片172在衬底11上的投影内，绿色子像素122在衬底11上的投影位于绿色滤光片173在衬底11上的投影内，蓝色子像素123在衬底11上的投影位于蓝色滤光片174在衬底11上的投影内。黑矩阵171位于相邻的滤光片之间。黑矩阵171在衬底11上的投影位于非显示区NA在衬底11上的投影内。本实施例中，彩膜层17可以降低对环境光的反射率，可以避免环境光影响显示效果，还可以避免显示装置在不显示画面时用户看到显示装置的内部器件从而影响观感。
在一个实施例中，如图1所示，上述的显示装置还包括保护层18，保护层18覆盖在透镜14上。保护层18的材料可以是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，但不限于此。
在一个实施例中，透镜为平凸透镜，透镜包括一个平面与一个曲面，平面可为圆形，该透镜满足以下条件：
Figure BDA0002539483710000061
Figure BDA0002539483710000062
Figure BDA0002539483710000063
Figure BDA0002539483710000064
Figure BDA0002539483710000071
Figure BDA0002539483710000072
Δn∝D
Figure BDA0002539483710000073
其中，如图2所示，f为透镜的焦距，n1为子像素12与透镜14之间的所有膜层的平均折射率，n2为透镜的折射率，n3为保护层18的折射率，r为曲率半径，D为透镜的平面的直径，H为透镜的最大厚度，即透镜最厚位置处的厚度。满足以上条件的透镜对子像素发射的光可发挥汇聚作用。
需要说明的是，子像素12与透镜14之间的各个膜层的折射率越接近平均折射率越佳。
本实施例中，由于在子像素上存在透镜，而且，透镜对子像素发射的光存在汇聚作用，因此，可以提高子像素发光的亮度，进而可以提高显示装置的亮度。
本实施例中，由于混合膜层包括阵列排布的第一混合子膜与第二混合子膜，液体在第一混合子膜的表面的接触角小于液体在第二混合子膜的表面的接触角，因此，使得在制备阵列排布的透镜(透镜阵列)时，可以在混合膜层上涂覆光固化树脂，然后通过不同接触角的界面之间的物理排斥作用，使光固化树脂在混合膜层的表面形成阵列排布的液滴，且液滴位于第一混合子膜上，然后，对光固化树脂进行光固化，进而得到阵列排布的透镜。本发明实施例提供的技术方案，可以简化制备透镜阵列的工艺，降低制备成本，有利于量产。
以上介绍了本发明实施例提供的显示装置，下面介绍该显示装置的制备方法。
本发明的实施例还提出了一种显示装置的制备方法。如图3所示，该显示装置的制备方法，包括以下步骤301～306：
在步骤301中，在衬底上形成阵列排布的多个子像素，得到如图4所示的中间结构。
在本实施例中，如图4所示，可以在衬底11上形成阵列排布的红色子像素121、绿色子像素122以及蓝色子像素123。相邻的子像素12之间存在非显示区NA。例如，红色子像素121、绿色子像素122之间存在非显示区NA，绿色子像素122与蓝色子像素123之间存在非显示区NA。
在一个实施例中，在制备红色子像素121时，可以在红色子像素121的阳极上形成对应的第一有机发光层。在制备绿色子像素122时，可以在绿色子像素122的阳极上形成对应的第二有机发光层。在制备蓝色子像素123时，可以在蓝色子像素123的阳极上形成对应的第三有机发光层。
在一个实施例中，在步骤301之前，还包括：在衬底11上形成驱动电路层15，得到如图5所示的中间结构。
在步骤302中，在阵列排布的多个子像素上形成封装层，得到如图6所示的中间结构。
在步骤303中，在封装层上形成彩膜层，得到如图7所示的中间结构。
如图7所示，彩膜层17包括黑矩阵171、红色滤光片172、绿色滤光片173与蓝色滤光片174。黑矩阵171位于相邻的滤光片之间。黑矩阵171在衬底11上的投影位于非显示区NA在衬底11上的投影内。
在步骤304中，在彩膜层上形成混合膜层。混合膜层13包括阵列排布的第一混合子膜131与第二混合子膜132，液体在第一混合子膜131的表面的接触角小于液体在第二混合子膜132的表面的接触角。子像素12在衬底11上的投影位于第一混合子膜131在衬底11上的投影内，第二混合子膜132在衬底11上的投影位于非显示区NA在衬底11上的投影内。
在本实施例中，如图8所示，步骤304包括以下步骤3041～3043：
在步骤3041中，在彩膜层上形成第一膜层，得到如图9所示的中间结构。
如图9所示，第一膜层133位于彩膜层17上。其中，第一膜层133的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene terephthalate，简称PET)、聚碳酸酯或聚酰亚胺。优选地，第一膜层133的材料为PET。
在步骤3042中，在第一膜层上形成第二膜层，得到如图10所示的中间结构。
如图10所示，第二膜层134包括阵列排布的第一区域Q1与第二区域Q2。其中，子像素12在衬底11上的投影位于第一区域Q1在衬底11上的投影内，第二区域Q2在衬底11上的投影位于非显示区NA在衬底11上的投影内。其中，第二膜层134的材料为丙烯酸或丙烯酰胺。在本实施例中，第二膜层134的材料为丙烯酸。
在步骤3043中，分别对第一区域与第二区域进行曝光，以使第一膜层的材料与第二膜层的材料发生聚合反应，得到混合膜层。其中，第一区域Q1的曝光时长大于第二区域Q2的曝光时长，如图11所示，第一混合子膜131位于第一区域Q1，第二混合子膜132位于第二区域Q2。
在本实施例中，在对第一区域与第二区域进行曝光时，可以利用数字曝光机同时对第一区域与第二区域进行曝光。数字曝光机为新型的无需掩膜版(mask)的曝光机，其可以通过编写程序实现系列split(分割)条件的曝光。数字曝光机的光辐照度可以为30mW/cm2～80mW/cm2。例如，数字曝光机的的光辐照度可以为30mW/cm2、50mW/cm2、60mW/cm2或80mW/cm2。在本实施例中，数字曝光机的的光辐照度可以为50mW/cm2。在对第一区域与第二区域进行曝光时，曝光时长越大，第一区域与第二区域接收的曝光能量越大。
在本实施例中，利用数字曝光机对的第一区域Q1和第二区域Q2分别设置不同的曝光时长即可，其它区域无需曝光。
在一个实施例中，第一区域Q1的曝光时长为3s～13s。例如，第一区域Q1的曝光时长为3s(秒)、6s、10s或13s。
在一个实施例中，第二区域Q2的曝光时长为0.2s～1.1s。例如，第二区域Q2的曝光时长为0.2s、0.5s、0.8s或1.1s。
在本实施例中，在PET表面通过受限光接枝技术使丙烯酸(AA)聚合，通过控制曝光时间，得到不同接枝量的聚合物膜层；其原理是随着曝光时长增加，生成的表面自由基的密度增加，相应的AA单体接枝率随着增加，因此，通过控制不同区域的曝光量，则能够得到PET上不同聚合度的聚丙烯酸膜层。
其中，接枝率是指丙烯酸自由基聚合的比例，接枝率越高，PET膜层上的聚丙烯酸含量越多，聚丙烯酸膜层越致密，而聚丙烯酸分子中含有-COOH基团，为亲水基团。
需要说明的是，PET上膜层可以为丙烯酸，也可以为丙烯酰胺等亲水性单体，从工艺简便性上来考虑，可以选择光照敏感性上较强的不饱和单体。
由于PET本身为高疏水性膜层，因此在PET表面形成一层聚丙烯酸膜层后，即可改善其表面的表面能，使膜层的接触角变小，当表面聚丙烯酸聚合度越高，越致密的时候，其亲水性越好，液体的接触角越小。为了使第一区域Q1和第二区域Q2的表面能不一样，则需要控制第一区域Q1和第二区域Q2所受到的曝光能量不一样，具体为第二区域Q2侧曝光能量低，即曝光时长小，聚丙烯酸聚合量较少，亲水性改善效果较差，而第一区域Q1曝光时长大，聚丙烯酸聚合度较高，亲水性改善更强。
在本实施例中，第一区域Q1的曝光时长为6s，第二区域Q2的曝光时长为0.8s。这样，可以使第一区域Q1与第二区域Q2形成表面能差异较大的表面。
在步骤305中，在混合膜层上涂覆光固化树脂。
在本实施例中，可以在混合膜层13上涂覆光固化树脂。其中，光固化树脂的材料可以是可感光的聚甲基丙烯酸甲酯，聚甲基丙烯酸甲酯感光后固化。
在步骤306中，在光固化树脂形成阵列排布的液滴后，对光固化树脂进行光固化，得到阵列排布的透镜。
在本实施例中，如图12所示，第一混合子膜131可呈圆形，但不限于此，第二混合子膜132包围第一混合子膜131，由于液体在第一混合子膜131的表面的接触角小于液体在第二混合子膜132的表面的接触角，通过不同接触角的界面之间的物理排斥作用，可以使光固化树脂聚集在第一混合子膜131上，形成阵列排布的液滴。即液滴位于第一混合子膜131上。
在本实施例中，在液滴呈透镜状后，对光固化树脂进行光固化，得到阵列排布的透镜14。其中，透镜位于第一混合子膜131上。
如图1所示，子像素12在衬底11上的投影位于第一混合子膜131在衬底11上的投影内，由于透镜位于第一混合子膜131上，子像素12发的光可透过透镜14，透镜14对子像素12发的光有汇聚作用，可以提高子像素12的发光亮度。
另外，对得到的阵列排布的透镜14使用扫描电子显微镜(SEM)进行扫描，得到了如图13所示的SEM图。如图13所示的透镜14，透镜的f为18微米，n1为1.48，n2为1.58，n3为1，D为10微米，r为8.25微米，H为1.66微米。当然，实际制备的透镜的参数也可以是其他数值，例如，D为6.08微米。
在本实施例中，在步骤306之后，还包括：在阵列排布的透镜上形成保护层，得到如图1所示的显示装置。
本发明的实施例还提出了一种透镜阵列的制备方法。如图14所示，该透镜阵列的制备方法，包括以下步骤1401～1403：
在步骤1401中，在衬底上形成混合膜层，混合膜层包括阵列排布的第一混合子膜与第二混合子膜，液体在第一混合子膜的表面的接触角小于液体在第二混合子膜的表面的接触角。
在步骤1402中，在混合膜层上涂覆光固化树脂。
在步骤1403中，在光固化树脂形成阵列排布的液滴后，对光固化树脂进行光固化，得到阵列排布的透镜，液滴呈透镜状；液滴位于第一混合子膜上，透镜位于第一混合子膜上。
在一个实施例中，如图15所示，步骤1401包括以下步骤1501～1503：
在步骤1501中，在衬底上形成第一膜层。
在步骤1502中，在第一膜层上形成第二膜层；第二膜层包括阵列排布的第一区域与第二区域。
在步骤1503中，分别对第一区域与第二区域进行曝光，以使第一膜层的材料与第二膜层的材料发生聚合反应，得到混合膜层，第一区域的曝光时长大于第二区域的曝光时长，第一混合子膜位于第一区域，第二混合子膜位于第二区域。
在一个实施例中，第一膜层的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或聚酰亚胺。
在一个实施例中，第二膜层的材料为丙烯酸或丙烯酰胺。
在一个实施例中，第一区域的曝光时长为3s～13s，第二区域的曝光时长为0.2s～1.1s。
在一个实施例中，对第一区域与第二区域进行曝光的光辐照度为30mW/cm2～80mW/cm2。
在一个实施例中，液体在第一混合子膜的表面的接触角为10度～50度，液体在第二混合子膜的表面的接触角为60度～90度。
本实施例提供的透镜阵列的制备方法可用于制备上述任一实施例所述的显示装置。
本实施例中，由于形成的混合膜层包括阵列排布的第一混合子膜与第二混合子膜，液体在第一混合子膜的表面的接触角小于液体在第二混合子膜的表面的接触角，因此，在混合膜层上涂覆光固化树脂后，可以通过不同接触角的界面之间的物理排斥作用，使光固化树脂在混合膜层的表面形成阵列排布的液滴，且液滴位于第一混合子膜上，然后，对光固化树脂进行光固化，可以得到阵列排布的透镜。本实施例提供的技术方案，简化了制备透镜阵列的工艺，降低了制备成本，有利于量产。
需要说明的是，本实施例中的显示装置可以为：AR/VR显示设备、电子纸、手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
其中，上述流程所采用的形成工艺例如可包括：沉积、溅射等成膜工艺和刻蚀等构图工艺。
需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间唯一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。
在本发明中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后，将容易想到本发明的其它实施方案。本发明旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (10)

1.一种透镜阵列的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底上形成混合膜层，所述混合膜层包括阵列排布的第一混合子膜与第二混合子膜，液体在所述第一混合子膜的表面的接触角小于液体在所述第二混合子膜的表面的接触角；
在所述混合膜层上涂覆光固化树脂；
在所述光固化树脂形成阵列排布的液滴后，对所述光固化树脂进行光固化，得到阵列排布的透镜，所述液滴呈透镜状；所述液滴位于所述第一混合子膜上，所述透镜位于所述第一混合子膜上；
所述在衬底上形成混合膜层，包括：
在所述衬底上形成第一膜层；
在所述第一膜层上形成第二膜层；所述第二膜层包括阵列排布的第一区域与第二区域；
分别对所述第一区域与所述第二区域进行曝光，以使所述第一膜层的材料与所述第二膜层的材料发生聚合反应，得到所述混合膜层，所述第一区域的曝光时长大于所述第二区域的曝光时长，所述第一混合子膜位于所述第一区域，所述第二混合子膜位于所述第二区域；
所述第一区域的曝光时长为3s～13s，所述第二区域的曝光时长为0.2s～1.1s。
2.根据权利要求1所述的透镜阵列的制备方法，其特征在于，所述第一膜层的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或聚酰亚胺；
所述第二膜层的材料为丙烯酸或丙烯酰胺。
3.根据权利要求1所述的透镜阵列的制备方法，其特征在于，对所述第一区域与所述第二区域进行曝光的光辐照度为30mW/cm2～80mW/cm2。
4.根据权利要求1所述的透镜阵列的制备方法，其特征在于，液体在所述第一混合子膜的表面的接触角为10度～50度，液体在所述第二混合子膜的表面的接触角为60度～90度。
5.一种显示装置的制备方法，其特征在于，包括：权利要求1至4任一项所述的透镜阵列的制备方法。
6.根据权利要求5所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述对所述光固化树脂进行光固化，得到阵列排布的透镜之后，还包括：
在所述阵列排布的透镜上形成保护层。
7.根据权利要求5所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述在衬底上形成混合膜层之前，还包括：
在衬底上形成阵列排布的多个子像素；相邻的子像素之间存在非显示区；所述混合膜层位于所述阵列排布的多个子像素远离所述衬底的一侧；所述子像素在所述衬底上的投影位于所述第一混合子膜在所述衬底上的投影内，所述第二混合子膜在所述衬底上的投影位于所述非显示区在所述衬底上的投影内。
8.根据权利要求7所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述形成混合膜层之前，还包括：
在所述阵列排布的多个子像素上形成封装层，所述封装层位于所述子像素与所述混合膜层之间。
9.根据权利要求8所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述多个子像素包括至少一种颜色的子像素；在所述阵列排布的多个子像素上形成封装层之后，还包括：
在所述封装层上形成彩膜层，所述彩膜层位于所述封装层与所述混合膜层之间，所述彩膜层包括黑矩阵与至少一种颜色的滤光片；所述黑矩阵位于相邻的滤光片之间；所述子像素的颜色与所述滤光片的颜色一一对应；对于同一种颜色，所述子像素在所述衬底上的投影位于所述滤光片在所述衬底上的投影内，所述黑矩阵在所述衬底上的投影位于所述非显示区在所述衬底上的投影内。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：
衬底；
阵列排布的多个子像素，位于所述衬底上；相邻的子像素之间存在非显示区；
混合膜层，位于所述阵列排布的多个子像素远离所述衬底的一侧；所述混合膜层包括阵列排布的第一混合子膜与第二混合子膜，液体在所述第一混合子膜的表面的接触角小于液体在所述第二混合子膜的表面的接触角；所述子像素在所述衬底上的投影位于所述第一混合子膜在所述衬底上的投影内，所述第二混合子膜在所述衬底上的投影位于所述非显示区在所述衬底上的投影内；所述混合膜层通过以下步骤形成：在所述衬底上形成第一膜层；在所述第一膜层上形成第二膜层；所述第二膜层包括阵列排布的第一区域与第二区域；分别对所述第一区域与所述第二区域进行曝光，以使所述第一膜层的材料与所述第二膜层的材料发生聚合反应，得到所述混合膜层，所述第一区域的曝光时长大于所述第二区域的曝光时长，所述第一混合子膜位于所述第一区域，所述第二混合子膜位于所述第二区域；
阵列排布的透镜，所述透镜位于所述第一混合子膜上；
所述第一区域的曝光时长为3s～13s，所述第二区域的曝光时长为0.2s～1.1s。
CN202010542730.XA 2020-06-15 2020-06-15 透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法 Active CN111653689B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010542730.XA CN111653689B (zh) 2020-06-15 2020-06-15 透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法
PCT/CN2021/098994 WO2021254219A1 (zh) 2020-06-15 2021-06-08 透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法
US17/795,069 US20230058002A1 (en) 2020-06-15 2021-06-08 Methods of preparing lens arrays, display apparatuses, and methods of preparing display apparatuses

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010542730.XA CN111653689B (zh) 2020-06-15 2020-06-15 透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111653689A CN111653689A (zh) 2020-09-11
CN111653689B true CN111653689B (zh) 2023-04-28

Family

ID=72344989

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010542730.XA Active CN111653689B (zh) 2020-06-15 2020-06-15 透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20230058002A1 (zh)
CN (1) CN111653689B (zh)
WO (1) WO2021254219A1 (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111653689B (zh) * 2020-06-15 2023-04-28 京东方科技集团股份有限公司 透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法
CN115720644A (zh) * 2021-05-27 2023-02-28 京东方科技集团股份有限公司 背光模组、其制作方法及显示装置
WO2024103351A1 (zh) * 2022-11-17 2024-05-23 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4312319B2 (ja) * 1999-11-10 2009-08-12 大日本印刷株式会社 マイクロレンズ基板およびその製造法
CN1100082C (zh) * 2000-04-18 2003-01-29 四川大学 医用高分子材料表面润滑改性方法
WO2006038648A1 (ja) * 2004-10-06 2006-04-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. マイクロレンズ、マイクロレンズアレイ及びその製造方法
CN101218389A (zh) * 2005-07-11 2008-07-09 金伯利-克拉克环球有限公司 洁净室拭巾
KR20070069253A (ko) * 2005-12-28 2007-07-03 매그나칩 반도체 유한회사 이미지 센서의 마이크로 렌즈 형성방법
EP2168148B1 (en) * 2007-07-18 2012-05-16 Ricoh Company, Ltd. Laminate structure, electronic device, and display device
CN102293053B (zh) * 2010-03-31 2015-04-15 松下电器产业株式会社 显示面板装置以及显示面板装置的制造方法
TWI453231B (zh) * 2010-11-22 2014-09-21 Univ Yuan Ze Biodegradability of Small Molecules and Its Use
CN102173597A (zh) * 2011-03-01 2011-09-07 复旦大学 一种光致疏水性薄膜的制备方法
CN106448473B (zh) * 2016-12-16 2017-11-10 京东方科技集团股份有限公司 显示面板母板以及显示面板制作方法
CN108023030B (zh) * 2017-11-30 2020-07-07 京东方科技集团股份有限公司 复合膜及其制备方法、电致发光显示器件
CN111211237A (zh) * 2018-11-21 2020-05-29 陕西坤同半导体科技有限公司 薄膜封装结构及薄膜封装方法
CN209045618U (zh) * 2018-11-21 2019-06-28 陕西坤同半导体科技有限公司 薄膜封装结构
CN110444691B (zh) * 2019-08-28 2023-04-18 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板及其制备方法和显示装置
CN110632828B (zh) * 2019-09-27 2021-07-06 中国科学技术大学 一种基底上制作亲疏水图案化表面的方法及其应用
CN111653689B (zh) * 2020-06-15 2023-04-28 京东方科技集团股份有限公司 透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN111653689A (zh) 2020-09-11
US20230058002A1 (en) 2023-02-23
WO2021254219A1 (zh) 2021-12-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111653689B (zh) 透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法
CN108598125B (zh) 柔性显示面板、柔性显示装置和柔性显示面板的制作方法
US7372079B2 (en) Surface light emitter, display apparatus and light control member
US7580181B2 (en) Display
CN111710770B (zh) 一种显示面板及其制备方法和显示装置
JP4806220B2 (ja) 画像表示装置
TWI463189B (zh) 光學構件、包含其之顯示裝置、及其製造方法
US20210159463A1 (en) Display backboard, display panel and method of manufacturing the same, and display apparatus
CN109950291B (zh) 有机发光显示面板及制造方法
JPH1174072A (ja) 薄膜ｅｌパネル及びその製造方法
JP2010114406A (ja) 照明装置、液晶表示装置、及び照明装置の製造方法
CN110444691A (zh) 彩膜基板、显示面板及其制备方法和显示装置
CN1877370A (zh) 光学片、背光灯组件、电光学装置及电子机器以及光学片的制造方法
CN1841799A (zh) 发光元件、其制造方法及图像显示装置
US20240168322A1 (en) Quantum dot complex, three-dimensional display element, and process for quantum dot complex
CN109378404A (zh) 一种3d显示面板及其制作方法，以及显示装置
CN114384725A (zh) 一种量子点复合膜及其制备方法
CN115863523A (zh) 微型led结构及其制备方法和发光装置
CN112014995A (zh) 显示装置
TWI300150B (en) Reflective-type display element, reflector and method of producing the same
CN112162428B (zh) 一种Mini-LED通孔调光结构背光源及其制造方法
CN111463364B (zh) 有机发光二极管显示基板及制备方法、显示面板
JPH09258195A (ja) マイクロレンズ基板、液晶表示素子および画像投影型液晶表示装置
US10943956B2 (en) Display panel and manufacturing method thereof
CN216793720U (zh) 显示面板及显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant