CN111618809A - 一种可调节式支撑平台装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及支撑平台装置技术领域，特别涉及一种可调节式支撑平台装置，包括支撑组件、中心轴、导柱组件和滑座，支撑组件的一侧面上设有两个侧板，滑座位于两个侧板之间且分别与两个侧板滑动连接，导柱组件嵌设在支撑组件内腔且与支撑组件转动连接，中心轴的一端与滑座螺纹连接，中心轴的一端相对的另一端伸至支撑组件内腔与导柱组件固定连接，在需要调节滑座的高度时，通过旋转导柱组件，导柱组件旋转带动中心轴转动，从而实现滑座的升降；本方案设计的支撑平台装置可搭配各类半导体及显示屏真空设备，实现被支撑部件的高度调节，使得整体可上下运作，在高温真空低压腔体中不降温的情况下也可完成，进而能够根据产品状况作动态调节。
Description
技术领域
本发明涉及支撑平台装置技术领域，特别涉及一种可调节式支撑平台装置。
背景技术
真空支撑平台广泛应用于半导体和玻璃显示屏领域，多固定于真空设备内部腔体主体的下方，起到支撑部件的作用；传统支撑平台固定于墙体底部，均不可升降不可调，统一设定，高度一致，不可调节，故所支撑的部件无法根据产品状况作动态调节；而且传统的支撑平台发生异常，无法在高温和真空环境下进行调节，必须降温破真空，费时费力。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是：提供一种能够实现升降的可调节式支撑平台装置。
为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：
一种可调节式支撑平台装置，包括支撑组件、中心轴、导柱组件和滑座，所述支撑组件的一侧面上设有两个侧板，所述滑座位于两个侧板之间且分别与两个侧板滑动连接，所述导柱组件嵌设在支撑组件内腔且与支撑组件转动连接，所述中心轴的一端与滑座螺纹连接，所述中心轴的一端相对的另一端伸至支撑组件内腔与导柱组件固定连接。
本发明的有益效果在于：
通过设置支撑组件、中心轴、导柱组件和滑座，支撑组件的一侧面上设有两个侧板，滑座位于两个侧板之间且分别与两个侧板滑动连接，导柱组件嵌设在支撑组件内腔且与支撑组件转动连接，在需要调节滑座的高度时，通过旋转导柱组件，导柱组件旋转带动中心轴转动，从而实现滑座的升降；本方案设计的支撑平台装置可搭配各类半导体及显示屏真空设备，实现被支撑部件的高度调节，使得整体可上下运作，在高温真空低压腔体中不降温的情况下也可完成，进而能够根据产品状况作动态调节。
附图说明
图1为根据本发明的一种可调节式支撑平台装置的结构示意图；
图2为根据本发明的一种可调节式支撑平台装置的正视结构示意图；
图3为根据本发明的一种可调节式支撑平台装置的图2中A-A处的剖面图；
图4为根据本发明的一种可调节式支撑平台装置的俯视结构示意图；
图5为根据本发明的一种可调节式支撑平台装置的局部结构示意图；
图6为根据本发明的一种可调节式支撑平台装置的图5的俯视结构示意图；
图7为根据本发明的一种可调节式支撑平台装置的图5的正视结构示意图；
图8为根据本发明的一种可调节式支撑平台装置的底部支撑件的结构示意图；
图9为根据本发明的一种可调节式支撑平台装置的滑座的结构示意图；
图10为根据本发明的一种可调节式支撑平台装置的玻璃的测温结果图；
图11为根据本发明的一种可调节式支撑平台装置的传统的玻璃的厚度验证图；
图12为根据本发明的一种可调节式支撑平台装置的本方案的玻璃的厚度验证图；
标号说明：
1、支撑组件；101、主体支撑件；1011、第一环形槽；102、底部支撑件；1021、第二环形槽；
2、中心轴；
3、导柱组件；301、第一导柱；302、第二导柱；303、泛塞密封圈；304、C型环；
4、滑座；
5、侧板；501、滑槽；
6、支撑垫片。
具体实施方式
为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图1，本发明提供的技术方案：
一种可调节式支撑平台装置，包括支撑组件、中心轴、导柱组件和滑座，所述支撑组件的一侧面上设有两个侧板，所述滑座位于两个侧板之间且分别与两个侧板滑动连接，所述导柱组件嵌设在支撑组件内腔且与支撑组件转动连接，所述中心轴的一端与滑座螺纹连接，所述中心轴的一端相对的另一端伸至支撑组件内腔与导柱组件固定连接。
从上述描述可知，本发明的有益效果在于：
通过设置支撑组件、中心轴、导柱组件和滑座，支撑组件的一侧面上设有两个侧板，滑座位于两个侧板之间且分别与两个侧板滑动连接，导柱组件嵌设在支撑组件内腔且与支撑组件转动连接，在需要调节滑座的高度时，通过旋转导柱组件，导柱组件旋转带动中心轴转动，从而实现滑座的升降；本方案设计的支撑平台装置可搭配各类半导体及显示屏真空设备，实现被支撑部件的高度调节，使得整体可上下运作，在高温真空低压腔体中不降温的情况下也可完成，进而能够根据产品状况作动态调节。
进一步的，所述支撑组件包括主体支撑件和底部支撑件，所述主体支撑件与底部支撑件之间通过螺栓连接，所述导柱组件依次贯穿主体支撑件和底部支撑件。
进一步的，所述导柱组件包括第一导柱和第二导柱，所述第一导柱嵌设在主体支撑件内腔且与主体支撑件转动连接，所述第二导柱嵌设在底部支撑件内腔且与底部支撑件转动连接，所述第二导柱的一端伸至主体支撑件内腔与第一导柱固定连接，所述第二导柱的一端相对的另一端伸出底部支撑件外部，所述中心轴的一端相对的另一端穿过第一导柱与第二导柱固定连接。
由上述描述可知，通过设置第一导柱和第二导柱，能够保证滑座稳定升降的同时，又能保证其气密性。
进一步的，所述第一导柱靠近第二导柱的一端边沿向外延伸形成限位环，所述限位环与第一导柱一体成型，所述第二导柱伸至主体支撑件内腔的一端外壁套设有泛塞密封圈和C型环，所述泛塞密封圈位于限位环和C型环之间。
由上述描述可知，通过在第二导柱伸至主体支撑件内腔的一端外壁套设有泛塞密封圈和C型环，能够保证在真空环境下升降的密封性。
进一步的，所述主体支撑件远离底部支撑件的一侧面上开设有第一环形槽，所述第一环形槽设置两个侧板外围，所述第一环形槽内设有耐高温密封圈。
由上述描述可知，通过设置上述结构，能够维持腔体的气密性和隔绝紫外线避免对人体造成危害。
进一步的，所述底部支撑件靠近主体支撑件的一侧面上开设有第二环形槽，所述第二环形槽设置在中心轴外围，所述第二环形槽内设有含氟密封圈。
从上述描述可知，通过设置上述结构，能够维持腔体的气密性和隔绝紫外线避免对人体造成危害。
进一步的，所述滑座的相对两侧面上均连接有限位块，所述限位块与滑座一体成型，所述侧板的侧壁上设有与限位块相适配的滑槽。
从上述描述可知，通过设置上述的结构，能够保证滑座稳定的升降。
进一步的，所述滑座上连接有支撑垫片。
请参照图1至图12，本发明的实施例一为：
请参照图1、图2和图3，一种可调节式支撑平台装置，包括支撑组件1、中心轴2、导柱组件3和滑座4，所述支撑组件1的一侧面上设有两个侧板5，所述滑座4位于两个侧板5之间且分别与两个侧板5滑动连接，所述导柱组件3嵌设在支撑组件1内腔且与支撑组件1转动连接，所述中心轴2的一端与滑座4螺纹连接，所述中心轴2的一端相对的另一端伸至支撑组件1内腔与导柱组件3固定连接。
所述中心轴2的一端上设有外螺纹，所述外螺纹的长度为40mm，所述滑座4内腔设有与外螺纹相适配的内螺纹。
所述滑座4上连接有支撑垫片6，所述支撑垫片6的形状与滑座4水平截面的形状相同，所述支撑垫片6通过螺丝固定在滑座4上，所述支撑垫片6的材质为不锈钢，所述支撑垫片6用以支撑被支撑部件。
请参照图3，所述支撑组件1包括主体支撑件101和底部支撑件102，所述主体支撑件101与底部支撑件102之间通过五个4mm*25mm的螺栓连接，所述导柱组件3依次贯穿主体支撑件101和底部支撑件102。
所述主体支撑件101的形状和底部支撑件102的形状均为圆形，所述主体支撑件101的和底部支撑件102的材质均为不锈钢。
所述主体支撑件101的中心开设有供中心轴2穿过的第一通孔，所述底部支撑件102的中心开设有供中心轴2穿过的第二通孔。
请参照图3，所述导柱组件3包括第一导柱301和第二导柱302，所述第一导柱301嵌设在主体支撑件101内腔且与主体支撑件101转动连接，所述第二导柱302嵌设在底部支撑件102内腔且与底部支撑件102转动连接，所述第二导柱302的一端伸至主体支撑件101内腔与第一导柱301固定连接，所述第二导柱302的一端相对的另一端伸出底部支撑件102外部，所述中心轴2的一端相对的另一端穿过第一导柱301与第二导柱302固定连接。
请参照图3，所述第一导柱301靠近第二导柱302的一端边沿向外延伸形成限位环，所述限位环与第一导柱301一体成型，所述第二导柱302伸至主体支撑件101内腔的一端外壁套设有泛塞密封圈303和C型环304，所述泛塞密封圈303的数量为三个，三个所述泛塞密封圈303依次套设在第二导柱302外壁，所述泛塞密封圈303位于限位环和C型环304之间。
请参照图4,、图5、图6和图7，所述主体支撑件101远离底部支撑件102的一侧面上开设有第一环形槽1011，所述第一环形槽1011设置两个侧板5外围，所述第一环形槽1011内设有耐高温密封圈。
请参照图8，所述底部支撑件102靠近主体支撑件101的一侧面上开设有第二环形槽1021，所述第二环形槽1021设置在中心轴2外围，所述第二环形槽1021内设有含氟密封圈。
请参照图9，所述滑座4的相对两侧面上均连接有限位块，所述限位块与滑座4一体成型，所述侧板5的侧壁上设有与限位块相适配的滑槽501。
本方案设计的一种可调节式支撑平台装置，当需要调节滑座4的高度时，通过使用4mm内六角旋转第二导柱302，第二导柱302转动带动中心轴2转动，从而实现滑座4的升降；也可通过PLC(可编程序控制器)进行控制系统逻辑编程，PLC反馈于主电脑，终端实现与支撑平台装置联动自动化控制上下升降。
本方案设计的一种可调节式支撑平台装置，可应用于压力差较大的真空设备，不仅起到支撑作用，可实现自动和手动升降，即推动和拉动上方部件的功能，采用本方案设计的可调节式支撑平台装置的工艺腔体能够使得玻璃的加热均匀，减少破片风险；可调节式支撑平台装置安装在腔体主体的陶瓷真空棒正下方，以利于调节，且安装在腔体的中间位置，能够调节使得玻璃中间低于两侧，使得玻璃受热均匀(测温结果可参照图10)，温度均匀性更加趋于中心值，同时不易造成破片。
上述的真空设备：真空技术里，真空系针对大气而言，低于一个标准大气压的设备，被称之为真空设备，业界使用真空支撑平台的真空设备较多，主要包含镀膜机：等离子气增强型化学气相沉积设备、金属溅射物理沉积设备和蚀刻机(干刻蚀机等)。
上述的压力差：为两种环境下介于10-10pa-100Kpa之间的压力差值，目前半导体和玻璃显示屏技术差值大概10-7pa-100Kpa之间。
通过采用本方案设计的可调节式支撑平台装置，其玻璃的厚度较采用传统的支撑平台装置支撑的玻璃的厚度均匀，而且无分散型，平坦度好提高1％左右(可参照图11和图12，其中图11为采用传统的支撑平台装置支撑的玻璃的厚度验证图，图12为本方案设计的支撑平台装置支撑的玻璃的厚度验证图)。
综上所述，本发明提供的一种可调节式支撑平台装置，通过设置支撑组件、中心轴、导柱组件和滑座，支撑组件的一侧面上设有两个侧板，滑座位于两个侧板之间且分别与两个侧板滑动连接，导柱组件嵌设在支撑组件内腔且与支撑组件转动连接，在需要调节滑座的高度时，通过旋转导柱组件，导柱组件旋转带动中心轴转动，从而实现滑座的升降；本方案设计的支撑平台装置可搭配各类半导体及显示屏真空设备，实现被支撑部件的高度调节，使得整体可上下运作，在高温真空低压腔体中不降温的情况下也可完成，进而能够根据产品状况作动态调节。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (8)
1.一种可调节式支撑平台装置，其特征在于，包括支撑组件、中心轴、导柱组件和滑座，所述支撑组件的一侧面上设有两个侧板，所述滑座位于两个侧板之间且分别与两个侧板滑动连接，所述导柱组件嵌设在支撑组件内腔且与支撑组件转动连接，所述中心轴的一端与滑座螺纹连接，所述中心轴的一端相对的另一端伸至支撑组件内腔与导柱组件固定连接。
2.根据权利要求1所述的可调节式支撑平台装置，其特征在于，所述支撑组件包括主体支撑件和底部支撑件，所述主体支撑件与底部支撑件之间通过螺栓连接，所述导柱组件依次贯穿主体支撑件和底部支撑件。
3.根据权利要求2所述的可调节式支撑平台装置，其特征在于，所述导柱组件包括第一导柱和第二导柱，所述第一导柱嵌设在主体支撑件内腔且与主体支撑件转动连接，所述第二导柱嵌设在底部支撑件内腔且与底部支撑件转动连接，所述第二导柱的一端伸至主体支撑件内腔与第一导柱固定连接，所述第二导柱的一端相对的另一端伸出底部支撑件外部，所述中心轴的一端相对的另一端穿过第一导柱与第二导柱固定连接。
4.根据权利要求3所述的可调节式支撑平台装置，其特征在于，所述第一导柱靠近第二导柱的一端边沿向外延伸形成限位环，所述限位环与第一导柱一体成型，所述第二导柱伸至主体支撑件内腔的一端外壁套设有泛塞密封圈和C型环，所述泛塞密封圈位于限位环和C型环之间。
5.根据权利要求2所述的可调节式支撑平台装置，其特征在于，所述主体支撑件远离底部支撑件的一侧面上开设有第一环形槽，所述第一环形槽设置两个侧板外围，所述第一环形槽内设有耐高温密封圈。
6.根据权利要求2所述的可调节式支撑平台装置，其特征在于，所述底部支撑件靠近主体支撑件的一侧面上开设有第二环形槽，所述第二环形槽设置在中心轴外围，所述第二环形槽内设有含氟密封圈。
7.根据权利要求1所述的可调节式支撑平台装置，其特征在于，所述滑座的相对两侧面上均连接有限位块，所述限位块与滑座一体成型，所述侧板的侧壁上设有与限位块相适配的滑槽。
8.根据权利要求7所述的可调节式支撑平台装置，其特征在于，所述滑座上连接有支撑垫片。
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