CN111610887A - 一种触控基板及其制备方法、显示基板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

一种触控基板及其制备方法、显示基板、显示装置。所述触控基板包括控结构，所述触控结构包括依次设置的辅助电极层、第一绝缘层和触控电极层；所述触控电极层包括多个独立的触控电极，所述辅助电极层包括至少一个辅助电极组，所述辅助电极组包括一个或多个辅助电极，所述辅助电极组与一个或多个所述触控电极构成的触控电极组对应，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影与所述辅助电极组对应的所述触控电极组的正投影至少部分重合。本实施例提供的触控基板，通过设置辅助电极，可以屏蔽外界信号对触控电极的干扰，提升触控检测的信噪比。

Description

一种触控基板及其制备方法、显示基板及显示装置
技术领域
本申请实施例涉及但不限于显示技术，尤指一种触控基板及其制备方法、显示基板及显示装置。
背景技术
随着有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)显示技术向可折叠、可卷曲、可拉伸等方向发展，传统外挂式触控面板(Touch Panel，TP)已难以满足柔性显示需求。TP与屏幕集成化方案是未来屏幕触控的发展趋势。目前的集成方案主要分为两种，即内嵌式(incell)和覆盖表面式(oncell)，在液晶显示(Liquid Crystal Display，LCD)中incell的触控与显示驱动器集成(Touch and Display Driver Integration，TDDI)技术被广泛应用，而OLED显示则采用的oncell技术。在手机尺寸OLED中，三星已将互容式oncell触控在多款产品中应用，但随着屏幕叠层结构越来越薄，尺寸越来越大，互容式在超薄叠构、可拉伸及笔记本(NB)大尺寸应用上一些问题，如弱接地(Low Ground Mass，LGM)、RC负载过大、信噪比(SIGNAL NOISE RATIO SNR)低等，逐渐凸显。而自容式oncell触控在这些问题上有着较大优势。在LCD的自容式触控中，采用分时驱动和全驱的方式，屏幕显示噪声对TP影响极低，SNR可达80dB以上。
随着显示技术的发展，屏幕分辨率和刷新率不断提高，在高分辨率和刷新率情况下，每一帧时间被压缩，显示所需时间比例也越来越大，触控与显示的分时驱动方式将难以实现。在屏幕显示的同时，对触控进行驱动，触控信号的SNR降低。
发明内容
本申请实施例提供了一种触控基板及其制备方法、显示基板、显示装置。
一方面，本申请实施例提供了一种触控基板，包括：触控结构，所述触控结构包括依次设置的辅助电极层、第一绝缘层和触控电极层；所述触控电极层包括多个独立的触控电极，所述辅助电极层包括至少一个辅助电极组，所述辅助电极组包括一个或多个辅助电极，所述辅助电极组与一个或多个所述触控电极构成的触控电极组对应，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影与所述辅助电极组对应的所述触控电极组的正投影至少部分重合。
在一示例性实施例中，所述辅助电极组与所述辅助电极对应的触控电极组设置成使用相同的驱动信号进行驱动。
在一示例性实施例中，所述触控电极组的所有触控电极划分为多个互不重合的触控电极组，所述触控电极组与所述辅助电极组一一对应。
在一示例性实施例中，所述触控电极层的触控电极沿第一方向和第二方向阵列分布，所述第一方向和第二方向垂直，将沿第一方向的每排触控电极划分为一个所述触控电极组。
在一示例性实施例中，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影包含所述辅助电极组对应的触控电极组的正投影，且非所述辅助电极组对应的触控电极组的正投影位于所述辅助电极组的正投影外。
在一示例性实施例中，所述触控电极包括金属走线构成的网状结构，所述辅助电极包括金属走线构成的网状结构，且所述辅助电极的走线的宽度小于等于所述触控电极的走线的宽度。
在一示例性实施例中，所述触控电极包括金属走线构成的网状结构，所述辅助电极包括金属走线构成的网状结构，且所述辅助电极的网格密度小于等于所述触控电极的网格密度。
在一示例性实施例中，所述触控基板还包括触控走线，所述触控电极与所述触控走线同层设置；或者，
所述触控基板还包括依次设置在所述第一绝缘层和所述触控电极层之间的第二绝缘层和触控走线，所述触控走线设置于所述第一绝缘层和所述第二绝缘层之间。
又一方面，本申请实施例提供一种显示基板，包括上述触控基板，还包括，基底、显示功能层，设置在所述显示功能层远离所述基底一侧的显示封装层；其中，所述触控结构设置在所述显示封装层远离所述基底一侧，且所述辅助电极层位于所述显示封装层与所述触控电极层之间，所述辅助电极设置有与所述显示功能层的像素开口区域对应的开口区域。
又一方面，本申请实施例提供一种显示装置，上述显示基板。
又一方面，本申请实施例提供一种触控基板的制备方法，包括：
形成辅助电极层；所述辅助电极层包括至少一个辅助电极组，所述辅助电极组包括一个或多个独立的辅助电极，
在所述辅助电极层上形成第一绝缘层；
在所述第一绝缘层上形成包括多个触控电极的触控电极层；所述辅助电极组与一个或多个所述触控电极构成的触控电极组对应，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影与所述辅助电极组对应的所述触控电极组的正投影至少部分重合。
在一示例性实施例中，所述辅助电极组与所述辅助电极对应的触控电极组设置成使用相同的驱动信号进行驱动。
在一示例性实施例中，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影包含所述辅助电极组对应的触控电极组的正投影，且非所述辅助电极组对应的触控电极组的正投影位于所述辅助电极组的正投影外。
在一示例性实施例中，所述触控电极包括金属走线构成的网状结构，所述辅助电极包括金属走线构成的网状结构，且满足以下至少之一：所述辅助电极的走线的宽度小于等于所述触控电极的走线的宽度，所述辅助电极的网格密度小于等于所述触控电极的网格密度。
本申请实施例包括触控基板，包括：触控结构，所述触控结构包括依次设置的辅助电极层、第一绝缘层和触控电极层；所述触控电极层包括多个独立的触控电极，所述辅助电极层包括至少一个辅助电极组，所述辅助电极组包括一个或多个辅助电极，所述辅助电极组与一个或多个所述触控电极构成的触控电极组对应，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影与所述辅助电极组对应的所述触控电极组的正投影至少部分重合。本实施例提供的触控基板，所述辅助电极层对来自外部的噪声信号进行屏蔽，提高了触控的信噪比。
本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。
图1为一实施例提供的显示基板示意图；
图2为本申请实施例提供的触控基板示意图；
图3为本申请实施例提供的触控电极和辅助电极示意图；
图4为本申请实施例触控电极和辅助电极正投影示意图；
图5为本申请实施例辅助电极组示意图；
图6为另一实施提供的触控基板示意图；
图7为图6所示触控基板的触控电极和辅助电极示意图；
图8为本申请实施例提供的显示基板示意图；
图9为另一实施例提供的显示基板示意图；
图10为本申请实施例提供的触控基板制备方法流程图；
图11为另一实施例提供的触控基板制备方法流程图。
具体实施方式
下文中将结合附图对本发明的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行。并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
由于不能分时驱动和全驱，TP距离OLED阴极仅约10微米(um)，造成触控传感器(sensor)与阴极形成较大寄生电容，导致负载增大。在显示刷新率不断提升，TP需要180赫兹(Hz)、240Hz及以上的报点率，负载较大显然难以实现。
图1为一种自容式的oncell触控设计示意图。如图1所示，从下至上依次为显示封装层1、触控走线2和触控电极(又称感测电极)3。在显示屏封装层1上直接进行触控走线2及触控电极3的设计，显示信号将透过阴极层(图1中未示出)和显示封装层1传递给触控电极3，从而对触控信号形成噪声干扰，导致SNR降低；同时，由于显示封装层1很薄，触控电极3距离阴极层仅约10um，在显示的同时对TP进行驱动，需要克服寄生电容对触控电极3进行充电，而触控电极3距离阴极层过近导致寄生电容大，充电时间长，TP需要更长时间才能完成信号扫描，造成触控报点率低。
本申请实施例提供一种触控基板，在触控电极下增加一层Pattern(图案)化的导电层，通过该导电层降低干扰，减少寄生电容。
本申请实施例提供一种触控基板，包括：触控结构，所述触控结构包括依次设置的辅助电极层、第一绝缘层和触控电极层；所述触控电极层包括多个独立的触控电极，所述辅助电极层包括至少一个辅助电极组，所述辅助电极组包括一个或多个辅助电极，所述辅助电极组与一个或多个所述触控电极构成的触控电极组对应，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影与所述辅助电极组对应的所述触控电极组的正投影至少部分重合。
本实施例提供的触控基板，通过设置辅助电极，可以屏蔽外界信号对触控电极的干扰，提升触控信号的SNR。比如该触控基板设置在显示结构上时，对来自显示结构的噪声信号进行屏蔽。
在一示例性实施例中，所述辅助电极组与所述辅助电极对应的触控电极组设置成使用相同的驱动信号进行驱动。则，同一触控电极组内的触控电极均使用相同的驱动信号进行驱动，同一辅助电极组的触控电极均使用相同的驱动信号进行驱动。本实施例提供的方案，使用相同的驱动信号对辅助电极组和触控电极组进行驱动，电位相同，两极板(触控电极与辅助电极)间无电位差，降低触控电极的电容负载，从而在触控电极驱动扫描时需要克服的电容负载大大降低，为手指触控的高报点率提供支持。
在一示例性实施例中，所述触控电极为自容式电极，当人体未触碰屏幕时，各触控电极的电容为一固定值，当人体触碰屏幕时，触控电极的电容为该固定值叠加人体电容，通过检测触控电极的电容值变化即可判断出触控位置。
在一示例性实施例中，可以仅为部分触控电极设置对应的辅助电极，或者，可以为全部的触控电极设置对应的辅助电极。比如，将所述触控电极组的所有触控电极划分为多个互不重合的触控电极组，所述触控电极组与所述辅助电极组一一对应。互不重合是指，触控电极组包括的触控电极无重合，每个触控电极只属于一个触控电极组。辅助电极组包含的辅助电极互不重合，每个辅助电极属于一个辅助电极组。
在一示例性实施例中，辅助电极组包括多个辅助电极，可以降低辅助电极间的寄生电容。
在一示例性实施例中，辅助电极组包括一个辅助电极，且其对应的触控电极组包括多个触控电极，则相比每个触控电极组至包括一个触控电极的方案，可以减少所需的辅助电极，从而减少辅助电极的引线。
在一示例性实施例中，所述触控电极层的触控电极沿第一方向和第二方向阵列分布，所述第一方向和第二方向垂直，将沿第一方向的每排触控电极划分为一个触控电极组。比如，第一方向为列方向，每列触控电极构成一个触控电极组；又比如，第一方向为行方向，每行触控电极构成一个触控电极组。可以根据同时驱动的触控电极确定将哪些触控电极划为一个触控电极组，比如，每列触控电极同时驱动，则每列触控电极作为一个触控电极组。每个触控电极组可以只包括一个触控电极，对应一个辅助电极(即辅助电极组也包括一个辅助电极)，多个触控电极对应一个辅助电极组，在辅助电极组包括的辅助电极数量少于对应的触控电极的数量时，可以减少辅助电极的引线数量，比如，一列触控电极对应一个辅助电极，辅助电极只需一个引线即可。触控电极阵列排布仅为示例，第一方向和第二方向垂直仅为示例，触控电极可以按其他方式排布，每个触控电极组包括的触控电极可以是一列中的一半，等等。每个触控电极组可以只包括一个触控电极，每个辅助电极组可以只包括一个辅助电极，触控电极与辅助电极一一对应，彼此对应的触控电极与辅助电极使用相同的驱动信号驱动。
在一示例性实施例中，在平行于所述触控基板的平面上所述辅助电极组的正投影包含所述辅助电极组对应的触控电极组的正投影，且非所述辅助电极组对应的触控电极组的正投影位于所述辅助电极组的正投影外。触控电极组的正投影理解为所述触控电极组内所有触控电极的正投影，所述辅助电极组的正投影理解为所述辅助电极组内所有辅助电极的正投影。在一示例性实施例中，在平行于所述触控基板的平面上，辅助电极组的正投影的部分边界与触控电极组的正投影的部分边界重合，触控电极组的触控电极的正投影的最靠外的边界刚好落在辅助电极组的辅助电极正投影的最靠外的边界上。以辅助电极组包括一个辅助电极为例，触控电极组的触控电极的正投影的最靠外的边界刚好落在辅助电极的正投影的边界上。
在一示例性实施例中，所述触控电极包括金属走线构成的网格结构，所述辅助电极包括金属走线构成的网状结构，且所述辅助电极的走线的宽度小于等于所述触控电极的走线的宽度。当该触控结构设置在一显示结构上时，由于辅助电极与显示结构的阴极形成一定电容负载，辅助电极在信号加载时，近端和远端会形成一定电位差，导致触控电极充电时，辅助电极远端仍需克服一定电容负载。减小辅助电极的走线宽度，可以减少辅助电极与显示结构的阴极间的电容负载。走线的宽度可以根据需要设定。走线的宽度越细，辅助电极需克服的电容负载越小。
在一示例性实施例中，所述触控电极包括金属走线构成的网格结构、所述辅助电极包括金属走线构成的网状结构，且所述辅助电极的网格密度小于等于所述触控电极的网格密度。当该触控结构设置在一显示结构上时，由于辅助电极与显示结构的阴极形成一定电容负载，辅助电极在信号加载时，近端和远端会形成一定电位差，导致触控电极充电时，辅助电极远端仍需克服一定电容负载。降低网格密度，可以减少辅助电极与显示结构的阴极间的电容负载。降低网格密度的方法比如为减少走线的行数，或者，减少走线的列数，或者，减少走线的行数和列数，根据需要采用降低网格密度的方法。另外，可以减少局部的网格密度，等等。
在一示例性实施例中，且所述辅助电极的走线的宽度小于等于所述触控电极的走线的宽度，所述辅助电极的网格密度小于等于所述触控电极的网格密度。即，减小走线宽度和降低网格密度均采用，当该触控结构设置在一显示结构上时，降低网格密度和减小走线宽度，可以减少辅助电极与显示结构的阴极间的电容负载。
在一示例性实施例中，所述触控基板还包括触控走线，所述触控电极与所述触控走线同层设置；或者，
所述触控基板还包括依次设置在所述第一绝缘层和所述触控电极层之间的第二绝缘层和触控走线，所述触控走线设置于所述第一绝缘层和所述第二绝缘层之间。触控电极通过触控走线连接到触控驱动电路，工作时，人手指的触摸会导致相应触控电极的自电容发生变化，触控驱动电路根据触控电极的电容变化来判断手指的具体位置。
本实施例提供的触控结构，可以通过oncell方式设置在一显示结构上。
图2为本申请一实施例提供的触控基板示意图。如图2所示，本申请实施例提供一种触控基板，包括触控结构，所述触控结构包括辅助电极层10、第一绝缘层11和触控电极层14。辅助电极层10可以屏蔽外部噪声信号，提高触控电极层14的触控信号的信噪比。
如图3所示，触控电极层14包括阵列分布的多个触控电极141。触控电极141比如为矩形，但不限于此。触控电极层14的同层设置有触控引线12，全部触控电极划分为多个触控电极组，比如，每列触控电极构成一个触控电极组，比如第一列的触控电极构成触控电极组14a。辅助电极层10包括多个辅助电极101，本实施例中，每个辅助电极101构成一个辅助电极组，比如，辅助电极组10a。每个触控电极组对应一个辅助电极组，比如触控电极组14a对应辅助电极组10a，触控电极组14a与辅助电极组10a使用相同的驱动信号进行驱动，从而触控电极组14a内的触控电极与辅助电极组10a内的辅助电极的电位相同，二者无电位差，降低了触控电极的电容负载，从而在触控电极驱动扫描时需要克服的电容负载大大降低。
在一示例性实施例中，所述触控电极141包括金属走线构成的网状结构，所述辅助电极101包括金属走线构成的网状结构，辅助电极101的走线的宽度小于等于触控电极141的走线的宽度，从而可以减少辅助电极与显示结构的阴极间的电容负载，进而减少触控电极的电容负载。辅助电极101的网格密度小于等于触控电极141的网格密度，同样可以减少辅助电极与显示结构的阴极间的电容负载，进而减少触控电极的电容负载。
在一示例性实施例中，在平行于触控基板的平面上，辅助电极组的正投影包含该辅助电极组对应的触控电极组的正投影。如图4所示，辅助电极组10a的正投影10a’包含该辅助电极组10a对应的触控电极组14a的正投影14a’。本实施例中，如图4所示，触控电极组14a的4个触控电极正投影14a’最靠外的边界正好落在该触控电极组14a对应的辅助电极组10a的正投影10a’最靠外的边界上。在其它实施例中，触控电极组的正投影可以包含该触控电极组对应的辅助电极组的正投影。
在一示例性实施例中，如图5所示，辅助电极组10a包括两个独立的辅助电极102和辅助电极103，辅助电极组10a对应触控电极组14a，辅助电极102和辅助电极103设置为与触控电极组14a的触控电极相同的驱动信号进行驱动。图5所示的辅助电极组的辅助电极数量仅为示意，在其他实施例中，可以包含其他数量的辅助电极，比如可以包括4个辅助电极，等等。
在一示例性实施例中，所述辅助电极141使用金属制成，比如使用钛/铝/钛的多层材料，或者，铜等实现。所述第一绝缘层11的材料包括氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)，氮氧化硅、树脂等。
图6为另一实施例提供的触控基板示意图。如图6所示，本实施例提供一种触控基板，包括触控结构，所述触控结构包括依次设置的辅助电极层10、第一绝缘层11、触控引线12、第二绝缘层13和触控电极层14。触控引线12通过第二绝缘层13的过孔与触控电极层14的触控电极电连接。所述第二绝缘层13的材料包括氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)等。
如图7所示，触控电极层14包括多个触控电极141，每列触控电极构成一个触控电极组，比如第一列的触控电极构成触控电极组14a。辅助电极层10包括多个辅助电极101，本实施例中，每个辅助电极101构成一个辅助电极组，比如，辅助电极组10a。每个触控电极组对应一个辅助电极组，比如触控电极组14a对应辅助电极组10a，触控电极组14a与辅助电极组10a使用相同的驱动信号进行驱动，从而触控电极组14a内的触控电极与辅助电极组10a内的辅助电极的电位相同，二者无电位差，降低了触控电极的电容负载，从而在触控电极驱动扫描时需要克服的电容负载大大降低。
图8为本申请实施例提供的显示基板示意图。如图8所示，本申请实施例提供一种显示基板，包括触控基板，所述触控基板包括辅助电极层10、第一绝缘层11和触控电极层14，触控基板的详细结构参考前述触控基板实施例，此处不再赘述，所述显示基板还包括：基底15、设置在基底15上的显示功能层16，设置在所述显示功能层16上的显示封装层17；其中，所述触控结构设置在所述显示封装层17远离所述基底15一侧，且所述辅助电极层10位于所述显示封装层17与所述触控电极层14之间，所述辅助电极设置有与所述显示功能层16的像素开口区域对应的开口区域，避免影响出光。显示功能层16比如包括驱动结构层和发光结构层，驱动结构层包括薄膜晶体管，发光结构层包括阳极、发光层和阴极。
本实施例提供的显示基板，辅助电极层可以屏蔽来自显示功能能的噪声，提高触控的信噪比。当所述辅助电极组与对应的触控电极组使用相同的驱动信号进行驱动时，由于辅助电极和触控电极的电位相同，二者无电位差，降低了触控电极的电容负载，从而在触控电极驱动扫描时需要克服的电容负载大大降低。
图9为另一实施例提供的显示基板示意图。如图9所示，本申请实施例提供一种显示基板，包括触控基板，所述触控基板包括依次设置的辅助电极层10、第一绝缘层11、触控引线12、第二绝缘层13和触控电极层14，触控基板的详细结构参考前述触控基板实施例，此处不再赘述。所述显示基板还包括：基底15、设置在所述基底上的显示功能层16，设置在所述显示功能层16远离所述基底15一侧的显示封装层17；其中，所述触控结构设置在所述显示封装层17远离所述基底15一侧，且所述辅助电极层10位于所述显示封装层17与所述触控电极层14之间，所述辅助电极设置有与所述显示功能层16的像素开口区域对应的开口区域，避免影响出光。本实施例提供的显示基板，辅助电极层可以屏蔽来自显示功能能的噪声，提高触控的信噪比。当所述辅助电极组与对应的触控电极组使用相同的驱动信号进行驱动时，由于辅助电极和触控电极的电位相同，二者无电位差，降低了触控电极的电容负载，从而在触控电极驱动扫描时需要克服的电容负载大大降低。
本申请实施例的显示基板包括柔性显示基板，但不限于此。所述显示基板比如为大尺寸显示基板，又比如为可折叠、卷曲的显示基板。
所述显示基板的制备可以先分别制备触控基板和包含基底、显示功能层和显示封装层的显示基板，然后，将触控基板和显示基板合并得到最终的显示基板，或者，可以先制备包含基底、显示功能层和显示封装层的显示基板，在显示封装层上继续制备触控基板。
如图10所示，本申请实施例提供一种触控基板的制备方法，包括：
步骤1001，形成辅助电极层；所述辅助电极层包括至少一个辅助电极组，所述辅助电极组包括一个或多个独立的辅助电极；
制备方法比如为：沉积辅助电极薄膜，构图形成辅助电极图案。
步骤1002，在所述辅助电极层上形成第一绝缘层；
制备方法比如为：在辅助电极层上涂覆第一绝缘层薄膜，构图形成第一绝缘层图案；
步骤1003，在所述第一绝缘层远离所述辅助电极层的一侧形成包括多个触控电极的触控电极层；所述辅助电极组与一个或多个所述触控电极构成的触控电极组对应，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影与所述辅助电极组对应的所述触控电极组的正投影至少部分重合。
制备方法比如为，在第一绝缘层上沉积触控电极薄膜，构成形成触控电极图案。在形成触控电极图案的同时，形成触控走线。
本实施例提供的制备方法，通过制备辅助电极层，对噪声信号进行屏蔽，从而提高触控电极的信噪比。
在一示例性实施例中，所述辅助电极组与所述辅助电极对应的触控电极组设置成使用相同的驱动信号进行驱动。
在一示例性实施例中，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影包含所述辅助电极组对应的触控电极组的正投影，且非所述辅助电极组对应的触控电极组的正投影位于所述辅助电极组的正投影外。
在一示例性实施例中，所述触控电极包括金属走线构成的网状结构，所述辅助电极包括金属走线构成的网状结构，且满足以下至少之一：所述辅助电极的走线的宽度小于等于所述触控电极的走线的宽度，所述辅助电极的网格密度小于等于所述触控电极的网格密度。
如图11所示，本实施例提供一种触控基板的制备方法，包括：
步骤1101，形成辅助电极层；所述辅助电极层包括至少一个辅助电极组，所述辅助电极组包括一个或多个独立的辅助电极，
步骤1102，在所述辅助电极层上形成第一绝缘层；
步骤1103，在所述第一绝缘层远离所述辅助电极层一侧形成触控走线；
步骤1104，在所述触控走线上远离所述辅助电极层一侧形成第二绝缘层；
步骤1105，在所述第二绝缘层远离所述辅助电极层一侧形成包括多个触控电极的触控电极层；所述辅助电极组与一个或多个所述触控电极构成的触控电极组对应，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影与所述辅助电极组对应的所述触控电极组的正投影至少部分重合。
本实施例提供的制备方法，通过制备辅助电极层，对噪声信号进行屏蔽，从而提高触控信号的信噪比。
在一示例性实施例中，所述辅助电极组与所述辅助电极对应的触控电极组设置成使用相同的驱动信号进行驱动。
基于本申请实施例的技术构思，本申请实施例还提供了一种显示装置，包括前述实施例的显示基板。显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
在本申请实施例中，构图或构图工艺可只包括光刻工艺，或包括光刻工艺以及刻蚀步骤，或者可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺。光刻工艺是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程，利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形。可根据本申请实施例中所形成的结构选择相应的构图工艺。
本申请实施例中，同层设置的元件由同一膜层采用同一构图工艺形成。
本申请实施例中，“A的正投影包含B的正投影”是指，B的正投影落入A的正投影范围内，或者A的正投影覆盖B的正投影。
有以下几点需要说明：
(1)本发明实施例附图只涉及到与本发明实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见，在用于描述本发明的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
(3)在不冲突的情况下，本发明的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (14)

1.一种触控基板，包括：触控结构，所述触控结构包括依次设置的辅助电极层、第一绝缘层和触控电极层；所述触控电极层包括多个独立的触控电极，所述辅助电极层包括至少一个辅助电极组，所述辅助电极组包括一个或多个辅助电极，所述辅助电极组与一个或多个所述触控电极构成的触控电极组对应，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影与所述辅助电极组对应的所述触控电极组的正投影至少部分重合。
2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述辅助电极组与所述辅助电极对应的触控电极组设置成使用相同的驱动信号进行驱动。
3.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极组的所有触控电极划分为多个互不重合的触控电极组，所述触控电极组与所述辅助电极组一一对应。
4.根据权利要求3所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极层的触控电极沿第一方向和第二方向阵列分布，所述第一方向和第二方向垂直，将沿第一方向的每排触控电极划分为一个所述触控电极组。
5.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影包含所述辅助电极组对应的触控电极组的正投影，且非所述辅助电极组对应的触控电极组的正投影位于所述辅助电极组的正投影外。
6.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极包括金属走线构成的网状结构，所述辅助电极包括金属走线构成的网状结构，且所述辅助电极的走线的宽度小于等于所述触控电极的走线的宽度。
7.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极包括金属走线构成的网状结构，所述辅助电极包括金属走线构成的网状结构，且所述辅助电极的网格密度小于等于所述触控电极的网格密度。
8.根据权利要求1至7任一所述的触控基板，其特征在于，所述触控基板还包括触控走线，所述触控电极与所述触控走线同层设置；或者，
所述触控基板还包括依次设置在所述第一绝缘层和所述触控电极层之间的第二绝缘层和触控走线，所述触控走线设置于所述第一绝缘层和所述第二绝缘层之间。
9.一种显示基板，其特征在于，包括如权利要求1至8任一所述的触控基板，还包括，基底、设置在所述基底上的显示功能层，设置在所述显示功能层远离所述基底一侧的显示封装层；其中，所述触控结构设置在所述显示封装层远离所述基底一侧，且所述辅助电极层位于所述显示封装层与所述触控电极层之间，所述辅助电极设置有与所述显示功能层的像素开口区域对应的开口区域。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的显示基板。
11.一种触控基板的制备方法，其特征在于，包括：
形成辅助电极层；所述辅助电极层包括至少一个辅助电极组，所述辅助电极组包括一个或多个独立的辅助电极，
在所述辅助电极层上形成第一绝缘层；
在所述第一绝缘层远离所述辅助电极层的一侧形成包括多个触控电极的触控电极层；所述辅助电极组与一个或多个所述触控电极构成的触控电极组对应，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影与所述辅助电极组对应的所述触控电极组的正投影至少部分重合。
12.根据权利要求11所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述辅助电极组与所述辅助电极对应的触控电极组设置成使用相同的驱动信号进行驱动。
13.根据权利要求11或12所述的触控基板的制备方法，其特征在于，在平行于所述触控基板的平面上，所述辅助电极组的正投影包含所述辅助电极组对应的触控电极组的正投影，且非所述辅助电极组对应的触控电极组的正投影位于所述辅助电极组的正投影外。
14.根据权利要求11或12所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述触控电极包括金属走线构成的网状结构，所述辅助电极包括金属走线构成的网状结构，且满足以下至少之一：所述辅助电极的走线的宽度小于等于所述触控电极的走线的宽度，所述辅助电极的网格密度小于等于所述触控电极的网格密度。
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