CN111592829A - 精抛添加剂、精抛组合物及抛光方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种精抛添加剂、精抛组合物及抛光方法。以体积份数计,该精抛添加剂包括7份~10份的植物油、45份~55份的精抛液、10份~18份的光亮剂和26份~36份的溶剂,精抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂和水,氧化铝颗粒的粒径小于0.5μm。
Description
技术领域
本发明涉及抛光技术领域,特别是涉及一种精抛添加剂、精抛组合物及抛光方法。
背景技术
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法,是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。
随着科技的进步,异形件(例如表壳)的抛光逐渐向自动化的方向发展。目前有自动化抛光设备可对异形件进行自动化抛光,例如机械手、折叠数控抛光机、五轴打磨抛光机等,但采用目前的自动化抛光设备对异形件进行精抛时,抛光效果不太好。
发明内容
基于此,有必要提供一种能够提高精抛抛光效果的精抛添加剂。
此外,还有提供一种包括上述精抛添加剂的精抛组合物及一种抛光效果好的抛光方法。
一种精抛添加剂,以体积份数计,所述精抛添加剂包括7份~10份的植物油、45份~55份的精抛液、10份~18份的光亮剂和26份~36份的溶剂,所述精抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂和水,所述氧化铝颗粒的粒径小于0.5μm。
在其中一个实施例中,所述植物油选自花生油、菜籽油、芝麻油、蓖麻油、棉籽油、葵花籽油、亚麻油、红花籽油、茶籽油、大豆油和玉米油中的至少一种。
在其中一个实施例中,所述溶剂选自开油水和水中的至少一种。
在其中一个实施例中,所述氧化铝颗粒的粒径在0.1μm以上且小于0.5μm。
在其中一个实施例中,所述植物油为茶籽油。
在其中一个实施例中,所述精抛液还包括分散剂和表面活性剂,在所述精抛液中以质量百分含量计,所述氧化铝颗粒的含量为35%~45%,所述润滑剂的含量为20%~25%,所述分散剂的含量为5%~10%,所述表面活性剂的含量为3%~5%,所述水的含量为16%~35%。
在其中一个实施例中,以体积份数计,所述植物油的份数为7份~10份,所述精抛液的份数为45份~50份,所述光亮剂的份数为10份~15份,所述溶剂的份数为30份~35份。
一种精抛组合物,包括核桃砂和上述的精抛添加剂,所述核桃砂的粒径为0.10mm~0.53mm。
在其中一个实施例中,所述精抛添加剂的体积与所述核桃砂的质量之比为(1L~25L):(175kg~200kg)。
一种抛光方法,包括以下步骤:
将上述的精抛组合物的组分混合并用于对工件进行抛光处理。
在精抛过程中,该精抛添加剂中的植物油、精抛液、光亮剂和溶剂与核桃砂的相互配合,能够提高工件的精抛效果。
附图说明
图1为一实施方式的抛光方法的流程图。
具体实施方式
为了便于理解本发明,下面将对本发明进行更全面的描述。但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使本发明公开内容更加透彻全面。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本发明。
本发明一实施方式提供了一种精抛组合物,该精抛组合物包括核桃砂和精抛添加剂,其中,核桃砂的粒径为0.10mm~0.53mm。以体积份数计,该精抛添加剂包括7份~10份的植物油、45份~55份的精抛液、10份~18份的光亮剂和26份~36份的溶剂,精抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂和水,氧化铝颗粒的粒径为小于0.5μm。
现有自动抛光设备的打磨方式及打磨头角度摆动有限,即使配合现有的抛光耗材也不能满足异形件的抛光需求。经本申请的研究发现,上述精抛组合物通过上述精抛添加剂,使得核桃砂湿润,能起到降温作用,并且核桃砂比较松散,上述精抛添加剂具有黏性,通过上述精抛添加剂还可以增加核桃砂的黏稠度,从而增大其抛光磨削量。同时上述精抛组合物通过核桃砂和上述精抛添加剂的配合,可以无死角地打磨抛光异性工件,提高异形件的精抛效果,实现精抛后的异形件能够达到镜面效果,同时也能去掉工件上的纹路(例如小划痕、擦花、擦伤等)。另外,上述精抛组合物使用时不易产生粉尘,对除尘设备的要求较低,不易对使用者的健康造成不利影响,安全性高;此外,上述精抛组合物的原料易得、成本低,而且可以回收利用。再者,上述精抛组合物还能够实现等量磨削,打磨一致性好。再者,上述精抛添加剂还可以回收利用。
植物油用于与精抛添加剂的其他组分配合,提高核桃砂的精抛效果。具体地,植物油选自花生油、菜籽油、芝麻油、蓖麻油、棉籽油、葵花籽油、亚麻油、红花籽油、茶籽油、大豆油和玉米油中的至少一种。
在其中一个实施例中,植物油选自花生油、菜籽油、芝麻油、蓖麻油、棉籽油、葵花籽油、亚麻油、红花籽油、茶籽油、大豆油和玉米油中的一种。
在其中一个实施例中,植物油选自花生油、茶籽油、大豆油和亚麻油中的一种。
当然,在其他一些实施例中,植物油不限于植物油选自花生油、菜籽油、芝麻油、蓖麻油、棉籽油、葵花籽油、亚麻油、红花籽油、茶籽油、大豆油和玉米油,还可以在常温下为液态的其他植物油。
在其中一个实施例中,以体积份数计,植物油的份数为9份~10份。进一步地,以体积份数计,植物油的份数为9份、9.5份或10份。植物油按照上述的份数设置具有润滑作用,并且还有降低核桃砂在打磨抛光过程中的温度的作用,而且植物油与精抛液及溶剂的配合,使得上述精抛添加剂具有黏性,进而能够提高核桃砂的黏稠度,增加核桃砂的抛光磨削量,提高精抛效果。当植物油在上述精抛添加剂的份数高于12份时,会使核桃砂的磨削力降低,不利于精抛,抛光效果不好。
溶剂用于提高植物油和精抛液混合均匀性,进而提高精抛效果。
具体地,溶剂选自开油水和水中的至少一种。在其中一个实施例中,溶剂选自开油水、去离子水和纯水中的一种。在其中一个实施例中,溶剂为开油水。当然,在其他实施例中,溶剂还可以是本领域常用的其他溶剂,只要能够利于植物油和精抛液混合均匀即可。
在其中一个实施例中,以体积份数计,溶剂的份数为30份~35份。溶剂的比例按照上述设置能够使得植物油和精抛液混合均匀,若溶剂的比例过高会使其他组分稀释而影响精抛效果。
光亮剂用于提高被抛光工件的亮度。具体地,光亮剂选自水杨酸、磺基水杨酸、乙基水杨酸、炔醇、炔二醇及炔三醇中的至少一种。
在其中一个实施例中,以体积份数计,光亮剂的份数为10份~15份。
精抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂和水。精抛液中的氧化铝颗粒的粒径为微米或亚微米级。在其中一个实施例中,氧化铝颗粒的粒径小于0.5μm。优选地,氧化铝颗粒的粒径在0.1μm以上且小于0.5μm。
在其中一个实施例中,以质量百分含量计,精抛液中的氧化铝颗粒的含量为35%~45%。进一步地,精抛液中的氧化铝颗粒的含量为40%~45%。
具体地,润滑剂为硬脂酸、硬脂酸钙及石蜡中的至少一种。进一步地,润滑剂为硬脂酸。
在其中一个实施例中,以质量百分含量计,精抛液中的润滑剂的含量为20%~25%。进一步地,精抛液中的润滑剂的含量为22%~25%。
在其中一个实施例中,精抛液还包括分散剂,分散剂选自丙三醇及六偏磷酸拿中的至少一种。
在其中一个实施例中,以质量百分含量计,精抛液中的分散剂的含量为5%~10%。进一步地,精抛液中的分散剂的质量含量为6%~8%。
在其中一个实施例中,精抛液还包括表面活性剂,表面活性剂选自十六烷基硫酸钠及壬基酚聚氧乙烯醚中的至少一种。
在其中一个实施例中,以质量百分含量计,精抛液中的表面活性剂的含量为3%~5%。进一步地,精抛液中的分散剂的质量含量为3.5%~4.5%。
需要说明的是,精抛液中的润滑剂不限于上述,还可以是本领域常用的其他润滑剂;精抛液中的分散剂不限于上述,还可以是本领域常用的其他分散剂;精抛液中的表面活性剂不限于上述,还可以是本领域常用的其他表面活性剂。
在其中一个实施例中,精抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂、分散剂、表面活性剂和水。进一步地,以质量百分含量计,精抛液中氧化铝颗粒的含量为35%~45%,精抛液中润滑剂的含量为20%~25%,精抛液中分散剂的含量为5%~10%,精抛液中表面活性剂的含量为3%~5%,精抛液中水的含量为16%~35%。
在其中一个实施例中,精抛液为深圳市浩然文达科技有限公司的555牌精抛液。
在其中一个实施例中,以体积份数计,精抛液的份数为45份~50份。进一步地,以体积份数计,精抛液的份数为45份、46份、48份或50份。
在其中一个实施例中,植物油为花生油,以体积份数计,精抛液的份数为45份~55份。进一步地,植物油为花生油,以体积份数计,精抛液的份数为45份~50份。
在其中一个实施例中,植物油为茶籽油,以体积份数计,精抛液的份数为45份~55份。进一步地,以体积份数计,精抛液的份数为45份~50份。
在其中一个实施例中,植物油与精抛液的体积之比为:1:(4~7.1)。进一步地,植物油与精抛液的体积之比为:1:(4.5~5.5)
在其中一个实施例中,以体积份数计,上述精抛添加剂包括7份~10份的植物油、45份~50份的精抛液、10份~15份的光亮剂和30份~35份的溶剂。按照精抛添加剂按照上述设置可以使得抛光稳定性好,打磨一致性高。
在其中一个实施例中,上述精抛组合物中的精抛添加剂的体积与核桃砂的质量之比为(1L~25L):(175kg~200kg)。
在其中一个实施例中,上述精抛组合物中的精抛添加剂与核桃砂分别独立包装。在使用时,将精抛添加剂与核桃砂混合后,对工件进行抛光处理。此时,上述精抛组合物中的精抛添加剂可以分多次与核桃砂混合,延长核桃砂的使用寿命。例如,第一次按照精抛添加剂的体积与核桃砂的质量之比为1L:(175kg~200kg)将精抛添加剂与核桃砂混合,得到混合物。将该混合物作为抛光剂对工件进行抛光处理;接着每天按照一定量(例如500mL)向混合物中续加精抛添加剂后对工件进行抛光处理。
当然,可以理解的是,在其他实施例中,也可以将上述精抛添加剂与核桃砂混合之后包装。进一步地,上述精抛组合物中的精抛添加剂的体积与核桃砂的质量之比为1000mL:(175kg~200kg)。按照上述比例将上述精抛添加剂与核桃砂混合之后,可以提高精抛效果,也方便使用。
在其中一个实施例中,核桃砂的粒径为0.10mm~0.53mm。将核桃砂的粒径按照上述设置能够有效去除产品表面纹路。
请参阅图1,本发明一实施方式还提供一种抛光方法,该抛光方法包括以下步骤:
S110、制备精抛添加剂。
具体地,将精抛添加剂的原料混合均匀,得到精抛添加剂。精抛添加剂的原料包括7份~10份的植物油、45份~55份的精抛液、10份~18份的光亮剂和26份~36份的溶剂。植物油、精抛液、光亮剂和溶剂均如上述,此处不再赘述。当然,混合的方式不限,只要能够混合均匀即可。例如可以是常规的搅拌混合。
S120、将核桃砂与精抛添加剂混合均匀后,对工件进行抛光处理。
具体地,精抛添加剂的体积与核桃砂的质量之比为1000mL:(175kg~200kg)。核桃砂的粒径如上述,此处不再赘述。
在其中一个实施例中,工件为异形件。进一步地,工件为表壳。
在其中一个实施例中,在抛光处理过程中,还包括添加精抛添加剂的步骤。也即是,在精抛添加剂的体积与核桃砂的质量之比为1000mL:((175kg~200kg)的比例混合之后的抛光处理过程中,还包括继续分多次添加精抛添加剂的操作。
在其中一个实施例中,核桃砂的体积约研磨桶体积的5/6。具体地,在200L的研磨桶中加入175kg~200kg的核桃砂,然后加入1000mL的精抛添加剂后,机台装好抛光杆空转,按照频率50Hz旋转。240min左右进行开料,使得核桃砂与精抛添加剂搅拌均匀。当然,可以理解的是,在其他实施方式中,将核桃砂和精抛添加剂混合均匀的方式不限于上述,还可以是本领域常用的其他混合方式。
异形件的传统抛光方法大多为人工抛光,但人工抛光的人力成本高、良率不稳定,且人工抛光时的抛光耗材为抛光轮和抛光蜡,在抛光时容易产生较多粉尘,安全性较低。而上述抛光方法采用环保的精抛添加剂和核桃砂的配合可进行异形件的自动抛光,不易产生粉尘而安全性高,节约人工成本,抛光一致性好,良率稳定性高;而且上述精抛添加剂可以对异形件无死角地抛光,精抛效果好且稳定。
具体实施例
以下结合具体实施例进行详细说明。实施例中采用药物和仪器如非特别说明,均为本领域常规选择。实施例中未注明具体条件的实验方法,按照常规条件,例如文献、书本中所述的条件或者生产厂家推荐的方法实现。
实施例1~50示出了第1~50组的精抛添加剂的制备方法及其制成的精抛组合物,并进行抛光处理的实施例。
(1)根据表1,获取第1~50组的精抛添加剂的原料。在表1中:茶籽油为金龙鱼牌茶籽油;精抛液为深圳市浩然文达科技有限公司的555牌精抛液;光亮剂为555牌光亮剂;份数均为体积份数。
(2)将表1中各组的精抛添加剂的原料对应混合均匀,得到各组的精抛添加剂。
(3)第1~50组的抛光处理:在研磨桶中加入200kg粒径为0.25mm的核桃砂,核桃砂的体积为研磨桶体积的5/6。然后各组分别对应加入步骤(2)制得1000mL的精抛添加剂;接着机台装好抛光杆空转,按照频率50Hz旋转240min后,对各组的待精抛件进行抛光处理,得到各组的抛光件。其中,各组待精抛件均为:中框表壳,材质为6系铝合金,纹路深度为0.001mm。各组的抛光处理参数均为:旋转频率50Hz,正反转每5min交替进行,抛光处理时间为60min。
(4)对步骤(3)得到的第1~50组的抛光件的刀纹的目测,结果如表1所示。
表1
由表1的第2组、3组、7~9组、12~13组、28组、30~32组、36~38组及40组的结果可以看出,在精抛添加剂的植物油为茶籽油,精抛添加剂由7份~10份的植物油、45份~55份的精抛液、10份~18份的光亮剂和26份~36份的溶剂组成时,具有良好的精抛效果,亮度已达到镜面效果,且表面无纹路。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种精抛添加剂,其特征在于,以体积份数计,所述精抛添加剂包括7份~10份的植物油、45份~55份的精抛液、10份~18份的光亮剂和26份~36份的溶剂,所述精抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂和水,所述氧化铝颗粒的粒径小于0.5μm。
2.根据权利要求1所述的精抛添加剂,其特征在于,所述植物油选自花生油、菜籽油、芝麻油、蓖麻油、棉籽油、葵花籽油、亚麻油、红花籽油、茶籽油、大豆油和玉米油中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的精抛添加剂,其特征在于,所述溶剂选自开油水和水中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的精抛添加剂,其特征在于,所述氧化铝颗粒的粒径在0.1μm以上且小于0.5μm。
5.根据权利要求1所述的精抛添加剂,其特征在于,所述植物油为茶籽油。
6.根据权利要求1所述的精抛添加剂,其特征在于,所述精抛液还包括分散剂和表面活性剂,在所述精抛液中以质量百分含量计,所述氧化铝颗粒的含量为35%~45%,所述润滑剂的含量为20%~25%,所述分散剂的含量为5%~10%,所述表面活性剂的含量为3%~5%,所述水的含量为16%~35%。
7.根据权利要求1~6任一项所述的精抛添加剂,其特征在于,以体积份数计,所述植物油的份数为7份~10份,所述精抛液的份数为45份~50份,所述光亮剂的份数为10份~15份,所述溶剂的份数为30份~35份。
8.一种精抛组合物,其特征在于,包括核桃砂和权利要求1~7任一项所述的精抛添加剂,所述核桃砂的粒径为0.10mm~0.53mm。
9.根据权利要求8所述的精抛组合物,其特征在于,所述精抛添加剂的体积与所述核桃砂的质量之比为(1L~25L):(175kg~200kg)。
10.一种抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:
将权利要求8~9任一项所述的精抛组合物的组分混合并用于对工件进行抛光处理。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103333617A (zh) * | 2013-06-27 | 2013-10-02 | 北京工业大学 | 塑性软金属材料专用抛光液及其制备方法 |
CN110039381A (zh) * | 2019-04-23 | 2019-07-23 | 新昌浙江工业大学科学技术研究院 | 圆柱滚子的超精密抛光方法 |
CN110804418A (zh) * | 2019-09-18 | 2020-02-18 | 湖州湖磨陶瓷研磨液有限公司 | 一种植物型抛磨块适用的研磨膏及其制备方法 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103333617A (zh) * | 2013-06-27 | 2013-10-02 | 北京工业大学 | 塑性软金属材料专用抛光液及其制备方法 |
CN110039381A (zh) * | 2019-04-23 | 2019-07-23 | 新昌浙江工业大学科学技术研究院 | 圆柱滚子的超精密抛光方法 |
CN110804418A (zh) * | 2019-09-18 | 2020-02-18 | 湖州湖磨陶瓷研磨液有限公司 | 一种植物型抛磨块适用的研磨膏及其制备方法 |
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