CN111458989A

CN111458989A - 显影设备

Info

Publication number: CN111458989A
Application number: CN202010296165.3A
Authority: CN
Inventors: 王超
Original assignee: TCL Huaxing Photoelectric Technology Co Ltd
Current assignee: TCL Huaxing Photoelectric Technology Co Ltd
Priority date: 2020-04-15
Filing date: 2020-04-15
Publication date: 2020-07-28
Anticipated expiration: 2040-04-15
Also published as: CN111458989B

Abstract

本申请公开了一种显影设备，包括与基板侧壁相抵接的至少一支撑块，支撑块包括由依次平滑连接的第一凹形曲面、尖端及第二凹形曲面构成的复合曲面及第一平面，尖端包括依次平滑连接的第一面、接触面及第二面；第一面与第一凹形曲面平滑连接，接触面用于接触基板的一侧壁，第一面与第二凹形曲面平滑连接；第一面及第二面任意位置上的切面在沿基板侧壁延伸方向上的斜率的绝对值大于1；在第一凹形曲面自尖端延伸至第一平面的过程中，第一凹形曲面的曲率逐渐减小；在第二凹形曲面自尖端延伸至第一平面的过程中，第二凹形曲面的曲率逐渐减小。本申请利用支撑块的复合曲面的平滑作用，使得显影液在流经支撑块时不因发生回流而导致过显影现象。

Description

显影设备

技术领域

本申请涉及显影技术领域，尤其涉及一种显影设备。

背景技术

在现有技术中，一种Puddle显影模式(涂布显影模式)的显影流程，在进入显影流程之前，进入显影设备的基板已经预先涂布了PR(光阻)并经过了曝光处理；所述显影流程包括：在显影室内，利用喷涂装置将显影液均匀喷洒到所述基板上，其中所述喷涂装置的显影液的流向与所述基板的运动方向相垂直；通过显影一定时间以后，将所述基板倾斜15°，使用喷淋装置的去离子水(DI Water)喷淋所述基板，以将所述基板上的显影液清除。其中，在显影液涂敷完后，将去离子水喷洒倾倒过程中，为了固定所述现有基板，在所述现有基板的一侧边缘上设置有一排圆形挡块。但是在去离子水喷洒倾倒的过程中，由于所述圆形挡块的阻挡作用，显影液在所述现有基板与所述圆形挡块的抵接处产生回流，由于显影液的前后流体在竖直方向的速度方向相反，显影液在所述圆形挡块的周围会发生停滞，易产生过显影现象(mura)。

因此，现需提供一种新的显影设备。

发明内容

本申请实施例提供一种显影设备，在去离子水喷淋基板以清洗显影液的过程中，通过多个支撑块固定一基板，在不降低所述支撑块的抗形变强度的前提下，利用所述支撑块的尖端、第一凹形曲面及第二凹形曲面的平滑作用，使得显影液在流经所述支撑块的尖端时不因发生回流而导致过显影现象。

本申请实施例提供一种显影设备，用于基板的显影制程，所述显影设备包括用于固定所述基板的至少一个支撑块；所述支撑块包括一第一平面，以及依次平滑连接的一第一凹形曲面、一尖端及一第二凹形曲面；所述尖端包括依次平滑连接的一第一面、一接触面及一第二面；其中，所述第一面与所述第一凹形曲面平滑连接，所述接触面用于接触所述基板的一侧壁，所述第二面与所述第二凹形曲面平滑连接；并且，所述第一面及所述第二面任意位置上的切面在沿所述基板的所述侧壁延伸方向上的斜率的绝对值大于1；在所述第一凹形曲面自所述尖端延伸至所述第一平面的过程中，所述第一凹形曲面的曲率逐渐减小；以及，在所述第二凹形曲面自所述尖端延伸至所述第一平面的过程中，所述第二凹形曲面的曲率逐渐减小。

在一些实施例中，所述尖端为弹性材料结构件。

在一些实施例中，所述尖端在自然状态下，所述尖端的所述接触面趋近于一直线；以及所述尖端发生弹性形变时，所述尖端的所述接触面趋近于一平面。

在一些实施例中，所述第一面与所述第二面中的至少一者的外表面为无数条抛物线构成的凹形曲面。

在一些实施例中，所述第一面与所述第二面中的至少一者的外表面为无数条双曲线构成的凹形曲面。

在一些实施例中，所述第一凹形曲面与所述第二凹形曲面中的至少一者的外表面为无数条最速曲线构成的平滑凹形曲面。

在一些实施例中，所述第一凹形曲面与所述第二凹形曲面中的至少一者的外表面为无数条双曲线构成的平滑凹形曲面。

在一些实施例中，所述第一凹形曲面、所述尖端、所述第二凹形曲面及所述第一平面为一体式结构件；以及，所述尖端的所述第一面、所述接触面及所述第二面为一体式结构件。

在一些实施例中，所述尖端的所述第一面与所述尖端的所述第二面背向对称设置；所述第一凹形曲面与所述第二凹形曲面背向对称设置。

在一些实施例中，所述支撑块与所述基板相抵接时，所述支撑块的所述第一平面与所述基板的侧壁延伸方向平行设置。

本申请实施例提供的显影设备，用于基板的显影制程，显影设备包括与所述基板的一侧壁相抵接的多个支撑块，其中，所述支撑块包括一第一平面，以及依次平滑连接的一第一凹形曲面、一尖端及一第二凹形曲面，所述尖端包括依次平滑连接的一第一面、一接触面及一第二面；其中，所述第一面与所述第一凹形曲面平滑连接，所述接触面用于接触所述基板的一侧壁，所述第二面与所述第二凹形曲面平滑连接；并且，所述第一面及所述第二面任意位置上的切面在沿所述基板的所述侧壁延伸方向上的斜率的绝对值大于1；在所述第一凹形曲面自所述尖端延伸至所述第一平面的过程中，所述第一凹形曲面的曲率逐渐减小；在所述第二凹形曲面自所述尖端延伸至所述第一平面的过程中，所述第二凹形曲面的曲率逐渐减小。此外，本申请中所述第一凹形曲面与所述第二凹形曲面中的至少一者为最速曲线构成的平滑凹形曲面，或者，所述第一凹形曲面与所述第二凹形曲面中的至少一者为双曲线构成的平滑凹形曲面；以及所述第一面与所述第二面中的至少一者为抛物线构成的凹形曲面，或者，所述第一面与所述第二面中的至少一者为双曲线构成的凹形曲面。本申请实施例通过所述尖端、所述第一凹形曲面、所述第二凹形曲面构成的复合曲面结构设计，在不降低所述支撑块的抗形变强度的前提下，能够实现降低显影液在所述支撑块与所述基板接触区产生停滞的情况，消除过显影现象。本申请中所述支撑块的结构还可以运用到液晶显示面板(TFT-LCD)行业的偏光片结构中。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本申请实施例提供的显影模式的流程图。

图2为本申请实施例提供的显影设备的结构示意图。

图3A为图2中所示的支撑块的尖端在自然状态下的示意图。

图3B为图3A中所示的支撑块的尖端在发生弹性形变后的示意图。

图4为本申请实施例提供的支撑块的放大示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

具体的，请参阅图1至图4。本申请实施例提供一种显影设备，所述显影设备用于基板2的显影制程，图1所示的，所述显影设备包括一显影室1，所述显影室1内设置有至少一个支撑块3、一喷涂装置4、及一喷淋装置5，所述喷涂装置4和所述喷淋装置5相对于所述基板2可移动。在所述显影室1内，所述支撑快3用于固定所述基板2，所述喷涂装置4用于向所述基板2的表面喷涂显影液，所述喷淋装置5位于所述基板2的上方且所述喷淋装置5具有多个喷嘴(图中未示出)，所述喷淋装置5的喷嘴用于释放去离子水并用于向所述基板2喷淋去离子水(DI Water)，以去除所述基板2上的显影液；以及，在利用所述喷涂装置4将显影液喷涂于所述基板2上，以及利用上述喷淋装置5将去离子水喷洒倾倒的过程中，所述显影设备具有为所述基板2的运动提供机械控制及电气自动化控制的功能结构，以控制所述基板2进入或穿出所述显影室1。

以下结合图1对所述显影设备的显影制程进行描述，所述显影制程包括步骤：

S01、提供一基板2的步骤；

在本步骤中，所述基板2为一玻璃基板，在对所述基板2进入所述显影设备并进行显影制程之前，所述基板2已经预先涂布了光阻并经过了曝光处理。

S02、使用喷涂装置4将显影液均匀喷洒于基板2上的步骤；

在本步骤中，如图1所示，所述基板2进行曝光处理之后的显影流程包括：在所述显影室1内，利用所述喷涂装置4将显影液均匀喷洒到所述基板2上，其中，所述喷涂装置4的显影液的流向与所述基板2的运动方向垂直。以及，停止对所述基板1进行喷涂后的所述喷涂装置4位于所述基板2的一第一侧壁22的上方。

S03、在基板2远离喷涂装置4的一侧提供至少一个支撑块3，将所述基板2相对于水平面倾斜一角度，以及使用喷淋装置5将去离子水喷淋至所述基板2以清除显影液的步骤。

在本步骤中，如图1所示，在通过所述喷涂装置4对所述基板2进行涂布并且显影一定时间后，以及在使用所述喷淋装置5的去离子水对所述基板2进行喷淋之前，使所述基板2相对于所述支撑块3的水平面设定为一倾斜角度，本实施例中的所述倾斜角度为15°；再使用所述喷淋装置5的喷嘴释放的去离子水喷淋所述基板2。其中，所述基板2的倾斜角度的设定能够使得所述喷淋装置5将所述基板2上的显影液清除。

请参阅图1和图2，在本实施例中，在所述显影室1内，多个所述支撑块3均匀设置于所述基板2的同一侧壁21上，所述侧壁21与所述第一侧壁22相对设置，且所述多个支撑块3分别抵接在所述基板2位于所述水平面的所述侧壁21上，即所述支撑块3与所述喷涂装置4相对设置。

如图2所示的，所述支撑块3为实心结构件，所述支撑块3的外周表面包括一体结构连接的一第一平面30、一第一凹形曲面31、一个尖端33、一个第二凹形曲面32、一第一端面36及一第二端面37。其中，所述第一凹形曲面31、所述尖端33、所述第二凹形曲面32依次平滑连接，所述第一凹形曲面31的另一端与所述第一平面30的一端连接，所述第二凹形曲面32的另一端与所述第一平面30的另一端连接，以及所述第一端面36和所述第二端面37相对设置。所述支撑块3与所述基板2相抵接时，所述第一端面36与所述第二端面37在平行于水平面方向上放置，所述支撑块3的所述第一平面30与所述基板2的所述侧壁21延伸方向平行设置，显影流程中的显影液流向垂直于所述基板2的运动方向。

如图2至图4所示的，在本申请一种实施例中，所述第一凹形曲面31、所述尖端33及所述第二凹形曲面32依次平滑连接，所述尖端33在靠近所述第一凹形曲面31及与所述第二凹形曲面32的一端的外表侧面为曲面，所述尖端33的所述曲面与所述第一凹形曲面31的一端连接形成第一平滑曲面301，以及所述尖端33的所述曲面与所述第二凹形曲面32的一端连接形成第二平滑曲面302。并且，在所述第一凹形曲面31自所述尖端33一端延伸至所述第一平面30一端的过程中，所述第一凹形曲面31的曲率逐渐减小；以及，在所述第二凹形曲面32自所述尖端33一端延伸至所述第一平面30一端的过程中，所述第二凹形曲面32的曲率逐渐减小。因此，在本申请中，所述支撑块3的外表面相当于一复合曲面，所述支撑块3的所述复合曲面包括所述第一平滑曲面301、所述第二平滑曲面302及所述第一平面30。

在本申请实施例中，所述尖端33为弹性结构件，所述尖端33具有避免对所述基板2产生机械损伤的有益效果。以及在其他实施例中，所述尖端33还可以是例如但不限于由抗静电材料构成的结构件，例如所述尖端33为抗静电材料时，有效避免对所述基板2产生摩擦静电而造成损伤。在本申请具体实施例中，所述尖端33的材料优选为弹性材料，且所述尖端33能够产生本申请所需要范围的弹性形变。

如图2至图4所示的，在一种实施例中，所述尖端33包括依次平滑连接的一第一面331、一接触面333及一第二面332，所述第一面331与所述第一凹形曲面31平滑连接，所述第一面331与所述第二面332相交于所述接触面333上，所述接触面333用于接触所述基板2的一侧壁21，所述第二面332与所述第二凹形曲面32平滑连接。其中，所述第一面331和所述第二面332均为平滑的凹形曲面，且所述第一面331与所述第一凹形曲面31平滑连接为所述第一平滑复合曲面301的一部分，及所述第二面332与所述第二凹形曲面32平滑连接为所述第二平滑复合曲面302的一部分。并且，在本申请中，所述第一面331及所述第二面332任意位置上的切面在沿所述基板2的所述侧壁21延伸方向上的斜率的绝对值大于1。本实施例中，处于自然状态下的所述尖端33的所述接触面333趋近于一条直线。

如图2和图3B所示的，在显影流程中，在一种实施例中，所述支撑块3均匀放置于所述基板2的同一侧边，且所述支撑块3的所述尖端33与所述基板2的侧壁相抵接，所述尖端33会发生弹性形变。其中，所述支撑块3的所述尖端33与所述基板2相抵接的过程中，与所述基板2抵接后的所述尖端33变形为一第二接触面34和除所述第二接触面34以外的边缘区域35，所述边缘区域35与所述第二接触面34为一体式结构件，所述第二接触面34接近于平面，所述边缘区域35的外表面为凹形曲面，且所述边缘区域35的凹形曲面任意位置上的切面在沿所述基板2的所述侧壁21延伸方向上的斜率的绝对值大于1。

请续见图2和图3A，在一些实施例中，所述尖端33处于自然状态时，所述尖端33的所述第一面331与所述第二面332中的至少一者的外表面为无数条抛物线构成的曲面，具体地，所述尖端33的所述第一面331与所述第二面332中的至少一者的外表面为无数条平行紧密排布的抛物线构成的曲面。

在另一些实施例中，所述尖端33的第一面331与所述第二面332中的至少一者的外表面不限于是由无数条抛物线构成的曲面，所述尖端33的所述第一面331与所述第二面332中的至少一者的外表面还可以为无数条双曲线构成的曲面，即所述尖端33的所述第一面331与所述第二面332中的至少一者的外表面为无数条平行紧密排布的双曲线构成的曲面。并且，在其他实施例中，所述尖端33的所述第一面331及所述第二面332包括但不限于由无数条抛物线构成的凹形曲面或者由无数条双曲线构成的凹形曲面。

以及，所述尖端33的所述第一面331的形状与所述第二面332的形状可以具体设置为相同，也可以设置为不同。需要进一步说明的是，作为一种优选实施例，所述尖端33的第一面331与所述第二面332关于所述直线333对称设置，且所述尖端33的第一面331与所述尖端33的第二面332相同。

在本实施例中，如图2至图4所示的，在本申请中，由于在所述第一凹形曲面31自所述尖端33一端延伸至所述第一平面30一端的过程中，所述第一凹形曲面31的曲率逐渐减小，以及，在所述第二凹形曲面32自所述尖端33一端延伸至所述第一平面30一端的过程中，所述第二凹形曲面32的曲率逐渐减小，作为优选实施例，所述第一凹形曲面31与所述第二凹形曲面32中的至少一者的外表面为无数条最速曲线构成的平滑凹形曲面。在另一些优选实施例中，所述第一凹形曲面31与所述第二凹形曲面32中的至少一者的外表面还可以为无数条双曲线构成的平滑凹形曲面。在具体实施例中，所述第一凹形曲面31与所述第二凹形曲面32的形状可以具体相同，也可以设为不同。需要说明的是，所述尖端33的外表面包括但不限于所述的由无数条最速曲线构成的凹形曲面或者所述的由无数条双曲线构成的凹形曲面。

在另一些实施例中，所述支撑块3的外形不限于由所述抛物线构成的所述尖端33的表面、与由所述最速曲线构成的所述第一凹形曲面31或所述第二凹形曲面32的表面的结合，所述支撑块3的所述尖端33、所述第一凹形曲面31及所述第二凹形曲面32的外形还可以是由无数条双曲线构成的平滑曲面。

在本申请中，作为一种优选实施例，所述支撑块3的所述第一平滑曲面301包括所述的由无数条抛物线构成的所述尖端33的凹形曲面、所述的由无数条最速曲线构成的所述第一凹形曲面31；并且，所述支撑块3的所述第二平滑曲面302包括所述的由无数条抛物线构成的所述尖端33的凹形曲面、所述的由无数条最速曲线构成的所述第二凹形曲面32。即，所述支撑块3的外表面是由所述第一平滑曲面301、所述第二平滑曲面302与所述第一平面30组合而成的复合曲面。

在本申请中，作为另一种较优选实施例，所述支撑块3的所述第一平滑曲面301包括所述的由无数条双曲线构成的所述尖端33的凹形曲面，以及所述的由无数条双曲线构成的所述第一凹形曲面31；并且，所述支撑块3的所述第二平滑曲面302包括所述的由无数条双曲线构成的所述尖端33的凹形曲面、所述的由无数条双曲线构成的所述第二凹形曲面32。即，所述支撑块3的外表面是由所述第一平滑曲面301、所述第二平滑曲面302与所述第一平面30组合而成的复合曲面。

在本申请中，所述尖端33与所述第一凹形曲面31、所述第二凹形曲面32连接成为复合曲面，包括所述尖端33的所述第一面331、所述第二面332的形状及参数设定，以及所述第一凹形曲面31、所述第二凹形曲面32的形状设定，用以保证显影液在所述支撑块3的所述尖端33处高速流下，有利于显影流程中的显影液在与所述支撑块3连接的所述基板2侧壁处顺利流过，即防止显影液在与所述支撑块3相抵接的所述基板2的侧壁处产生回流现象，从而改善了因显影液回流造成的过显影情况。

需要说明的是，在其他实施例中，本申请所述支撑块3的结构包括但不局限于以上所述尖端33、所述第一凹形曲面31及所述第二凹形曲面32的组合形式；在本申请中，所述尖端33、所述第一凹形曲面31及所述第二凹形曲面32的结构设计，能够在不降低所述支撑块3的抗形变强度的前提下，降低显影液在所述支撑块3与所述基板2接触区产生停滞的情况，消除过显影现象。以及在其他实施例中，所述支撑块3还可以是类似形状或者其他能够实现所述支撑块3的相应技术效果的其他结构形式。

本申请提供一种显影设备，所述显影设备包括一基板2和与所述基板2一侧相抵接的多个支撑块3，所述支撑块3包括一体结构连接的一第一平面30、一第一端面36、一第二端面37、一第一凹形曲面31、一第二凹形曲面32及一尖端33，所述尖端33的外表面为抛物线构成的平滑曲面，以及所述第一凹形曲面31或所述第二凹形曲面32的外表面为最速曲线构成的平滑曲面；或者所述尖端33、所述第一凹形曲面31及所述第二凹形曲面32的外表面为双曲线构成的平滑曲面；所述尖端33为弹性结构件，所述尖端33与所述基板2相抵接；本申请实施例通过所述尖端33、所述第一凹形曲面31及所述第二凹形曲面32的结构设计，在不降低所述支撑块3的抗形变强度的前提下，能够实现降低显影液在所述支撑块3与所述基板2接触区产生停滞的情况，消除过显影现象。此外，本申请中所述支撑块3的结构还可以运用到液晶显示面板(TFT-LCD)行业的偏光片结构中。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种显影设备进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims

1.一种显影设备，用于基板的显影制程，其特征在于，所述显影设备包括用于固定所述基板的至少一个支撑块；所述支撑块包括一第一平面，以及依次平滑连接的一第一凹形曲面、一尖端及一第二凹形曲面；

所述尖端包括依次平滑连接的一第一面、一接触面及一第二面；其中，所述第一面与所述第一凹形曲面平滑连接，所述接触面用于接触所述基板的一侧壁，所述第二面与所述第二凹形曲面平滑连接；并且，所述第一面及所述第二面任意位置上的切面在沿所述基板的所述侧壁延伸方向上的斜率的绝对值大于1；

在所述第一凹形曲面自所述尖端延伸至所述第一平面的过程中，所述第一凹形曲面的曲率逐渐减小；以及，在所述第二凹形曲面自所述尖端延伸至所述第一平面的过程中，所述第二凹形曲面的曲率逐渐减小。

2.如权利要求1所述的显影设备，其特征在于，所述尖端为弹性材料结构件。

3.如权利要求2所述的显影设置，其特征在于，所述尖端在自然状态下，所述尖端的所述接触面趋近于一直线；以及所述尖端发生弹性形变时，所述尖端的所述接触面趋近于一平面。

4.如权利要求2所述的显影设备，其特征在于，所述第一面与所述第二面中的至少一者的外表面为无数条抛物线构成的凹形曲面。

5.如权利要求2所述的显影设备，其特征在于，所述第一面与所述第二面中的至少一者的外表面为无数条双曲线构成的凹形曲面。

6.如权利要求1所述的显影设备，其特征在于，所述第一凹形曲面与所述第二凹形曲面中的至少一者的外表面为无数条最速曲线构成的平滑凹形曲面。

7.如权利要求1所述的显影设备，其特征在于，所述第一凹形曲面与所述第二凹形曲面中的至少一者的外表面为无数条双曲线构成的平滑凹形曲面。

8.如权利要求1所述的显影设备，其特征在于，所述第一凹形曲面、所述尖端、所述第二凹形曲面及所述第一平面为一体式结构件；以及，所述尖端的所述第一面、所述接触面及所述第二面为一体式结构件。

9.如权利要求1所述的显影设备，其特征在于，所述尖端的所述第一面与所述尖端的所述第二面背向对称设置；所述第一凹形曲面与所述第二凹形曲面背向对称设置。

10.如权利要求1所述的显影设备，其特征在于，所述支撑块与所述基板相抵接时，所述支撑块的所述第一平面与所述基板的侧壁延伸方向平行设置。