CN107377533B - 一种紫外辐照装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种紫外辐照装置，所述紫外辐照装置包括：腔室，用于容置基材；样品台，用于承载所述基材，位于所述腔室顶部或底部；紫外灯，用于发射紫外光，与所述样品台相对设置，位于所述腔室顶部或底部；以及镜面反射结构，设置在所述腔室内，用于反射所述紫外灯发射的紫外光；其中，所述镜面反射结构包括有序排列的凸起或凹陷，用于将照射到所述镜面反射结构的所述紫外光朝各个方向反射；以解决紫外清洗或紫外辐射固化过程中紫外辐照不均匀的现象。

Description

一种紫外辐照装置
技术领域
本发明涉及紫外光技术领域，尤其涉及一种紫外辐照装置。
背景技术
紫外光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到原子清洁度。在LCD、OLED生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。
此外，紫外光也用于辐射固化中。辐射固化是利用电磁辐射(如紫外线UV或电子束EB照射涂层)，产生辐射聚合、辐射交联等反应。迅速将低分子量物质转变成高分子量产物的化学过程，体系中不含溶剂或含极少量溶剂，辐照后液膜几乎100％固化，因而VOC(挥发性有机化合物)排放量很低。
综上所述，现有技术的紫外辐照装置，存在着紫外辐照不均匀的现象，由于紫外光在腔室中分布的不均匀，从而影响紫外清洗性能与紫外辐射固化效果，在大尺寸生产过程中更为明显。
发明内容
本发明提供一种紫外辐照装置，能够增加紫外辐照的均匀性，可有效提高紫外清洗作用或紫外固化效果。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
本发明提供一种紫外辐照装置，包括：
腔室，用于容置基材；
样品台，用于承载所述基材，位于所述腔室顶部或底部；
紫外灯，用于发射紫外光，与所述样品台相对设置，位于所述腔室顶部或底部；以及
镜面反射结构，设置在所述腔室内，用于反射所述紫外灯发射的紫外光；
其中，所述镜面反射结构包括有序排列的凸起或凹陷，用于将照射到所述镜面反射结构的所述紫外光朝各个方向反射。
根据本发明一优选实施例，所述镜面反射结构设置在所述腔室的预定位置，所述腔室的预定位置至少包括所述腔室的四周、顶部、底部中的一者。
根据本发明一优选实施例，所述凸起或凹陷分布于整个所述镜面反射结构。
根据本发明一优选实施例，所述凸起或凹陷呈圆锥状、棱锥状、棱台状、尖凸状或者圆凸状等。
根据本发明一优选实施例，所述凸起或凹陷的表面为镜面。
根据本发明一优选实施例，所述紫外灯照射范围大于所述样品台范围。
根据本发明一优选实施例，所述腔室至少包括两所述样品台，至少两所述样品台位于所述腔室顶部或底部同侧，用于承载至少一个所述基材。
根据本发明一优选实施例，所述紫外辐照装置至少包括两所述紫外灯，至少两所述紫外灯中心对称分布于所述腔室顶部或底部。
根据本发明一优选实施例，所述紫外灯为紫外灯板，所述紫外灯板覆盖整个所述腔室顶部或底部。
根据本发明一优选实施例，所述样品台通过上升或下降用以取放所述基材。
本发明的有益效果为：相较于现有的紫外辐照装置，本发明的紫外辐照装置，通过在装置四周设置镜面反射结构，在光线照射到镜面反射结构的凸起或凹陷后会朝各个不同方向反射，从而增加紫外辐照的均匀性，有效提高紫外清洗作用或紫外固化效果，改善了紫外清洗或紫外固化的均匀性，在大尺寸显示面板生产过程中的改善作用更为明显。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例一提供的紫外辐照装置示意图；
图2为本发明实施例二提供的紫外辐照装置示意图；
图3为本发明实施例三提供的另一种镜面反射结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有技术的紫外辐照装置，存在着紫外辐照不均匀的现象，由于紫外光在腔室中分布的不均匀，从而影响紫外清洗性能与紫外辐射固化效果的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。
如图1所示，为本发明实施例一提供的紫外辐照装置示意图，所述紫外辐照装置包括：腔室101，用于容置基材；样品台102，用于承载所述基材，位于所述腔室101底部，所述样品台102的四周与所述腔室101存在间隙；紫外灯103，用于发射紫外光，与所述样品台102相对设置，位于所述腔室101顶部，所述紫外辐照装置至少包括两所述紫外灯103，至少两所述紫外灯103中心对称分布于所述腔室101顶部，所述紫外灯103照射范围大于所述样品台102范围；所述紫外灯103还可以为紫外灯板，所述紫外灯板覆盖整个所述腔室101顶部；以及镜面反射结构104，设置在所述腔室101内，用于反射所述紫外灯103发射的紫外光；其中，所述镜面反射结构104包括有序排列的凸起1041，或者是凹陷，所述凸起1041或所述凹陷用于将照射到所述镜面反射结构104的所述紫外光朝各个方向反射；所述镜面反射结构104设置在所述腔室101的预定位置，所述腔室101的预定位置至少包括所述腔室101的四周、顶部、底部中的一者。所述凸起1041或所述凹陷分布于整个所述镜面反射结构104；所述凸起1041或所述凹陷可以呈圆锥状、棱锥状、棱台状、尖凸状或者圆凸状等形状。本实施例所述凸起1041为半圆弧状，且所述凸起1041的表面为镜面。
所述腔室101至少包括两所述样品台102，至少两所述样品台102位于所述腔室101底部，用于承载至少一个所述基材。所述样品台102底部有调节装置，通过上升或下降用以取放所述基材。所述样品台102上设置有卡槽，用以固定所述基材，所述卡槽数量可依据需求进行设定，可实现同时放置多个所述基材。或者所述样品台102上也可设置夹持部，夹持所述基材上下两端用以固定所述基材，其中，下夹持部可沿所述样品台102水平移动，上夹持部与所述下夹持部平行且相向运动，所述上夹持部与所述下夹持部可往复运动，由此被夹持的所述基材可与所述样品台102呈一定角度，所述基材的正面与背面均能朝向所述紫外灯103，均可被所述紫外灯103照射。
所述镜面反射结构104的材料为具有高反射性能的材料，能将所述紫外光高效的反射回所述腔室101内，提高了光的利用率；所述紫外光照射到所述凸起1041或者所述凹陷表面时，由于所述凸起1041或所述凹陷的表面与所述镜面反射结构104的非凸起或非凹陷区域的表面不在同一平面上，换言之即呈一定角度，所以照射到所述镜面反射结构104的所述紫外光会朝向各个方向反射，由此，提高了所述腔室101内的所述紫外光辐照的均匀性，改善了所述腔室101内光线辐照不均一的现象。
如图2所示，为本发明实施例二提供的紫外辐照装置示意图，所述紫外辐照装置包括：腔室201，用于容置基材；样品台202，用于承载所述基材，位于所述腔室201顶部，所述样品台202的四周与所述腔室201存在间隙；紫外灯203，用于发射紫外光，与所述样品台202相对设置，位于所述腔室201底部，所述紫外辐照装置至少包括两所述紫外灯203，至少两所述紫外灯203中心对称分布于所述腔室201底部，所述紫外灯203照射范围大于所述样品台202范围；以及镜面反射结构204，设置在所述腔室201内，用于反射所述紫外灯203发射的紫外光；其中，所述镜面反射结构204包括有序排列的凸起2041，也可以为凹陷，所述凸起2041用于将照射到所述镜面反射结构204的所述紫外光朝各个方向反射，使所述腔室201内的所述紫外光能够辐照均一。
其中，所述基材可贴设于所述样品台202表面，所述样品台202设置有卡槽或卡扣，用以固定所述基材；所述样品台202设置于所述腔室201顶部，便于取放所述基材。
如图3所示，为本发明实施例三提供的另一种镜面反射结构示意图，所述镜面反射结构301包括平面区域与非平面区域，所述非平面区域处为凸起302或凹陷，所述凸起302阵列分布于所述镜面反射结构301的表面，相邻两所述凸起302间存在间隙，所述间隙处为预定宽度的平面，所述凸起302的各个表面与所述平面呈一定角度，本实施例所述凸起302为三棱锥，所述凸起302的各个表面均为镜面，能够很好的将紫外光反射到各个方向。在此，对所述凸起302或凹陷不做具体形状上的限定，只要与所述平面呈一定角度，能将所述紫外光反射到不同方向即可。
紫外光清洗技术的原理是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，采用本发明的紫外辐照装置进行紫外光清洗操作后，材料表面不仅可以达到原子清洁度，而且还保证了材料清洁程度的均一性，由于紫外光在装置中的分布比较均一，所以在基材的各个角度均能保证良好均一的清洁度。在LCD、OLED生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前都需要经过光清洗，光的均一性直接影响到光清洗的效果，本发明的紫外辐照装置，大大提升了材料的清洁度及清洁效果，节省了清洁时间。
此外，本发明的紫外辐照装置也用于辐射固化中。利用紫外光照射涂层，部分所述紫外光通过在所述装置预定位置设置的镜面反射结构，将所述紫外光反射到各个不同方向，增加了紫外辐照的均匀性，从而使所述涂层快速固化，并保证所述涂层固化的均一性。
相较于现有的紫外辐照装置，本发明的紫外辐照装置，通过在装置四周设置镜面反射结构，在光线照射到镜面反射结构的凸起或凹陷后会朝各个不同方向反射，从而增加紫外辐照的均匀性，有效提高紫外清洗作用或紫外固化效果，改善了紫外清洗或紫外固化的均匀性，在大尺寸显示面板生产过程中的改善作用更为明显。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种紫外辐照装置，其特征在于，包括：
腔室，用于容置基材；
样品台，用于承载所述基材，位于所述腔室顶部或底部；
紫外灯，用于发射紫外光，与所述样品台相对设置，位于所述腔室顶部或底部；以及
镜面反射结构，设置在所述腔室内，用于反射所述紫外灯发射的紫外光，所述镜面反射结构包括有序排列的凸起或凹陷，用于将照射到所述镜面反射结构的所述紫外光朝各个方向反射；
其中，所述样品台上设置有夹持部，用于夹持所述基材的两端，下夹持部沿所述样品台水平移动，上夹持部与所述下夹持部平行且相向运动使所述基材与所述样品台呈一定角度，通过所述上夹持部与所述下夹持部的往复运动使得所述紫外光均匀的照射至所述基材的正面与背面。
2.根据权利要求1所述的紫外辐照装置，其特征在于，所述镜面反射结构设置在所述腔室的预定位置，所述腔室的预定位置至少包括所述腔室的四周、顶部、底部中的一者。
3.根据权利要求1所述的紫外辐照装置，其特征在于，所述凸起或凹陷分布于整个所述镜面反射结构。
4.根据权利要求3所述的紫外辐照装置，其特征在于，所述凸起或凹陷呈圆锥状、棱锥状、棱台状、尖凸状或者圆凸状等。
5.根据权利要求1所述的紫外辐照装置，其特征在于，所述凸起或凹陷的表面为镜面。
6.根据权利要求1所述的紫外辐照装置，其特征在于，所述紫外灯照射范围大于所述样品台范围。
7.根据权利要求1所述的紫外辐照装置，其特征在于，所述腔室至少包括两所述样品台，至少两所述样品台位于所述腔室顶部或底部同侧，用于承载至少一个所述基材。
8.根据权利要求1所述的紫外辐照装置，其特征在于，所述紫外辐照装置至少包括两所述紫外灯，至少两所述紫外灯中心对称分布于所述腔室顶部或底部。
9.根据权利要求1所述的紫外辐照装置，其特征在于，所述紫外灯为紫外灯板，所述紫外灯板覆盖整个所述腔室顶部或底部。
10.根据权利要求1所述的紫外辐照装置，其特征在于，所述样品台通过上升或下降用以取放所述基材。
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