CN104801516A - 一种紫外光清洗玻璃基板的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种紫外光清洗玻璃基板的方法，包括以下步骤：1、设置紫外光清洗装置参数，2、打开门，将玻璃基板放入托盘，使基板平面向上，滑入紫外光清洗装置输送带，3、关闭门，玻璃基板在装置内接受紫外线照射并向装置尾部传输，4、清洗操作结束有蜂鸣声，打开门，移走全部清洗原件。本发明在LCD生产过程中经过光清洗后的物体表面清洁度更高，浸润性更好，粘合力更强，可使脏点、黑点、白点、针孔、起皮等影响涂敷的质量问题大大减少，膜层更加牢固。

Description

一种紫外光清洗玻璃基板的方法
技术领域
本发明涉及一种玻璃基板的清洗方法，特别是一种紫外光清洗玻璃基板的方法。
背景技术
液晶显示器的玻璃基本要进行镀膜，一般采用溅身镀膜，所以前处理清洗必须要彻底，否则会严重影响液晶显示器的显示质量。玻璃基板上的脏污微粒比较难清洗。粒子的料径越小，表面能量越大，还常带有静电力，与玻璃基板表面的粘附力越牢固。常规的超声波清洗和有机溶剂清洗过程复杂，对环境要求高，洗净效果无法达到预期。
发明目的
本发明的目的是为克服现有技术的不足而提供一种紫外光清洗玻璃基板的方法，该方法能够利用紫外光清洗使ITO玻璃表面没有残存的碳氢化合物。达到原子清洁度。紫外光清洗还能通过紫外光照射使水中细菌不能存活繁殖,达到杀菌的作用。
发明内容：
根据本发明提出的一种紫外光清洗玻璃基板的方法，特征在于包括以下步骤：1、设置紫外光清洗装置参数，2、打开门，将玻璃基板放入托盘，使基板平面向上，滑入紫外光清洗装置输送带，3、关闭门，玻璃基板在装置内接受紫外线照射并向装置尾部传输，4、清洗操作结束有蜂鸣声，打开门，移走全部清洗原件。
发明的作用原理：
本发明的工作原理是：紫外光清洗是利用装在石英玻璃管中的低压汞灯，在工作时发出的短紫外光进行清洗，紫外光具有较高的能量，而且波长越短的紫外光能量越高。紫外光低压紫外汞灯能同时发射波长254nm和185nm的紫外光，这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键，使有机物分子活化，分解成离子、游离态原子、受激分子等。与此同时，185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和活性氧（O），这个光敏氧化反应过程是连续进行的，在这两种短波紫外光的照射下，臭氧会不断的生成和分解，活性氧原子就会不断的生成，而且越来越多，由于活性氧原子（O）有强烈的氧化作用，与活化了的有机物（即碳氢化合物）分子发生氧化反应，生成挥发性气体（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物体表面，从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。
发明效果
本发明与现有技术相比其显著优点：
1、紫外光光清洗能够达到常规的清洗方法难以达到的高清洁度，而且不存在三废处理问题，有利于环境保护。
2、紫外光光清洗是在常温、常压的环境中进行的，是一种非接触式的干法清洗技术。光清洗时被清洗的表面除了光子，不与任何物体发生接触，不会像溶液清洗时发生二次污染。
3、 一般情况下，紫外光光清洗的表面不会受到损伤，由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量小，光清洗后的表面不会受到损伤或发生晶体缺陷的现象。
4、紫外光光清洗对物体表面微细部位（如孔穴、微细沟槽等）具有有效而彻底的清洗效果。由于紫外光是纳米短波紫外线，能够射入材料表面的极为细微的部位，发生光敏氧化反应，充分表现出光清洗的彻底性。
具体实施方式
一种紫外光清洗玻璃基板的方法，特征在于包括以下步骤：
1、设置紫外光清洗装置参数，2、打开门，将玻璃基板放入托盘，使基板平面向上，滑入紫外光清洗装置输送带，3、关闭门，玻璃基板在装置内接受紫外线照射并向装置尾部传输，
作为一种优选，在清洗过程中，玻璃基板与紫外线光源间距为1cm。其意义在于能够提供足够的光照强度，并且可以避免出现光照盲区。
作为一种优选，在清洗过程中，紫外光清洗装置内腔体O3浓度为100-130ppm。过多过少均不利于达到清洗的最终效果。
作为一种优选，在清洗过程中，紫外光清洗装置内腔体温度为150℃。炉腔的温度不能太高，因此必须注意冷却，控制好炉腔的工作温度，以防止紫外光灯因过热而变形或紫外线照射功率的减损。
4、清洗操作结束有蜂鸣声，打开门，移走全部清洗原件。

Claims (4)

1.一种紫外光清洗玻璃基板的方法，特征在于包括以下步骤：1、设置紫外光清洗装置参数，2、打开门，将玻璃基板放入托盘，使基板平面向上，滑入紫外光清洗装置输送带，3、关闭门，玻璃基板在装置内接受紫外线照射并向装置尾部传输，4、清洗操作结束有蜂鸣声，打开门，移走全部清洗原件。
2.根据权利要求1所述的一种紫外光清洗玻璃基板的方法，其特征在于：在清洗过程中，玻璃基板与紫外线光源间距为1cm。
3.根据权利要求1所述的一种紫外光清洗玻璃基板的方法，其特征在于：在清洗过程中，紫外光清洗装置内腔体O3浓度为100-130ppm。
4.根据权利要求1所述的一种紫外光清洗玻璃基板的方法，其特征在于：在清洗过程中，紫外光清洗装置内腔体温度为150℃。
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