CN109530344A

CN109530344A - 一种uv清洗方法

Info

Publication number: CN109530344A
Application number: CN201710856513.6A
Authority: CN
Inventors: 丁川
Original assignee: Jiangsu Huaxia Intellectual Property Service Co Ltd
Current assignee: Jiangsu Huaxia Intellectual Property Service Co Ltd
Priority date: 2017-09-21
Filing date: 2017-09-21
Publication date: 2019-03-29

Abstract

本发明涉及一种LCD清洗方法，特别是一种UV清洗方法，特征在于包括以下步骤：1提供UV清洗装置；2 设置UV清洗装置参数；3 将ITO基板置UV传输台上，基板治湿性向上；4 UV紫外线单元内部有传输机构，基板在此装置输送；5 内部上方装置低压水银灯产生紫外线照射；6 紫外清洗结束后输出基板。本发明在LCD生产过程中经过光清洗后的物体表面清洁度更高，浸润性更好，粘合力更强，可使脏点、黑点、白点、针孔、起皮等影响涂敷的质量问题大大减少，膜层更加牢固。

Description

一种UV清洗方法

技术领域

本发明涉及一种LCD清洗方法，特别是一种UV清洗方法。

背景技术

在液晶显示器制造过程中，液晶分子之所以能够在屏内有规则并按一定的方向进行排列取决于液晶显示器制造工艺中取向技术的应用，为实现这一点，必须在基片的表面上设置有特定的取向涂覆膜或者摩擦出沟槽，以作为约束液晶分子取向排列的手段。这一工艺称为取向排列，一般的工艺流程为清洗—涂膜—预烘—固化—摩擦。其中清洗是在 PI涂布之前对 ITO 玻璃进行清洗，利用物理的、化学的方法将吸附在玻璃表面的污渍、杂质、灰尘等脏东西溶解脱离，然后干燥、活化，提高 ITO 玻璃的涂覆性，为涂布出良好的取向膜做好准备。如果涂布之前清洗效果不好或者残留有杂质的话，在 PI 印刷处就会有不良品出现。

发明内容

本发明的目的是为克服现有技术的不足而提供一种紫外光清洗方法，该方法能够利用紫外光清洗使ＩＴＯ玻璃表面没有残存的碳氢化合物，达到原子清洁度。紫外光清洗还能通过紫外光照射使水中细菌不能存活繁殖，达到杀菌的作用。

本发明提出的一种紫外光UV清洗方法，包括以下步骤：1、提供UV清洗装置；2、设置UV清洗装置参数；3、将ITO基板置于UV装置台上，基板治湿性向上；4、UV紫外线单元内部有传输机构，基板在此装置输送；5、装置上方装置低压水银灯产生紫外线照射，进行清洗；6、紫外清洗结束后输出基板。

本发明提出的一种紫外光UV清洗方法，在步骤1中UV清洗装置为密封装置。

本发明提出的一种紫外光UV清洗方法，在步骤4中紫外线单元内部有传输机构，玻璃基板是以滚轮方式输送。

本发明提出的一种紫外光UV清洗方法，在步骤5中装置上方装置低压水银灯低压汞灯产生紫外线照射时配套设置反射板，所述反射板将UV灯发出的UV光反射到玻璃基板上。

本发明的工作原理是：UV清洗是利用装在石英玻璃管中的低压汞灯，在工作时发出的短紫外光进行清洗，紫外光具有较高的能量，而且波长越短的紫外光能量越高。UV低压紫外汞灯能同时发射波长254nm和185nm的紫外光，这两种波长的光子能量可以直接打开和切断有机物分子中的共价键，使有机物分子活化，分解成离子、游离态原子、受激分子等。与此同时，185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和活性氧（O），这个光敏氧化反应过程是连续进行的，在这两种短波紫外光的照射下，臭氧会不断的生成和分解，活性氧原子就会不断的生成，而且越来越多，由于活性氧原子（O）有强烈的氧化作用，与活化了的有机物（即碳氢化合物）分子发生氧化反应，生成挥发性气体（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物体表面，从而彻底清除了粘附在物体表面上的有机污染物。

本发明与现有技术相比其显著优点：

1、UV光清洗能够达到常规的清洗方法难以达到的高清洁度，而且不存在三废处理问题，有利于环境保护。

2、UV光清洗是在常温、常压的环境中进行的，是一种非接触式的干法清洗技术。光清洗时被清洗的表面除了光子，不与任何物体发生接触，不会像溶液清洗时发生二次污染。

3、一般情况下，UV光清洗的表面不会受到损伤，由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量小，光清洗后的表面不会受到损伤或发生晶体缺陷的现象。

4、UV光清洗对物体表面微细部位（如孔穴、微细沟槽等）具有有效而彻底的清洗效果。由于紫外光是纳米短波紫外线，能够射入材料表面的极为细微的部位，发生光敏氧化反应，充分表现出光清洗的彻底性。

具体实施方式

本发明公开的一种UV清洗方法，特征在于，包括以下步骤：1提供UV清洗装置；2 设置UV清洗装置参数；3 将ITO基板置于UV装置台上，基板治湿性向上；4 UV紫外线单元内部有传输机构，基板在此装置输送；5 单元内部上方装置低压水银灯产生紫外线照射，进行清洗；6 紫外清洗结束后输出基板。

在步骤1中UV清洗装置为密封装置。

在步骤4中紫外线单元内部有传输机构，玻璃基板是以滚轮方式输送。

在步骤5中装置上方装置低压水银灯低压汞灯产生紫外线照射时配套设置反射板，所述反射板将UV灯发出的UV光反射到玻璃基板上。

具体UV清洗过程如下：

1、设定UV装置定时器时间10分钟、传输速度、紫外线的照度、排气压力等参数。

2、打开装置门，ITO基板放入托盘，使基板治湿性向上，滑入UV装置输送带。

3、关闭门，灯和定时器通过门关闭门来触发。在紫外线单元内部，玻璃基板是以滚轮方式输送。

4、内部装置低压水银灯产生紫外线照射。玻璃基板所累积紫外线能量多，其表面水接触愈小，成反比关系。调节玻璃表面与UV清洗灯距离1-2cm。

5、在这里，配套使用了反射板，其作用是将UV灯发出的UV光反射到玻璃基板上，从而加强玻璃基板受光照的强度。

6、清洗操作结束有蜂鸣声，打开门，移走全部清洗原件。

有三项很重要的因素必须注意与控制：

1、要保持玻璃基板到UV灯在一个较小的距离，通常这一间隙须小于10mm，其意义在于能够提供足够的光照强度，并且可以避免出现光照盲区。

2、要保持清洗机内腔体适当的O3浓度，过多过少均不利于达到清洗的最终效果，通常O3浓度是控制在100-130ppm范围内。

3、炉腔的温度不能太高，因此必须注意冷却，控制好炉腔的工作温度，以防止紫外光灯因过热而变形或紫外线照射功率的减损。

Claims

1.一种UV清洗方法，特征在于，包括以下步骤：1提供UV密封清洗装置；2 设置UV清洗装置参数；3 将ITO基板置于UV装置台上，基板治湿性向上；4 UV紫外线单元内部有传输机构，基板以滚轮方式在此装置输送；5 单元内部上方装置低压水银灯产生紫外线照射，进行清洗；6 紫外清洗结束后输出基板。

2.根据权利要求1所述的一种UV清洗方法，其特征在于：在步骤5中装置上方装置低压水银灯产生紫外线照射时配套设置反射板，所述反射板将UV灯发出的UV光反射到玻璃基板上。