CN111451938A - 研磨载具清洗装置及研磨载具清洗方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种研磨载具清洗装置及研磨清洗方法，该研磨载具清洗装置包括：刷头，包括轮盘部分，轮盘部分的端面在周边区域分布有刷毛，在中心区域至少设有第一喷嘴和第二喷嘴，刷头上至少还设有第一流道和第二流道，第一喷嘴连通第一流道，第二喷嘴连通第二流道，第一喷嘴用于喷射第一压力的流体，第二喷嘴用于喷射第二压力的流体，第一压力小于或等于第二压力；移动机构，与刷头连接，用于在第一方向和第二方向上移动刷头，第一方向为垂直于刷头的端面的方向，第二方向为与刷头的端面平行的方向。本发明的硅片载具清洗装置及硅片载具清洗方法，能够有效、快速的去除研磨副产物，保证硅片载具表面平整度。

Description

研磨载具清洗装置及研磨载具清洗方法

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种研磨载具清洗装置及研磨载具清洗方法。

背景技术

单晶硅作为一种重要的半导体材料，具有良好的电学性能和热稳定性，自被人们发现和利用后很快替代其它半导体材料。硅材料因其具有耐高温，抗辐射性能较好，特别适用于制作大功率器件的特性，而成为应用最多的一种半导体材料，集成电路半导体器件大多数硅材料制成的。在制造性能良好的硅单晶方法中，直拉法生长硅单晶具有设备和工艺相对简单、容易实现自动控制。直拉单晶硅棒从单晶炉中拉制出来以后需要进行一系列的工序，前期包括截断、开方、圆角研磨和平面研磨等机械加工。

在双面研磨工艺过程中，硅片载具表面有较多硅粉、磨轮渣滓等副产物堆积，这些副产物一部分是因为在每次加工结束之后的清洗工序未能及时有效的将硅片载具上的副产物去除所导致。为了消除硅片载具表面的副产物堆积，在每次加工之后，一般方法就是在硅片载具上放置清洁刷(Brush)，每次加工结束后，向硅片载具上喷水，然后用清洁刷来进行去除异物或者是碎屑的工作。但是，一般情况下难以有效的将硅片载具中心部分的堆积物去除，导致硅片载具的中心部分会堆积较多副产物，从而影响硅片的平坦度，以及缩短硅片载具体的使用寿命。另外，在每次加工结束后，硅片表面也会附着较多的研磨副产物，若不对其进行及时的清除，后续的工作台吸附硅片，会导致颗粒被深压入硅片背表面，在随后目视检测时出现凹坑(pit)缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提供一种硅片载具清洗装置及硅片载具清洗方法，能够有效、快速的去除研磨副产物，保证硅片载具表面平整度。

本发明所提供的技术方案如下：

一种研磨载具清洗装置，用于清洗研磨载具，所述研磨载具的承载面用于承载研磨件；其特征在于，所述研磨载具清洗装置包括：

刷头，所述刷头包括轮盘部分，所述轮盘部分的端面具有中心区域和围绕所述中心区域的周边区域，在所述周边区域分布有刷毛，在所述中心区域至少设有第一喷嘴和第二喷嘴，所述刷头上至少还设有第一流道和第二流道，所述第一喷嘴连通所述第一流道，所述第二喷嘴连通所述第二流道，且所述第一喷嘴用于喷射第一压力的流体，以冲洗研磨载具的承载面上的研磨件，所述第二喷嘴用于喷射第二压力的流体，以冲洗所述研磨载具的承载面，所述第一压力小于或等于所述第二压力；

及，移动机构，与所述刷头连接，用于在第一方向和第二方向上移动所述刷头，所述第一方向为垂直于所述刷头的端面的方向，所述第二方向为与所述刷头的端面平行的方向。

示例性的，所述刷毛包括长刷毛和短刷毛，所述长刷毛的长度大于所述短刷毛的长度，且所述轮盘部分的端面的周边区域分为第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域为扇形或圆弧形，所述长刷毛分布于所述第一区域，所述短刷毛分布于所述第二区域。

示例性的，所述第二喷嘴的喷射方向与所述刷头的端面呈斜夹角，并朝向所述短刷毛所在一侧。

示例性的，所述刷头还包括刷柄部分，所述刷柄部分设置在所述轮盘的与所述端面相背设置的背面一侧，且所述第一流道和所述第二流道均设置在所述刷柄部分上。

示例性的，所述长刷毛的长度为15～20mm，所述长刷毛与所述短刷毛在垂直于所述轮盘部分的端面上的高度差为5～10mm。

示例性的，所述第二方向为所述短刷毛所在的至少一个所述第一区域的中心点与所述端面的中心点连线的方向。

示例性的，所述研磨载具清洗装置还包括：设置在所述轮盘部分的设置所述短刷毛的一侧的挡板，且所述挡板在垂直于所述轮盘部分的端面上的高度，小于所述长刷毛在垂直于所述轮盘部分的端面上的高度。

示例性的，所述挡板与所述长刷毛在垂直于所述轮盘部分的端面上的高度差为1～2mm。

一种研磨载具清洗方法，采用如上所述的研磨载具清洗装置对研磨载具进行清洗；所述方法包括：

研磨件在所述研磨载具上研磨完成后，控制所述移动机构沿第一方向移动所述刷头，使所述刷头的刷毛与所述研磨件之间保持距离；

通过所述第一喷嘴向所述研磨件上喷射流体，并沿所述第二方向往复移动所述刷头，以冲洗所述研磨件；

所述研磨件冲洗完成后，从所述研磨载具的承载面取下所述研磨件，控制所述移动机构沿所述第一方向移动所述刷头，使所述刷头的刷毛与所述研磨载具的承载面接触；

通过所述第二喷嘴向所述研磨载具的承载面上喷射流体，并沿所述第二方向往复移动所述刷头，以冲洗所述研磨载具。

示例性的，所述方法中，所述控制所述移动机构沿所述第一方向移动所述刷头，使所述刷头的刷毛与所述研磨载具的承载面接触，具体包括：

控制所述移动机构沿所述第一方向移动所述刷头，使所述长刷毛与所述研磨载具的承载面接触，所述短刷毛与所述研磨载具的承载面保持间隙。

本发明所带来的有益效果如下：

上述方案中，在研磨载具清洗装置的刷头上至少设有两个喷嘴，即，第一喷嘴和第二喷嘴，且第一喷嘴和第二喷嘴设置在刷头的中心区域，而在两个喷嘴的外围围绕有刷毛，这样，在硅片研磨完成后，可以通过第一喷嘴喷射具有第一压力(低压或常压)的清洗液或气体，同时，在硅片载具不断旋转以及通过移动机构来控制所述刷头在平行于硅片载具的承载面方向上往复运动，以对硅片表面进行清洗，从而达到去除研磨副产物清洁硅片表面的目的；清洗完硅片后，再利用第二喷嘴来喷射第二压力(高压)的清洗液或气体，以冲洗清洁硅片载具表面，并且，通过移动机构控制刷头下降，使得刷毛与硅片载具承载面接触，并在硅片载具不断旋转以及刷头在平行于硅片载具的承载面方向上往复运动过程中对硅片载具承载面进行清洗，从而，对于在研磨以后的硅片载具的平坦度管理及快速进行清洗，在硅片载具平整平坦度、去除硅片表面研磨副产物方面有显著效果。

附图说明

图1表示本发明一种示例性实施例提供的研磨清洗装置的主视图；

图2表示本发明一种示例性实施例提供的研磨清洗装置的俯视图；

图3表示本发明一种示例性实施例提供的研磨清洗装置在清洗硅片载具时的俯视图；

图4表示本发明一种示例性实施例提供的研磨清洗装置在清洗硅片时的主视图；

图5表示本发明一种示例性实施例提供的研磨清洗装置在清洗硅片载具时的主视图。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

本发明实施例提供了一种研磨载具清洗装置，用于清洗研磨载具，所述研磨载具的承载面用于承载研磨件；所述研磨载具清洗装置包括：

刷头100，所述刷头100包括轮盘部分110，所述轮盘部分110的端面具有中心区域和围绕所述中心区域的周边区域，在所述周边区域分布有刷毛200，在所述中心区域至少设有第一喷嘴300和第二喷嘴400，所述刷头100上至少还设有第一流道500和第二流道600，所述第一喷嘴300连通所述第一流道500，所述第二喷嘴400连通所述第二流道600，且所述第一喷嘴300用于喷射第一压力的流体，以冲洗研磨载具的承载面上的研磨件，所述第二喷嘴400用于喷射第二压力的流体，以冲洗所述研磨载具的承载面，所述第一压力小于或等于所述第二压力；

及，移动机构，与所述刷头100连接，用于在第一方向Y和第二方向X上移动所述刷头100，所述第一方向Y为垂直于所述刷头100的端面的方向，所述第二方向X为与所述刷头100的端面平行的方向。

上述方案中，在研磨载具清洗装置的刷头100上至少设有两个喷嘴，即，第一喷嘴300和第二喷嘴400，且第一喷嘴300和第二喷嘴400设置在刷头100的中心区域，而在两个喷嘴的外围围绕有刷毛200，这样，在硅片10研磨完成后，可通过第一喷嘴300喷射具有第一压力(低压或常压)的清洗液或气体，并且硅片10在硅片载具20带动下不断旋转，通过移动机构来控制所述刷头100在平行于硅片载具20的承载面方向上(即第二方向X)往复运动过程中，对硅片10表面进行清洗，从而达到去除研磨副产物清洁硅片10表面的目的；清洗完硅片10后，再利用第二喷嘴400来喷射第二压力(高压)的清洗液或气体，以冲洗清洁硅片载具20表面，并且，通过移动机构控制刷头100下降，使得刷毛200与硅片载具20承载面接触，并在硅片载具20不断旋转以及刷头100在平行于硅片载具20的承载面方向上往复运动过程中对硅片载具20承载面进行清洗，从而，对于在研磨以后的硅片载具20的平坦度管理及快速进行清洗，在硅片载具20平整平坦度、去除硅片10表面研磨副产物方面有显著效果。

需要说明的是，所述轮盘可以为圆形盘状，直径可选60～200mm。当然，并不以此为限。此外，还需要说明的是，在对硅片10的整个清洗过程中，为了防止刷毛200对硅片10表面造成划伤，刷毛200距离硅片10表面保持一定高度，刷毛200不与硅片10相接触。

以下对本发明实施例提供的研磨载具清洗装置进行详细说明。

在一种示例性的实施例中，如图所示，所述刷毛200包括长刷毛210和短刷毛220，所述长刷毛210在垂直于所述轮盘部分110的端面上的长度大于所述短刷毛220在垂直于所述轮盘部分110的端面上的长度，且所述轮盘部分110的端面的周边区域分为第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域为扇形或圆弧形，所述长刷毛210分布于所述第一区域，所述短刷毛220分布于所述第二区域。

采用上述方案，所述刷头100上所设置的刷毛200包括长刷毛210和短刷毛220，且长刷毛210和短刷毛220呈扇形或圆弧形分布，这样，在利用刷头100对硅片载具20清洗时，可控制长刷毛210与硅片载具20的承载面接触，而短刷毛220与硅片载具20的承载面不接触，从而，在刷头100沿第二方向X往复运动时，由第二喷嘴400喷射的清洗液或气体可以有效的去除研磨载具表面的研磨残留，且较长的毛刷可对研磨载具承载面进行二次清洁，用以保证清洁效果，而较短刷毛220可以有效地将飞溅的高压水流或气流进行分散，并且，由于短刷毛220与硅片载具20的承载面不接触，形成间隙，使得清洗废液或气体能够从较短刷毛220和硅片载具20的间隙及时排出，提高清洗效果。

一些实施例中，所述短刷毛220和所述长刷毛210均呈半圆弧形分布。或者，所述长刷毛210所分布的第一区域的圆弧形为优弧，所述短刷毛220所在的第二区域的圆弧形为劣弧。

在一种示例性的实施例中，所述第二喷嘴400的喷射方向与所述刷头100的端面呈斜夹角，并朝向所述短刷毛220所在一侧。

采用上述方案，所述第二喷嘴400需要喷射高压液体或气体至硅片载具20表面，且由于长刷毛210与硅片载具20表面接触，若第二喷嘴400垂直朝向硅片载具20的承载面或朝向长刷毛210方向喷射，会导致飞溅的高压水流或气流不能及时排出，因此，将所述第二喷嘴400的喷射方向设计为朝向短刷毛220一侧，这样，可及时将第二喷嘴400喷射的高压水流或气流从短刷毛220与硅片载具20的承载面之间的间隙排出。

需要说明的是，通过所述第一喷嘴300，对硅片10的表面进行清洗时，为了防止硅片10划伤，所述长刷毛210与所述短刷毛220均不与硅片10接触，所述长刷毛210与所述短刷毛220与硅片载具20的承载面之间均具有间隙，因此，所述第一喷嘴300的喷射方向可以是垂直朝向硅片载具20的承载面、或朝向长刷毛210方向喷射，对于所述第一喷嘴300的喷射方向不限定。当然，所述第一喷嘴300的喷射方向还可以是根据所述刷头100在第二方向X的往复运动方向来设计。

此外，在一种示例性的实施例中，如图所示，所述刷头100还包括刷柄部分120，所述刷柄部分120设置在所述轮盘的与所述端面相背设置的背面一侧，且所述第一流道500和所述第二流道600均设置在所述刷柄部分120上。

采用上述方案，所述刷头100的刷柄上可直接设置第一流道500和第二流道600，减少其他管路设置，结构简单。

此外，在一种示例性的实施例中，如图所示，所述长刷毛210的长度为15～20mm，所述长刷毛210与所述短刷毛220在垂直于所述轮盘部分110的端面上的高度差为5～10mm。

采用上述方案，所述长刷毛210与所述短刷毛220在垂直于所述轮盘部分110的端面上的高度差为5～10mm时，清洗效果更好。优选的，所述长刷毛210与所述短刷毛220在垂直于所述轮盘部分110的端面上的高度差为5mm，此时又能保证清洗效果最好，且可使得短刷毛220有效防止高压水流或气流飞溅。

此外，在一种示例性的实施例中，所述第二方向X为所述短刷毛220所在的至少一个所述第一区域的中心点与所述端面的中心点连线的方向。

采用上述方案，所述刷头100在硅片载具20的承载面上平行运动时，即，沿第二方向X运动时，刷头100设置方向应是，从长刷毛210一侧，向短刷毛220一侧，往复运动，也就是，所述短刷毛220所在的至少一个所述第一区域的中心点与所述端面的中心点连线的方向往复运动，这样，长刷毛210可刮起承载面表面的杂物和水流，并使得杂物和水流等向短刷毛220与硅片载具20的承载面之间的间隙方向移动，以便于杂物和水流等排出。

在一种示例性的实施例中，如图所示，所述研磨载具清洗装置还包括：设置在所述轮盘部分110的设置所述短刷毛220的一侧的挡板700，且所述挡板700在垂直于所述轮盘部分110的端面上的高度，小于所述长刷毛210在垂直于所述轮盘部分110的端面上的高度。

采用上述方案，通过设置外部的挡板700，可以有效防止液体等飞溅至研磨设备内部。

此外，在一种示例性的实施例中，如图所示，所述挡板700与所述长刷毛210在垂直于所述轮盘部分110的端面上的高度差为1～2mm。

采用上述方案，所述挡板700与长刷毛210的高度差，小于所述短刷毛220与所述长刷毛210的高度差，以达到有效防止液体等飞溅至研磨设备内部的目的。

此外，本发明实施例中还提供了一种研磨载具清洗方法，采用本发明实施例所提供的研磨载具清洗装置对研磨载具进行清洗；所述方法包括：

研磨件在所述研磨载具上研磨完成后，控制所述移动机构沿第一方向Y移动所述刷头100，使所述刷头100的刷毛200与所述研磨件之间保持距离；

通过所述第一喷嘴300向所述研磨件上喷射流体，并沿所述第二方向X往复移动所述刷头100，同时，旋转所述研磨载具，以冲洗所述研磨件；

所述研磨件冲洗完成后，从所述研磨载具的承载面取下所述研磨件，控制所述移动机构沿所述第一方向Y移动所述刷头100，使所述刷头100的刷毛200与所述研磨载具的承载面接触；

通过所述第二喷嘴400向所述研磨载具的承载面上喷射流体，并沿所述第二方向X往复移动所述刷头100，同时，旋转所述研磨载具，以冲洗所述研磨载具。

上述方案中，在研磨载具清洗装置的刷头100上至少设有两个喷嘴，即，第一喷嘴300和第二喷嘴400，且第一喷嘴300和第二喷嘴400设置在刷头100的中心区域，而在两个喷嘴的外围围绕有刷毛200，这样，在硅片10研磨完成后，可通过第一喷嘴300喷射具有第一压力(低压或常压)的清洗液或气体，并且硅片10在硅片载具20带动下不断旋转，通过移动机构来控制所述刷头100在平行于硅片载具20的承载面方向上(即第二方向X)往复运动过程中，对硅片10表面进行清洗，从而达到去除研磨副产物清洁硅片10表面的目的；清洗完硅片10后，再利用第二喷嘴400来喷射第二压力(高压)的清洗液或气体，以冲洗清洁硅片载具20表面，并且，通过移动机构控制刷头100下降，使得刷毛200与硅片载具20承载面接触，并在硅片载具20不断旋转以及刷头100在平行于硅片载具20的承载面方向上往复运动过程中对硅片载具20承载面进行清洗，从而，对于在研磨以后的硅片载具20的平坦度管理及快速进行清洗，在硅片载具20平整平坦度、去除硅片10表面研磨副产物方面有显著效果。需要说明的是，上述方案中，所述清洗液可以是去离子水等。

此外，一种示例性的实施例中，所述方法中，所述控制所述移动机构沿所述第一方向Y移动所述刷头100，使所述刷头100的刷毛200与所述研磨载具的承载面接触，具体包括：

控制所述移动机构沿所述第一方向Y移动所述刷头100，使所述长刷毛210与所述研磨载具的承载面接触，所述短刷毛220与所述研磨载具的承载面保持间隙。

采用上述方案，所述刷头100上所设置的刷毛200包括长刷毛210和短刷毛220，且长刷毛210和短刷毛220呈扇形或圆弧形分布，这样，在利用刷头100对硅片载具20清洗时，可控制长刷毛210与硅片载具20的承载面接触，而短刷毛220与硅片载具20的承载面不接触，从而，在刷头100沿第二方向X往复运动时，由第二喷嘴400喷射的清洗液或气体可以有效的去除研磨载具表面的研磨残留，且较长的毛刷可对研磨载具承载面进行二次清洁，用以保证清洁效果，而较短刷毛220可以有效地将飞溅的高压水流或气流进行分散，并且，由于短刷毛220与硅片载具20的承载面不接触，形成间隙，使得清洗废液或气体能够从较短刷毛220和硅片载具20的间隙及时排出，提高清洗效果。

有以下几点需要说明：

(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。

(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”或者可以存在中间元件。

(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。

以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种研磨载具清洗装置，用于清洗研磨载具，所述研磨载具的承载面用于承载研磨件；其特征在于，所述研磨载具清洗装置包括：

刷头，所述刷头包括轮盘部分，所述轮盘部分的端面具有中心区域和围绕所述中心区域的周边区域，在所述周边区域分布有刷毛，在所述中心区域至少设有第一喷嘴和第二喷嘴，所述刷头上至少还设有第一流道和第二流道，所述第一喷嘴连通所述第一流道，所述第二喷嘴连通所述第二流道，且所述第一喷嘴用于喷射第一压力的流体，以冲洗研磨载具的承载面上的研磨件，所述第二喷嘴用于喷射第二压力的流体，以冲洗所述研磨载具的承载面，所述第一压力小于或等于所述第二压力；

及，移动机构，与所述刷头连接，用于在第一方向和第二方向上移动所述刷头，所述第一方向为垂直于所述刷头的端面的方向，所述第二方向为与所述刷头的端面平行的方向。

2.根据权利要求1所述的研磨载具清洗装置，其特征在于，

所述刷毛包括长刷毛和短刷毛，所述长刷毛的长度大于所述短刷毛的长度，且所述轮盘部分的端面的周边区域分为第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域为扇形或圆弧形，所述长刷毛分布于所述第一区域，所述短刷毛分布于所述第二区域。

3.根据权利要求2所述的研磨载具清洗装置，其特征在于，

所述第二喷嘴的喷射方向与所述刷头的端面呈斜夹角，并朝向所述短刷毛所在一侧。

4.根据权利要求2所述的研磨载具清洗装置，其特征在于，

所述刷头还包括刷柄部分，所述刷柄部分设置在所述轮盘的与所述端面相背设置的背面一侧，且所述第一流道和所述第二流道均设置在所述刷柄部分上。

5.根据权利要求2所述的研磨载具清洗装置，其特征在于，

所述长刷毛的长度为15～20mm，所述长刷毛与所述短刷毛在垂直于所述轮盘部分的端面上的高度差为5～10mm。

6.根据权利要求2所述的研磨载具清洗装置，其特征在于，

所述第二方向为所述短刷毛所在的至少一个所述第一区域的中心点与所述端面的中心点连线的方向。

7.根据权利要求2所述的研磨载具清洗装置，其特征在于，

所述研磨载具清洗装置还包括：设置在所述轮盘部分的设置所述短刷毛的一侧的挡板，且所述挡板在垂直于所述轮盘部分的端面上的高度，小于所述长刷毛在垂直于所述轮盘部分的端面上的高度。

8.根据权利要求7所述的研磨载具清洗装置，其特征在于，

所述挡板与所述长刷毛在垂直于所述轮盘部分的端面上的高度差为1～2mm。

9.一种研磨载具清洗方法，其特征在于，采用如权利要求1至8任一项所述的研磨载具清洗装置对研磨载具进行清洗；所述方法包括：

研磨件在所述研磨载具上研磨完成后，控制所述移动机构沿第一方向移动所述刷头，使所述刷头的刷毛与所述研磨件之间保持距离；

通过所述第一喷嘴向所述研磨件上喷射流体，并沿所述第二方向往复移动所述刷头，以冲洗所述研磨件；

所述研磨件冲洗完成后，从所述研磨载具的承载面取下所述研磨件，控制所述移动机构沿所述第一方向移动所述刷头，使所述刷头的刷毛与所述研磨载具的承载面接触；

通过所述第二喷嘴向所述研磨载具的承载面上喷射流体，并沿所述第二方向往复移动所述刷头，以冲洗所述研磨载具。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，采用如权利要求2所述的研磨载具清洗装置，所述方法中，所述控制所述移动机构沿所述第一方向移动所述刷头，使所述刷头的刷毛与所述研磨载具的承载面接触，具体包括：

控制所述移动机构沿所述第一方向移动所述刷头，使所述长刷毛与所述研磨载具的承载面接触，所述短刷毛与所述研磨载具的承载面保持间隙。

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