CN111359971B - 一种清洗装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种清洗装置。该清洗装置包括：清洗槽和支撑件，清洗槽包括至少一组第一进液口组和/或一组第二进液口组；支撑件位于清洗槽中，支撑件用于支撑固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面与清洗槽的槽底垂直；其中，每组第一进液口组包括两个第一进液口，在掩膜版固定于支撑件上时，在每组第一进液口组中，两个第一进液口分别位于掩膜版的两对侧，且两个第一进液口间的连线与待清洗面垂直；和/或第二进液口组包括至少一个第二进液口，在掩膜版固定于支撑件上时，各第二进液口与其相对的掩膜版的外框在清洗槽上的正投影相交叠。本发明实施例提供的技术方案可以降低掩膜版平面所受法向冲击力，从而避免掩膜版发生褶皱。

Description

一种清洗装置

技术领域

本发明涉及清洗设备技术领域，尤其涉及一种清洗装置。

背景技术

掩膜版是制造OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示屏的重要部件，例如采用真空蒸镀技术制备有机发光层时，有机材料通过高温蒸镀淀积在位于蒸发源上方的背板上，为使有机材料按照设计蒸镀到特定的位置上，在背板下方需使用高精度金属掩膜版，掩膜版(即高精度金属掩膜版板)上留有预先设计好的有效开口区域，通过该有效开口区域，有机材料沉积到背板上面，形成预设图形。

掩膜版在使用一段时间后，表面会沉积有机或金属材料层，当有机或金属材料层达到一定厚度后就需要定期清洗，否则材料层或脱落或堵塞掩膜版空隙，影响制程。

通常将掩膜版置于掩膜版清洗机中进行清洗，将掩膜版置于装有相关液体的槽体中，槽体中的液体的不规则流动，会对精密掩膜版产生冲击力，导致掩膜版褶皱。

发明内容

本发明实施例提供一种清洗装置，可以降低掩膜版平面所受法向冲击力，进而避免掩膜版产生褶皱。

本发明实施例提供了一种清洗装置，包括：

清洗槽，清洗槽包括至少一组第一进液口组和/或一组第二进液口组；

支撑件，位于清洗槽中，用于支撑固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面与清洗槽的槽底垂直；

其中，每组第一进液口组包括两个第一进液口，在掩膜版固定于支撑件上时，在每组第一进液口组中，两个第一进液口分别位于掩膜版的两对侧，且两个第一进液口间的连线与待清洗面垂直；和/或第二进液口组包括至少一个第二进液口，在掩膜版固定于支撑件上时，各第二进液口与其相对的掩膜版的外框在清洗槽上的正投影相交叠。

进一步地，两个第一进液口的孔径相同。

进一步地，两个第一进液口关于掩膜版对称分布。

进一步地，各第二进液口位于与其相对的掩膜版的外框在清洗槽上的正投影内。

进一步地，清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，第一槽侧壁与待清洗面平行；

在一组第一进液口组中，两个第一进液口位于槽底和/或第一槽侧壁上；和/或第二进液口位于槽底和/或第二槽侧壁上。

进一步地，两个第一槽侧壁关于掩膜版对称分布。

进一步地，沿垂直于槽底的方向，第一槽侧壁与第二槽侧壁的高度相同，或第一槽侧壁的高度低于第二槽侧壁的高度，或第二槽侧壁的高度低于第一槽侧壁的高度。

进一步地，清洗装置还包括溢流槽和动力机构；溢流槽包括至少一个出液口，溢流槽位于清洗槽的至少一侧，溢流槽用于盛装清洗槽溢出的清洗液；动力机构包括抽液端和排液端，抽液端与出液口连通，排液端与第一进液口和/或第二进液口连通，动力机构用于循环清洗槽内的清洗液；

优选地，清洗装置包括分别位于清洗槽的两对侧的溢流槽；

优选地，分别位于清洗槽的两对侧的溢流槽的出液口的孔径相同。

进一步地，清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，第一槽侧壁与待清洗面平行；

两个溢流槽分别与两个第一槽侧壁相邻，在一组第一进液口组中，两个第一进液口位于槽底；和/或第二进液口位于槽底和/或第二槽侧壁上；

优选地，沿垂直于槽底的方向，第一槽侧壁的高度低于第二槽侧壁的高度。

进一步地，清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，第一槽侧壁与待清洗面平行；

两个溢流槽分别与两个第二槽侧壁相邻，在一组第一进液口组中，两个第一进液口位于槽底或第一槽侧壁上；和/或第二进液口位于槽底；

优选地，沿垂直于槽底的方向，第二槽侧壁的高度低于第一槽侧壁的高度。

本发明实施例的技术方案中清洗装置包括：清洗槽和支撑件，清洗槽包括至少一组第一进液口组和/或一组第二进液口组；支撑件位于清洗槽中，支撑件用于支撑固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面与清洗槽的槽底垂直；其中，每组第一进液口组包括两个第一进液口，在掩膜版固定于支撑件上时，在每组第一进液口组中，两个第一进液口分别位于掩膜版的两对侧，且两个第一进液口间的连线与待清洗面垂直；和/或第二进液口组包括至少一个第二进液口，在掩膜版固定于支撑件上时，各第二进液口与其相对的掩膜版的外框在清洗槽上的正投影相交叠，可以降低掩膜版平面所受法向冲击力，从而避免掩膜版发生褶皱。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种清洗装置的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种清洗装置的俯视结构示意图；

图3为本发明实施例提供的又一种清洗装置的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的又一种清洗装置的俯视结构示意图；

图5为本发明实施例提供的又一种清洗装置的俯视结构示意图；

图6为本发明实施例提供的又一种清洗装置的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的又一种清洗装置的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的又一种清洗装置的结构示意图；

图9为本发明实施例提供的又一种清洗装置的俯视结构示意图；

图10为本发明实施例提供的又一种清洗装置的俯视结构示意图；

图11为本发明实施例提供的又一种清洗装置的俯视结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

本发明实施例提供一种清洗装置。图1为本发明实施例提供的一种清洗装置的结构示意图。图2为本发明实施例提供的一种清洗装置的俯视结构示意图。该清洗装置用于清洗掩膜版。掩膜版上设置有多个通孔，通孔的延伸方向垂直于掩膜版的待清洗面。可选的，掩膜版呈网格状。该清洗装置包括：清洗槽10和支撑件20。

其中，清洗槽10包括至少一组第一进液口组1。支撑件20位于清洗槽10中，支撑件20用于支撑固定掩膜版30且使掩膜版30的待清洗面31与清洗槽10的槽底15垂直；其中，每组第一进液口组1包括两个第一进液口11，在掩膜版30固定于支撑件20上时，在每组第一进液口组1中，两个第一进液口11分别位于掩膜版30的两对侧，且两个第一进液口11间的连线与待清洗面31垂直。

其中，支撑件20可设置于清洗槽10的槽底15或槽侧壁上。第一进液口11的形状可以是圆形或矩形等。可选的，在每组第一进液口组1中，两个第一进液口11的瞬时流量相等。可选的，在每组第一进液口组1中，两个第一进液口11的孔径相同。可选的，在每组第一进液口组1中，两个第一进液口11的流速相等。清洗槽10可以是长方体、圆柱体、底面为正多边形的直棱柱等，本发明实施例对此不作限定。清洗液为药液，可以与掩膜版30的待清洗面31上的有机材料或金属材料反应，以去除掩膜版30的待清洗面31上的有机材料或金属材料。沿垂直于槽底15的方向，掩膜版30远离槽底15的一端的高度低于清洗槽10的槽侧壁的高度，以使清洗液没过掩膜版30。需要说明的是，方向Z垂直于槽底15，方向X垂直于掩膜版30的待清洗面31。方向Z、X方向和Y方向相互垂直。

图1示例性的画出一组第一进液口组的情况，两个第一进液口11所在的垂直于槽底15的平面将掩膜版30平分成对称的两部分。图3示例性的画出3组第一进液口组的情况。在每组第一进液口组1中，两个第一进液口11分别位于掩膜版30的两对侧，且两个第一进液口11间的连线与待清洗面31垂直，使得掩膜版30两侧的清洗液因向对侧流动产生的法向冲击力(即垂直于掩膜版30的待清洗面31的冲击力)相互抵消，降低掩膜版30平面所受法向冲击力，从而避免掩膜版发生褶皱，解决了仅在掩膜版的一侧设置进液口，导致进液口流入的清洗液从掩膜版的一侧经掩膜版上的通孔流向掩膜版的另一侧时，掩膜版所受法向冲击力较大，容易发生褶皱的问题。

本实施例的技术方案中的清洗装置包括：清洗槽和支撑件，清洗槽包括至少一组第一进液口组，支撑件位于清洗槽中，支撑件用于支撑固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面与清洗槽的槽底垂直；其中，每组第一进液口组包括两个第一进液口，在掩膜版固定于支撑件上时，在每组第一进液口组中，两个第一进液口分别位于掩膜版的两对侧，且两个第一进液口间的连线与待清洗面垂直，使得掩膜版两侧的清洗液因向对侧流动产生的法向冲击力相互抵消，降低掩膜版平面所受法向冲击力，从而避免掩膜版发生褶皱，解决了仅在掩膜版的一侧设置进液口，导致进液口流入的清洗液从掩膜版的一侧经掩膜版上的通孔流向掩膜版的另一侧时，掩膜版所受法向冲击力较大，容易发生褶皱的问题。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图1和图2，在每组第一进液口组中，两个第一进液口11关于掩膜版30对称分布，使得两个第一进液口11到掩膜版30的距离相等，相比于两个第一进液口11到掩膜版30的距离不相等的情况，可以使掩膜版30两侧的清洗液因向对侧流动产生的冲击力相互抵消的效果进一步提高，降低掩膜版30平面所受法向冲击力，从而避免掩膜版发生褶皱。

本发明实施例提供又一种清洗装置。图3为本发明实施例提供的又一种清洗装置的结构示意图。图4为本发明实施例提供的又一种清洗装置的俯视结构示意图。在上述实施例的基础上，清洗槽10包括一组第二进液口组2；第二进液口组2包括至少一个第二进液口12，在掩膜版30固定于支撑件20上时，各第二进液口12与其相对的掩膜版30的外框在清洗槽10上的正投影33相交叠。

其中，掩膜版30的外框位于垂直于待清洗面31的侧面，图中未示出。第二进液口12与其相对的掩膜版30的外框在清洗槽10上的正投影33相交叠，第二进液口12流入的清洗液直接对掩膜版30的外框产生冲击力，由于掩膜版30的外框能够阻挡清洗液产生的直接冲击力，故经掩膜版30的外框抵挡一部分清洗液的冲击力后，清洗液在外框处再分流向掩膜版20的两侧流动，使得清洗液产生的垂直于待清洗面31的法向冲击力减小，从而避免掩膜版发生褶皱。

本实施例的技术方案中的清洗装置包括：清洗槽和支撑件，清洗槽包括一组第二进液口组；支撑件位于清洗槽中，支撑件用于支撑固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面与清洗槽的槽底垂直；其中，第二进液口组包括至少一个第二进液口，在掩膜版固定于支撑件上时，各第二进液口与其相对的掩膜版的外框在清洗槽上的正投影相交叠，以使第二进液口流入的清洗液直接对掩膜版的外框产生冲击力，故经掩膜版的外框抵挡一部分清洗液的冲击力后，清洗液在外框处再分流向掩膜版的两侧流动，使得清洗液产生的垂直于待清洗面的法向冲击力减小，从而避免掩膜版发生褶皱。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图3，各第二进液口12位于与其相对的掩膜版30的外框在清洗槽10上的正投影33内，使得第二进液口12流入的清洗液产生的冲击力完全被掩膜版30的外框阻挡，大大降低掩膜版30平面所受法向冲击力，从而避免掩膜版发生褶皱。

本发明实施例提供又一种清洗装置。图5为本发明实施例提供的又一种清洗装置的俯视结构示意图。在上述实施例的基础上，清洗槽10包括至少一组第一进液口组1和一组第二进液口组2，可以降低掩膜版平面所受法向冲击力，从而避免掩膜版发生褶皱。清洗槽10包括多组第一进液口组1，位于掩膜版同一侧的多个第一进液口11均匀分布，例如可以是呈直线排列，且等间距分布，第二进液口组包括多个第二进液口12，多个第二进液口12所在直线平行于待清洗面31。多个第二进液口12均匀分布，例如可以是等间距分布。掩膜版两侧的第一进液口11在槽底15上的投影关于掩膜版30的中心在槽底15上的投影呈中心对称分布。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图1至图5，清洗槽10包括相对设置的两个第一槽侧壁13和相对设置的两个第二槽侧壁14，第一槽侧壁13与待清洗面31平行。可选的，第二槽侧壁14与第一槽侧壁13垂直。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图1至图5，在一组第一进液口组1中，两个第一进液口11位于槽底15和/或第一槽侧壁13上。可根据需要设置第一进液口11的位置和数量，本发明实施例对此不作限定。在清洗液注入总量不变的前提下，第一进液口越多，每个进液口流速越低，降低对清洗槽10体内液体的扰动，减小掩膜版受到的液体冲击力。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图1至图5，第二进液口12位于槽底15和/或第二槽侧壁14上。可根据需要设置第二进液口12的位置和数量，本发明实施例对此不作限定。在清洗液注入总量不变的前提下，第二进液口越多，每个进液口流速越低，降低对清洗槽10体内液体的扰动，减小掩膜版受到的液体冲击力。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图1至图5，两个第一槽侧壁13关于掩膜版30对称分布。沿垂直于槽底15的方向，两个第一槽侧壁13的高度相等。两个第一槽侧壁13的宽度相等。两个第一槽侧壁13到掩膜版30的距离相等，方便在两个第一槽侧壁13上设置关于掩膜版30对称分布的第一进液口11。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图1至图5，两个第二槽侧壁14关于经过掩膜版30的中心且垂直于槽底15的平面对称分布。沿垂直于槽底15的方向，两个第二槽侧壁14的高度相等。两个第二槽侧壁14的宽度相等。两个第二槽侧壁14到掩膜版30的距离相等。

本发明实施例提供又一种清洗装置。图6为本发明实施例提供的又一种清洗装置的结构示意图。在上述实施例的基础上，沿垂直于槽底15的方向，第一槽侧壁13的高度D1低于第二槽侧壁14的高度D2。第一进液口11和/或第二进液口12持续向清洗槽10内注入清洗液，当清洗槽内的清洗液的液面逐渐上升到第一槽侧壁13的顶端时，清洗液将从两个第一槽侧壁13向清洗槽10外流出，且两个第一槽侧壁13的宽度L1相等，掩膜版30两侧的排液速率一致，相比于仅从一个槽侧壁向外溢流的方式，可以避免因掩膜版两侧排液速率不一致，而导致清洗槽10内部液体偏向其中一侧流动，进而对掩膜版平面产生法向冲击力的情况发生。

本发明实施例提供又一种清洗装置。图7为本发明实施例提供的又一种清洗装置的结构示意图。在上述实施例的基础上，沿垂直于槽底15的方向，第二槽侧壁14的高度D2低于第一槽侧壁13的高度D1。第一进液口11和/或第二进液口12持续向清洗槽10内注入清洗液，当清洗槽10内的清洗液的液面逐渐上升到第二槽侧壁14的顶端时，清洗液将从两个第二槽侧壁14向清洗槽10外流出，且两个第二槽侧壁14的宽度L2相等，掩膜版30两侧的排液速率一致，相比于仅从一个槽侧壁向外溢流的方式，可以避免因掩膜版两侧排液速率不一致，而导致清洗槽10内部液体偏向其中一侧流动，进而对掩膜版平面产生法向冲击力的情况发生。

本发明实施例提供又一种清洗装置。在上述实施例的基础上，继续参见图1至图5，沿垂直于槽底15的方向，第一槽侧壁13与第二槽侧壁14的高度相同。第一进液口11和/或第二进液口12持续向清洗槽内注入清洗液，当清洗槽内的清洗液的液面逐渐上升到第一槽侧壁13与第二槽侧壁14的顶端时，清洗液将从两个第一槽侧壁13和两个第二槽侧壁14向清洗槽10外流出，掩膜版30各侧的排液速率一致，相比于仅从一个槽侧壁向外溢流的方式，可以避免因掩膜版两侧排液速率不一致，而导致清洗槽10内部液体偏向其中一侧流动，进而对掩膜版平面产生法向冲击力的情况发生。在清洗液溢出总量不变的前提下，向外溢流的槽侧壁越多，向清洗槽10外溢流的流速越低，降低对清洗槽10体内液体的扰动，减小掩膜版受到的液体冲击力。

本发明实施例提供又一种清洗装置。图8为本发明实施例提供的又一种清洗装置的结构示意图。图9为本发明实施例提供的又一种清洗装置的俯视结构示意图。在上述实施例的基础上，清洗装置还包括溢流槽40和动力机构50；溢流槽40包括至少一个出液口41，溢流槽40位于清洗槽10的至少一侧，溢流槽40用于盛装清洗槽10溢出的清洗液；动力机构50包括抽液端和排液端，抽液端与出液口41连通，排液端与第一进液口11和/或第二进液口12连通，动力机构50用于循环清洗槽10内的清洗液。

其中，动力机构50可以包括连通的第一水泵和过滤器等。过滤器用于过滤循环清洗液中的杂质。通过将清洗槽中的液体进行过滤、循环，可以提高清洗效率以及相关药液的利用率。在循环流量相同的前提下，循环进液口越多，每个进液口流速越低，降低对清洗槽10体内液体的扰动，减小掩膜版受到的液体冲击力。可选的，清洗装置还包括第二水泵，第二水泵的抽液端与供液管路连通，第二水泵的排液端与第一进液口11和/或第二进液口12连通，第二水泵用于向清洗槽10内注入清洗液，待注入量达到液体循环所需的液体量后，第二水泵停止工作，使动力机构50开始工作。沿垂直于槽底15的方向，溢流槽40的液面高度低于清洗槽10内的液面高度。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图8和图9，清洗装置包括分别位于清洗槽10的两对侧的溢流槽40，以分别贮存两个相对设置的槽侧壁溢流出来的清洗液。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图8和图9，分别位于清洗槽10的两对侧的溢流槽40的出液口41的孔径相同，以使从两对侧的溢流槽40流出的清洗液的流量相等。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图8和图9，清洗槽10包括相对设置的两个第一槽侧壁13和相对设置的两个第二槽侧壁14，第一槽侧壁13与待清洗面31平行；两个溢流槽40分别与两个第一槽侧壁13相邻，在一组第一进液口组中，两个第一进液口11位于槽底15；和/或第二进液口12位于槽底15和/或第二槽侧壁14上。可选的，继续参见图8和图9，沿垂直于槽底15的方向，第一槽侧壁13的高度低于第二槽侧壁14的高度。

可选的，在上述实施例的基础上，图10为本发明实施例提供的又一种清洗装置的俯视结构示意图，清洗槽10包括相对设置的两个第一槽侧壁13和相对设置的两个第二槽侧壁14，第一槽侧壁13与待清洗面31平行；两个溢流槽40分别与两个第二槽侧壁14相邻，在一组第一进液口组中，两个第一进液口11位于槽底15或第一槽侧壁13上；和/或第二进液口12位于槽底15。可选的，结合图10和图7所示，沿垂直于槽底15的方向，第二槽侧壁15的高度低于第一槽侧壁的高度13。

可选的，在上述实施例的基础上，图11为本发明实施例提供的又一种清洗装置的俯视结构示意图，清洗槽10包括相对设置的两个第一槽侧壁13和相对设置的两个第二槽侧壁14，第一槽侧壁13与待清洗面31平行；四个溢流槽40分别与四个槽侧壁相邻，即四个槽侧壁包括两个第一槽侧壁13和两个第二槽侧壁14；在一组第一进液口组中，两个第一进液口11位于槽底15；和/或第二进液口12位于槽底15。可选的，结合图11和图1所示，沿垂直于槽底15的方向，第一槽侧壁13与第二槽侧壁14的高度相同。

本发明实施例的技术方案中的掩膜版30位于清洗槽10的中心，掩膜版两侧区域关于掩膜版对称，降低掩膜版两侧区域液体的对流，从而降低液体流动对掩膜版平面产生的法向冲击力，避免掩膜版产生褶皱。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (18)

1.一种清洗装置，其特征在于，包括：

清洗槽，所述清洗槽包括至少一组第一进液口组和至少一组第二进液口组；

支撑件，位于所述清洗槽中，用于支撑固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面与所述清洗槽的槽底垂直；

其中，每组所述第一进液口组包括两个第一进液口，在掩膜版固定于所述支撑件上时，在每组所述第一进液口组中，所述两个第一进液口分别位于所述掩膜版的两对侧，且所述两个第一进液口间的连线与所述待清洗面垂直，以降低所述掩膜版两侧的清洗液向对侧流动产生的法向冲击力；所述第二进液口组包括至少一个第二进液口，在掩膜版固定于所述支撑件上时，各所述第二进液口与其相对的所述掩膜版的外框在所述清洗槽上的正投影相交叠；所述第二进液口流入的清洗液直接对掩膜版的外框产生冲击力，经掩膜版的外框抵挡一部分清洗液的冲击力后，清洗液在外框处再分流向掩膜版的两侧流动，使得清洗液产生的垂直于待清洗面的法向冲击力减小；

其中，所述清洗槽用于盛装清洗液，所述清洗液没过所述掩膜版，所述掩膜版上设置有多个通孔，所述通孔的延伸方向垂直于所述掩膜版的待清洗面，所述掩膜版的外框位于所述掩膜版的侧面，所述掩膜版的侧面垂直于所述待清洗面。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述两个第一进液口的孔径相同。

3.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述两个第一进液口关于所述掩膜版对称分布。

4.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，各所述第二进液口位于与其相对的所述掩膜版的外框在所述清洗槽上的正投影内。

5.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，所述第一槽侧壁与所述待清洗面平行；

在一组所述第一进液口组中，所述两个第一进液口位于所述槽底和/或所述第一槽侧壁上；和/或所述第二进液口位于所述槽底和/或所述第二槽侧壁上。

6.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，所述两个第一槽侧壁关于所述掩膜版对称分布。

7.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，沿垂直于所述槽底的方向，所述第一槽侧壁与所述第二槽侧壁的高度相同，或所述第一槽侧壁的高度低于所述第二槽侧壁的高度，或所述第二槽侧壁的高度低于所述第一槽侧壁的高度。

8.根据权利要求1至7任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括溢流槽和动力机构；所述溢流槽包括至少一个出液口，所述溢流槽位于所述清洗槽的至少一侧，所述溢流槽用于盛装所述清洗槽溢出的清洗液；所述动力机构包括抽液端和排液端，所述抽液端与所述出液口连通，所述排液端与所述第一进液口和/或所述第二进液口连通，所述动力机构用于循环所述清洗槽内的清洗液；

所述清洗装置包括分别位于所述清洗槽的两对侧的所述溢流槽；

分别位于所述清洗槽的两对侧的所述溢流槽的出液口的孔径相同。

9.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，所述第一槽侧壁与所述待清洗面平行；

两个所述溢流槽分别与所述两个第一槽侧壁相邻，在一组所述第一进液口组中，所述两个第一进液口位于所述槽底；和/或所述第二进液口位于所述槽底和/或所述第二槽侧壁上；

沿垂直于所述槽底的方向，所述第一槽侧壁的高度低于所述第二槽侧壁的高度。

10.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，所述第一槽侧壁与所述待清洗面平行；

两个所述溢流槽分别与所述两个第二槽侧壁相邻，在一组所述第一进液口组中，所述两个第一进液口位于所述槽底或所述第一槽侧壁上；和/或所述第二进液口位于所述槽底；

沿垂直于所述槽底的方向，所述第二槽侧壁的高度低于所述第一槽侧壁的高度。

11.一种清洗装置，其特征在于，包括：

清洗槽，所述清洗槽包括至少一组第二进液口组；

支撑件，位于所述清洗槽中，用于支撑固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面与所述清洗槽的槽底垂直；

其中，所述第二进液口组包括至少一个第二进液口，在掩膜版固定于所述支撑件上时，各所述第二进液口与其相对的所述掩膜版的外框在所述清洗槽上的正投影相交叠；所述第二进液口流入的清洗液直接对掩膜版的外框产生冲击力，经掩膜版的外框抵挡一部分清洗液的冲击力后，清洗液在外框处再分流向掩膜版的两侧流动，使得清洗液产生的垂直于待清洗面的法向冲击力减小；

其中，所述清洗槽用于盛装清洗液，所述清洗液没过所述掩膜版，所述掩膜版上设置有多个通孔，所述通孔的延伸方向垂直于所述掩膜版的待清洗面，所述掩膜版的外框位于所述掩膜版的侧面，所述掩膜版的侧面垂直于所述待清洗面。

12.根据权利要求11所述的清洗装置，其特征在于，各所述第二进液口位于与其相对的所述掩膜版的外框在所述清洗槽上的正投影内。

13.根据权利要求11所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，所述第一槽侧壁与所述待清洗面平行；

所述第二进液口位于所述槽底和/或所述第二槽侧壁上。

14.根据权利要求13所述的清洗装置，其特征在于，所述两个第一槽侧壁关于所述掩膜版对称分布。

15.根据权利要求14所述的清洗装置，其特征在于，沿垂直于所述槽底的方向，所述第一槽侧壁与所述第二槽侧壁的高度相同，或所述第一槽侧壁的高度低于所述第二槽侧壁的高度，或所述第二槽侧壁的高度低于所述第一槽侧壁的高度。

16.根据权利要求11至15任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括溢流槽和动力机构；所述溢流槽包括至少一个出液口，所述溢流槽位于所述清洗槽的至少一侧，所述溢流槽用于盛装所述清洗槽溢出的清洗液；所述动力机构包括抽液端和排液端，所述抽液端与所述出液口连通，所述排液端与所述第二进液口连通，所述动力机构用于循环所述清洗槽内的清洗液；

所述清洗装置包括分别位于所述清洗槽的两对侧的所述溢流槽；

分别位于所述清洗槽的两对侧的所述溢流槽的出液口的孔径相同。

17.根据权利要求16所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，所述第一槽侧壁与所述待清洗面平行；

两个所述溢流槽分别与所述两个第一槽侧壁相邻，所述第二进液口位于所述槽底和/或所述第二槽侧壁上；

沿垂直于所述槽底的方向，所述第一槽侧壁的高度低于所述第二槽侧壁的高度。

18.根据权利要求16所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽包括相对设置的两个第一槽侧壁和相对设置的两个第二槽侧壁，所述第一槽侧壁与所述待清洗面平行；

两个所述溢流槽分别与所述两个第二槽侧壁相邻，所述第二进液口位于所述槽底；

沿垂直于所述槽底的方向，所述第二槽侧壁的高度低于所述第一槽侧壁的高度。

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