CN111251493B - 一种受阻胺类光稳定剂的造粒方法 - Google Patents

一种受阻胺类光稳定剂的造粒方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种受阻胺类光稳定剂的造粒方法，该方法使用水下模面切粒系统对受阻胺类光稳定剂进行造粒，制得光稳定剂粒子。该工艺解决了传统钢带造粒成本高，物理破碎有粉末，粒子不规整等问题，制得粒子规整、大小均一，无粉尘，无环境污染，设备投资小。

Description

一种受阻胺类光稳定剂的造粒方法
技术领域
本发明公开了一种受阻胺类光稳定剂颗粒的制备方法，属于助剂造粒技术领域。
背景技术
光稳定剂是高分子制品的一种添加剂，它能屏蔽或吸收紫外线的能量，猝灭单线态氧及将氢过氧化物分解成非活性物质等功能，使高分子聚合物在光的辐射下，能排除或减缓光化学反应可能性，阻止或延迟光老化的过程，从而达到延长高分子聚合物制品使用寿命的目的。主要包括紫外线吸收剂和受阻胺类光稳定剂。
受阻胺类光稳定剂(Hindered Amine Light Stabilizer，简称HALS)是一种高效的抑制高分子材料光氧化降解的助剂，其光稳定效果是传统的吸收型光稳定剂的2-4倍。该类物质与紫外线吸收剂和抗氧剂有良好的协同效应，与多种高分子材料具有良好的相容性。由于其良好的应用性能，HALS自问世以来一直是聚合物抗老化领域的重要发展品种，也是发展最快的一类高效光稳定剂。
早期的HALS产品由于其相对分子量很低，在应用过程中具有不耐抽提和易迁移的缺点。基于此，高分子量和聚合型HALS成为光稳定剂的发展趋势之一。现市场上广泛使用的高分子量和聚合型HALS类光稳定剂有944、622、3346、119等产品。
为便于运输和方便使用，高分子量的光稳定剂，尤其聚合型HALS产品常制备成颗粒，因其分子量在1000-5000左右，分子量相对较小，分子之间作用力较弱，不适宜用传统的拉条法，因为会有拉条不易成型，容易发生断条，切粒容易破碎等问题。
高分子量的光稳定剂，尤其聚合型HALS的传统造粒方式为钢带造粒，该方式的设备投资大，占地面积大，成本高，性价比低。目前工业中高分子量的光稳定剂尤其聚合型HALS的的主流工艺是将光稳定剂在压力下挤出，用盘等设备分装，冷却后物理破碎；该工艺存在气味大，粒子为不规则颗粒，并且有大量的粉末，对环境和人员都造成影响。
因此开发一种经济、适合工业上使用且环保的光稳定剂造粒方法非常迫切。
发明内容
为解决以上问题，提供一种用于光稳定剂的造粒方法，采用如下方案：
一种受阻胺类光稳定剂的造粒方法，使用水下模面切粒系统对受阻胺类光稳定剂进行造粒，制得光稳定剂粒子。
本方法中，所述受阻胺类光稳定剂的分子量在1000-5000。
较佳地，所述受阻胺类光稳定剂的分子量在2000-4000。
较佳地，所述受阻胺类光稳定剂选自丁胺哌啶光稳定剂、己二胺哌啶光稳定剂、酯连接哌啶光稳定剂中的至少一种。
更佳地，所述受阻胺类光稳定剂选自具有式I所示结构：
Figure BDA0002376553000000021
式I中，R1选自H、C1-20的烷基、-O-C1-20烷基或环烷基、C6-20芳基或烷基芳基；R2、R3、R2'、R3'各自独立地选自C1-10的烷基或者R2和R3以及R2'和R3'分别形成C5-10的环烷基；R4、R5各自独立地选自C1-20直链或支链烷基、哌啶基或烷基取代的哌啶基、环己基、吡咯烷基、或R4和R5形成环烷基或含氧环烷基；n选自1-5的任意整数；
或者，所述受阻胺类光稳定剂具有式II所示结构：
Figure BDA0002376553000000031
式II中，R1、R2、R3、R2'、R3'的定义同式I中的定义。
或者，所述受阻胺类光稳定剂具有式III所示结构：
Figure BDA0002376553000000032
式III中，R2、R3、R2'、R3'的定义同式I中的定义；n选自1-5的任意整数；E选自-O-C1-10亚烷基-、-C1-10亚烷基-C(＝O)-O-C1-10亚烷基-、-C1-10亚烷基-O-C(＝O)-C1-10亚烷基-。
所述丁胺哌啶光稳定剂选自1,5,8,12-四[2,4-双(N-丁基-N-1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基氨基)-1,3,5-三嗪-6-基]-1,5,8,12-四氮杂十二烷、N,N”-1,2-二亚甲基-1,3-丙二胺聚合物与2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪与N-丁基-2,2,6,6-四甲基-4-铵的反应物、N,N'-双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,6-己二胺与2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪和N-丁基-1-丁胺和N-丁基-2,2,6,6-四甲基-4-哌啶胺的反应产物的聚合物中的至少一种；
所述己二胺哌啶的光稳定剂选自聚-{[6-[(1，1，3，3-四甲基丁基)-亚氨基]-1,3,5-三嗪-2，4-二基][2-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氮基]-亚已基-[4-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氨基]}、N,N'-双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,6-己二胺同吗啉-2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪的甲基化聚合物、聚[(6-吗啉基-1,3,5-三嗪-2,4-基)-((2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亚氨)己烷-((2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亚氨)]中的至少一种；
所述酯连接哌啶的光稳定剂选自聚[1-(2'-羟乙基)-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶丁二酸酯]；
或者，所述受阻胺类光稳定剂为1,5,8,12-四[2,4-双(N-丁基-N-1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基氨基)-1,3,5-三嗪-6-基]-1,5,8,12-四氮杂十二烷与聚[1-(2'-羟乙基)-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶丁二酸酯]的混合物，或者聚-{[6-[(1，1,3,3-四甲基丁基)-亚氨基]-1,3,5-三嗪-2，4-二基][2-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氮基]-亚已基-[4-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氨基]}与聚[1-(2'-羟乙基)-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶丁二酸酯]的混合物。
较佳地，上述方法是将具有一定压力的熔融态受阻胺类光稳定剂输送进入水下模面切粒系统造粒，即得。
较佳地，所述一定压力指的是水下模面切粒系统进口处的物料压力，该压力为0.5-1.0MPa。
较佳地，控制水下模面切粒系统的模头温度高于光稳定剂熔点峰值30-90℃。
一种受阻胺类光稳定剂，该光稳定剂是通过上述的方法进行的造粒得到的。
上述光稳定剂的产品在高分子聚合材料中的应用。
本发明通过水下模面切粒方式制备聚合型光稳定剂规则颗粒，本发明取得了如下积极效果：
(1)该工艺解决传统钢带造粒成本高，传统的拉条造粒容易发生断条，切粒容易破碎等问题；物理破碎有粉末，粒子不规整等问题。
(2)采用该工艺所制备粒子规整，大小均一，无粉尘，无环境污染，设备投资小。
(3)该造粒方法稳定可靠，适合连续化工业生产。
具体实施方式
以下结合具体实施方式详述本发明，但需说明的是，本发明的保护范围不受这些具体实施方式和原理性解释的限制，而是由权利要求书来确定。
本发明中，除了明确说明的内容之外，未提到的任何事宜或事项均直接适用本领域已知的那些而无需进行任何改变。而且，本文描述的任何实施方式均可以与本文描述的一种或多种其他实施方式自由结合，由此形成的技术方案或技术思想均视为本发明原始公开或原始记载的一部分，而不应被视为是本文未曾披露或预期过的新内容，除非本领域技术人员认为该结合明显不合理。
本发明所公开的所有特征可以任意组合，这些组合应被理解为本发明所公开或记载的内容，除非本领域技术人员认为该组合明显不合理。
本说明书所公开的数值点，不仅包括实施例中具体公开的数值点，还包括说明书中各数值范围的端点，这些数值点所任意组合的范围都应被视为本发明已公开或记载的范围。
本发明中的技术和科学术语，给出定义的以其定义为准，未给出定义的则按本领域的通常含义理解。
本发明涉及到的原料和试剂均可市购获得，或者采用本领域常规技术手段制备而成，或者依据文献披露信息制备而成。
本发明的第一个目的是提供一种受阻胺类光稳定剂的造粒方法，该方法使用水下模面切粒系统对受阻胺类光稳定剂进行造粒，制得光稳定剂粒子。
本方法中，光稳定剂的分子量为1000-5000。研究发现，光稳定剂分子量小于1000时，因分子间作用力弱，物料太稀会导致无法切粒或制得的粒子形状不规整；本方法可能也适合于分子量大于5000的受阻胺类光稳定剂，因现有技术中没有大于5000的受阻胺类光稳定剂，没有实例验证。
较佳地，所述光稳定剂分子量在2000-4000，或2000-3000，或3000-4000，或2000-3500，或2500-4500。
在具体实施的方式中，所述光稳定剂可以是一种，也可以是多种的混合。
本发明所述受阻胺类光稳定剂选自丁胺哌啶光稳定剂、己二胺哌啶光稳定剂、酯连接哌啶光稳定剂中的至少一种。
优选地，本发明所述受阻胺类光稳定剂选自具有式I所示结构：
Figure BDA0002376553000000061
式I中，R1选自H、C1-20的烷基、-O-C1-20烷基或环烷基、C6-20芳基或烷基芳基；R2、R3、R2'、R3'各自独立地选自C1-10的烷基或者R2和R3以及R2'和R3'分别形成C5-10的环烷基；R4、R5各自独立地选自C1-20直链或支链烷基、哌啶基或烷基取代的哌啶基、环己基、吡咯烷基、或R4和R5形成环烷基或含氧环烷基；n选自1-5的任意整数。
或者，所述受阻胺类光稳定剂具有式II所示结构：
Figure BDA0002376553000000071
式II中，R1、R2、R3、R2'、R3'的定义同式I中的定义。
或者，所述受阻胺类光稳定剂具有式III所示结构：
Figure BDA0002376553000000072
式III中，R2、R3、R2'、R3'的定义同式I中的定义；n选自1-5的任意整数；E选自-O-C1-10亚烷基-、-C1-10亚烷基-C(＝O)-O-C1-10亚烷基-、-C1-10亚烷基-O-C(＝O)-C1-10亚烷基-；
本发明中烷基包括直链烷基、含支链烷基以及环烷基，例如可以列举出：甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、异戊基、仲戊基、叔戊基、己基、环己烷基、庚基、辛基、异辛基、特辛基、叔辛基、2-乙基己基、叔辛基、壬基、异壬基、癸基、异癸基。芳基或烷基芳基例如可以列举出：2-乙基己氧基、苯基、甲苯基、枯基、叔丁基苯基、2,4-二叔丁苯基、2-甲基-4-叔丁基苯基等。但是，本发明不受这些取代基的限制。
所述丁胺哌啶光稳定剂，例如可以列举出：1,5,8,12-四[2,4-双(N-丁基-N-1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基氨基)-1,3,5-三嗪-6-基]-1,5,8,12-四氮杂十二烷(光稳定剂119)，N,N”-1,2-二亚甲基-1,3-丙二胺聚合物与2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪与N-丁基-2,2,6,6-四甲基-4-铵的反应物(光稳定剂HA-88)，N,N'-双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,6-己二胺与2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪和N-丁基-1-丁胺和N-丁基-2,2,6,6-四甲基-4-哌啶胺的反应产物的聚合物(光稳定剂2020)。
所述己二胺光稳定剂，例如可以列举出：聚-{[6-[(1,1,3,3-四甲基丁基)-亚氨基]-1,3,5-三嗪-2，4-二基][2-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氮基]-亚已基-[4-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氨基]}(光稳定剂944)、N,N'-双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,6-己二胺同吗啉-2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪的甲基化聚合物(光稳定剂3529)、聚[(6-吗啉基-1,3,5-三嗪-2,4-基)-((2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亚氨)己烷-((2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亚氨)](光稳定剂3346)。
所述酯连接光稳定剂，例如可以列举出：聚[1-(2'-羟乙基)-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶丁二酸酯](光稳定剂622)；
或以上光稳定剂的混合：1,5,8,12-四[2,4-双(N-丁基-N-1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基氨基)-1,3,5-三嗪-6-基]-1,5,8,12-四氮杂十二烷与聚[1-(2'-羟乙基)-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶丁二酸酯]混合物(光稳定剂111，即光稳定剂119与光稳定剂622的1:1复配)；聚-{[6-[(1，1,3,3-四甲基丁基)-亚氨基]-1,3,5-三嗪-2，4-二基][2-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氮基]-亚已基-[4-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氨基]}与聚[1-(2'-羟乙基)-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶丁二酸酯]的混合物(光稳定剂783，即光稳定剂944与光稳定剂622的1:1复配)。
一些受阻胺类光稳定剂的结构式如下：
Figure BDA0002376553000000091
所述受阻胺类光稳定剂包括非聚合型的光稳定剂，如光稳定剂119；以及聚合型的光稳定剂，如光稳定剂622、光稳定剂944。
将水下模面切粒系统应用于光稳定剂造粒是本发明的亮点，因为在高分子材料行业，水下模面切粒系统基本都是用于聚合高分子材料的，这类材料的特点是分子量高、粘度大或弹性大、质软，不易切断，如TPU、TPE、PE、PPR等；而光稳定剂在造粒工艺的难点是其分子量相对较小，分子间作用力弱，拉条不易成型，切粒容易破碎；因此，将水下模面切粒系统用于光稳定剂造粒是创造性的工艺。
本发明中，所述水下模面切粒系统包括模头、水下切刀、水循环系统、离心干燥系统，水下模面切粒设备可通过商购获得。
本发明的水下模面切粒的过程为：高压熔融的物料通过热的模头流入到已被加热的模板后，在模板和高速旋转的切刀作用下被切成滴状物，此时的料粒尚未完全凝固，被抛入水循环系统的料粒进行初步淬冷，由于粒子比表面积最大化的物理特性、以及融化的滴状聚合物与工艺水存在温度差使得滴状物凝固并形成接近球状的颗粒，然后颗粒由循环工艺水输送到下游的水分离器和离心干燥机进行脱水、干燥得到低熔点助剂母粒。工艺水经冷却器冷却后返回至切粒装置循环使用。
所述水下模面切粒系统模头温度对于光稳定剂的成型至关重要，模头温度过高物料容易变稀，切粒粒子形状不规整，温度过低又容易导致模头的堵孔。由于受阻胺类光稳定剂的熔程较长，本发明经大量研究发现，控制水下模面切粒系统模头温度在高于光稳定剂熔点峰值30-90℃效果较佳，更优选地，水下模面切粒系统模头温度在高于光稳定剂熔点峰值40-60℃之间。本发明所述的“熔点峰值”指的是熔程的最大值。
所述水下模面切粒系统的切刀转速直接决定造粒的粒径大小，为保证工业上的方便使用，优选的制备的粒子粒径在1-5mm；切刀转速为1000-5000rpm；在具体的实施方式中，需要获取粒径为2.5-5mm的大颗粒时，切刀转速优选为1000-3000rpm；需要获取粒径为1-2.5mm的小颗粒时，切刀转速优选为3000-5000rpm。研究发现，在切粒过程中，水温过高，物料粘度大，会产生粘刀现象，水温过低，会造成模头堵塞，本发明经研究发现，控制水循环系统的水温为10-50℃，优选30～40℃效果最好。
本发明的光稳定制粒方法中，具体为将具有一定压力的熔融态受阻胺类光稳定剂输送进入水下模面切粒系统造粒，即得。所述一定压力指的是水下模面切粒系统进口处的物料压力，压力过小，可能会造成物料固化，容易堵塞出料口，制得的粒子大小不均；压力过大，对水下模面切粒系统要求较高，可能造成粒子形状不规整。为保证粒子的均匀性，发明人经研究发现，控制压力0.5-1.0MPa为宜。
所述熔融状态的光稳定剂，可以是制备光稳定剂反应结束后得到的反应液，也可以是将受阻胺类光稳定剂成品加热熔融所得的液体。
本发明一种优选的实施方式中，所述造粒方法包括将受阻胺类光稳定剂熔融建压的步骤，在熔融建压步骤中控制光稳定剂为熔融状态，经熔融建压后的物料满足水下模面切粒所需要的压力(即水下模面切粒系统的进口处的物料需具有的压力为0.5-1.0MPa)，则熔融建压设备可与水下模面切粒系统直接连接，光稳定剂熔融建压完成后直接制粒。熔融建压步骤可通过混合器或挤出机或熔体泵或反应釜等设备实现，熔融建压设备可通过商购获得。在本发明的优选实施例中，采用单腔式混合器实现熔融建压。
本发明另一优选实施方式中，还包括在上述熔融减压后对熔融态物质进行稳压的步骤。当熔融建压步骤完成后，熔融体的压力达不到切粒所需要的压力或压力不稳时，可使用例如熔体泵等稳压设备对熔融体稳压来满足水下模面切粒所需要的压力。
本发明的第二个目的是提供一种受阻胺类光稳定剂的产品，该产品是通过上述方法制备得到的。
本发明受阻胺类光稳定剂粒子的粒径在1-5mm，符合添加到下游高分子聚合产品的需求。
本发明的第三个目的是提供上述受阻胺类光稳定剂在高分子聚合材料中的应用。优选地在固体高分子聚合材料中的应用。
优选地，上述光稳定剂在高分子聚合材料中的添加量为0.1％～5％。
以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。实施例中涉及的操作如无特殊说明，均为本领域常规技术操作；
在以下实施例中，光稳定剂来源为制备光稳定剂的反应熔融液，反应釜连接混合器，混合器直接与水下模面切粒系统连接，或通过熔体泵与水下模面切粒系统连接，实施例以光稳定剂622和光稳定剂944为例进行说明。
1.光稳定剂622
化学名：聚丁二酸(4-羟基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶乙醇)酯
分子量：3100-4000
熔点：50-70℃，常温下为固体粉末
2.光稳定剂944
化学名：聚-{[6-[(1,1,3,3-四甲基丁基)-亚氨基]-1,3,5-三嗪-2,4-二基][2-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氮基]-亚已基-[4-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氨基]}
分子量：2000-3100
熔点：100-135℃，常温下为固体粉末
实施例1光稳定剂622的造粒
(1)熔融建压：光稳定剂622的制备反应完成后，将反应熔融液输送到混合器，控制混合器中的熔融体出口熔融体的压力为0.2-0.4Mpa；
(2)熔体泵稳压：通过熔体泵对混合器中的光稳定剂稳压，控制熔体泵出口处熔融体的压力为0.6-0.8Mpa；
(3)水下切粒：调节水循环系统的水温35℃，调节水下切粒的模头温度130℃、切刀的转速4100rpm进行切粒。切粒后200rpm离心干燥，得到光稳定剂622粒子。
实施例2光稳定剂622的造粒
(1)熔融建压：光稳定剂622的制备反应完成后，将反应熔融液输送到混合器，控制混合器中的熔融体出口熔融体的压力为0.7-0.9Mpa；
(2)水下切粒：调节水循环系统的水温32℃，调节水下切粒的模头温度110℃、切刀的转速2000rpm进行切粒。切粒后300rpm离心干燥，得到光稳定剂622粒子。
实施例3光稳定剂622的造粒
(1)熔融建压：光稳定剂622的制备反应完成后，将反应熔融液输送到混合器，控制混合器中的熔融体出口熔融体的压力为0.6-0.8Mpa；
(2)水下切粒：调节水循环系统的水温37℃，调节水下切粒的模头温度120℃、切刀的转速4000rpm进行切粒。切粒后250rpm离心干燥，得到光稳定剂622粒子。
对比例1光稳定剂622的造粒
同实施例1，不同之处为步骤(2)的熔融体稳压，控制熔体泵出口处熔融体的压力为0.35-0.45MPa。
对比例2光稳定剂622的造粒
同实施例2，不同之处为步骤(1)控制混合器中的熔融体出口熔融体的压力为0.2-0.4Mpa。
观测制得的光稳定剂粒子的外形，并对粒径进行筛分，通过两层过滤网设置，剔除过大或过小的产品，符合粒径筛选的产品与所有产品的重量比即成品率。光稳定剂622粒子的检测结果数据如表1。
表1.光稳定剂622粒子检测结果
Figure BDA0002376553000000131
Figure BDA0002376553000000141
实施例4光稳定剂944的造粒
(1)熔融建压：光稳定剂944的制备反应完成后，将反应熔融液输送到混合器，控制混合器中的熔融体出口熔融体的压力为0.2-0.4Mpa；
(2)熔体泵稳压：通过熔体泵对混合器中的光稳定剂稳压，控制熔体泵出口处熔融体的压力为0.6-0.8Mpa；
(3)水下切粒：调节水循环系统的水温36℃，调节水下切粒的模头温度180℃、切刀的转速4100rpm进行切粒。切粒后200rpm离心干燥，得到光稳定剂944粒子。
实施例5光稳定剂944的造粒
(1)熔融建压：光稳定剂944的制备反应完成后，将反应熔融液输送到混合器，控制混合器中的熔融体出口熔融体的压力为0.7-0.9Mpa；
(2)水下切粒：调节水循环系统的水温32℃，调节水下切粒的模头温度185℃、切刀的转速2100rpm进行切粒。切粒后300rpm离心干燥，得到光稳定剂944粒子。
实施例6光稳定剂944的造粒
(1)熔融建压：光稳定剂944的制备反应完成后，将反应熔融液输送到混合器，控制混合器中的熔融体出口熔融体的压力为0.6-0.8Mpa；
(2)水下切粒：调节水循环系统的水温37℃，调节水下切粒的模头温度190℃、切刀的转速4000rpm进行切粒。切粒后250rpm离心干燥，得到光稳定剂944粒子。
对比例3光稳定剂944的造粒
同实施例4，同之处为步骤(2)的熔融体稳压，控制熔体泵出口处熔融体的压力为0.35-0.45MPa。
对比例4光稳定剂944的造粒
同实施例5，不同之处为步骤(1)控制混合器中的熔融体出口熔融体的压力为0.2-0.4Mpa。
观测制得的光稳定剂粒子的外形，并对粒径进行筛分，通过两层过滤网设置，剔除过大或过小的产品，符合粒径筛选的产品与所有产品的重量比即成品率。光稳定剂944粒子的检测结果数据如表2。
表2.光稳定剂944粒子检测结果
项目 实施例4 实施例5 实施例6 对比例3 对比例4
粒子外形 粒子规整 粒子规整 粒子规整 粒子不规整 粒子不规整
粒径范围 1-2.5mm 2.5-5.0mm 1-2.5mm 1-2.5mm 2.5-5.0mm
成品率 96.5％ 97.0％ 95.3％ 57.5％ 59.8％
虽然，上文中已经用一般性说明、具体实施方式及试验，对本发明作了详尽的描述，但在本发明基础上，可以对之作一些修改或改进，这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此，在不偏离本发明精神的基础上所做的这些修改或改进，均属于本发明要求保护的范围。

Claims (7)

1.一种受阻胺类光稳定剂的造粒方法，其特征在于：使用水下模面切粒系统对受阻胺类光稳定剂进行造粒，制得光稳定剂粒子所述受阻胺类光稳定剂的分子量为1000-5000；
所述造粒方法为将具有一定压力的熔融态受阻胺类光稳定剂输送进入水下模面切粒系统造粒，即得；
所述一定压力指的是水下模面切粒系统进口处的物料压力，该压力为0.5-1.0MPa。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述受阻胺类光稳定剂的分子量为2000-4000。
3.根据权利要求1-2任一项所述的方法，其特征在于：所述受阻胺类光稳定剂包括但不局限于丁胺哌啶光稳定剂、己二胺哌啶光稳定剂、酯连接哌啶光稳定剂中的至少一种。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：所述受阻胺类光稳定剂具有式I所示结构：
Figure FDA0003579612380000011
式I中，R1选自H、C1-20的烷基、-O-C1-20烷基或环烷基、C6-20芳基或烷基芳基；R2、R3、R2'、R3'各自独立地选自C1-10的烷基或者R2和R3以及R2'和R3'分别形成C5-10的环烷基；R4、R5各自独立地选自C1-20直链或支链烷基、哌啶基或烷基取代的哌啶基、环己基、吡咯烷基、或R4和R5形成环烷基或含氧环烷基；n选自1-5的任意整数；
或者，所述受阻胺类光稳定剂具有式II所示结构：
Figure FDA0003579612380000021
式II中，R1、R2、R3、R2'、R3'的定义同式I中的定义；
或者，所述受阻胺类光稳定剂具有式III所示结构：
Figure FDA0003579612380000022
式III中，R2、R3、R2'、R3'的定义同式I中的定义；n选自1-5的任意整数；E选自-O-C1-10亚烷基-、-C1-10亚烷基-C(＝O)-O-C1-10亚烷基-、-C1-10亚烷基-O-C(＝O)-C1-10亚烷基-。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：所述具有丁胺哌啶结构的光稳定剂选自1,5,8,12-四[2,4-双(N-丁基-N-1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基氨基)-1,3,5-三嗪-6-基]-1,5,8,12-四氮杂十二烷、N,N”-1,2-二亚甲基-1,3-丙二胺聚合物与2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪与N-丁基-2,2,6,6-四甲基-4-铵的反应物、N,N'-双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,6-己二胺与2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪和N-丁基-1-丁胺和N-丁基-2,2,6,6-四甲基-4-哌啶胺的反应产物的聚合物中的至少一种；
所述具有己二胺哌啶结构的受阻胺类光稳定剂选自聚-{[6-[(1，1，3，3-四甲基丁基)-亚氨基]-1,3,5-三嗪-2，4-二基][2-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氮基]-亚已基-[4-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氨基]}、N,N'-双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,6-己二胺同吗啉-2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪的甲基化聚合物、聚[(6-吗啉基-1,3,5-三嗪-2,4-基)-((2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亚氨)己烷-((2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亚氨)]中的至少一种；
所述具有酯连接哌啶结构的受阻胺类光稳定剂选自聚[1-(2'-羟乙基)-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶丁二酸酯]；
或者，所述受阻胺类光稳定剂为1,5,8,12-四[2,4-双(N-丁基-N-1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基氨基)-1,3,5-三嗪-6-基]-1,5,8,12-四氮杂十二烷与聚[1-(2'-羟乙基)-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶丁二酸酯]的混合物，或者聚-{[6-[(1，1,3,3-四甲基丁基)-亚氨基]-1,3,5-三嗪-2，4-二基][2-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氮基]-亚已基-[4-(2,2,6,6-四甲基哌啶基)-氨基]}与聚[1-(2'-羟乙基)-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶丁二酸酯]的混合物。
6.根据权利要求1、2、4、5任一项所述的方法，其特征在于：控制水下模面切粒系统的模头温度高于光稳定剂熔点峰值30-90℃。
7.一种受阻胺类光稳定剂，其特征在于：该光稳定剂是通过权利要求1～6任一项所述的方法制备得到的。
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