CN111251167B - 抛光装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及抛光技术领域，具体涉及一种抛光装置，包括：支架内设有容纳腔；吸附装置设在容纳腔内，适于吸附待抛光产品；若干组彼此并排设置的滚刷结构设于吸附装置的上方，并可转动地连接在支架上，适于对吸附装置上的待抛光产品进行抛光；第一驱动装置固定连接在支架上，适于驱动滚刷结构相对支架转动。通过在支架内部设置容纳腔，吸附装置设于容纳腔内，且在吸附装置的上方设置若干组彼此并排设置的滚刷结构，滚刷结构相对设于待抛光产品进行转动，对待抛光产品进行摩擦抛光，与现有技术中的抛光装置相比，无需设置结构较复杂的承载头，而是直接将待抛光产品吸附在吸附装置上，上方设置转动的滚刷结构对待抛光产品进行摩擦抛光，结构较简单。

Description

抛光装置

技术领域

本发明涉及抛光技术领域，具体涉及一种抛光装置。

背景技术

集成电路制造工艺过程通常是指将导体、半导体、绝缘层以一定的工艺顺序沉积在特定的基板(如硅基晶圆)上。在制造工艺过程中，CMP(Chemical MechanicalPolishing，化学机械抛光)装置主要用于对晶圆在膜沉积工艺后的微观粗糙表面进行全局平坦化处理,以便进行后续的半导体工艺过程。

现阶段的化学机械抛光装置，是通过负压吸附的方式将晶圆的一个面固定在承载头上，并通过工位旋转使另外一个面(即工艺面)在工艺过程中与抛光盘上的抛光垫相接触。通过下部抛光盘与上部承载头的相互旋转，晶圆工艺面与抛光垫摩擦，此时通过对晶圆承载头上的柔性膜内腔进行正压充气，使得晶圆工艺面与抛光垫以一定的压力相贴合，使晶圆与抛光垫在相互旋转摩擦下达到工艺面抛光的目的。

但是该结构的抛光装置上部的承载头为了对晶圆更好的施压，通常在承载头上设计多个腔室，各腔室之间还要设计密封，这样使得承载头的内部结构非常复杂，进而使得抛光装置的结构较复杂。

发明内容

因此，本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中的抛光装置结构较复杂，从而提供一种结构相对简单的抛光装置。

一种抛光装置，包括：

支架，所述支架内部设置有容纳腔；

吸附装置，设置在所述容纳腔内，适于吸附待抛光产品；

若干组彼此并排设置的滚刷结构，设于所述吸附装置的上方，并可转动地连接在所述支架上，适于对所述吸附装置上的所述待抛光产品进行抛光；

第一驱动装置，固定连接在所述支架上，并与所述滚刷结构连接，适于驱动所述滚刷结构相对所述支架转动。

所述滚刷结构包括：

滚刷杆，与所述第一驱动装置固定连接；

滚刷，套设于所述滚刷杆的外侧，所述滚刷的外表面适于与所述待抛光产品接触。

所述滚刷杆的内部设有中空通道，所述滚刷杆与所述滚刷对应的外表面上设有与所述中空通道连通的喷液孔；

所述滚刷杆的一端与所述第一驱动装置固定连接，另一端通过所述中空通道适于与液体源连接。

所述滚刷杆的一端与所述第一驱动装置卡接。

所述滚刷为柔性的亲水材质。

所述滚刷的外表面上设有多个凸起结构。

所述第一驱动装置为电机。

所述支架包括：

支架本体；

至少一个安装架，设于所述滚刷结构的至少一端，所述安装架与所述支架本体围成所述容纳腔；所述安装架的一端与所述滚刷结构连接，另一端可转动地连接在所述支架本体上，并带动所述滚刷结构在高度方向发生靠近或远离所述待抛光产品的运动。

两个所述安装架分别设置在每个所述滚刷结构的两端，所述滚刷结构为两组。

所述抛光装置还包括：

至少一个滚刷摆动装置，固定连接在所述支架本体上，并连接在所述安装架的至少一端，适于带动所述安装架相对所述支架本体进行转动。

所述滚刷摆动装置包括：

第一动力装置；

谐波减速器，输入端与所述第一动力装置相连接，所述谐波减速器包括输出轴；

摆臂结构，一端与所述输出轴连接，另一端与所述安装架连接，适于在所述第一动力装置的驱动下带动所述安装架在高度方向发生靠近或远离待抛光产品的运动。

所述滚刷摆动装置还包括：

连接装置，一端与所述输出轴连接，另一端间隔设有两个支杆，所述支杆与所述摆臂结构一一固定连接，且两个所述摆臂结构的摆动方向相反。

所述滚刷摆动装置为一个，且每个所述滚刷结构两侧的所述安装架通过连杆固定连接。

所述吸附装置包括：

吸附台，所述吸附台为中空结构，所述吸附台的上表面设有多个与所述中空结构连通的吸附孔，所述中空结构适于与真空源连接。

所述吸附装置还包括：

第二动力装置；

传动机构，与所述第二动力装置连接，并与所述吸附台的下表面连接，适于在所述第二动力装置的带动下，带动所述吸附台转动。

所述抛光装置还包括：

药液喷淋装置，设于所述滚刷结构的上方，适于向所述待抛光产品喷淋药液。

所述药液喷淋装置包括：

喷淋管，适于与药液分配装置连接；

多个喷淋结构，间隔设于所述喷淋管上，所述喷淋结构的喷口朝向所述吸附装置设置，适于向所述待抛光产品喷淋药液。

所述药液喷淋装置还包括超声装置，设于所述喷淋管的入口端。

所述抛光装置还包括：

第二驱动装置，与所述支架连接，适于驱动所述支架作升降运动，进而带动所述滚刷结构相对所述吸附装置作升降运动。

本发明技术方案，具有如下优点：

1.本发明提供的抛光装置，通过在支架内部设置容纳腔，吸附装置设于容纳腔内，且在吸附装置的上方设置若干组彼此并排设置的滚刷结构，第一驱动装置驱动滚刷结构相对支架转动，使得滚刷结构相对设于吸附装置上的待抛光产品进行转动，对待抛光产品进行摩擦抛光，与现有技术中的抛光装置相比，无需设置结构较复杂的承载头，而是采用了一种新型的结构设置，直接将待抛光产品吸附在吸附装置上，然后在上方设置转动的滚刷结构对待抛光产品进行摩擦抛光，结构较简单。

2.本发明提供的抛光装置，通过在滚刷杆的内部设置中空通道，滚刷杆与所述滚刷对应的外表面上设有与所述中空通道连通的喷液孔，中空通道适于与液体源连接，使得使用时，液体源能够向滚刷杆持续地供给液体，使得滚刷能够保持自然膨化状态，使得滚刷与待抛光产品的接触效果更好，进而提高抛光效率。

3.本发明提供的抛光装置，通过将滚刷杆与第一驱动装置卡接，使得滚刷杆与第一驱动装置的拆装维护均较方便。

4.本发明提供的抛光装置，通过将滚刷设置为柔性的亲水材质，使得滚刷杆内填充液体时，滚刷的亲水性较好，提高了待抛光产品的湿润度，进而提高抛光效果。

5.本发明提供的抛光装置，通过在滚刷的外表面上设有多个凸起结构，能够避免滚刷与待抛光产品表面呈线性接触，存在抛光盲区，提高摩擦抛光效果。

6.本发明提供的抛光装置，通过将支架设置为包括支架本体和安装架，且安装架相对支架本体可转动地连接，由于安装架的另一端与滚刷结构连接，使得安装架能够带着滚刷结构一同相对支架本体转动，进而带动滚刷结构作靠近或远离待抛光产品的运动，使得待抛光产品的不同位置接触滚刷结构的作用力不同，摩擦力不同。

7.本发明提供的抛光装置，通过将滚刷结构设置为两组，使得每个滚刷结构的体积较小，整体滚刷结构与待抛光产品的接触面积更大，同时，由于在每个滚刷结构的两端均设置安装架，使得滚刷结构的运动更加平稳，提高了抛光效果。

8.本发明提供的抛光装置，通过设置滚刷摆动装置带动安装架相对支架本体转动，使得滚刷结构能够自动在高度方向发生靠近或远离待抛光产品的运动，提高了装置的自动化。

9.本发明提供的抛光装置，通过将滚刷摆动装置设置为还包括连接装置，使得一个连接装置能够连接两个摆臂结构，使得装置的整体结构较简单，成本较低。

10.本发明提供的抛光装置，通过将每个滚刷结构两侧的安装架通过连杆固定连接，使得设置一个滚刷摆动装置即可带动滚刷结构两侧的安装架同时运动，在使得滚刷结构运动平稳的同时能够减少装置的部件设置，结构简单。

11.本发明提供的抛光装置，通过将吸附装置设置为包括第二动力装置和传动装置，使得吸附装置也能够发生转动，进而在对待抛光产品抛光时，待抛光产品的下表面能够被吸附的同时发生转动，待抛光产品上方的滚刷结构也能够发生转动，使得抛光效果更好。

12.本发明提供的抛光装置，通过在滚刷结构的上方设置药液喷淋装置，使得待抛光产品在抛光的同时能够向其喷淋药液，增强了抛光效果。

13.本发明提供的抛光装置，通过在喷淋管的入口端设置超声装置，使得由药液分配装置输送的药液能够先经过超声雾化，再从喷淋结构喷出，提高了药液的雾化效果，使得待抛光产品处于化学气雾中，提高了抛光效果。

14.本发明提供的抛光装置，通过设置第二驱动装置，能够驱动支架作升降运动，使得在支架向上运动时，便于更换待抛光产品，在支架向下运动时，能够增加滚刷结构与待抛光产品的贴合度，增强抛光效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的抛光装置的结构示意图；

图2为滚刷结构的结构示意图；

图3为滚刷结构的滚刷杆的结构示意图；

图4为滚刷摆动装置的部分结构示意图；

图5为吸附装置的结构示意图；

图6为药液喷淋装置的部分结构示意图；

图7为第二驱动装置的结构示意图。

附图标记说明：

1-支架；2-吸附装置；3-滚刷结构；4-第一驱动装置；5-滚刷杆；6-滚刷；7-喷液孔；8-凸起结构；9-支架本体；10-安装架；11-第一动力装置；12-谐波减速器；13-摆臂结构；14-连接装置；15-吸附台；16-第二动力装置；17-药液喷淋装置；18-喷淋管；19-喷淋结构；20-第二驱动装置；21-连杆；22-铰接点；23-连接法兰；24-旋转接头。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

如图1-图7所示，本实施例中提供了一种抛光装置，包括：支架1、吸附装置2、滚刷结构3和第一驱动装置4。

支架1内部设置有容纳腔；吸附装置2设置在容纳腔内，适于吸附待抛光产品；若干组彼此并排设置的滚刷结构3设于吸附装置2的上方，并可转动地连接在支架1上，适于对吸附装置2上的待抛光产品进行抛光；第一驱动装置4固定连接在支架1上，并与滚刷结构3连接，适于驱动滚刷结构3相对支架1转动。

本实施例中的抛光装置以对晶圆的抛光为例进行具体阐述，通过在支架1内部设置容纳腔，吸附装置2设于容纳腔内，且在吸附装置2的上方设置若干组彼此并排设置的滚刷结构3，第一驱动装置4驱动滚刷结构3相对支架1转动，使得滚刷结构3相对设于吸附装置2上的晶圆进行转动，对晶圆进行摩擦抛光，与现有技术中的抛光装置相比，无需设置结构较复杂的承载头，而是采用了一种新型的结构设置，直接将晶圆吸附在吸附装置2上，然后在上方设置转动的滚刷结构3对晶圆进行摩擦抛光，结构较简单。作为可变换的实施方式，也可以是，抛光装置用于对其他晶圆进行摩擦抛光。

如图2所示，本实施例中的滚刷结构3包括：滚刷杆5，与第一驱动装置4固定连接；滚刷6，套设于滚刷杆5的外侧，滚刷6的外表面适于与晶圆接触。其中，滚刷杆5的内部设有中空通道，滚刷杆5与滚刷6对应的外表面上设有与中空通道连通的喷液孔7；滚刷杆5的一端与第一驱动装置4固定连接，另一端通过中空通道连接水管适于与液体源连接，使用时，液体可以只是清水，也可以是其他液体或者各种混合液。通过在滚刷杆5的内部设置中空通道，滚刷杆5与滚刷6对应的外表面上设有与中空通道连通的喷液孔7，中空通道适于与液体源连接，使得使用时，液体源能够向滚刷杆5持续地供给液体，使得滚刷6能够保持自然膨化状态，使得滚刷6与晶圆的接触效果更好，进而提高抛光效率。作为可变换的实施方式，也可以是，滚刷杆5不与液体源连接。

滚刷6采用胶质亲水性的材质，如主要材料为PVA(聚乙烯醇)的高分子聚合物，这样使得滚刷杆5内填充液体时，滚刷6的亲水性较好，提高了晶圆的湿润度，进而提高抛光效果。同时，在滚刷6的外表面上还设有多个凸起结构8，能够避免滚刷6与晶圆表面呈线性接触，存在抛光盲区，提高摩擦抛光效果，具体地，凸起结构8自身可以是圆柱体、立方体，其可以是规则形状，也可以是非规则形状。作为可变换的实施方式，也可以是，滚刷6采用其他的柔性材质，或者是非柔性的亲水性材质。作为可变换的实施方式，也可以是，滚刷6的外表面不设置凸起结构8。

本实施例中的第一驱动装置4为电机，为了便于装配滚刷杆5和电机，可以在滚刷杆5的端部设置凸部，电机的输出轴上设置与凸部配合的凹部，将二者卡接在一起实现滚刷杆5与电机的固定连接。作为可变换的实施方式，也可以是，滚刷杆5和电机采用螺钉连接，或者是其他的固定连接方式。

为了增强抛光效果，本实施例中的滚刷结构3除了可以进行旋转运动外，还能在高度方向上发生靠近或远离晶圆的运动，具体是如图1所示，通过设置两组滚刷结构3，并将支架1设置为包括支架本体9和四个安装架10，每两个安装架10分别设置在每个滚刷结构3的两端，安装架10与支架本体9围成容纳腔；安装架10的一端与滚刷结构3连接，另一端可转动地连接在支架本体9上，并带动滚刷结构3在高度方向发生靠近或远离晶圆的运动。通过将支架1设置为包括支架本体9和安装架10，且安装架10相对支架本体9可转动地连接，由于安装架10的另一端与滚刷结构3连接，使得安装架10能够带着滚刷结构3一同相对支架本体9转动，进而带动滚刷结构3作靠近或远离晶圆的运动，使得晶圆的不同位置接触滚刷结构3的作用力不同，摩擦力不同；通过将滚刷结构3设置为两组，使得每个滚刷结构3的体积较小，整体滚刷结构3与晶圆的接触面积更大，同时，由于在每个滚刷结构3的两端均设置安装架10，使得滚刷结构3的运动更加平稳，提高了抛光效果。作为可变换的实施方式，也可以是，滚刷结构3设置一个，安装架10设置一个，设于滚刷结构3的一端；或者是，滚刷结构3设置一个，安装架10设置两个，分别设于滚刷结构3的两端；或者是，滚刷结构3设置两个，每个滚刷结构3仅一端设置一个安装架10。

为了使得安装架10能够带动滚刷结构3自动进行靠近或远离晶圆的运动，本实施例中的抛光装置还包括一个滚刷摆动装置，固定连接在滚刷结构3一端的支架本体9上，适于带动安装架10相对支架本体9进行转动，且每个滚刷结构3两侧的安装架10通过连杆21固定连接。通过将每个滚刷结构3两侧的安装架10通过连杆21固定连接，使得设置一个滚刷摆动装置即可带动滚刷结构3两侧的安装架10同时运动，在使得滚刷结构3运动平稳的同时能够减少装置的部件设置，结构简单。作为可变换的实施方式，也可以是，不设置滚刷摆动装置，通过手动的方式驱动安装架10进行转动；或者是设置两个滚刷摆动装置，分别设于滚刷结构3的两端。

具体地，如图4所示，本实施例中的滚刷摆动装置包括第一动力装置11，其中，第一动力装置11可为电机配合减速器的组合结构，当然也可以是单独的电机结构；谐波减速器12，输入端与电机通过皮带相连接，谐波减速器12包括输出轴；摆臂结构13的一端与输出轴连接，另一端与安装架10连接，适于在第一动力装置11的驱动下带动安装架10在高度方向发生靠近或远离晶圆的运动；连接装置14，一端与输出轴连接，另一端间隔设有两个支杆，支杆与摆臂结构13一一固定连接，且其中一个支杆连接在一个摆臂结构13的上端，另一个支杆连接另一个摆臂结构13的下端，使得两个摆臂结构13的摆动方向相反。通过将滚刷摆动装置设置为还包括连接装置14，使得一个连接装置14能够连接两个摆臂结构13，使得装置的整体结构较简单，成本较低。作为可变换的实施方式，也可以是，不设置连接装置14，而是通过齿轮箱实现两个摆臂结构13的摆动方向相反的动作。

如图7所示，本实施例中的抛光装置还包括：第二驱动装置20，与支架1连接，适于驱动支架1作升降运动，进而带动滚刷结构3相对吸附装置2作升降运动。通过设置第二驱动装置20，能够驱动支架1作升降运动，使得在支架1向上运动时，便于更换晶圆，在支架1向下运动时，能够增加滚刷结构3与晶圆的贴合度，增强抛光效果。同时，第二驱动装置20可以实现对支架1在竖直方向位置的粗调，使得滚刷6靠近或远离圆晶，同时通过滚刷摆动装置，可以对滚刷6相对晶圆之间的位置进行精细调整，通过第二驱动装置20与滚刷摆动装置之间的组合，可以确保滚刷6准确作用在晶圆表面，对晶圆进行清洗操作。

具体地，本实施例中的第二驱动装置20为气缸，可以配合滑轨实现支架1的整体升降运动。为了检测滚刷6与晶圆工艺面的贴合程度，还可以安装张力传感器，以便实时控制滚刷结构3与晶圆的贴合值。作为可变换的实施方式，也可以是，第二驱动装置20为电机配合齿轮齿条，或者是线性电机。

如图5所示，本实施例中的吸附装置2包括：吸附台15，吸附台15为中空结构，吸附台15的上表面设有多个与中空结构连通的吸附孔，中空结构适于与真空源连接；第二动力装置16，其中第二动力装置16为电机；传动机构为带轮，一端通过皮带与电机连接，另一端通过连接法兰23固定连接在与吸附台15的下表面，适于在电机的带动下，带动吸附台15转动。通过将吸附装置2设置为包括第二动力装置16和传动装置，使得吸附装置2也能够发生转动，进而在对晶圆抛光时，晶圆的下表面能够被吸附的同时发生转动，晶圆上方的滚刷结构3也能够发生转动，使得抛光效果更好。

为了便于对吸附台15的吸附力进行检测，吸附孔还连接有压力传感器，为了防止吸附台15旋转过程中，内部线路跟着旋转，造成安全隐患，本实施例中的带轮安装在旋转接头24上，且内部的线路可通过旋转接头24向外引出。

如图1所示，本实施例中的抛光装置还包括：药液喷淋装置17，设于滚刷结构3的上方，适于向晶圆喷淋药液。通过在滚刷结构3的上方设置药液喷淋装置17，使得晶圆在抛光的同时能够向其喷淋药液，增强了抛光效果。

具体地，如图6所示，本实施例中的药液喷淋装置17包括：喷淋管18，适于与药液分配装置连接；多个喷淋结构19，间隔设于喷淋管18上，喷淋结构19的喷口朝向吸附装置2设置，适于向晶圆喷淋药液,其中,本实施例中的药液为化学液,当然在实际使用时也可以根据需要选择其他药液。药液喷淋装置17还包括超声装置，设于喷淋管18的入口端。通过在喷淋管18的入口端设置超声装置，使得由药液分配装置输送的药液能够先经过超声雾化，再从喷淋结构19喷出，提高了药液的雾化效果，使得晶圆处于化学气雾中，提高了抛光效果。作为可变换的实施方式，也可以是，不设置超声装置。

在需要对晶圆进行抛光时，可通过气缸带动支架1整体上升至一定高度，机械手将晶圆放置在吸附台15上，吸附台15内通入负压气源，对晶圆进行吸附，然后气缸带动支架1整体下降至滚刷结构3与晶圆贴合接触，安装架10上端的电机带动每个滚刷结构3进行旋转，同时，滚刷摆动装置带动摆臂摆动，进而带动两个安装架10绕两个安装架10彼此靠近的两个铰接点22相对支架本体9进行转动，实现两个滚刷6的靠近或远离，使得晶圆的每个部位均能被滚刷6接触到，实现对晶圆的全覆盖抛光，其中还可以通过控制电机的力矩，控制两个滚刷6的间距，进而控制滚刷6的摩擦力的大小，提高抛光效果。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (17)

1.一种抛光装置，其特征在于，包括：

支架(1)，所述支架(1)内部设置有容纳腔；

吸附装置(2)，设置在所述容纳腔内，适于吸附待抛光产品；

若干组彼此并排设置的滚刷结构(3)，设于所述吸附装置(2)的上方，并可转动地连接在所述支架(1)上，适于对所述吸附装置(2)上的所述待抛光产品进行抛光；

第一驱动装置(4)，固定连接在所述支架(1)上，并与所述滚刷结构(3)连接，适于驱动所述滚刷结构(3)相对所述支架(1)转动；

所述滚刷结构(3)包括：

滚刷杆(5)，与所述第一驱动装置(4)固定连接；

滚刷(6)，套设于所述滚刷杆(5)的外侧，所述滚刷(6)的外表面适于与所述待抛光产品接触；

所述滚刷杆(5)的内部设有中空通道，所述滚刷杆(5)与所述滚刷(6)对应的外表面上设有与所述中空通道连通的喷液孔(7)；

所述滚刷杆(5)的一端与所述第一驱动装置(4)固定连接，另一端通过所述中空通道适于与液体源连接，使得使用时，液体源能够向滚刷杆(5)持续地供给液体，使得滚刷(6)能够保持自然膨化状态。

2.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，所述滚刷杆(5)的一端与所述第一驱动装置(4)卡接。

3.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，所述滚刷(6)为柔性的亲水材质。

4.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，所述滚刷(6)的外表面上设有多个凸起结构(8)。

5.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，所述第一驱动装置(4)为电机。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的抛光装置，其特征在于，所述支架(1)包括：

支架本体(9)；

至少一个安装架(10)，设于所述滚刷结构(3)的至少一端，所述安装架(10)与所述支架本体(9)围成所述容纳腔；所述安装架(10)的一端与所述滚刷结构(3)连接，另一端可转动地连接在所述支架本体(9)上，并带动所述滚刷结构(3)在高度方向发生靠近或远离所述待抛光产品的运动。

7.根据权利要求6所述的抛光装置，其特征在于，两个所述安装架(10)分别设置在每个所述滚刷结构(3)的两端，所述滚刷结构(3)为两组。

8.根据权利要求7所述的抛光装置，其特征在于，还包括：

至少一个滚刷摆动装置，固定连接在所述支架本体(9)上，并连接在所述安装架(10)的至少一端，适于带动所述安装架(10)相对所述支架本体(9)进行转动。

9.根据权利要求8所述的抛光装置，其特征在于，所述滚刷摆动装置包括：

第一动力装置(11)；

谐波减速器(12)，输入端与所述第一动力装置(11)相连接，所述谐波减速器(12)包括输出轴；

摆臂结构(13)，一端与所述输出轴连接，另一端与所述安装架(10)连接，适于在所述第一动力装置(11)的驱动下带动所述安装架(10)在高度方向发生靠近或远离所述待抛光产品的运动。

10.根据权利要求9所述的抛光装置，其特征在于，所述滚刷摆动装置还包括：

连接装置(14)，一端与所述输出轴连接，另一端间隔设有两个支杆，所述支杆与所述摆臂结构(13)一一固定连接，且两个所述摆臂结构(13)的摆动方向相反。

11.根据权利要求8所述的抛光装置，其特征在于，所述滚刷摆动装置为一个，且每个所述滚刷结构(3)两侧的所述安装架(10)通过连杆(21)固定连接。

12.根据权利要求1-5中任一项所述的抛光装置，其特征在于，所述吸附装置(2)包括：

吸附台(15)，所述吸附台(15)为中空结构，所述吸附台(15)的上表面设有多个与所述中空结构连通的吸附孔，所述中空结构适于与真空源连接。

13.根据权利要求12所述的抛光装置，其特征在于，所述吸附装置(2)还包括：

第二动力装置(16)；

传动机构，与所述第二动力装置(16)连接，并与所述吸附台(15)的下表面连接，适于在所述第二动力装置(16)的带动下，带动所述吸附台(15)转动。

14.根据权利要求1-5中任一项所述的抛光装置，其特征在于，还包括：

药液喷淋装置(17)，设于所述滚刷结构(3)的上方，适于向所述待抛光产品喷淋药液。

15.根据权利要求14所述的抛光装置，其特征在于，所述药液喷淋装置(17)包括：

喷淋管(18)，适于与药液分配装置连接；

多个喷淋结构(19)，间隔设于所述喷淋管(18)上，所述喷淋结构(19)的喷口朝向所述吸附装置(2)设置，适于向所述待抛光产品喷淋药液。

16.根据权利要求15所述的抛光装置，其特征在于，所述药液喷淋装置(17)还包括超声装置，设于所述喷淋管(18)的入口端。

17.根据权利要求1-5中任一项所述的抛光装置，其特征在于，还包括：

第二驱动装置(20)，与所述支架(1)连接，适于驱动所述支架(1)作升降运动，进而带动所述滚刷结构(3)相对所述吸附装置(2)作升降运动。

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