CN111235529A - 一种蒸镀加热装置及控制方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种蒸镀加热装置及控制方法,通过微波加热的方式对所述坩埚内的蒸镀材料进行均匀加热,克服了坩埚内真空环境采用电阻丝加热不利于热传导的因素,并且,通过闭环控制实现对蒸镀温度的控制,使得在蒸镀过程中蒸镀材料整体受热均匀,保证蒸镀速率均一性。

Description

一种蒸镀加热装置及控制方法
技术领域
本申请涉及蒸镀制作相关技术领域,尤其涉及一种蒸镀加热装置及控制方法。
背景技术
随着显示技术的发展,蒸镀工艺得到了广泛的应用,现有的蒸镀加热装置对有机蒸镀材料的加热主要依靠热传导,由于在蒸镀过程中坩埚处于真空状态,导致加热速度较慢,一般达到稳定的加热速率需要大约五小时,并且,现有的加热方式主要采用电阻丝加热,由于电阻丝加热的特性是从坩埚外向里,如果温度升的太快,容易导致材料局部受热过快,发生变质;容易在蒸镀过程中导致生有机物蒸镀材料受热不均匀,导致蒸镀速率均一性较差。
发明内容
本申请实施例提供一种蒸镀加热装置及控制方法,以解决现有蒸镀加热热传导较慢、均一性较差的问题。
本申请实施例提供一种蒸镀加热装置,包括坩埚,所述坩埚包括容置蒸镀材料的容置腔,所述坩埚顶部设有与所述容置腔连通的蒸镀喷嘴,还包括:
微波加热组件,与所述坩埚连接,加热所述坩埚内的蒸镀材料;
第一检测单元,设置于所述坩埚底部,检测存储于所述坩埚底部的所述蒸镀材料的温度;以及
控制单元,分别与所述第一检测单元和所述微波加热组件连接,根据所检测到的所述蒸镀材料的温度,调节所述微波加热组件的加热速率,以使所述蒸镀材料的温度维持在预设的蒸镀温度。
根据本申请一优选实施例,所述根据所检测到的所述蒸镀材料的温度,调节所述微波加热组件的加热速率,以使所述蒸镀材料的温度维持在预设的蒸镀温度,包括:
当所述蒸镀材料的温度小于所述蒸镀温度时,所述控制单元控制所述微波加热组件加热速率升高;
当所述蒸镀材料的温度大于所述蒸镀温度时,所述控制单元控制所述微波加热组件加热速率降低。
根据本申请一优选实施例,所述坩埚上设有微波入射孔组,所述微波加热组件包括微波发生器和功率调整器,所述微波发生器通过所述微波入射孔组与所述坩埚内的所述容置腔连通,所述功率调整器分别与所述微波发生器和所述控制单元连接。
根据本申请一优选实施例,所述控制单元通过控制所述功率调整器对所述微波发生器的输出功率,以降低或提高所述微波加热组件加热速率。
根据本申请一优选实施例,所述容置腔靠近所述坩埚的的顶部和底部的两端均呈弧形。
根据本申请一优选实施例,还包括:
电阻加热组件,设置于所述坩埚顶部,对所述坩埚顶部进行加热,以使所述坩埚的顶部温度大于所述蒸镀材料的温度;
第二检测单元,设置于所述坩埚顶部,且位于所述电阻加热组件与所述蒸镀喷嘴之间,检测所述坩埚的顶部温度。
其中,所述控制单元分别与所述电阻加热组件和所述第二检测单元连接,还根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内。
根据本申请一优选实施例,所述根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内,包括:
当所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度的差值小于所述温差阈值范围内的最小值时,所述控制单元控制所述电阻加热组件通电并进行加热;
当所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度的差值大于所述温差阈值范围内的最大值时,所述控制单元控制所述电阻加热组件断开并停止加热。
根据本申请的上述目的,还提供一种蒸镀加热控制方法,应用于如前所述的蒸镀加热装置,包括如下步骤:
在蒸镀过程中,检测盛放于所述坩埚底部的所述蒸镀材料的温度;
根据所检测到的所述蒸镀材料的温度,调节所述微波加热组件的加热速率,以使所述蒸镀材料的温度维持在预设的蒸镀温度。
根据本申请一优选实施例,所述根据所检测到的所述蒸镀材料的温度,调节所述微波加热组件的加热速率,以使所述蒸镀材料的温度维持在预设的蒸镀温度,包括:
当所述蒸镀材料的温度小于所述蒸镀温度时,控制所述微波加热组件加热速率升高;
当所述蒸镀材料的温度大于所述蒸镀温度时,控制所述微波加热组件加热速率降低。
根据本申请一优选实施例,所述蒸镀加热装置还包括:
电阻加热组件,设置于所述坩埚顶部,对所述坩埚顶部进行加热,以使所述坩埚的顶部温度大于所述蒸镀材料的温度;
第二检测单元,设置于所述坩埚顶部,且位于所述电阻加热组件与所述蒸镀喷嘴之间,检测所述坩埚的顶部温度。
其中,所述控制单元分别与所述电阻加热组件和所述第二检测单元连接,还根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内;
所述蒸镀加热控制方法还包括:
在蒸镀过程中,检测所述坩埚的顶部温度;
根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内。
本申请实施例提供的一种蒸镀加热装置及控制方法,通过微波加热的方式对所述坩埚内的蒸镀材料进行均匀加热,克服了坩埚内真空环境采用电阻丝加热不利于热传导的因素,并且,通过闭环控制实现对蒸镀温度的控制,使得在蒸镀过程中蒸镀材料整体受热均匀,保证蒸镀速率均一性。
附图说明
下面结合附图,通过对本申请的具体实施方式详细描述,将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本申请实施例提供的蒸镀加热装置的结构示意图;
图2为图1的侧视图;
图3为本申请实施例提供蒸镀加热装置的控制部分的方框结构示意图;
图4为本申请实施例提供的一种蒸镀加热控制方法的方框流程示意图;
图5为本申请实施例提供的另一种蒸镀加热控制方法的方框流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接或可以相互通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本申请。此外,本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
具体的,请参阅图1至图3,本申请实施例提供一种蒸镀加热装置,包括坩埚1,所述坩埚1包括用于容置蒸镀材料20的容置腔11,所述坩埚1顶部设有与所述容置腔11连通的蒸镀喷嘴12,其中,所述坩埚1可以设置于一保护罩10内,所述蒸镀加热装置还包括:
微波加热组件2,与所述坩埚1连接,加热所述坩埚1内的蒸镀材料20;
第一检测单元3,设置于所述坩埚1底部,检测存储于所述坩埚1底部的所述蒸镀材料20的温度;可以理解的是,所述第二检测单元可以包括均匀分布在所述坩埚1底端四周的多个温度传感器,所述第一检测单元3检测到的所述蒸镀材料20的温度可以是由多个所述温度传感器所测温度的平均值。以及
控制单元4,分别与所述第一检测单元3和所述微波加热组件2连接,根据所检测到的所述蒸镀材料20的温度,调节所述微波加热组件2的加热速率,以使所述蒸镀材料20的温度维持在预设的蒸镀温度,其中,所述控制单元4可以采用PC控制,也可以采用其它芯片或处理器控制,在此不做限制。
可以理解的是,在蒸镀过程中,所述坩埚1内为真空环境,目前采用电阻丝对所述蒸镀材料20加热的方式,热传导效率低,加热速度慢,从而造成蒸镀材料20受热不均而变质,同时,也使得所述蒸镀材料20因为局部温度过高而蒸发过快,导致材料的损耗,显然,本申请通过微波加热组件2对所述坩埚1内的所述蒸镀材料20进行微波加热,有利于克服真空中导热效率低下的问题,同时,也实现对所述蒸镀材料20的均匀加热;此外,本申请还可以利用所述第一检测单元3和所述控制单元4实现对所述坩埚1内的蒸镀温度的闭环控制,使所述坩埚1内的蒸镀温度保持在一预设的温度值或温度范围内。
在一实施例中,所述根据所检测到的所述蒸镀材料20的温度,调节所述微波加热组件2的加热速率,以使所述蒸镀材料20的温度维持在预设的蒸镀温度,包括:
当所述蒸镀材料20的温度小于所述蒸镀温度时,所述控制单元4控制所述微波加热组件2加热速率升高;
当所述蒸镀材料20的温度大于所述蒸镀温度时,所述控制单元4控制所述微波加热组件2加热速率降低。
具体的,所述蒸镀温度的设定值可以是400℃,显然,当所述第一检测单元3所测得的所述蒸镀材料20的温度小于400℃时,所述控制单元4控制所述微波加热组件2加热速率升高,以使所述蒸镀材料20的温度达到400℃,当所述第一检测单元3所测得的所述蒸镀材料20的温度大于400℃时,所述控制单元4控制所述微波加热组件2加热速率降低,以使所述蒸镀材料20的温度降至400℃,可以理解的是,在蒸镀过程中,所述蒸镀材料20的蒸镀是一个吸热降温的过程,即使此时所述微波加热组件2保持加热的状态,但当所述微波加热组件2加热的速率低于所述蒸镀材料20吸热的速率时,所述坩埚1内的所述蒸镀材料20的温度会下降,反之也是如此,因此,在控制所述蒸镀材料20的温度的过程中,仅需通过所述控制单元4控制所述微波加热组件2加热速率即可。
在一实施例中,如图2所示,所述坩埚1上设有微波入射孔组13,所述微波加热组件2包括微波发生器21和功率调整器22,所述微波发生器21通过所述微波入射孔组13与所述坩埚1内的所述容置腔11连通,所述功率调整器22分别与所述微波发生器21和所述控制单元4连接;具体的,所述微波发生器21通过微波导管211与所述微波入射孔组13连接,可以理解的是,所述微波入射孔组13可以包括均匀分布在所述坩埚1的顶部多个微波入射孔,并且,多个所述微波入射孔可以由一条主管道与所述微波导管211连接。
承上,在一实施例中,所述控制单元4通过控制所述功率调整器22对所述微波发生器21的输出功率,以降低或提高所述微波加热组件2加热速率;此外,所述容置腔11靠近所述坩埚1的的顶部和底部的两端均呈弧形;通过此种结构方式,可以方便微波在所述坩埚1内的反射,增加微波对所述蒸镀材料20均匀加热的效率。
在一实施例中,还包括:
电阻加热组件5,设置于所述坩埚1顶部,对所述坩埚1顶部进行加热,以使所述坩埚1的顶部温度大于所述蒸镀材料20的温度;
第二检测单元6,设置于所述坩埚1顶部,且位于所述电阻加热组件5与所述蒸镀喷嘴12之间,检测所述坩埚1的顶部温度。
其中,所述控制单元4分别与所述电阻加热组件5和所述第二检测单元6连接,还根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件5的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内。
可以理解的是,在一般的蒸镀过程中,所述蒸镀材料20由所述坩埚1的底部蒸发至所述坩埚1的顶部,并通过所述蒸镀喷嘴12喷出,在此过程中,由于所述坩埚1顶部比所述坩埚1底部的温度低,从而使得蒸发的所述蒸镀材料20在所述蒸镀喷嘴12处凝固,使得所述蒸镀材料20堵塞所述蒸镀喷嘴12,显然,本申请,通过一设置于所述坩埚1顶部的所述电阻加热组件5,对所述坩埚1顶部进行加热,以使所述坩埚1的顶部温度大于所述蒸镀材料20的温度,使得蒸发的所述蒸镀材料20在所述坩埚1顶部具备一较高的温度,不会造成凝固堵塞所述蒸镀喷嘴12的现象。
在一实施例中,所述根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件5的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内,包括:
当所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度的差值小于所述温差阈值范围内的最小值时,所述控制单元4控制所述电阻加热组件5通电并进行加热;
当所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度的差值大于所述温差阈值范围内的最大值时,所述控制单元4控制所述电阻加热组件5断开并停止加热。
具体的,所述温差阈值范围为30℃~50℃,所述温差阈值范围内的最小值为30℃;所述温差阈值范围内的最大值为50℃;也即是在蒸镀过程中,所述顶部温度的温度范围为430℃~450℃,当所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度的差值小于30℃时,所述控制单元4控制所述电阻加热组件5通电并进行加热;当所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度的差值大于50℃时,所述控制单元4控制所述电阻加热组件5断开并停止加热。
根据本申请的上述目的,如图4所示,还提供一种蒸镀加热控制方法,应用于如前所述的蒸镀加热装置,包括如下步骤:
步骤S10,在蒸镀过程中,检测盛放于所述坩埚1底部的所述蒸镀材料20的温度;
步骤S20,根据所检测到的所述蒸镀材料20的温度,调节所述微波加热组件2的加热速率,以使所述蒸镀材料20的温度维持在预设的蒸镀温度。
在一实施例中,所述根据所检测到的所述蒸镀材料20的温度,调节所述微波加热组件2的加热速率,以使所述蒸镀材料20的温度维持在预设的蒸镀温度,包括:
当所述蒸镀材料20的温度小于所述蒸镀温度时,控制所述微波加热组件2加热速率升高;
当所述蒸镀材料20的温度大于所述蒸镀温度时,控制所述微波加热组件2加热速率降低。
在一实施例中,所述蒸镀加热装置还包括:
电阻加热组件5,设置于所述坩埚1顶部,对所述坩埚1顶部进行加热,以使所述坩埚1的顶部温度大于所述蒸镀材料20的温度;
第二检测单元6,设置于所述坩埚1顶部,且位于所述电阻加热组件5与所述蒸镀喷嘴12之间,检测所述坩埚1的顶部温度。
其中,所述控制单元4分别与所述电阻加热组件5和所述第二检测单元6连接,还根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件5的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内;
如图5所示,所述蒸镀加热控制方法还包括:
步骤S30,在蒸镀过程中,检测所述坩埚1的顶部温度;
步骤S40,根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件5的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内。
具体的,所述根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件5的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内,包括:
当所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度的差值小于所述温差阈值范围内的最小值时,所述控制单元4控制所述电阻加热组件5通电并进行加热;
当所述顶部温度减去所述蒸镀材料20的温度的差值大于所述温差阈值范围内的最大值时,所述控制单元4控制所述电阻加热组件5断开并停止加热。
综上,本申请提供的一种蒸镀加热装置及控制方法,通过微波加热的方式对所述坩埚1内的蒸镀材料20进行均匀加热,克服了坩埚1内真空环境采用电阻丝加热不利于热传导的因素,并且,通过闭环控制实现对蒸镀温度的控制,使得在蒸镀过程中蒸镀材料20整体受热均匀,保证蒸镀速率均一性。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种蒸镀加热装置,包括坩埚,所述坩埚包括用于容置蒸镀材料的容置腔,所述坩埚顶部设有与所述容置腔连通的蒸镀喷嘴,其特征在于,还包括:
微波加热组件,与所述坩埚连接,加热所述坩埚内的蒸镀材料;
第一检测单元,设置于所述坩埚底部,检测存储于所述坩埚底部的所述蒸镀材料的温度;以及
控制单元,分别与所述第一检测单元和所述微波加热组件连接,根据所检测到的所述蒸镀材料的温度,调节所述微波加热组件的加热速率,以使所述蒸镀材料的温度维持在预设的蒸镀温度。
2.如权利要求1所述的蒸镀加热装置,其特征在于,所述根据所检测到的所述蒸镀材料的温度,调节所述微波加热组件的加热速率,以使所述蒸镀材料的温度维持在预设的蒸镀温度,包括:
当所述蒸镀材料的温度小于所述蒸镀温度时,所述控制单元控制所述微波加热组件加热速率升高;
当所述蒸镀材料的温度大于所述蒸镀温度时,所述控制单元控制所述微波加热组件加热速率降低。
3.如权利要求2所述的蒸镀加热装置,其特征在于,所述坩埚上设有微波入射孔组,所述微波加热组件包括微波发生器和功率调整器,所述微波发生器通过所述微波入射孔组与所述坩埚内的所述容置腔连通,所述功率调整器分别与所述微波发生器和所述控制单元连接。
4.如权利要求3所述的蒸镀加热装置,其特征在于,所述控制单元通过控制所述功率调整器对所述微波发生器的输出功率,以降低或提高所述微波加热组件加热速率。
5.如权利要求1所述的蒸镀加热装置,其特征在于,所述容置腔靠近所述坩埚的的顶部和底部的两端均呈弧形。
6.如权利要求1所述的蒸镀加热装置,其特征在于,还包括:
电阻加热组件,设置于所述坩埚顶部,对所述坩埚顶部进行加热,以使所述坩埚的顶部温度大于所述蒸镀材料的温度;
第二检测单元,设置于所述坩埚顶部,且位于所述电阻加热组件与所述蒸镀喷嘴之间,检测所述坩埚的顶部温度;
其中,所述控制单元分别与所述电阻加热组件和所述第二检测单元连接,还根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内。
7.如权利要求6所述的蒸镀加热装置,其特征在于,所述根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内,包括:
当所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度的差值小于所述温差阈值范围内的最小值时,所述控制单元控制所述电阻加热组件通电并进行加热;
当所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度的差值大于所述温差阈值范围内的最大值时,所述控制单元控制所述电阻加热组件断开并停止加热。
8.一种蒸镀加热控制方法,其特征在于,应用于如权利要求1-7任一项所述的蒸镀加热装置,包括如下步骤:
在蒸镀过程中,检测盛放于所述坩埚底部的所述蒸镀材料的温度;
根据所检测到的所述蒸镀材料的温度,调节所述微波加热组件的加热速率,以使所述蒸镀材料的温度维持在预设的蒸镀温度。
9.如权利要求8所述蒸镀加热控制方法,其特征在于,所述根据所检测到的所述蒸镀材料的温度,调节所述微波加热组件的加热速率,以使所述蒸镀材料的温度维持在预设的蒸镀温度,包括:
当所述蒸镀材料的温度小于所述蒸镀温度时,控制所述微波加热组件加热速率升高;
当所述蒸镀材料的温度大于所述蒸镀温度时,控制所述微波加热组件加热速率降低。
10.如权利要求9所述蒸镀加热控制方法,其特征在于,所述蒸镀加热装置还包括:
电阻加热组件,设置于所述坩埚顶部,对所述坩埚顶部进行加热,以使所述坩埚的顶部温度大于所述蒸镀材料的温度;
第二检测单元,设置于所述坩埚顶部,且位于所述电阻加热组件与所述蒸镀喷嘴之间,检测所述坩埚的顶部温度;
其中,所述控制单元分别与所述电阻加热组件和所述第二检测单元连接,还根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内;
所述蒸镀加热控制方法还包括:
在蒸镀过程中,检测所述坩埚的顶部温度;
根据所检测到的所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值,切换所述电阻加热组件的工作状态,以使所述顶部温度减去所述蒸镀材料的温度所得的差值维持在预设的温差阈值范围内。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114481031A (zh) * 2022-02-11 2022-05-13 丹东安顺微电子有限公司 一种半导体生产用石墨坩埚蒸铝的工艺

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010138469A (ja) * 2008-12-15 2010-06-24 Toppan Printing Co Ltd 真空成膜方法及び装置
CN203593780U (zh) * 2013-09-24 2014-05-14 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀喷头及蒸镀设备
CN107805783A (zh) * 2017-11-30 2018-03-16 京东方科技集团股份有限公司 蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法
CN109234685A (zh) * 2018-11-16 2019-01-18 上海中航光电子有限公司 微波镀膜方法、母板和微波镀膜装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010138469A (ja) * 2008-12-15 2010-06-24 Toppan Printing Co Ltd 真空成膜方法及び装置
CN203593780U (zh) * 2013-09-24 2014-05-14 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀喷头及蒸镀设备
CN107805783A (zh) * 2017-11-30 2018-03-16 京东方科技集团股份有限公司 蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法
CN109234685A (zh) * 2018-11-16 2019-01-18 上海中航光电子有限公司 微波镀膜方法、母板和微波镀膜装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114481031A (zh) * 2022-02-11 2022-05-13 丹东安顺微电子有限公司 一种半导体生产用石墨坩埚蒸铝的工艺

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