CN111208658A - 一种转印版及其制备方法、显示基板、显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种转印版及其制备方法、显示基板、显示面板，涉及显示技术领域，一方面，可避免取向层与封框胶重叠，从而造成耐候性不良或剥离不良、电学不良等问题；另一方面，还可以避免取向液回流至显示区，影响显示面板的显示效果。一种转印版具有第一区域和呈封闭状环绕第一区域一周的第二区域；转印版包括衬底、依次层叠设置于衬底上的第一载液层和第二载液层；第一载液层包括多个位于第一区域的第一凹槽，第二载液层包括多个位于第一区域和第二区域的第二凹槽；在第一区域，第一凹槽与第二凹槽一一对应，第二凹槽贯穿第二载液层，且第一凹槽在衬底上的正投影和与其对应的第二凹槽在衬底上的正投影重叠。

Description

一种转印版及其制备方法、显示基板、显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种转印版及其制备方法、显示基板、显示面板。
背景技术
液晶显示作为当前最普遍应用的显示技术，可以应用于笔记本电脑、平板电脑、手机等方面，其显示效果也在不断更新，如窄边框设计可以凸显出液晶显示器的视觉感，提高科技感。
窄边框技术不但要求液晶显示器的边框很窄，还要求显示区周围的黑矩阵也很窄。若显示区周围的黑矩阵做窄，封框胶的设置位置将更加靠近显示区。这样一来，容易导致取向层的边缘与封框胶重叠，甚至超出封框胶。
然而，若封框胶与取向层之间重叠设置，二者之间可能存在固定耐候性不良的问题，容易导致水汽进入到液晶显示面板内；若将封框胶与取向层剥离开来，可能存在剥离不良问题，进而导致显示面板的周边区的电学不良，影响显示面板的正常显示。
发明内容
本发明的实施例提供一种转印版及其制备方法、显示基板、显示面板，一方面，可避免取向层与封框胶重叠，从而造成耐候性不良或剥离不良、电学不良等问题；另一方面，还可以避免取向液回流至显示区，影响显示面板的显示效果。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
第一方面，提供一种转印版，具有第一区域和呈封闭状环绕所述第一区域一周的第二区域；所述转印版包括衬底、依次层叠设置于所述衬底上的第一载液层和第二载液层；所述第一载液层包括多个位于所述第一区域的第一凹槽，所述第二载液层包括多个位于所述第一区域和所述第二区域的第二凹槽；在所述第一区域，所述第一凹槽与所述第二凹槽一一对应，所述第二凹槽贯穿所述第二载液层，且所述第一凹槽在所述衬底上的正投影和与其对应的所述第二凹槽在所述衬底上的正投影重叠。
可选的，在所述第二区域，沿所述第一区域与所述第二区域的距离方向，所述第二凹槽的深度逐渐变大。
可选的，所述第一凹槽的深度小于所述第一载液层的厚度。
可选的，所述第一载液层和所述第二载液层的材料为负性光刻胶；所述第一载液层的材料的中心波长为254nm和365nm，所述第二载液层的中心波长为254nm或365nm。
第二方面，提供一种显示基板，包括取向层，所述取向层由第一方面所述的转印版制备得到；第一区域为所述显示基板的显示区。
第三方面，提供一种显示面板，包括第二方面所述的显示基板；所述显示面板还包括设置于对合的所述显示基板之间的封框胶，所述第二区域位于所述封框胶与显示区之间。
第四方面，提供一种转印版的制备方法，所述转印版具有第一区域和呈封闭状环绕所述第一区域一周的第二区域；所述转印版的制备方法包括：在衬底上依次形成第一载液薄膜和第二载液薄膜；对所述第二载液薄膜和所述第一载液薄膜进行光刻处理，分别得到第二载液层和第一载液层；所述第一载液层包括多个位于所述第一区域的第一凹槽，所述第二载液层包括多个位于所述第一区域和所述第二区域的第二凹槽；在所述第一区域，所述第一凹槽与所述第二凹槽一一对应，所述第二凹槽贯穿所述第二载液层，且所述第一凹槽在所述衬底上的正投影和与其对应的所述第二凹槽在所述衬底上的正投影重叠。
可选的，所述第一载液层和所述第二载液层的材料为负性光刻胶；对所述第二载液薄膜和所述第一载液薄膜进行光刻处理，包括：在所述衬底背离所述第一载液薄膜一侧形成第一掩模板，并对所述第一载液薄膜进行曝光；所述第一掩模板的第一保留区与待形成的所述第一凹槽和所述第二区域对应，第一去除区与所述第一载液层的其他区域对应；在所述第二载液薄膜背离所述衬底一侧形成第二掩模板，并依次对所述第二载液薄膜和所述第一载液薄膜进行曝光、显影；所述第二掩模板的第二去除区与待形成的所述第二凹槽对应、所述第二保留区与待形成的所述第二载液层的其他区域对应。
可选的，在形成所述第一载液薄膜和所述第二载液薄膜之后、形成所述第一掩模板之前，所述转印版的制备方法还包括：确定所述第一载液薄膜和所述第二载液薄膜的厚度。
可选的，确定所述第一载液薄膜和所述第二载液薄膜的厚度，包括：采用预曝光的方式，确定所述第一载液薄膜和所述第二载液薄膜的厚度。
可选的，在所述第二区域，沿所述第一区域与所述第二区域的距离方向，所述第二掩模板的尺寸逐渐变大。
可选的，所述第一载液层的材料的中心波长为254nm和365nm，所述第二载液层的中心波长为254nm或365nm。
本发明实施例提供一种转印版及其制备方法、显示基板、显示面板，转印版包括第一载液层和第二载液层。第一载液层包括第一凹槽，第一凹槽仅位于第一区域，第二载液层包括第二凹槽，第二凹槽位于第一区域和第二区域，且在第一区域，第一凹槽在衬底上的正投影与第二凹槽在衬底上的正投影重叠。若采用该转印版制备取向层，使第一区域与显示基板的显示区对应，第二区域与显示区和封框胶之间的区域对应，这样一来，一方面，由于封框胶与显示区之间区域的取向液的含量较少，因此，可以改善取向液流至与封框胶重叠的区域，进而改善封框胶与取向层重叠带来的耐候性不良或剥离不良、电学不良等问题；另一方面，由于取向层中位于封框胶与显示区之间区域的部分的高度，比取向层中位于显示区的部分的高度低，因此，还可以避免位于封框胶与显示区之间区域的取向液回流至显示区，影响显示面板的显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种转印版的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种转印版的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的一种转印版的制备流程图；
图5为本发明实施例提供的一种转印版的制备过程图；
图6为本发明实施例提供的一种第一载液层和第二载液层的制备流程图；
图7为本发明实施例提供的一种第一载液层和第二载液层的制备过程图；
图8为本发明实施例提供的一种第一载液层和第二载液层的制备过程图。
附图标记：
10-衬底、11-第一载液层；111-第一载液薄膜；12-第二载液层；121-第二载液薄膜；13-第一掩模板；14-第二掩模板；21-阵列基板；22-对盒基板；23-封框胶；24-取向层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种转印版，如图1所示，具有第一区域和呈封闭状环绕第一区域一周的第二区域；转印版包括衬底10、依次层叠设置于衬底10上的第一载液层11和第二载液层12；第一载液层11包括多个位于第一区域的第一凹槽，第二载液层12包括多个位于第一区域和第二区域的第二凹槽；在第一区域，第一凹槽与第二凹槽一一对应，第二凹槽贯穿第二载液层12，且第一凹槽在衬底10上的正投影和与其对应的第二凹槽在衬底10上的正投影重叠。
此处，利用转印版制备取向层的过程为：向转印版滴入取向液，直至取向液与转印版的上表面齐平；将转印版上的取向液压印到显示基板上，并剥离转印版；对显示基板上的取向液进行固化，形成取向层。
其中，显示基板可以是阵列基板，也可以是与阵列基板对合的对盒基板。
在一些实施例中，不对第一载液层11和第二载液层12的材料进行限定，只要其可以承载取向液即可。
示例的，第一载液层11和第二载液层12的材料可以是绝缘材料。例如，第一载液层11和第二载液层12的材料可以是光刻胶等感光材料，以便在制备过程中进行图案化处理。
在一些实施例中，在第一区域，第一凹槽在衬底10上的正投影，和与其对应的第二凹槽在衬底10上的正投影可以完全重叠，也可以部分重叠。
在一些实施例中，多个第一凹槽可以贯穿第一载液层11；或者，多个第一凹槽也可以不贯穿第一载液层11。
可选的，多个第一凹槽不贯穿第一载液层11，即，第一凹槽的深度小于第一载液层11的厚度。这样一来，一方面，可防止取向液与衬底10直接接触，从而难以转印到显示基板上；另一方面，相较于第一凹槽贯穿第一载液层11，第一凹槽处保留部分厚度，可改善第一载液层11容易断裂的问题。
在一些实施例中，多个第一凹槽的尺寸可以相同，也可以不相同，与形成第一凹槽的掩模板的尺寸有关。
多个第二凹槽的尺寸可以相同，也可以不相同，与形成第二凹槽的掩模板的尺寸有关。
在一些实施例中，在第一区域，第二凹槽贯穿第二载液层12。在第二区域，第二凹槽可以贯穿第二载液层12，也可以不贯穿第二载液层12。
由于在封框胶与取向层之间重叠设置时，存在耐候性不良和电学不良等问题。因此，需对取向层相对于封框胶的位置进行调整，控制取向层中位于周边区的范围。
基于此，本发明实施例提供一种转印版，转印版包括第一载液层11和第二载液层12。第一载液层11包括第一凹槽，第一凹槽仅位于第一区域，第二载液层12包括第二凹槽，第二凹槽位于第一区域和第二区域，且在第一区域，第一凹槽在衬底10上的正投影与第二凹槽在衬底10上的正投影重叠。若采用该转印版制备取向层，使第一区域与显示基板的显示区对应，第二区域与显示区和封框胶之间的区域对应，这样一来，一方面，由于封框胶与显示区之间区域的取向液的含量较少，因此，可以改善取向液流至与封框胶重叠的区域，进而改善封框胶与取向层重叠带来的耐候性不良或剥离不良、电学不良等问题；另一方面，由于取向层中位于封框胶与显示区之间区域的部分的高度，比取向层中位于显示区的部分的高度低，因此，还可以避免位于封框胶与显示区之间区域的取向液回流至显示区，影响显示面板的显示效果。
可选的，如图2所示，在第二区域，沿第一区域与第二区域的距离方向，第二凹槽的深度逐渐变大。
在一些实施例中，沿第一区域与第二区域的距离方向，第二凹槽的深度逐渐变大，包括：沿第一区域到第二区域的距离方向，第二凹槽的深度逐渐变大；或者，沿第二区域到第一区域的距离方向，第二凹槽的深度逐渐变大。
在一些实施例中，可以通过调整制备第二凹槽的第二掩模板的尺寸，使得第二凹槽的深度逐渐改变。其中，以第二载液层12的材料为负性光刻胶为例，第二掩模板的第二保留区的尺寸越大，用于形成第二载液层12的第二载液薄膜的固化强度越大，越不容易被显影掉。
或者，也可以采用多个不同图案的掩模板形成深度不同的第二凹槽。
本发明实施例中，还可以使位于第二区域的第二凹槽的深度逐渐变化，以使得取向层中位于封框胶与显示区之间的部分的高度逐渐变化，以在取向液回流过程中起到缓冲作用。
可选的，第一载液层11和第二载液层12的材料为负性光刻胶；第一载液层11的材料的中心波长为254nm和365nm，第二载液层12的中心波长为254nm或365nm。
此处，可以先利用中心波长为254nm或365nm的光对用于形成第一载液层11的第一载液薄膜进行部分曝光。其中，对第一载液薄膜中位于第二区域的部分全部曝光，以起到完全固化作用；对待形成的第一凹槽所在的区域进行部分曝光，以对第一载液薄膜中靠近衬底10的一部分起到固化作用；之后，再利用365nm或254nm对第二载液薄膜和第一载液薄膜进行曝光，显影后形成第二载液层12和第一载液层11。
这样一来，可以确保第一凹槽的厚度小于第一载液层11的厚度。
本发明实施例还提供一种显示基板，如图3所示，包括取向层24，取向层24由前述任一实施例所述的转印版制备得到；第一区域为显示基板的显示区。
此处，显示基板可以应用于显示面板，显示基板可以是阵列基板21和与阵列基板21对合的对盒基板22。
阵列基板21包括薄膜晶体管、像素电极。此外，显示面板还包括彩色滤光层、黑矩阵、以及公共电极。彩色滤光层、黑矩阵、以及公共电极可以设置在阵列基板21上，也可以设置在对盒基板22上。
在一些实施例中，不对显示面板的用途进行限定，显示面板可以用作显示器、电脑、平板电脑、手机、照相机等。
本发明实施例还提供一种显示基板，显示基板包括由前述任一实施例制备得到的取向层24。在转印过程中，使第一区域与显示基板的显示区对应，第二区域与显示区和封框胶23之间的区域对应，这样一来，一方面，由于封框胶23与显示区之间区域的取向液的含量较少，因此，可以改善取向液流至与封框胶23重叠的区域，进而改善封框胶23与取向层24重叠带来的耐候性不良或剥离不良、电学不良等问题；另一方面，由于取向层24中位于封框胶23与显示区之间区域的部分的高度，比取向层24中位于显示区的部分的高度低，因此，还可以避免位于封框胶23与显示区之间区域的取向液回流至显示区，影响显示面板的显示效果。
本发明实施例还提供一种转印版的制备方法，所述转印版具有第一区域和呈封闭状环绕第一区域一周的第二区域。如图4所示，所述转印版的制备方法可通过如下步骤实现：
S11、如图5所示，在衬底10上依次形成第一载液薄膜111和第二载液薄膜121。
在一些实施例中，不对第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的材料进行限定，只要其可以承载取向液即可。
示例的，第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的材料可以是绝缘材料。例如，第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的材料可以是光刻胶等感光材料，以便在制备过程中进行图案化处理。
S12、如图1和图2所示，对第二载液薄膜121和第一载液薄膜111进行光刻处理，分别得到第二载液层12和第一载液层11；第一载液层11包括多个位于第一区域的第一凹槽，第二载液层12包括多个位于第一区域和第二区域的第二凹槽；在第一区域，第一凹槽与第二凹槽一一对应，第二凹槽贯穿第二载液层12，且第一凹槽在衬底10上的正投影和与其对应的第二凹槽在衬底10上的正投影重叠。
在一些实施例中，在第一区域，第一凹槽在衬底10上的正投影，和与其对应的第二凹槽在衬底10上的正投影可以完全重叠，也可以部分重叠。
在一些实施例中，多个第一凹槽可以贯穿第一载液层11；或者，多个第一凹槽也可以不贯穿第一载液层11。
可选的，多个第一凹槽不贯穿第一载液层11，即，第一凹槽的深度小于第一载液层11的厚度。这样一来，一方面，可防止取向液与衬底10直接接触，从而难以转印到显示基板上；另一方面，相较于第一凹槽贯穿第一载液层11，第一凹槽处保留部分厚度，可改善第一载液层11容易断裂的问题。
在一些实施例中，多个第一凹槽的尺寸可以相同，也可以不相同，与形成第一凹槽的掩模板的尺寸有关。
多个第二凹槽的尺寸可以相同，也可以不相同，与形成第二凹槽的掩模板的尺寸有关。
在一些实施例中，在第一区域，第二凹槽贯穿第二载液层12。在第二区域，第二凹槽可以贯穿第二载液层12，也可以不贯穿第二载液层12。
在一些实施例中，若第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的材料为感光材料，则可以采用曝光、显影工艺形成第一载液层11和第二载液层12。
若第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的材料为非感光材料，则可以采用曝光、显影、刻蚀工艺形成第一载液层11和第二载液层12。
由于在封框胶23与取向层24之间重叠设置时，存在耐候性不良和电学不良等问题。因此，需对取向层24相对于封框胶23的位置进行调整，控制取向层24中位于周边区的范围。
基于此，本发明实施例提供一种转印版的制备方法，形成包括第一载液层11和第二载液层12的转印版。第一载液层11包括第一凹槽，第一凹槽仅位于第一区域，第二载液层12包括第二凹槽，第二凹槽位于第一区域和第二区域，且在第一区域，第一凹槽在衬底10上的正投影与第二凹槽在衬底10上的正投影重叠。若采用该转印版制备取向层24，使第一区域与显示基板的显示区对应，第二区域与显示区和封框胶23之间的区域对应，这样一来，一方面，由于封框胶23与显示区之间区域的取向液的含量较少，因此，可以改善取向液流至与封框胶23重叠的区域，进而改善封框胶23与取向层24重叠带来的耐候性不良或剥离不良、电学不良等问题；另一方面，由于取向层24中位于封框胶23与显示区之间区域的部分的高度，比取向层24中位于显示区的部分的高度低，因此，还可以避免位于封框胶23与显示区之间区域的取向液回流至显示区，影响显示面板的显示效果。
可选的，如图6所示，第一载液层11和第二载液层12的材料为负性光刻胶；对第二载液薄膜121和第一载液薄膜111进行光刻处理，可通过如下步骤实现：
S121、如图7所示，在衬底10背离第一载液薄膜111一侧形成第一掩模板13，并对第一载液薄膜111进行曝光；第一掩模板13的第一保留区与待形成的第一凹槽和第二区域对应，第一去除区与第一载液层11的其他区域对应。
此处，对于负性光刻胶来说，被曝光的部分可以固化；未被曝光的部分，在显影后将会被去除。
在一些实施例中，根据第一掩模板13的尺寸不同，对第一载液薄膜111中位于第二区域的部分全部曝光，以起到完全固化作用；对待形成的第一凹槽所在的区域进行部分曝光，以对第一载液薄膜111中靠近衬底10的一部分起到固化作用。
S122、如图8所示，在第二载液薄膜121背离衬底10一侧形成第二掩模板14，并依次对第二载液薄膜121和第一载液薄膜111进行曝光、显影；第二掩模板14的第二去除区与待形成的第二凹槽对应、第二保留区与待形成的第二载液层12的其他区域对应。
示例的，对于步骤S121，可以先利用中心波长为254nm或365nm的光对用于形成第一载液层11的第一载液薄膜111进行部分曝光。其中，对第一载液薄膜111中位于第二区域的部分全部曝光，以起到完全固化作用；对待形成的第一凹槽所在的区域进行部分曝光，以对第一载液薄膜111中靠近衬底10的一部分起到固化作用。
之后，再利用365nm或254nm对第二载液薄膜121和第一载液薄膜111进行曝光，显影后形成第二载液层12和第一载液层11。
本发明实施例中，采用材料为负性光刻胶的第一载液薄膜111和第二载液薄膜121，通过两次曝光并显影，最终形成第二载液层12和第一载液层11，且可以确保第一凹槽的厚度小于第一载液层11的厚度。
当然，在一些实施例中，第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的材料的中心波长也可以相同，这样一来，可以直接利用第二掩模板14，曝光、显影得到贯穿第一载液层11的第一凹槽。
可选的，在形成第一载液薄膜111和第二载液薄膜121之后、形成第一掩模板13之前，所述转印版的制备方法还包括：确定第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的厚度。
在一些实施例中，不对确定第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的厚度的方式进行限定。
示例的，可以直接对第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的厚度进行测量。或者，也可以采用预曝光的方式，确定第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的厚度。
其中，若采用预曝光的方式，确定第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的厚度，则可以通过曝光时间、曝光强度等参数，合理推导出第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的厚度。
本发明实施例中，由于已知第一载液薄膜111和第二载液薄膜121的厚度，因此，可防止在曝光、显影过程中，出现过度曝光或曝光不足等现象，从而影响第一载液层11和第二载液层12的形貌。
可选的，在第二区域，沿第一区域与第二区域的距离方向，第二掩模板14的尺寸逐渐变大。
此处，通过使第二掩模板14的尺寸逐渐变大，可使得第二载液薄膜121的固化强度越大，从而越不容易被显影掉，进而在第二区域形成不同深度的第二凹槽。
即，在第二区域，沿第一区域与第二区域的距离方向，第二凹槽的深度逐渐变大。
在一些实施例中，沿第一区域与第二区域的距离方向，第二凹槽的深度逐渐变大，包括：沿第一区域到第二区域的距离方向，第二凹槽的深度逐渐变大；或者，沿第二区域到第一区域的距离方向，第二凹槽的深度逐渐变大。
本发明实施例中，还可以使位于第二区域的第二凹槽的深度逐渐变化，以使得取向层24中位于封框胶23与显示区之间的部分的高度逐渐变化，以在取向液回流过程中起到缓冲作用。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (12)

1.一种转印版，其特征在于，具有第一区域和呈封闭状环绕所述第一区域一周的第二区域；
所述转印版包括衬底、依次层叠设置于所述衬底上的第一载液层和第二载液层；
所述第一载液层包括多个位于所述第一区域的第一凹槽，所述第二载液层包括多个位于所述第一区域和所述第二区域的第二凹槽；
在所述第一区域，所述第一凹槽与所述第二凹槽一一对应，所述第二凹槽贯穿所述第二载液层，且所述第一凹槽在所述衬底上的正投影和与其对应的所述第二凹槽在所述衬底上的正投影重叠。
2.根据权利要求1所述的转印版，其特征在于，在所述第二区域，沿所述第一区域与所述第二区域的距离方向，所述第二凹槽的深度逐渐变大。
3.根据权利要求1或2所述的转印版，其特征在于，所述第一凹槽的深度小于所述第一载液层的厚度。
4.根据权利要求3所述的转印版，其特征在于，所述第一载液层和所述第二载液层的材料为负性光刻胶；
所述第一载液层的材料的中心波长为254nm和365nm，所述第二载液层的中心波长为254nm或365nm。
5.一种显示基板，其特征在于，包括取向层，所述取向层由权利要求1-4任一项所述的转印版制备得到；
第一区域为所述显示基板的显示区。
6.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求5所述的显示基板；所述显示面板还包括设置于对合的所述显示基板之间的封框胶，所述第二区域位于所述封框胶与显示区之间。
7.一种转印版的制备方法，其特征在于，所述转印版具有第一区域和呈封闭状环绕所述第一区域一周的第二区域；所述转印版的制备方法包括：
在衬底上依次形成第一载液薄膜和第二载液薄膜；
对所述第二载液薄膜和所述第一载液薄膜进行光刻处理，分别得到第二载液层和第一载液层；所述第一载液层包括多个位于所述第一区域的第一凹槽，所述第二载液层包括多个位于所述第一区域和所述第二区域的第二凹槽；在所述第一区域，所述第一凹槽与所述第二凹槽一一对应，所述第二凹槽贯穿所述第二载液层，且所述第一凹槽在所述衬底上的正投影和与其对应的所述第二凹槽在所述衬底上的正投影重叠。
8.根据权利要求7所述的转印版的制备方法，其特征在于，所述第一载液层和所述第二载液层的材料为负性光刻胶；
对所述第二载液薄膜和所述第一载液薄膜进行光刻处理，包括：
在所述衬底背离所述第一载液薄膜一侧形成第一掩模板，并对所述第一载液薄膜进行曝光；所述第一掩模板的第一保留区与待形成的所述第一凹槽和所述第二区域对应，第一去除区与所述第一载液层的其他区域对应；
在所述第二载液薄膜背离所述衬底一侧形成第二掩模板，并依次对所述第二载液薄膜和所述第一载液薄膜进行曝光、显影；所述第二掩模板的第二去除区与待形成的所述第二凹槽对应、第二保留区与待形成的所述第二载液层的其他区域对应。
9.根据权利要求8所述的转印版的制备方法，其特征在于，在形成所述第一载液薄膜和所述第二载液薄膜之后、形成所述第一掩模板之前，所述转印版的制备方法还包括：
确定所述第一载液薄膜和所述第二载液薄膜的厚度。
10.根据权利要求9所述的转印版的制备方法，其特征在于，确定所述第一载液薄膜和所述第二载液薄膜的厚度，包括：
采用预曝光的方式，确定所述第一载液薄膜和所述第二载液薄膜的厚度。
11.根据权利要求8-10任一项所述的转印版的制备方法，其特征在于，在所述第二区域，沿所述第一区域与所述第二区域的距离方向，所述第二掩模板的尺寸逐渐变大。
12.根据权利要求8-10任一项所述的转印版的制备方法，其特征在于，所述第一载液层的材料的中心波长为254nm和365nm，所述第二载液层的中心波长为254nm或365nm。
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