CN111176006A - 一种显示面板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种显示面板及其制备方法，涉及显示技术领域，可以改善显示面板的弯折区和非弯折区存在色偏的问题。该显示面板包括弯折区和非弯折区；所述显示面板包括位于所述弯折区的调光层；所述调光层用于对从所述弯折区出射的光进行调节，以降低从所述弯折区出射的光和所述非弯折区出射的光的色彩差异。

Description

一种显示面板及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
随着显示技术的快速发展，为了满足不同的用户需求，各种类型的显示装置逐渐进入市场。
柔性显示装置由于具有可弯折的特性，因而得到了广泛的应用。例如，对于一些柔性显示装置，常常将边缘显示区域设置成弯折区，并将弯折区弯折至显示面板的侧面，以达到侧面显示的效果。
然而，对于包括弯折区和非弯折区的显示装置，观看者在观看显示装置时，由于观看者观看弯折区和非弯折区的视角不同等原因，因而弯折区和非弯折区存在色彩差异，即弯折区和非弯折区存在色偏，从而导致弯折区和非弯折区的显示效果不同，影响了用户体验。
发明内容
本发明的实施例提供一种显示面板及其制备方法，可以改善显示面板的弯折区和非弯折区存在色偏的问题。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
一方面，提供一种显示面板，包括弯折区和非弯折区；所述显示面板包括位于所述弯折区的调光层；所述调光层用于对从所述弯折区出射的光进行调节，以降低从所述弯折区出射的光和所述非弯折区出射的光的色彩差异。
在一些实施例中，所述显示面板包括第一亚像素、第二亚像素以及第三亚像素；所述调光层包括第一调光图案、第二调光图案以及第三调光图案中的至少一个；所述第一调光图案与所述第一亚像素正对，用于对从所述第一亚像素出射的光的亮度进行调节；所述第二调光图案与所述第二亚像素正对，用于对从所述第二亚像素出射的光的亮度进行调节；所述第三调光图案与所述第三亚像素正对，用于对从所述第三亚像素出射的光的亮度进行调节。
在一些实施例中，所述调光层包括第一调光图案、第二调光图案以及第三调光图案；所述第一调光图案、所述第二调光图案以及所述第三调光图案的折射率不完全相同；和/或，所述第一调光图案、所述第二调光图案以及所述第三调光图案的厚度不完全相同。
在一些实施例中，所述显示面板为电致发光显示面板；所述电致发光显示面板包括显示用基板和封装层；所述显示用基板包括发光层；所述调光层位于所述发光层靠近所述显示面板的出光侧的一侧。
在一些实施例中，所述调光层设置在所述封装层远离所述显示用基板的一侧。
在一些实施例中，所述调光层的材料为无机材料。
另一方面，提供一种显示面板的制备方法，包括：在基底的弯折区形成调光层；所述调光层用于对从所述弯折区出射的光进行调节，以降低从所述弯折区出射的光和所述非弯折区出射的光的色彩差异；其中，所述基底包括所述弯折区和非弯折区。
在一些实施例中，所述显示面板包括第一亚像素、第二亚像素以及第三亚像素；所述在基底的弯折区形成调光层，包括：在所述基底的所述弯折区形成第一调光图案、第二调光图案以及第三调光图案中的至少一个；所述第一调光图案与所述第一亚像素正对，用于对从所述第一亚像素出射的光的亮度进行调节；所述第二调光图案与所述第二亚像素正对，用于对从所述第二亚像素出射的光的亮度进行调节；所述第三调光图案与所述第三亚像素正对，用于对从所述第三亚像素出射的光的亮度进行调节。
在一些实施例中，在所述基底的弯折区形成第一调光图案，包括：利用化学气相沉积法在所述基底上沉积一层第一调光薄膜，对所述第一调光薄膜进行构图，以形成所述第一调光图案；在所述基底的弯折区形成第二调光图案，包括：利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第二调光薄膜，对所述第二调光薄膜进行构图，以形成所述第二调光图案；在所述基底的弯折区形成第三调光图案，包括：利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第三调光薄膜，对所述第三调光薄膜进行构图，以形成所述第三调光图案；所述第一调光图案、所述第二调光图案以及所述第三调光图案的折射率不相同。
在一些实施例中，在所述基底的所述弯折区形成第一调光图案、第二调光图案以及第三调光图案中的至少一个，包括：利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第四调光薄膜，对所述第四调光薄膜进行构图，以形成所述第一调光图案和所述第二调光图案；或者，利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第四调光薄膜，对所述第四调光薄膜进行构图，以形成第一调光图案和第二调光图案；利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第五调光薄膜，对所述第五调光薄膜进行构图，以形成第三调光图案；所述第四调光薄膜与所述第五调光薄膜的折射率不相同；或者，利用气相沉积法在所述基底上沉积一层调光薄膜，对所述调光薄膜进行构图，以形成第一调光图案、第二调光图案和第三调光图案；所述第一调光图案、所述第二调光图案和所述第三调光图案的厚度不完全相同。
本发明实施例提供一种显示面板及其制备方法，显示面板包括弯折区和非弯折区，显示面板还包括位于弯折区的调光层；调光层用于对从弯折区出射的光进行调节，以降低从弯折区出射的光和非弯折区出射的光的色彩差异。由于位于弯折区的调光层可以对从弯折区出射的光进行调节，以降低从弯折区出射的光和非弯折区出射的光的色彩差异，因而调光层可以改善从弯折区出射的光和非弯折区出射的光的色彩差异，达到调节弯折区色偏的目的，保证弯折区和非弯折区的显示效果一致或近似一致，提高了用户体验。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图一；
图3为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图二；
图4为本发明实施例提供的一种显示面板的区域划分示意图；
图5为本发明实施例提供的一种电致发光显示面板的结构示意图；
图6为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图；
图7为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图三；
图8为相关技术提供的一种显示面板的结构示意图；
图9为本发明实施例提供的一种在基底上形成第一调光薄膜的结构示意图；
图10为本发明实施例提供的一种在基底上形成第一调光图案的结构示意图；
图11为本发明实施例提供的一种对第一调光薄膜进行掩膜曝光的结构示意图；
图12为本发明实施例提供的一种在基底上形成第二调光薄膜的结构示意图；
图13为本发明实施例提供的一种在基底上形成第二调光图案的结构示意图；
图14为本发明实施例提供的一种在基底上形成第三调光薄膜的结构示意图。
附图标记：
01-弯折区；02-非弯折区；03-显示区；031-第一亚像素；032-第二亚像素；033-第三亚像素；04-周边区；1-显示面板；2-框架；3-盖板玻璃；4-电路板；10-调光层；11-显示用基板；12-封装层；13-阵列基板；14-对盒基板；15-液晶层；16-上偏光片；17-下偏光片；20-基底；30-掩膜板；40-光刻胶；101-第一调光图案；102-第二调光图案；103-第三调光图案；110-第一衬底；111-薄膜晶体管；112-阳极；113-发光功能层；114-阴极；115-像素界定层；116-平坦层；130-第二衬底；131-像素电极；132-公共电极；133-第一绝缘层；134-第二绝缘层；140-第三衬底；141-彩色滤光层；142-黑矩阵图案；1010-第一调光薄膜；1020-第二调光薄膜；1030-第三调光薄膜。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种显示装置，对于显示装置的类型不进行限定，可以是液晶显示装置(Liquid Crystal Display，简称LCD)；也可以是电致发光显示装置或其它类型的显示装置。其中，电致发光显示装置可以为有机电致发光显示装置(Organic Light-Emitting Diode Display，简称OLED)或量子点电致发光显示装置(Quantum Dot LightEmitting Diodes，简称QLED)。
如图1所示，显示装置的主要结构包括显示面板1、框架2、盖板玻璃3以及电路板4等其它电子配件。在显示装置为液晶显示装置的情况下，显示装置还包括背光组件，背光组件用于为显示面板1提供光源。附图1中未示意出背光组件。
其中，框架2的纵截面呈U型，显示面板1、电路板4以及其它电子配件均设置于框架2内，电路板4设置于显示面板1的下方，盖板玻璃3设置于显示面板1远离电路板4的一侧。
本发明实施例提供一种显示面板1，可以应用于上述的显示装置中，如图2和图3所示，显示面板1包括弯折区01和非弯折区02。
此处，非弯折区02也可以称为平坦区。对于显示面板1包括的弯折区01和非弯折区02的个数不进行限定，可以根据需要进行设置。例如，如图2所示，显示面板1包括一个弯折区01和一个非弯折区02。又例如，如图3所示，显示面板1包括两个弯折区01和一个非弯折区02，两个弯折区01分别设置在非弯折区02的相对两侧。
显示面板1包括弯折区01和非弯折区02，对于显示面板1在实际中的应用不进行限定。在一些实施例中，显示面板1包括弯折区01，将弯折区01弯折至显示面板1的侧面，从而可以达到侧面显示的效果。在另一些实施例中，显示面板1包括弯折区01，显示面板1为曲面显示面板。
如图4所示，显示面板1包括显示区03和位于显示区03至少一侧的周边区04，附图4以周边区04包括显示区03为例进行示意。周边区04用于布线，此外，也可以将栅极驱动电路设置于周边区04。显示区03包括多个亚像素，例如第一亚像素031、第二亚像素032以及第三亚像素033。
对于第一亚像素031、第二亚像素032以及第三亚像素033的排布方式不进行限定，附图4以一列第一亚像素031、一列第二亚像素032和一列第三亚像素033依次交替设置为例进行示意。
在此基础上，对于第一亚像素031、第二亚像素032以及第三亚像素033的颜色不进行限定，第一亚像素031、第二亚像素032以及第三亚像素033可以分别为红色亚像素、绿色亚像素以及蓝色亚像素中的一种。例如，第一亚像素031为红色亚像素，第二亚像素032为绿色亚像素，第三亚像素033为蓝色亚像素。又例如，第一亚像素031为绿色亚像素，第二亚像素032为蓝色亚像素，第三亚像素033为红色亚像素。附图4以第一亚像素031为红色亚像素，第二亚像素032为绿色亚像素，第三亚像素033为蓝色亚像素为例进行示意。
此外，对于显示面板1的结构不进行限定，在显示装置为电致发光显示装置的情况下，显示面板1为电致发光显示面板。在显示装置为液晶显示装置的情况下，显示面板1为液晶显示面板。为便于对本发明中各实施例的理解，下面分别以显示面板1为液晶显示面板和电致发光显示面板为例，对显示面板1的结构进行示例性的介绍。然而，下面的示例性的介绍并不能理解为对本发明所提供的显示面板的结构的限定，本发明所提供的显示面板1的结构不仅限于下面的示例性的介绍，其还可以有其它的变化。
如图5所示，电致发光显示面板的主要结构包括显示用基板11以及用于封装显示用基板11的封装层12。
此处，封装层12可以为封装薄膜，也可以为封装基板。
如图5所示，上述的显示用基板11的每个亚像素均包括设置在第一衬底110上的发光器件和驱动电路，驱动电路包括多个薄膜晶体管111。薄膜晶体管111包括有源层、源极、漏极、栅极及栅绝缘层，源极和漏极分别与有源层接触。发光器件包括阳极112、发光功能层113以及阴极114，阳极112和多个薄膜晶体管111中作为驱动晶体管的薄膜晶体管111的漏极电连接。显示用基板11还包括像素界定层115，像素界定层115包括多个开口区，一个发光器件设置在一个开口区中。在一些实施例中，发光功能层113仅包括发光层。在另一些实施例中，发光功能层113除包括发光层外，还包括电子传输层(election transportinglayer，简称ETL)、电子注入层(election injection layer，简称EIL)、空穴传输层(holetransporting layer，简称HTL)以及空穴注入层(hole injection layer，简称HIL)中的一层或多层。
如图5所示，显示用基板11还包括设置在薄膜晶体管111和阳极112之间的平坦层116。
如图6所示，液晶显示面板的主要结构包括相对设置的阵列基板13和对盒基板14、以及设置在阵列基板13和对盒基板14之间的液晶层15。
阵列基板13的每个亚像素均设置有位于第二衬底130上的薄膜晶体管111和像素电极131。像素电极131与薄膜晶体管111的漏极电连接。在一些实施例中，阵列基板13还包括设置在第二衬底130上的公共电极132。像素电极131和公共电极132可以设置在同一层，在此情况下，像素电极131和公共电极132均为包括多个条状子电极的梳齿结构。像素电极131和公共电极132也可以设置在不同层，在此情况下，如图6所示，像素电极131和公共电极132之间设置有第一绝缘层133。在公共电极132设置在薄膜晶体管111和像素电极131之间的情况下，如图6所示，公共电极132与薄膜晶体管111之间还设置有第二绝缘层134。在另一些实施例中，对盒基板14包括公共电极132。
在一些实施例中，如图6所示，对盒基板14包括设置在第三衬底140上的彩色滤光层141，在此情况下，对盒基板14也可以称为彩膜基板(Color filter，简称CF)。其中，彩色滤光层141至少包括红色光阻单元、绿色光阻单元以及蓝色光阻单元，红色光阻单元、绿色光阻单元以及蓝色光阻单元分别与阵列基板13上的亚像素一一正对。对盒基板14还包括设置在第三衬底140上的黑矩阵图案142，黑矩阵图案142用于将红色光阻单元、绿色光阻单元以及蓝色光阻单元间隔开。
如图6所示，液晶显示面板还包括设置在对盒基板14远离液晶层15一侧的上偏光片16以及设置在阵列基板13远离液晶层15一侧的下偏光片17。
基于上述，如图2和图3所示，显示面板1还包括位于弯折区01的调光层10；调光层10用于对从弯折区01出射的光进行调节，以降低从弯折区01出射的光和非弯折区02出射的光的色彩(即颜色)差异。
对于调光层10的结构不进行限定，以调光层10能够对从弯折区01出射的光进行调节，以降低从弯折区01出射的光和非弯折区02出射的光的色彩差异为准。
此处，对于调光层10在显示面板1中的设置位置不进行限定，由于调光层10用于对从弯折区01出射的光进行调节，在显示面板1为电致发光显示面板的情况下，因而调光层10应位于发光层靠近显示面板1的出光侧的一侧。
在此基础上，调光层10可以设置在发光层靠近显示面板1的出光侧的一侧的任意位置。在一些实施例中，如图7所示，调光层10设置在封装层12远离显示用基板11的一侧。
在显示面板1为液晶显示面板的情况下，由于液晶显示面板通过背光组件为其提供光源，因而调光层10可以设置在显示面板1的任意位置。调光层10可以设置在显示面板1的表面，也可以设置在显示面板1的内部。在一些实施例中，彩色滤光层141和调光层10均设置在第三衬底140上，即对盒基板14包括彩色滤光层141和调光层10。
附图2和附图3以调光层10设置在显示面板1中的基底20上为例进行示意。对于基底20的结构不进行限定，可以参考上述显示面板1的结构以及调光层10在显示面板1中的设置位置。例如，调光层10设置在如图5所示的封装层12远离显示用基板11的一侧，基底20的结构包括显示用基板11和封装层12。又例如，调光层10设置在如图6所示的彩色滤光层141和黑矩阵图案142远离液晶层15的一侧，基底20的结构包括依次设置的阵列基板13、液晶层15和彩色滤光层141、黑矩阵图案142。
此外，对于调光层10的材料不进行限定，调光层10的材料可以为有机材料，也可以为无机材料。在调光层10的材料为无机材料的情况下，调光层10的材料例如可以为氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)或氮氧化硅(SiNxOy)。
应当理解到，由于本发明实施例只在弯折区01设置调光层10，因而只改变弯折区01的色偏，不改变非弯折区02的色偏。
图8为相关技术提供的一种显示面板1，显示面板1包括弯折区01和非弯折区02，不包括位于弯折区01的调光层10。在观看者观看显示面板1时，如图8所示，观看者观看非弯折区02是垂直直视视角(即正视角)，观看弯折区01时，其视角实际上已经不是垂直直视视角，而是大视角。由于观看者观看弯折区01和非弯折区02的实际视角不同，相关技术中的显示面板1不包括调光层10，因而弯折区01和非弯折区02存在色彩差异，即弯折区01和非弯折区02存在色偏，从而导致弯折区01和非弯折区02的显示效果不同，影响了用户体验。
本发明实施例提供一种显示面板1，显示面板1包括弯折区01和非弯折区02，显示面板1还包括位于弯折区01的调光层10；调光层10用于对从弯折区01出射的光进行调节，以降低从弯折区01出射的光和非弯折区02出射的光的色彩差异。由于位于弯折区01的调光层10可以对从弯折区01出射的光进行调节，以降低从弯折区01出射的光和非弯折区02出射的光的色彩差异，因而调光层10可以改善从弯折区01出射的光和非弯折区02出射的光的色彩差异，达到调节弯折区01色偏的目的，保证弯折区01和非弯折区02的显示效果一致或近似一致，提高了用户体验。
可选的，如图7所示，调光层10包括第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103中的至少一个；第一调光图案101与第一亚像素031正对，用于对从第一亚像素031出射的光的亮度进行调节；第二调光图案102与第二亚像素032正对，用于对从第二亚像素032出射的光的亮度进行调节；第三调光图案103与第三亚像素033正对，用于对从第三亚像素033出射的光的亮度进行调节。
在一些实施例中，调光层10包括第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103中的任意一个。例如，调光层10包括仅包括第一调光图案101。在另一些实施例中，调光层10包括第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103中的任意两个。例如，调光层10包括第一调光图案101和第二调光图案102。在另一些实施例中，调光层10包括第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103。附图7以调光层10包括第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103为例进行示意。
本领域技术人员应该明白，可以根据显示面板1的弯折区01和非弯折区02的色偏情况，相应选择设置第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103。示例的，第一亚像素031为红色亚像素、第二亚像素032为绿色亚像素，第三亚像素033为蓝色亚像素，若弯折区01相对于非弯折区02偏红，可以使调光层10仅包括第一调光图案101，第一调光图案101用于对从红色亚像素出射的光的亮度进行调节，以改善弯折区01偏红的问题。
本发明实施例，由于调光层10包括第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103中的至少一个，因而可以根据显示面板1的色偏情况，相应选择设置第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103，以对第一亚像素031、第二亚像素032或第三亚像素033的亮度进行精确调整，从而解决弯折区01和非弯折区02存在色偏的情况，使观看者观看显示面板1时，确保弯折区01和非弯折区02的显示效果相同或近似相同。
应当理解到，显示面板1发出的光的颜色与从显示面板1的第一亚像素031、第二亚像素032和第三亚像素033出射的光的亮度有关，因而可以通过改变从第一亚像素031、第二亚像素032和第三亚像素033出射的光的亮度，来调整显示面板1发出的光的颜色。而第一调光图案101的折射率和厚度影响着从第一调光图案101出射的光的亮度，即影响着从第一亚像素031出射的光的亮度。此外，第一调光图案101的折射率与第一调光图案101的材料有关，因而可以通过调整第一调光图案101的材料和厚度，来调整从第一亚像素031出射的光的亮度。基于上述同样的原理，可以通过调整第二调光图案102的材料和厚度，来调整从第二亚像素032出射的光的光亮度；可以通过调整第三调光图案103的材料和厚度，来调整从第三亚像素033出射的光的光亮度。
基于上述，可以根据显示面板1中弯折区01和非弯折区02的色偏情况，选择第一调光图案101、第二调光图案102、第三调光图案103的设置情况以及第一调光图案101、第二调光图案102、第三调光图案103的折射率(即材料)和厚度。
可选的，调光层10包括第一调光图案101和第二调光图案102。
此处，第一调光图案101和第二调光图案102的材料可以相同，也可以不相同。第一调光图案101和第二调光图案102的厚度可以相同，也可以不相同。
可选的，如图7所示，调光层10包括第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103；第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103的折射率(即材料)不完全相同；和/或，第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103的厚度不完全相同。
此处，第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103的折射率不完全相同，可以是第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103的折射率均不相同；也可以是第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103的折射率部分相同，部分不相同。例如第一调光图案101和第二调光图案102的折射率相同，且与第三调光图案103的折射率不相同。
第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103的厚度不完全相同，可以是第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103的厚度均不相同；也可以是第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103的厚度部分相同，部分不相同。例如，第二调光图案102和第三调光图案103的厚度相同，且与第一调光图案101的厚度不相同。
本发明实施例，由于调光层10包括第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103，通过控制第一调光图案101的折射率(即材料)和厚度，便可以对第一亚像素031发出的光的亮度进行精确调节；通过控制第二调光图案102的折射率和厚度，便可以对第二亚像素032发出的光的亮度进行精确调节；通过控制第三调光图案103的折射率和厚度，便可以对第三亚像素033发出的光的亮度进行精确调节，进而可以对弯折区01的色偏进行精确调节，以使弯折区01和非弯折区02的显示效果一致。
本发明实施例还提供一种显示面板1的制备方法，可以用于制备上述的显示面板1。显示面板1的制备方法，包括：
S100、如图2、图3以及图7所示，在基底20的弯折区01形成调光层10；调光层10用于对从弯折区01出射的光进行调节，以降低从弯折区01出射的光和非弯折区02出射的光的色彩差异；其中，基底20包括弯折区01和非弯折区02。
此处，对于基底20的结构不进行限定，具体与显示面板1的结构和调光层10在显示面板1中的设置位置有关。可以参考上述实施例中对基底20的解释说明，此处不再赘述。附图7、图9、图10、图11、图12、图13以及图14均以基底20包括显示用基板11和封装层12为例进行示意。
本发明实施例提供一种显示面板1的制备方法，显示面板1的制备方法具有与上述的显示面板1相同的结构和有益效果，由于上述实施例已经对显示面板1的结构和有益效果进行了详细的描述，因而此处不再赘述。
显示面板1包括第一亚像素031、第二亚像素032以及第三亚像素033。可选的，在基底20的弯折区01形成调光层10，包括：
在基底20的弯折区01形成第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103中的至少一个；第一调光图案101与第一亚像素031正对，用于对从第一亚像素031出射的光的亮度进行调节；第二调光图案102与第二亚像素032正对，用于对从第二亚像素032出射的光的亮度进行调节；第三调光图案103与第三亚像素033正对，用于对从第三亚像素033出射的光的亮度进行调节。
此处，可以在基底20的弯折区01仅形成第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103中的任意一个；也可以在基底20的弯折区01形成第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103中的任意两个；当然还可以在基底20的弯折区01形成第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103。
在第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103的折射率不相同的情况下，即第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103的材料不相同的情况下，在基底20的弯折区01形成第一调光图案101，包括：
S200、如图9所示，利用化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)在基底20上沉积一层第一调光薄膜1010。
此处，化学气相沉积法指的是将两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到待成膜基板表面上。例如，第一调光薄膜1010的材料为氮化硅(Si3N4)，可以通过硅烷和氮气反应形成氮化硅。
在一些实施例中，化学气相沉积法为等离子体增强化学的气相沉积法(PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition，简称PECVD)。
在此基础上，可以通过控制化学气相沉积的沉积时间来控制第一调光薄膜1010的厚度。
S201、如图10所示，对第一调光薄膜1010进行构图，以形成第一调光图案101。
此处，构图包括涂覆光刻胶、掩膜曝光、显影以及刻蚀等工艺。附图11示意出了利用掩膜板(Mask)30对光刻胶40进行掩膜曝光的过程，其它过程未示意出。
在基底20的弯折区01形成第二调光图案102，包括：
S300、如图12所示，利用气相沉积法在基底20上沉积一层第二调光薄膜1020。
此处，可以通过控制化学气相沉积的沉积时间来控制第二调光薄膜1020的厚度。
S301、如图13所示，对第二调光薄膜1020进行构图，以形成第二调光图案102。
此处，构图的具体过程可以参考上述，此处不再赘述。
在基底20的弯折区01形成第三调光图案103，包括：
S400、如图14所示，利用气相沉积法在基底20上沉积一层第三调光薄膜1030。
此处，可以通过控制化学气相沉积的沉积时间来控制第三调光薄膜1030的厚度。
S401、如图7所示，对第三调光薄膜1030进行构图，以形成第三调光图案103。
此处，构图的具体过程可以参考上述，此处不再赘述。
基于上述，在采用S200～S201形成第一调光图案101，采用S300～S301形成第二调光图案102，采用S400～S401形成第三调光图案103的情况下，在基底20的弯折区01形成第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103中的两个或三个时，对于形成各调光图案的顺序不进行限定。例如，在基底20的弯折区01形成第一调光图案101和第二调光图案102，可以先采用S200～S201形成第一调光图案101；再采用S300～S301形成第二调光图案102。或者，可以先采用S300～S301形成第二调光图案102，再采用S200～S201形成第一调光图案101。又例如，在基底20的弯折区01形成第一调光图案101、第二调光图案102和第三调光图案103，可以先采用S200～S201形成第一调光图案101；再采用S300～S301形成第二调光图案102；之后，采用S400～S401形成第三调光图案103。
在此基础上，第一调光图案101、第二调光图案102和第三调光图案103的材料不相同，即第一调光图案101、第二调光图案102和第三调光图案103的折射率不相同，在利用化学气相沉积法形成第一调光薄膜1010、第二调光薄膜1020以及第三调光薄膜1030时，可以是发生化学反应的两种或两种以上气态原材料不完全相同；也可以是发生化学反应的两种或两种以上气态原材料相同，但两种或两种以上气态原材料的流量比不完全相同。例如，第一调光图案101的材料为氮化硅，利用化学气相沉积法形成第一调光薄膜1010时，可以通过硅烷和氮气反应形成氮化硅。第二调光图案102的材料为氧化硅，利用化学气相沉积法形成第二调光薄膜1020时，可以利用硅烷和氧气反应形成氧化硅。又例如，第一调光图案101和第二调光图案102的材料均为氮氧化硅，氮氧化硅中氮氧的比例不相同，即第一调光图案101的材料为SiOx1Ny1，第二调光图案102的材料为SiOx2Ny2，其中，x1≠x2，和/或，y1≠y2，在利用化学气相沉积法形成第一调光薄膜1010和第二调光薄膜1020时，可以通过控制硅烷、氮气以及氧气的流量比，来调节SiOxNy中N和O的比例，从而达到调整材料折射率的目的。
在基底20的弯折区01形成第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103中的至少一个，包括：
利用气相沉积法在基底20上沉积一层第四调光薄膜，对第四调光薄膜进行构图，以形成第一调光图案101和第二调光图案102。
由于对第四调光薄膜进行构图，同时形成第一调光图案101和第二调光图案102，因而第一调光图案101的折射率和第二调光图案102的折射率相同。
此处，对第四调光薄膜进行构图，同时形成第一调光图案101和第二调光图案102时，第一调光图案101的厚度和第二调光图案102的厚度可以相同，也可以不相同。在第一调光图案101的厚度和第二调光图案102的厚度不相同的情况下，构图过程中掩膜曝光所用的掩膜板为半色调掩膜板。
或者，在基底20的弯折区01形成第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103中的至少一个，包括：
利用气相沉积法在基底20上沉积一层第四调光薄膜，对第四调光薄膜进行构图，以形成第一调光图案101和第二调光图案102；利用气相沉积法在基底20上沉积一层第五调光薄膜，对第五调光薄膜进行构图，以形成第三调光图案103；第四调光薄膜的折射率与第五调光薄膜的折射率不相同。
此处，由于对第四调光薄膜进行构图，同时形成第一调光图案101和第二调光图案102，因而第一调光图案101的折射率和第二调光图案102的折射率相同。此外，由于第四调光薄膜的折射率和第五调光薄膜的折射率不相同，因而第三调光图案103的折射率与第一调光图案101的折射率、第二调光图案102的折射率不相同。
在此基础上，第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103的厚度可以相同，也可以不完全相同。在第一调光图案101和第二调光图案102的厚度不相同的情况下，对第四调光薄膜进行构图时，构图过程中掩膜曝光所用的掩膜板为半色调掩膜板。
此外，可以先形成第一调光图案101和第二调光图案102，再形成第三调光图案103；也可以先形成第三调光图案103，再形成第一调光图案101和第二调光图案102。
或者，在基底20的弯折区01形成第一调光图案101、第二调光图案102以及第三调光图案103中的至少一个，包括：
利用气相沉积法在基底20上沉积一层调光薄膜，对调光薄膜进行构图，以形成第一调光图案101、第二调光图案102和第三调光图案103；第一调光图案101、第二调光图案102和第三调光图案103的厚度不完全相同。
由于对调光薄膜进行构图，同时形成第一调光图案101、第二调光图案102和第三调光图案103，因而第一调光图案101、第二调光图案102和第三调光图案103的折射率相同。
此外，上述实施例已经对第一调光图案101、第二调光图案102和第三调光图案103的厚度不完全相同进行了详细的解释说明，此处不再赘述。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，包括弯折区和非弯折区；其特征在于，所述显示面板包括位于所述弯折区的调光层；
所述调光层用于对从所述弯折区出射的光进行调节，以降低从所述弯折区出射的光和所述非弯折区出射的光的色彩差异。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括第一亚像素、第二亚像素以及第三亚像素；
所述调光层包括第一调光图案、第二调光图案以及第三调光图案中的至少一个；所述第一调光图案与所述第一亚像素正对，用于对从所述第一亚像素出射的光的亮度进行调节；所述第二调光图案与所述第二亚像素正对，用于对从所述第二亚像素出射的光的亮度进行调节；所述第三调光图案与所述第三亚像素正对，用于对从所述第三亚像素出射的光的亮度进行调节。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述调光层包括第一调光图案、第二调光图案以及第三调光图案；
所述第一调光图案、所述第二调光图案以及所述第三调光图案的折射率不完全相同；和/或，所述第一调光图案、所述第二调光图案以及所述第三调光图案的厚度不完全相同。
4.根据权利要求1-3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为电致发光显示面板；所述电致发光显示面板包括显示用基板和封装层；所述显示用基板包括发光层；
所述调光层位于所述发光层靠近所述显示面板的出光侧的一侧。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述调光层设置在所述封装层远离所述显示用基板的一侧。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述调光层的材料为无机材料。
7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
在基底的弯折区形成调光层；所述调光层用于对从所述弯折区出射的光进行调节，以降低从所述弯折区出射的光和非弯折区出射的光的色彩差异；
其中，所述基底包括所述弯折区和所述非弯折区。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板包括第一亚像素、第二亚像素以及第三亚像素；
所述在基底的弯折区形成调光层，包括：
在所述基底的所述弯折区形成第一调光图案、第二调光图案以及第三调光图案中的至少一个；所述第一调光图案与所述第一亚像素正对，用于对从所述第一亚像素出射的光的亮度进行调节；所述第二调光图案与所述第二亚像素正对，用于对从所述第二亚像素出射的光的亮度进行调节；所述第三调光图案与所述第三亚像素正对，用于对从所述第三亚像素出射的光的亮度进行调节。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述基底的弯折区形成第一调光图案，包括：利用化学气相沉积法在所述基底上沉积一层第一调光薄膜，对所述第一调光薄膜进行构图，以形成所述第一调光图案；
在所述基底的弯折区形成第二调光图案，包括：利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第二调光薄膜，对所述第二调光薄膜进行构图，以形成所述第二调光图案；
在所述基底的弯折区形成第三调光图案，包括：利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第三调光薄膜，对所述第三调光薄膜进行构图，以形成所述第三调光图案；
所述第一调光图案、所述第二调光图案以及所述第三调光图案的折射率不相同。
10.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述基底的所述弯折区形成第一调光图案、第二调光图案以及第三调光图案中的至少一个，包括：
利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第四调光薄膜，对所述第四调光薄膜进行构图，以形成所述第一调光图案和所述第二调光图案；
或者，利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第四调光薄膜，对所述第四调光薄膜进行构图，以形成第一调光图案和第二调光图案；
利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第五调光薄膜，对所述第五调光薄膜进行构图，以形成第三调光图案；所述第四调光薄膜与所述第五调光薄膜的折射率不相同；
或者，利用气相沉积法在所述基底上沉积一层调光薄膜，对所述调光薄膜进行构图，以形成第一调光图案、第二调光图案和第三调光图案；所述第一调光图案、所述第二调光图案和所述第三调光图案的厚度不完全相同。
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