CN111162106B - 显示基板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示基板和显示装置。该显示基板中包括可拉伸的衬底、设置在衬底上的多个像素驱动电路，设置在像素驱动电路背向衬底一侧的多个像素电极，像素驱动电路与像素电极一一对应地相连；在像素岛区和其对应的至少一个连接桥区内均设置有像素区，像素区内设置有多个像素电极，像素岛区及其对应的连接桥区内的像素电极的像素驱动电路均设置在该像素岛区。既能提高显示的分辨率，又能提高显示的均匀性。

Description

显示基板和显示装置

技术领域

本发明属于显示技术领域，更具体地，涉及一种显示基板和一种显示装置。

背景技术

对于可拉伸的显示装置而言，通常会将显示基板划分为像素岛区、连接桥区和开孔区。现有的设计方案中，在像素岛区设置像素(例如是红绿蓝三种颜色的有机发光二极管)，在连接桥区设置线路用以将像素岛区内的像素与外界的驱动电路相连。这种设计方式像素的分布并不均匀且显示的分辨率不高。

发明内容

本发明提供一种显示基板和一种显示装置，以提高可拉伸显示装置中像素分布的均匀性以及提高分辨率。

根据本发明第一方面，提供一种显示基板，划分有彼此隔开的多个像素岛区、多个开孔区、位于所述像素岛区与所述开孔区之间的连接桥区，所述多个像素岛区沿相交的第一方向和第二方向阵列式排布，在每个像素岛区沿所述第一方向的两侧各对应设置有一个连接桥区，每个像素岛区沿所述第二方向的两侧各对应设置有一个连接桥区，相邻像素岛区之间形成有两个连接桥区；所述显示基板包括可拉伸的衬底、设置在所述衬底上的多个像素驱动电路，设置在所述像素驱动电路背向所述衬底一侧的多个像素电极，所述像素驱动电路与所述像素电极一一对应地相连；在所述像素岛区和其对应的至少一个连接桥区内均设置有像素区，所述像素区内设置有多个所述像素电极，所述像素岛区及其对应的连接桥区内的像素电极的像素驱动电路均设置在该像素岛区。

在一些实施例中，所述像素岛区及其对应的连接桥区内的各像素区沿所述第一方向和所述第二方向阵列式排布。

在一些实施例中，所述像素岛区及其对应的连接桥区内的各像素区排成N*N的方阵。

在一些实施例中，所述像素驱动电路包括晶体管，所述晶体管包括有源层、栅绝缘层、栅极、层间绝缘层、源漏极，所述源漏极中的源极和漏极均通过贯穿所述栅绝缘层和所述层间绝缘层的过孔与所述有源层相连，所述显示基板还包括覆盖所述晶体管的平坦化层，所述像素电极位于所述平坦化层背向所述衬底一侧；所述连接桥区内的像素电极通过连接线与对应像素驱动电路中的一个晶体管的漏极相连，所述连接线在所述衬底的正投影从所述像素岛区延伸至所述连接桥区。

在一些实施例中，所述连接线与所述源漏极同层设置，位于所述连接桥区的像素电极通过贯穿所述平坦化层的过孔与对应的连接线相连。

在一些实施例中，所述连接线中的至少一段与所述栅极同层设置，所述连接线与位于所述连接桥区的所述像素电极接触的部分与所述源漏极同层设置，位于所述连接桥区的像素电极通过贯穿所述平坦化层的过孔与对应的连接线相连；或者所述连接线中的至少一段与位于所述连接桥区的所述像素电极同层设置，所述连接线与位于所述连接桥区的所述像素电极接触的部分与所述像素电极同层设置且二者连为一体。

在一些实施例中，所述像素岛区内的像素电极通过贯穿所述平坦化层的过孔与对应的像素驱动电路中的一个晶体管的漏极相连。

在一些实施例中，所述显示基板还包括发光器件，所述发光器件的一个电极为所述像素电极。

在一些实施例中，所述发光器件为有机发光二极管或量子点发光二极管。

根据本发明第二方面，提供一种显示装置，包括第一方面的显示基板。

附图说明

图1是本发明的一些实施例的显示基板的像素分布图。

图2是本发明的另一些实施例的显示基板的像素分布以及像素驱动电路的分布图。

图3是本发明的实施例的显示基板在像素岛区的层叠结构示意图之一。

图4是本发明的实施例的显示基板在像素岛区的层叠结构示意图之二。

图5是本发明的实施例的显示基板在连接桥区的层叠结构示意图。

附图标记为：1、像素岛区；2、开孔区；3、连接桥区；R、红色发光器件；G、绿色发光器件；B、蓝色发光器件；a-i、像素驱动电路组；10、衬底；10a、第一缓冲层；10b、第二缓冲层；11a、有源层；11b、栅绝缘层；11c、栅极；11d、层间绝缘层；11e、源漏极；11、晶体管；12、平坦化层；13a、像素电极；13b、有机功能层；13c、阴极；14、像素界定层；15、连接线。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

在本发明中，两结构“同层设置”是指二者是由同一个材料层形成的，故它们在层叠关系上处于相同层中，但并不代表它们与基底间的距离相等，也不代表它们与基底间的其它层结构完全相同。

本发明的实施例提供一种显示基板，参考图1和图2，划分有彼此隔开的多个像素岛区1、多个开孔区2、位于像素岛区1与开孔区2之间的连接桥区3，多个像素岛区1沿相交的第一方向和第二方向阵列式排布，在每个像素岛区1沿第一方向的两侧各对应设置有一个连接桥区3，每个像素岛区1沿第二方向的两侧各对应设置有一个连接桥区3，相邻像素岛区1之间形成有两个连接桥区3；显示基板包括可拉伸的衬底10、设置在衬底10上的多个像素驱动电路，设置在像素驱动电路背向衬底10一侧的多个像素电极13a，像素驱动电路与像素电极13a一一对应地相连；在像素岛区1和其对应的至少一个连接桥区3内均设置有像素区，像素区内设置有多个像素电极13a，像素岛区1及其对应的连接桥区3内的像素电极13a的像素驱动电路均设置在该像素岛区1。

第一方向例如是行方向，第二方向例如是列方向。

每个像素区内可以设置多个发光器件(例如是红色发光器件R、绿色发光器件G、蓝色发光器件B)从而形成不同颜色的子像素。当然，在一些显示基板的产品状态中，仅形成了这些发光器件的一个电极(像素电极13a)，尚未形成完整的发光器件。

在图1中，最小重复单元为4行4列个像素区，中间4个像素区位于像素岛区1，其周边每一个连接桥区3设置3个像素区。

在图2中，最小重复单元为3行3列个像素区，中间一个像素区位于像素岛区1，其周边每一个连接桥区3设置2个像素区。

像素中的各个子像素的形状、尺寸、排列方式等可以灵活设定，本发明对此不做限定。

参考图2，一个像素驱动电路组a-i中可以是包含3个像素驱动电路，分别驱动对应的一个像素中的三个发光器件中的一个发光器件。为体现像素驱动电路组的分布方式，图2中位于像素岛区1的那一个像素没有示出。

本发明对像素驱动电路的具体结构也不做限定，可以按照现有技术设置。

将像素驱动电路均设置在像素岛区1，这是因为像素岛区1内有足够的空间布置这些像素驱动电路。连接桥区3中通常设置走线，走线之上也会如像素岛区1那样设置平坦化层12。发明人发现现有技术中，位于连接桥区3的平坦化层12之上的空间本可以设置发光器件，这部分空间并未被利用起来。

图3示出的是像素岛区1内的发光器件与其对应的像素驱动电路之间的连接关系示意图。像素岛区1内的发光器件被位于像素岛区1内的像素驱动电路所驱动。

图4示出的是像素岛区1内用于驱动连接桥区3内的发光器件的像素驱动电路的连线方式。结合图2，像素岛区1内的这些像素驱动电路通过连接线15连接到位于连接桥区3的发光器件。图5示出的是在连接桥区3连接线15与对应的发光器件的连接方式。

如此设置，充分利用连接桥区3的面积，增加了显示的分辨率，也使得像素的分布更加均匀。

在一些实施例中，像素岛区1及其对应的连接桥区3内的各像素区沿第一方向和第二方向阵列式排布。即参考图1和图2，由于在连接桥区3设置发光器件从而构成一个或多个像素，可以按照常规的显示基板那样，按照矩阵式排布像素。

当然，在另外一些实施例中，像素岛区1周边的连接桥区3也可以是尽在其中一个或两个或三个连接桥区3内设置构成一个像素的发光器件，或者连接桥区3内形成的像素也可以是与像素岛区1内的像素不是呈矩阵式排布的。

在一些实施例中，参考图1和图2，像素岛区1及其对应的连接桥区3内的各像素区排成N*N的方阵。如此，可以进一步使得像素的分布更加均匀。

在一些实施例中，参考图2-图5，像素驱动电路包括晶体管11，晶体管11包括有源层11a、栅绝缘层11b、栅极11c、层间绝缘层11d、源漏极11e，源漏极11e中的源极和漏极均通过贯穿栅绝缘层11b和层间绝缘层11d的过孔与有源层11a相连，显示基板还包括覆盖晶体管11的平坦化层12，像素电极13a位于平坦化层12背向衬底10一侧；连接桥区3内的像素电极13a通过连接线15与对应像素驱动电路中的一个晶体管11的漏极相连，连接线15在衬底10的正投影从像素岛区1延伸至连接桥区3。

该晶体管11为顶栅型薄膜晶体管11，当然也可以是底栅型薄膜晶体管11。具体由连接线15将位于像素岛区1的像素驱动电路与位于连接桥区3的发光器件连接在一起。

在衬底10上通常还可以设置缓冲层，缓冲层可以是由单层材料构成，也可以是由多层材料构成。例如在图5所示的显示基板中，缓冲层由第一缓冲层10a和第二缓冲层10b构成。第一缓冲层10a的材料例如是硅的氮化物，第二缓冲层10b的材料例如是硅的氧化物。

衬底10作为可拉伸的衬底，其选材例如是聚酰亚胺(PI)、聚酯、聚酰胺等。

有源层11a的材料可以是金属氧化物半导体、硅(包括应变硅)、锗、硅者、碳化硅、砷化镓、砷化铝镓、磷化铟、氮化镓或有机半导体等。

金属氧化物半导体可以采用包含铟和锡的氧化物、包含钨和铟的氧化物、包含钨和铟和锌的氧化物、包含钛和铟的氧化物、包含钛和铟和锡的氧化物、包含铟和锌的氧化物、包含硅和铟和锡的氧化物、包含铟和镓和锌的氧化物等。

栅绝缘层11b、层间绝缘层11d的材料可以采用硅氧化物SiOx、硅氮化物SiNx、氮氧化硅SiON等，也可以采用氧化铝AlOx、氧化铪HfOx、氧化钽TaOx、氧化钇、氧化锆、氧化镓、氧化镁、氧化镧、氧化铈、氧化钕等。

平坦化层12的材料例如可以是有机树脂材料。

连接线15的材料可以使用合金或化合物，还可以使用含铝的导体、含铜及钛的导体、含铜及锰的导体、含铟、锡及氧的导体、含钛及氮的导体等。这些线路的材料例如是铬Cr、金Au、锌Zn、银Ag、铜Cu、铝Al、钼Mo、钽Ta、钛Ti、钨W、锰Mn、镍Ni、铁Fe、钴Co等，或包含上述金属元素作为成分的合金或者包含上述金属元素的组合的合金等，如铝钕合金AlNd、钼铌合金MoNb等，可以是多层金属，如Mo/Cu/Mo等。优选地采用Cu-X合金膜(X为Mn、Ni、Cr、Fe、Co、Mo、Ta或Ti)。通过使用Cu-X合金膜，由于可以通过湿蚀刻工序对薄膜进行加工，可以降低制造成本。进一步优选地，采用Cu-Mn合金膜。

参考图4和图5，在一些实施例中，连接线15与源漏极11e同层设置，位于连接桥区3的像素电极13a通过贯穿平坦化层12的过孔与对应的连接线15相连。

即采用源漏极11e所在线路层设置连接线15，连接线15延伸至连接桥区3后，通过过孔与对应的发光器件的像素电极13a相连。

当然，若在源漏极11e所在线路层布线空间不足的情况下，也可以采用其他像素层布置连接线15。

例如，连接线15中的至少一段与栅极11c同层设置，连接线15与位于连接桥区3的像素电极13a接触的部分与源漏极11e同层设置，位于连接桥区3的像素电极13a通过贯穿平坦化层12的过孔与对应的连接线15相连。相当于在栅极11c所在层设置跳线。

又例如，连接线15中的至少一段与连接桥区的像素电极13a同层设置，连接线15与位于连接桥区3的像素电极13a接触的部分与像素电极同层设置且二者连为一体。即将部分连接线15采用像素电极13a所在线路层进行布线，如此，在连接桥区3连接线15可以直接与像素电极13a连为一体，而无需在设置过孔。

即从像素岛区1的像素驱动电路到连接桥区3的像素电极13a之间的布线可以灵活设置。

在一些实施例中，参考3，像素岛区1内的像素电极13a通过贯穿平坦化层12的过孔与对应的像素驱动电路中的一个晶体管11的漏极相连。

在一些实施例中，显示基板还包括发光器件，发光器件的一个电极为像素电极13a。

具体地，发光器件为有机发光二极管或量子点发光二极管。

参考图3，如发光器件为有机发光二极管，其可以包括叠置的像素电极13a(通常作为阳极)、有机功能层13b和阴极13c。像素界定层14限定了有机发光二极管的发光区域，从而定义了一个子像素的发光区域。有机功能层13b可通过蒸镀或喷墨打印的工艺形成在像素界定层14的开口区内。

本发明的实施例还提供一种显示装置，包括上述的显示基板。

显示装置例如是有机发光二极管显示面板、量子点发光二极管显示面板、显示模组、曲面屏手机、智能手表等任意具有显示功能的产品或部件。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示基板，划分有彼此隔开的多个像素岛区、多个开孔区、位于所述像素岛区与所述开孔区之间的连接桥区，所述多个像素岛区沿相交的第一方向和第二方向阵列式排布，在每个像素岛区沿所述第一方向的两侧各对应设置有一个连接桥区，每个像素岛区沿所述第二方向的两侧各对应设置有一个连接桥区，相邻像素岛区之间形成有两个连接桥区；其特征在于，

所述显示基板包括可拉伸的衬底、设置在所述衬底上的多个像素驱动电路，设置在所述像素驱动电路背向所述衬底一侧的多个像素电极，所述像素驱动电路与所述像素电极一一对应地相连；

在所述像素岛区和其对应的至少一个连接桥区内均设置有像素区，所述像素区内设置有多个所述像素电极，所述像素岛区及其对应的连接桥区内的像素电极的像素驱动电路均设置在该像素岛区。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素岛区及其对应的连接桥区内的各像素区沿所述第一方向和所述第二方向阵列式排布。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述像素岛区及其对应的连接桥区内的各像素区排成N*N的方阵。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素驱动电路包括晶体管，所述晶体管包括有源层、栅绝缘层、栅极、层间绝缘层、源漏极，所述源漏极中的源极和漏极均通过贯穿所述栅绝缘层和所述层间绝缘层的过孔与所述有源层相连，所述显示基板还包括覆盖所述晶体管的平坦化层，所述像素电极位于所述平坦化层背向所述衬底一侧；

所述连接桥区内的像素电极通过连接线与对应像素驱动电路中的一个晶体管的所述漏极相连，所述连接线在所述衬底的正投影从所述像素岛区延伸至所述连接桥区。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述连接线与所述源漏极同层设置，位于所述连接桥区的像素电极通过贯穿所述平坦化层的过孔与对应的连接线相连。

6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述连接线中的至少一段与所述栅极同层设置，所述连接线与位于所述连接桥区的所述像素电极接触的部分与所述源漏极同层设置，位于所述连接桥区的像素电极通过贯穿所述平坦化层的过孔与对应的连接线相连；或者，

所述连接线中的至少一段与位于所述连接桥区的所述像素电极同层设置，所述连接线与位于所述连接桥区的所述像素电极接触的部分与所述像素电极同层设置且二者连为一体。

7.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述像素岛区内的像素电极通过贯穿所述平坦化层的过孔与对应的像素驱动电路中的一个晶体管的所述漏极相连。

8.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括发光器件，所述发光器件的一个电极为所述像素电极。

9.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述发光器件为有机发光二极管或量子点发光二极管。

10.一种显示装置，其特征在于，包括根据权利要求1-9任意一项所述的显示基板。

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