CN111132978A - 化合物的制造方法、组合物及固化性组合物 - Google Patents

化合物的制造方法、组合物及固化性组合物 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种能够制造着色少的苯并二硫醇化合物的化合物的制造方法、组合物及固化性组合物。一种化合物的制造方法，该化合物由式(1)表示，该制造方法包括在还原剂的存在下使由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物进行反应的工序。式中，R11及R12各自独立地表示氢原子等。R21及R22各自独立地表示烷基。A1及A2各自独立地表示OH或O‑，A1及A2中的至少一个表示OH。X及Y各自独立地表示吸电子性基团。Z表示n价的阴离子，n表示1以上的整数。其中，在A1及A2中的一个表示O‑的情况下，Z不存在。

Description

化合物的制造方法、组合物及固化性组合物
技术领域
本发明涉及一种化合物的制造方法。更详细而言，涉及一种苯并二硫醇化合物的制造方法。并且，涉及一种包含苯并二硫醇化合物的组合物及包含前述组合物的固化性组合物。
背景技术
苯并二硫醇化合物的紫外线吸收性优异，并且用于紫外线吸收剂等。例如，在专利文献1中记载了涉及一种含有特定的苯并二硫醇化合物的紫外线吸收剂的发明。并且，在专利文献1中记载了如下内容：使具有氮脱离基的苯并二硫醇化合物与吡唑烷二酮化合物进行反应来制造苯并二硫醇化合物。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-263617号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
然而，在至今为止已知的苯并二硫醇化合物的制造方法中，发现了着色容易增加。
由此，本发明的目的在于提供一种能够制造着色少的苯并二硫醇化合物的化合物的制造方法、组合物及固化性组合物。
用于解决技术课题的手段
根据本发明人的研究，发现：在制造由式(1)表示的化合物时，在还原剂的存在下使由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物进行反应，由此能够获得包含由式(1)表示的化合物且着色少的产物，从而完成了本发明。
由此，本发明提供以下内容。
＜1＞一种化合物的制造方法，该化合物由式(1)表示，该制造方法包括在还原剂的存在下使由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物进行反应的工序，
[化学式1]
Figure BDA0002423528840000021
式中，R11及R12各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基；
R21及R22各自独立地表示烷基；
A1及A2各自独立地表示OH或O-，A1及A2中的至少一个表示OH；
X及Y各自独立地表示吸电子性基团；
Z表示n价的阴离子，n表示1以上的整数；其中，在A1及A2中的一个表示O-的情况下，Z不存在；
R11和R12可以相互键合而形成环，R21和R22可以相互键合而形成环，X和Y可以相互键合而形成环。
＜2＞根据＜1＞所述的化合物的制造方法，其中，还原剂的标准氧化还原电位为-0.5～1.0V。
＜3＞根据＜1＞或＜2＞所述的化合物的制造方法，其中，还原剂为有机还原剂。
＜4＞根据＜1＞至＜3＞中任一项所述的化合物的制造方法，其中，还原剂为抗坏血酸。
＜5＞根据＜1＞至＜4＞中任一项所述的化合物的制造方法，其中，由式(1)表示的化合物为由式(4)表示的化合物，
[化学式2]
Figure BDA0002423528840000031
式中，R11及R12各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基；
R13及R14各自独立地表示脂肪族基团、芳香族基团或杂环基；
R11和R12可以相互键合而形成环，R13和R14可以相互键合而形成环。
＜6＞根据＜1＞至＜5＞中任一项所述的化合物的制造方法，其中，在还原剂的存在下使由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物进行反应之后，向所获得的反应物中进一步添加酸。
＜7＞根据＜6＞所述的化合物的制造方法，其中，前述酸为磺酸。
＜8＞根据＜1＞至＜7＞中任一项所述的化合物的制造方法，其中，在还原剂共存的包含酰胺系溶剂的溶剂的存在下进行由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物的反应。
＜9＞一种组合物，其包含由式(1)表示的化合物，
前述组合物中，在甲醇中测定的分光吸收光谱中，波长385nm处的摩尔吸光系数ε385与波长430nm处的摩尔吸光系数ε430之比即ε430/ε385为0.015～0.028，
[化学式3]
Figure BDA0002423528840000032
式中，R11及R12各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基；
X及Y各自独立地表示吸电子性基团；
R11和R12可以相互键合而形成环；
X和Y可以相互键合而形成环。
＜10＞根据＜9＞所述的组合物，其为紫外线吸收剂。
＜11＞一种固化性组合物，其包含＜9＞或＜10＞所述的组合物和固化性化合物。
＜12＞根据＜11＞所述的固化性组合物，其中，固化性化合物为具有-O-S i-O-结构的化合物。
发明效果
根据本发明，能够提供一种能够制造着色少的苯并二硫醇化合物的化合物的制造方法。并且，能够提供一种包含着色少的苯并二硫醇化合物的组合物及固化性组合物。
具体实施方式
以下，对本发明的内容进行详细说明。
在本说明书中的基团(原子团)的标记中，未标有取代及未取代的标记不仅包含不具有取代基的基团，而且包含具有取代基的基团。例如，“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未取代的烷基)，还包含具有取代基的烷基(取代的烷基)。
本说明书中，使用“～”来表示的数值范围是指将“～”的前后所记载的数值作为下限值及上限值而包含的范围。
在本说明书中，总固体成分是指从组合物的所有成分中去除了溶剂的成分的总量。
在本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者或任一个，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸这两者或任一个，“(甲基)烯丙基”表示烯丙基及甲代烯丙基这两者或任一个，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两者或任一个。
本说明书中，“工序”这一术语不仅是指独立的工序，即使在无法与其他工序明确区分的情况下，只要可实现该工序的预期作用，则也包含于本术语中。
在本说明书中，重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)被定义为通过凝胶渗透色谱(GPC)测定出的聚苯乙烯换算值。
＜由式(1)表示的化合物的制造方法＞
本发明的化合物的制造方法为包括在还原剂的存在下使由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物进行反应的工序的、由式(1)表示的化合物的制造方法。
[化学式4]
Figure BDA0002423528840000051
式中，R11及R12各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基；
R21及R22各自独立地表示烷基；
A1及A2各自独立地表示OH或O-，A1及A2中的至少一个表示OH；
X及Y各自独立地表示吸电子性基团；
Z表示n价的阴离子，n表示1以上的整数；其中，在A1及A2中的一个表示O-的情况下，Z不存在；
R11和R12可以相互键合而形成环，R21和R22可以相互键合而形成环，X和Y可以相互键合而形成环。
根据本发明，在制造由式(1)表示的化合物时，在还原剂的存在下使由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物进行反应，由此能够获得包含由式(1)表示的化合物且着色少的产物。
在此，在以往的方法中，发现了：在由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物的反应之后的产物中除了由式(1)表示的化合物以外还包含相对大量的副反应物等，并且这些副反应物的存在成为着色的原因。
根据本发明，推测为：在制造由式(1)表示的化合物时，在还原剂的存在下使由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物进行反应，由此能够抑制副反应的进行，或者能够抑制作为原料的由式(2)表示的化合物、作为产物的由式(1)表示的化合物的氧化等，并且推测为：其结果，能够获得包含作为目标化合物的由式(1)表示的化合物且着色少的产物。
另外，作为原料的由式(3)表示的化合物、作为产物的由式(1)表示的化合物中，“X”及“Y”的部位为吸电子性基团，因此通常在将具有这种吸电子性基团的化合物用作原料的反应中不使用还原剂。即，通常认为：若在还原剂的存在下使由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物进行反应，则由于还原剂的作用，作为原料的由式(3)表示的化合物、作为产物的由式(1)表示的化合物被分解而杂质增加，或者反应效率下降而更容易发生着色。然而，令人惊讶的是，即使是本领域技术人员也无法预测如下：通过在还原剂的存在下进行上述反应，能够获得着色得到了抑制的产物。
关于获得由式(1)表示的化合物的反应，在溶剂的存在下或无溶剂的条件下使由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物在还原剂共存的体系中进行。可以进一步添加酸、碱基、盐、其他有机化合物、无机化合物等。
作为还原剂，可以是有机还原剂，也可以是无机还原剂。作为有机还原剂，可举出抗坏血酸、抗坏血酸衍生物(例如，3-O-乙基抗坏血酸、抗坏血酸-2-葡糖苷)、亚磺酸(例如，甲亚磺酸、苯亚磺酸)、甲酸、草酸、取代或未取代的4-氨基苯酚、取代或未取代的对苯二胺、取代或未取代的1-苯基-3-吡唑烷酮等。作为无机还原剂，可举出水合肼、还原铁、锡、二氧化硫、亚硫酸钠、氢化硼钠、氢化铝锂等。还原剂的标准氧化还原电位优选为-0.5～1.0V。下限优选为-0.2V以上，进一步优选为0V以上。上限优选为0.7V以下，进一步优选为0.5V以下。若还原剂的标准氧化还原电位为1.0V以下，则通过由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物的反应能够充分地获得抑制副反应的效果。并且，若还原剂的标准氧化还原电位为-0.5V以上，则能够抑制由于由式(1)表示的化合物、由式(3)表示的化合物的还原引起的分解等。还原剂优选为有机还原剂，更优选为抗坏血酸或抗坏血酸衍生物，进一步优选为抗坏血酸(标准氧化还原电位为0.34V)。
作为在上述反应时所使用的溶剂(反应溶剂)，可举出水、酰胺系溶剂(例如，N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、1-甲基-2-吡咯烷酮)、砜系溶剂(例如，环丁砜)、亚砜系溶剂(例如，二甲基亚砜)、脲系溶剂(例如，四甲基脲)、醇系溶剂(例如，甲醇、乙醇、2-丙醇、辛醇、苄醇)、醚系溶剂(例如，二噁烷、苯甲醚、四氢呋喃)、酮系溶剂(例如，丙酮、环己酮)、烃系溶剂(例如，甲苯、二甲苯、均三甲苯、正辛烷、正十二烷)、卤素系溶剂(例如，氯苯、四氯乙烷、二氯苯)、吡啶系溶剂(例如，吡啶、γ-甲基吡啶、2,6-二甲基砒啶)及腈系溶剂(例如，乙腈)。优选将它们单独或混合使用。其中，优选酰胺系溶剂、砜系溶剂、亚砜系溶剂、脲系溶剂、醇系溶剂、醚系溶剂、烃系溶剂、卤素系溶剂及腈系溶剂，更优选酰胺系溶剂。关于酰胺系溶剂，作为原料的式(2)的化合物的溶解性特别良好，通过使用酰胺系溶剂作为反应溶剂，能够提高式(2)的化合物与式(3)的化合物的反应性，能够抑制副反应的进行等并抑制杂质的产生。
由式(2)表示的化合物和由式(3)表示的化合物的反应温度优选0～250℃。下限优选10℃以上，更优选20℃以上，进一步优选25℃以上，尤其优选30℃以上。上限优选200℃以下，更优选120℃以下，进一步优选90℃以下。若反应温度在上述范围内，则能够抑制副反应的进行等并抑制杂质的产生。并且，反应时间优选1分钟～24小时。下限优选5分钟以上，更优选10分钟以上，进一步优选15分钟以上。上限优选12小时以下，更优选8小时以下，进一步优选4小时以下。
关于由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物的反应，优选以由式(3)表示的化合物的摩尔数与由式(2)表示的化合物的摩尔数之比成为0.01以上的比例进行反应，更优选以成为0.1以上的比例进行反应，进一步优选以成为0.3以上的比例进行反应，尤其优选以成为0.5以上的比例进行反应。前述比的上限优选为10.0以下，更优选为6.0以下，进一步优选为4.0以下，尤其优选为2.0以下。
作为还原剂的添加量，还原剂的摩尔数与由式(2)表示的化合物的摩尔数之比优选为0.0001以上，更优选为0.001以上，进一步优选为0.01以上，尤其优选为0.02以上。前述比的上限优选为20.0以下，更优选为10.0以下，进一步优选为5.0以下，尤其优选为2.0以下。
本发明中，尤其优选在还原剂的存在下使由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物进行反应之后，向作为所获得的反应物的由式(1)表示的化合物中进一步添加酸。由式(1)表示的化合物或由式(2)表示的化合物的氧化反应、苯酚部中的取代反应等副反应具有反应体系若为碱性则容易进行的倾向，但是通过向反应物中添加酸，能够有效地抑制这些副反应的进行并进一步抑制杂质的产生等。其结果，能够获得以高纯度包含作为目标化合物的由式(1)表示的化合物的产物。
作为上述酸，可以是有机酸，也可以是无机酸。作为有机酸，可举出磺酸(例如，甲磺酸、对甲苯磺酸)、羧酸(例如，乙酸、甲酸、丁酸、苯甲酸、草酸)等，作为无机酸，可举出盐酸、硫酸、硝酸、磷酸等。优选为有机酸，最优选为磺酸。
作为上述酸的添加量，酸的摩尔与由式(2)表示的化合物的摩尔数之比优选为0.0001以上，更优选为0.001以上，进一步优选为0.01以上，尤其优选为0.1以上。前述比的上限优选为50.0以下，更优选为20.0以下，进一步优选为10.0以下，尤其优选为5.0以下。
优选在反应结束之后，向水或其他溶剂或者它们的混合溶剂中添加反应混合物、或者向反应混合物中添加前述溶剂，将由式(1)表示的化合物固体化为晶体或非晶态，并通过过滤等方法去除溶剂而进行分离。并且，也优选在向所取出的固体中加入溶剂并进行清洗、或者溶解于溶剂中之后，根据情况而加入其他溶剂并使其再结晶。进而，可以进行多次这些工序。如此，能够制造由式(1)表示的化合物。
在以往的方法中，有时在由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物反应之后的产物中除了由式(1)表示的化合物以外还包含副反应物等，但是根据本发明，能够大幅减少这些副反应物的产生。若混合有副反应物，则容易发生着色，但是根据本发明，能够大幅减少这些副反应物的产生，因此能够获得以高纯度包含作为目标化合物的由式(1)表示的化合物且着色少的产物。
通过本发明的制造方法获得的包含由式(1)表示的化合物的产物中，在甲醇中测定的分光吸收光谱中，波长385nm处的摩尔吸光系数ε385与波长430nm处的摩尔吸光系数ε430之比即ε430/ε385优选为0.015～0.028。上述摩尔吸光系数之比优选为0.018以上，更优选为0.020以上，进一步优选为0.021以上，尤其优选为0.022以上。并且，上述摩尔吸光系数之比优选为0.027以下，更优选为0.026以下，进一步优选为0.025以下。关于具有这种摩尔吸光系数之比的产物，尽管波长385nm附近的吸收高，紫外区域附近的可见区域的光的透射性也优异，因此波长更长的一侧的紫外线的吸收性优异，并且可见透明性优异。另外，在欲使化合物中的紫外线的吸收区域向波长更长的一侧位移的情况下，具有可见区域的光的透射性(尤其，紫外区域附近的可见区域的光的透射性)也下降的倾向，但是根据本发明，具有以高水平保持可见区域的光的透射性，并且波长更长的一侧的紫外线的吸收性优异的技术上优异的效果。
接着，分别对作为反应原料的由式(2)表示的化合物及由式(3)表示的化合物、以及作为反应产物的由式(1)表示的化合物进行说明。
首先，对作为反应原料的由式(2)表示的化合物及由式(3)表示的化合物进行说明。
(由式(2)表示的化合物)
[化学式5]
Figure BDA0002423528840000091
式(2)中，R11及R12各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基。
作为卤素原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。
烷基及烷氧基的碳原子数优选1～30，更优选1～20，进一步优选1～15，尤其优选1～10，最优选1～7。烷基及烷氧基可以是直链、支链及环状中的任一种，优选为直链或支链，更优选为直链。并且，环状的烷基及环状的烷氧基的烷基部位可以是单环的环烷基，也可以是多环烷基(双环烷基、三环烷基等)。烷基及烷氧基可以具有取代基。作为取代基，可举出在后述的取代基T中说明的基团。
芳基及芳氧基的碳原子数优选6～40，更优选6～30，进一步优选6～20，尤其优选6～15，最优选6～12。芳基及芳氧基可以具有取代基。作为取代基，可举出在后述的取代基T中说明的基团。
式(2)中，R11及R12可以相互键合而形成环。R11及R12键合而形成的环优选5或6元的环。R11及R12键合而形成的环可以具有取代基。作为取代基，可举出在后述的取代基T中说明的基团。
式(2)中，R21及R22各自独立地表示烷基。烷基的碳原子数优选1～30，更优选1～20，进一步优选1～15，尤其优选1～10，最优选1～7。烷基可以是直链、支链及环状中的任一种，优选为直链或支链，更优选为直链。并且，环状的烷基可以是单环的环烷基，也可以是多环烷基(双环烷基、三环烷基等)。烷基可以具有取代基。作为取代基，可举出在后述的取代基T中说明的基团。
式(2)中，R21及R22可以相互键合而形成环。R21及R22键合而形成的环优选5或6元的环。具体而言，可举出吡咯烷环、啶环、吗啉环等，优选吡咯烷环、啶环，更优选啶环。R21及R22键合而形成的环可以具有取代基。作为取代基，可举出在后述的取代基T中说明的基团。
式(2)中，A1及A2各自独立地表示OH或O-，A1及A2中的至少一个表示OH。
式(2)中，Z表示n价的阴离子，n表示1以上的整数。n优选1～5，更优选1～3，进一步优选1或2。其中，在A1及A2中的一个表示O-的情况下，Z不存在。即，在A1及A2中的一个表示O-的情况下，由式(2)表示的化合物由氮原子上的阳离子和A1或A2的氧原子上的阴离子形成有分子内盐。并且，在A1及A2这两者表示OH的情况下，由式(2)表示的化合物由氮原子上的阳离子和作为抗衡阴离子的Z形成有盐。
作为Z所表示的n价的阴离子，可以是有机阴离子，也可以是无机阴离子。并且，可以是一价的阴离子，也可以是多价的阴离子。作为有机阴离子，可举出取代或未取代的磺酸阴离子(例如，甲磺酸阴离子、对甲苯磺酸阴离子)、取代或未取代的羧酸阴离子(例如，乙酸阴离子、甲酸阴离子、丙酸阴离子、苯甲酸阴离子、三氟乙酸阴离子、草酸阴离子、邻苯二甲酸阴离子)、取代或未取代的酚盐阴离子(例如，酚盐阴离子、对苯二酚单阴离子、对苯二酚二阴离子)等。作为无机阴离子，可举出氟化物离子、氯化物离子、溴化物离子、硫酸阴离子、硝酸阴离子、磷酸阴离子等。优选为有机阴离子，更优选为羧酸阴离子或酚盐阴离子，进一步优选为羧酸阴离子，最优选为乙酸阴离子。
(取代基T)
作为取代基T，可举出：
卤原子(例如，氯原子、溴原子、碘原子)；
烷基[直链、支链、环状的烷基。具体而言，包含直链或支链的烷基(优选为碳原子数1～30的直链或支链的烷基、例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、叔丁基、正辛基、二十烷基、2-氯乙基、2-氰乙基、2-乙基己基)、环烷基(优选为碳原子数3～30的环烷基、例如环己基、环戊基、4-正十二烷基环己基)、双环烷基(优选为碳原子数5～30的双环烷基、即从碳原子数5～30的二环烷烃中去除1个氢原子而得的一价的基团。例如，双环[1,2,2]庚烷-2-基、双环[2,2,2]辛烷-3-基)，还包含环结构多的三环结构等。以下说明的取代基中的烷基(例如，烷硫基的烷基)也表示这种含义的烷基。]；
烯基[直链、支链、环状的烯基。具体而言，包含直链或支链的烯基(优选为碳原子数2～30的直链或支链的烯基、例如乙烯基、烯丙基、异戊二烯基、香叶基、油烯基)、环烯基(优选为碳原子数3～30的环烯基。即为从碳原子数3～30的环烯烃中去除1个氢原子而得的一价的基团。例如，2-环戊烯-1-基、2-环己烯-1-基)、双环烯基(优选为碳原子数5～30的取代或未取代的双环烯基、即从具有1个双键的双环烯烃中去除1个氢原子而得的一价的基团。例如，双环[2,2,1]庚-2-烯-1-基、双环[2,2,2]辛-2-烯-4-基)。]；
炔基(优选为碳原子数2～30的直链或支链的炔基。例如，乙炔基、炔丙基、三甲基甲硅烷基乙炔基；
芳基(优选为碳原子数6～30的芳基。例如，苯基、对甲苯基、萘基、间氯苯基、邻十六酰氨基苯基)；
杂环基(优选为从5或6元的芳香族或非芳香族的杂环化合物中去除一个氢原子而得的一价的基团，进一步优选为碳原子数3～30的5或6元的芳香族的杂环基。例如，2-呋喃基、2-噻吩基、2-嘧啶基、2-苯并噻唑基)；
氰基；
羟基；
硝基；
羧基；
烷氧基(优选为碳原子数1～30的直链或支链的烷氧基。例如，甲氧基、乙氧基、异丙氧基、叔丁氧基、正辛氧基、2-甲氧基乙氧基)；
芳氧基(优选为碳原子数6～30的芳氧基。例如，苯氧基、2-甲基苯氧基、4-叔丁基苯氧基、3-硝基苯氧基、2-十四酰氨基苯氧基)；
甲硅烷氧基(优选为碳原子数3～20的甲硅烷氧基。例如，三甲基甲硅烷氧基、叔丁基二甲基甲硅烷氧基)；
杂环氧基(优选为碳原子数2～30的杂环氧基。例如，1-苯基四唑-5-氧基、2-四氢吡喃氧基)；
酰氧基(优选为甲酰氧基、碳原子数2～30的烷基羰氧基、碳原子数6～30的芳基羰氧基。例如，甲酰氧基、乙酰氧基、新戊酰氧基、硬脂酰氧基、苯甲酰氧基、对甲氧基苯基羰氧基)；
氨基甲酰氧基(优选为碳原子数1～30的氨基甲酰氧基。例如，N,N-二甲基氨基甲酰氧基、N,N-二乙基氨基甲酰氧基、吗啉基羰氧基、N,N-二-正辛基氨基羰氧基、N-正辛基氨基甲酰氧基)；
烷氧基羰基氧基(优选为碳原子数2～30的烷氧基羰基氧基。例如，甲氧基羰酰氧基、乙氧基羰酰氧基、叔丁氧基羰氧基、正辛基羰氧基)；
芳氧基羰氧基(优选为碳原子数7～30的芳氧基羰氧基。例如，苯氧基羰氧基、对甲氧基苯氧基羰氧基、对正十六烷氧基苯氧基羰氧基)；
氨基(优选为氨基、碳原子数1～30的烷基氨基、碳原子数6～30的苯胺基。例如，氨基、甲基氨基、二甲基氨基、苯胺基、N-甲基-苯胺基、二苯基氨基)；
酰氨基(优选为甲酰氨基、碳原子数1～30的烷基羰基氨基、碳原子数6～30的芳基羰基氨基。例如，甲酰氨基、乙酰氨基、新戊酰氨基、月桂酰氨基、苯甲酰氨基、3,4,5-三-正辛氧基苯基羰基氨基)；
氨基羰基氨基(优选为碳原子数1～30的氨基羰基氨基。例如，氨基甲酰基氨基、N,N-二甲基氨基羰基氨基、N,N-二乙基氨基羰基氨基、吗啉羰基氨基)；
烷氧基羰基氨基(优选为碳原子数2～30的烷氧基羰基氨基。例如，甲氧基羰基氨基、乙氧基羰基氨基、叔丁氧基羰基氨基、正十八烷氧基羰基氨基、N-甲基-甲氧基羰基氨基)；
芳氧基羰基氨基(优选为碳原子数7～30的芳氧基羰基氨基。例如，苯氧基羰基氨基、对氯苯氧基羰基氨基、间正辛氧基苯氧基羰基氨基)；
氨磺酰基氨基(优选为碳原子数0～30的氨磺酰基氨基。例如，氨磺酰基氨基、N,N-二甲基氨基磺酰氨基、N-正辛基氨基磺酰基氨基)；
烷基磺酰氨基或芳基磺酰氨基(优选为碳原子数1～30的烷基磺酰氨基、碳原子数6～30的芳基磺酰氨基。例如，甲基磺酰基氨基、丁基磺酰基氨基、苯基磺酰基氨基、2,3,5-三氯苯基磺酰基氨基、对甲苯基磺酰基氨基)；
巯基；
烷硫基(优选为碳原子数1～30的烷硫基。例如，甲硫基、乙硫基、正十六烷硫基)；
芳硫基(优选为碳原子数6～30的芳硫基。例如，苯硫基、对氯苯硫基、间甲氧基苯硫基)；
杂环硫基(优选为碳原子数2～30的杂环硫基。例如，2-苯并噻唑硫基、1-苯基四唑-5-基硫基)；
氨磺酰基(优选为碳原子数0～30的氨磺酰基。例如，N-乙基氨磺酰基、N-(3-十二烷氧基丙基)氨磺酰基、N,N-二甲基氨磺酰基、N-乙酰基氨磺酰基、N-苯甲酰氨磺酰基、N-(N’-苯基氨甲酰基)氨磺酰基)；
磺基；
烷基亚磺酰基或芳基亚磺酰基(优选为碳原子数1～30的烷基亚磺酰基、6～30的芳基亚磺酰基。例如，甲基亚磺酰基、乙基亚磺酰基、苯基亚磺酰基、对甲苯基亚磺酰基)；
烷基磺酰基或芳基磺酰基(优选为碳原子数1～30烷基磺酰基、6～30的芳基磺酰基。例如，甲基磺酰基、乙基磺酰基、苯基磺酰基、对甲苯基磺酰基)；
酰基(优选为甲酰基、碳原子数2～30的烷基羰基、碳原子数7～30的芳基羰基、碳原子数为4～30且通过碳原子与羰基键合的杂环羰基。例如，乙酰基、新戊酰基、2-氯乙酰基、硬脂酰基、苯甲酰基、对正辛氧基苯基羰基、2-吡啶基羰基、2-呋喃基羰基)；
芳氧基羰基(优选为碳原子数7～30的芳氧基羰基。例如，苯氧基羰基、邻氯苯氧基羰基、间硝基苯氧基羰基、对叔丁基苯氧基羰基)；
烷氧基羰基(优选为碳原子数2～30的烷氧基羰基。例如，甲氧基羰基、乙氧基羰基、叔丁氧基羰基、正十八烷氧基羰基)；
氨基甲酰基(优选为碳原子数1～30的氨基甲酰基。例如，氨基甲酰基、N-甲基氨基甲酰基、N,N-二甲基氨基甲酰基、N,N-二-正辛基氨基甲酰基、N-(甲基磺酰基)氨基甲酰基)；
芳基偶氮基或杂环偶氮基(优选为碳原子数6～30的芳基偶氮基、碳原子数3～30的杂环偶氮基。例如，苯基偶氮基、对氯苯基偶氮基、5-乙硫基-1,3,4-噻二唑-2-基偶氮基)；
酰亚胺基(优选为N-琥珀酰亚胺基、N-邻苯二甲酰亚胺基)；
膦基(优选为碳原子数2～30的膦基。例如，二甲基膦基、二苯基膦基、甲基苯氧基膦基)
氧膦基(优选为碳原子数2～30的氧膦基。例如，氧膦基、二辛氧基氧膦基、二乙氧基氧膦基)；
氧膦基氧基(优选为碳原子数2～30的氧膦基氧基。例如，二苯氧基氧膦基氧基、二辛氧基氧膦基氧基)；
氧膦基氨基(优选为碳原子数2～30的氧膦基氨基。例如，二甲氧基氧膦基氨基、二甲基氨基氧膦基氨基)；
甲硅烷基(优选为碳原子数3～30的甲硅烷基。例如，三甲基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、苯基二甲基甲硅烷基)。
关于在上述举出的基团中具有氢原子的基团，1个以上的氢原子可以被上述取代基T取代。作为这种官能团的例子，可举出烷基羰基氨基磺酰基、芳基羰基氨基磺酰基、烷基磺酰基氨基羰基、芳基磺酰氨基羰基。作为具体例，可举出甲基磺酰基氨基羰基、对甲苯基磺酰基氨基羰基、乙酰氨基磺酰基、苯甲酰氨基磺酰基等。
作为由式(2)表示的化合物的具体例，可举出以下化合物。以下式中，Ac表示乙酰基，Ph表示苯基。
[化学式6]
Figure BDA0002423528840000151
(由式(3)表示的化合物)[化学式7]
Figure BDA0002423528840000161
式(3)中，X及Y各自独立地表示吸电子性基团。X和Y可以相互键合而形成环。
式(3)中，作为X及Y所表示的吸电子性基团，优选为哈米特取代基常数σp值是正的取代基。作为吸电子性基团，可举出氰基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、磺酰基、亚硫酰基及氨磺酰基。作为酰基，优选乙酰基、丙酰基、新戊酰基、苯甲酰基、4-甲氧基苯甲酰基。作为烷氧基羰基，优选甲氧基羰基、乙氧基羰基、2-羟基乙氧基羰基、2-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基氨基羰氧基)乙氧基羰基、2-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基氨基羰氧基)乙氧基羰基、2-乙基己基羰氧基。作为芳氧基羰基，优选苯氧基羰基、4-甲氧基苯氧基羰基。作为氨基甲酰基，优选未取代的氨基甲酰基、N,N-二甲基氨基甲酰基、N,N-二乙基氨基甲酰基、吗啉基氨基甲酰基、N,N-二-正辛基氨基甲酰基、N-正辛基氨基甲酰基。作为磺酰基，优选甲磺酰基、乙磺酰基、辛磺酰基、苯磺酰基。作为亚硫酰基，优选甲烷亚硫酰基、乙烷亚硫酰基、辛烷亚硫酰基、苯亚硫酰基。作为氨磺酰基，优选未取代的氨磺酰基、N,N-二甲基氨磺酰基。作为X及Y所表示的吸电子性基团，优选氰基及氨基甲酰基，更优选氨基甲酰基。
式(3)中，X和Y可以相互键合而形成环。X和Y键合而形成的环优选5或6元的环。具体而言，可举出5-吡唑啉酮环、异噁唑啉-5-酮环、吡唑烷-3,5-二酮环、巴比土酸环、硫代巴比土酸环、二氢吡啶-2,6-二酮环等。X和Y键合而形成的环还可以具有取代基。作为取代基，可举出在上述的取代基T中说明的基团。
另外，在式(3)中，无法确定X和Y相互键合而形成环时的X及Y的取代基常数σp值，但是在本发明中视为环的部分结构分别被X及Y取代，而定义环形成时的X及Y的取代基常数σp值。例如，在以下化合物(3)-1的情况下，认为X及Y分别被氨基甲酰基取代。即，化合物(3)-1中，X及Y分别为氨基甲酰基，该氨基甲酰基彼此键合而形成吡唑烷-3,5-二酮环。
[化学式8]
Figure BDA0002423528840000171
式(3)中，优选为X及Y是氨基甲酰基(它们可以键合而形成环)。更优选为X和Y键合而形成吡唑烷-3,5-二酮环。由式(3)表示的化合物优选为由下述式(3a)表示的化合物。
[化学式9]
Figure BDA0002423528840000172
式中，R13及R14各自独立地表示脂肪族基团、芳香族基团或杂环基。R13和R14可以相互键合而形成环。式(3a)的R13及R14与后述的式(4)的R13及R14含义相同，并且优选范围也相同。
作为由式(3)表示的化合物的具体例，可举出以下化合物。以下式中，Me表示甲基，Ph表示苯基。
[化学式10]
Figure BDA0002423528840000181
[化学式11]
Figure BDA0002423528840000191
[化学式12]
Figure BDA0002423528840000201
[化学式13]
Figure BDA0002423528840000211
接着，对作为反应产物的由式(1)表示的化合物进行说明。
(由式(1)表示的化合物)
[化学式14]
Figure BDA0002423528840000221
式中，R11及R12各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基。X及Y各自独立地表示吸电子性基团。R11和R12可以相互键合而形成环，X和Y可以相互键合而形成环。式(1)的R11及R12与式(2)的R11及R12含义相同，并且优选范围也相同。式(1)的X及Y与式(3)的X及Y含义相同，并且优选范围也相同。
由式(1)表示的化合物优选为由式(4)表示的化合物。
[化学式15]
Figure BDA0002423528840000222
式中，R11及R12各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基。R13及R14各自独立地表示脂肪族基团、芳香族基团或杂环基。R11和R12可以相互键合而形成环，R13和R14可以相互键合而形成环。式(4)的R11及R12与式(2)的R11及R12含义相同，并且优选范围也相同。
R13及R14各自独立地表示脂肪族基团、芳香族基团或杂环基。
R13及R14所表示的脂肪族基团的碳原子数优选1～30，更优选1～20，进一步优选1～15，尤其优选1～10，最优选1～7。作为脂肪族基团的种类，可举出烷基、烯基、炔基及芳烷基，优选烷基或烯基，更优选烷基。烷基、烯基、炔基及芳烷基可以具有取代基。作为取代基，可举出在上述的取代基T中说明的基团。
烷基的碳原子数优选1～30，更优选1～20，进一步优选1～15，尤其优选1～10，最优选1～7。烷基可以是直链、支链及环状中的任一种，优选为直链或支链，更优选为直链。
烯基的碳原子数优选2～30，更优选2～20，进一步优选2～15，尤其优选2～10，最优选2～7。烯基可以是直链、支链及环状中的任一种，优选为直链或支链，更优选为直链。
炔基的碳原子数优选2～30，更优选2～20，进一步优选2～15，尤其优选2～10，最优选2～7。炔基可以是直链、支链及环状中的任一种，优选为直链或支链，更优选为直链。
芳烷基的碳原子数优选7～30，更优选7～20，进一步优选7～15。芳烷基的烷基部分与上述烷基相同。芳烷基的芳基部分与下述芳基相同。
作为芳香族基团，可举出芳基。芳香族基团的碳原子数优选6～40，更优选6～30，进一步优选6～20，尤其优选6～15，最优选6～12。作为芳基，优选苯基及萘基，更优选苯基。芳基可以具有取代基。作为取代基，可举出在上述的取代基T中说明的基团。
优选杂环基中的杂环包含5元或6元的饱和或不饱和杂环。杂环可以与脂肪族环、芳环或其他杂环稠合。作为构成杂环的环的杂原子，可举出B、N、O、S、Se及Te，优选N、O及S。杂环优选碳原子具有游离的原子价(一价)(杂环基在碳原子上键合)。优选的杂环基的碳原子数为1～40，更优选为1～30，进一步优选为1～20。作为杂环基中的饱和杂环的例子，可举出吡咯烷环、吗啉环、2-硼杂-1,3-二氧戊环及1,3-噻唑烷环。作为杂环基中的不饱和杂环的例子，可举出咪唑环、噻唑环、苯并噻唑环、苯并噁唑环、苯并三唑环、苯并硒唑环、吡啶环、嘧啶环及喹啉环。杂环基可以具有取代基。作为取代基，可举出在上述的取代基T中说明的基团。
式(4)中，优选R13及R14各自独立地为脂肪族基团或芳香族基团，更优选为碳原子数1～30的脂肪族基团或碳原子数6～30的芳香族基团，进一步优选为碳原子数1～20的脂肪族基团。并且，优选R13及R14各自独立地为碳原子数1～20的烷基或碳原子数7～20的芳烷基，更优选为碳原子数1～15的烷基，进一步优选为碳原子数1～10的直链烷基，最优选为碳原子数1～7的直链烷基。
式(4)中，R13及R14可以相互键合而形成环。R13及R14键合而形成的环优选5或6元的环。
作为由式(1)表示的化合物的具体例，可举出以下化合物。以下式中，Ph表示苯基。
[化学式16]
Figure BDA0002423528840000241
[化学式17]
Figure BDA0002423528840000251
[化学式18]
Figure BDA0002423528840000261
[化学式19]
Figure BDA0002423528840000271
＜组合物＞
接着，对本发明的组合物进行说明。本发明的组合物为包含上述的由式(1)表示的化合物的组合物。该组合物的特征在于，在甲醇中测定的分光吸收光谱中，波长385nm处的摩尔吸光系数ε385与波长430nm处的摩尔吸光系数ε430之比即ε430/ε385为0.015～0.028。
上述摩尔吸光系数之比优选为0.018以上，更优选为0.020以上，进一步优选为0.021以上，尤其优选为0.022以上。并且，上述摩尔吸光系数之比优选为0.027以下，更优选为0.026以下，进一步优选为0.025以下。关于具有这种摩尔吸光系数之比的组合物，尽管波长385nm附近的吸收高，紫外区域附近的可见区域的光的透射性也优异，因此波长更长的一侧的紫外线的吸收性优异，并且可见透明性优异。
本发明的组合物能够优选用作紫外线吸收剂。并且，本发明的组合物能够优选用于包装材料、容器、涂料、涂膜、油墨、纤维、建材、记录介质、图像显示装置、太阳能电池用盖、玻璃制品、化妆用制剂等。关于它们的详细内容，能够参考日本特开2009-263617号公报的0158～0218段的记载，并且该内容被编入到本说明书中。
本发明的组合物优选为通过上述的本发明的化合物的制造方法获得的反应物。
本发明的组合物中的由式(1)表示的化合物的含量优选为1质量％以上，更优选为50质量％以上，进一步优选为90质量％以上，更进一步优选为95质量％以上，更进一步优选为99质量％以上。并且，尤其优选本发明的组合物仅由式(1)所表示的化合物构成。
＜固化性组合物＞
接着，对本发明的固化性组合物进行说明。
本发明的固化性组合物包含上述的本发明的组合物和固化性化合物。作为固化性化合物，可举出包含具有烯属不饱和键的基团的化合物、具有环氧基的化合物、具有羟甲基的化合物、具有-O-Si-O-结构的化合物等。作为具有烯属不饱和键的基团，可举出乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯酰基等。
在本发明中，优选使用具有-O-Si-O-结构的化合物来作为固化性化合物。根据该方式，能够制造着色少且紫外线的吸收性优异的玻璃制品等。作为玻璃制品的具体例，能够举出汽车用窗玻璃、建材用窗玻璃等。
作为具有-O-Si-O-结构的化合物，优选为水解性硅化合物，更优选为水解性烷氧基硅烷，进一步优选为3官能或4官能的烷氧基硅烷。作为具有-O-Si-O-结构的化合物的具体例，能够举出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、正丙基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、3,4-环氧环己基乙基三甲氧基硅烷、3,4-环氧环己基乙基三乙氧基硅烷、三-(三甲氧基甲硅烷基丙基)异氰脲酸酯、4-三甲氧基甲硅烷基苯乙烯、3,3,3-三氟丙基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二乙基二甲氧基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、二-正丙基二甲氧基硅烷、二-正丙基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二乙烯基二乙氧基硅烷、双(三乙氧基甲硅烷基丙基)四硫化物、3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基异氰酸酯、3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基异氰酸酯等。
本发明的固化性组合物的总固体成分中的由式(1)表示的化合物的含量优选为0.01～20质量％。并且，本发明的固化性组合物的总固体成分中的上述的本发明的组合物的含量优选为0.01～20质量％，更优选为0.1～10质量％。并且，本发明的固化性组合物的总固体成分中的固化性化合物的含量优选为0.1～99.9质量％。
本发明的固化性组合物还能够含有除了由式(1)表示的化合物以外的其他紫外线吸收剂。作为其他紫外线吸收剂，可举出国际公开WO2017/122503号公报的0065段中所记载的紫外线吸收剂，并且能够使用它们。
本发明的固化性组合物还能够包含溶剂。作为溶剂，并无特别限定，可举出水、醇系溶剂等。作为醇系溶剂，可举出甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、2-甲基-1-丙醇、1-甲氧基-2-丙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、聚乙二醇单烷基醚、聚丙二醇单烷基醚、乙二醇、丙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、甘油等。并且，作为溶剂，能够使用碳酸乙烯酯、N-甲基吡咯烷酮、二噁烷、四氢呋喃、乙二醇二烷基醚、丙二醇二烷基醚、聚乙二醇二烷基醚、聚丙二醇二烷基醚、乙腈、丙腈、苯甲腈、羧酸酯、磷酸酯、膦酸酯、二甲基亚砜、环丁砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等。它们可以单独使用，也可以同时使用2种以上。相对于固化性组合物的总量，溶剂的含量优选为10～90质量％。
本发明的固化性组合物能够含有催化剂。在作为催化剂，尤其作为固化性化合物，使用具有-O-Si-O-结构的化合物的情况下，优选含有催化剂。根据该方式，促进溶胶凝胶反应而容易获得更牢固的膜。作为催化剂，可举出盐酸、硫酸、乙酸、丙酸等酸催化剂、氢氧化钠、氢氧化钾、三乙基胺等碱催化剂等。
相对于固化性化合物的100质量份，催化剂的含量优选0.1～100质量份，更优选为0.1～50质量份，进一步优选为0.1～20质量份。本发明的固化性组合物可以仅包含1种催化剂，也可以包含2种以上。在包含2种以上的催化剂的情况下，优选它们的总量在上述范围内。
实施例
以下，列举实施例来对本发明进行进一步具体的说明。关于以下的实施例中所示的材料、用量、比例、处理内容、处理顺序等，只要不脱离本发明的主旨，则能够进行适当变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。另外，只要无特别说明，则“份”、“％”为质量基准。
[试验例1]
＜实施例1＞
根据下述方案制造了化合物(1)-1。
[化学式20]
Figure BDA0002423528840000301
向反应容器中加入21.2g(0.100摩尔)的化合物(3)-1、作为还原剂的抗坏血酸1.76g(0.0100摩尔)、作为反应溶剂的N-甲基吡咯烷酮(NMP)100mL，进一步加入了32.7g(0.100摩尔)的化合物(2)-1。将该混合液在氮气流条件下以80℃搅拌了3小时。接着，向所获得的反应溶液中添加甲磺酸4.81g(0.0500摩尔)之后经1小时冷却至40℃。接着，滴加水1000mL而滤取所析出的固体(晶体)，并在80℃条件下进行减压干燥而获得了包含作为目标化合物的化合物(1)-1的产物38.6g(产率为97.8％)。
＜实施例2＞
在实施例1中，使用等量的化合物(3)-2来代替化合物(3)-1，除此以外，以与实施例1相同的方法获得了包含作为目标化合物的化合物(1)-2的产物。
[化学式21]
Figure BDA0002423528840000311
＜实施例3＞
在实施例1中，使用等量的化合物(3)-3来代替化合物(3)-1，除此以外，以与实施例1相同的方法获得了包含作为目标化合物的化合物(1)-3的产物。
[化学式22]
Figure BDA0002423528840000312
＜实施例4＞
在实施例1中，作为反应溶剂而使用等量的二甲基乙酰胺来代替NMP，除此以外，以与实施例1相同的方法获得了包含作为目标化合物的化合物(1)-1的产物。
＜实施例5＞
在实施例1中，作为反应溶剂而使用等量的二甲基甲酰胺来代替NMP，除此以外，以与实施例1相同的方法获得了包含作为目标化合物的化合物(1)-1的产物。
＜实施例6＞
在实施例1中，使用等量的对甲苯磺酸来代替甲磺酸，除此以外，以与实施例1相同的方法获得了包含作为目标化合物的化合物(1)-1的产物。
＜实施例7＞
在实施例1中，未添加甲磺酸，除此以外，以与实施例1相同的方法获得了包含作为目标化合物的化合物(1)-1的产物。
＜实施例8＞
在实施例1中，作为反应溶剂而使用等量的环丁砜来代替NMP，除此以外，以与实施例1相同的方法获得了包含作为目标化合物的化合物(1)-1的产物。
＜比较例1＞
向反应容器中加入21.2g(0.100摩尔)的化合物(3)-1、N-甲基吡咯烷酮(NMP)100mL，进一步加入了32.7g(0.100摩尔)的化合物(2)-1。将该混合液在氮气流条件下以80℃搅拌了3小时。接着，经1小时将所获得的反应溶液冷却至40℃，滴加稀盐酸水1000mL而滤取所析出的固体(晶体)，并在80℃条件下进行减压干燥而获得了包含作为目标化合物的化合物(1)-1的产物37.7g(产率为95.6％)。
＜比较例2＞
在比较例1中，使用等量的化合物(3)-2来代替化合物(3)-1，除此以外，以与比较例1相同的方法获得了包含作为目标化合物的化合物(1)-2的产物。
＜比较例3＞
在比较例1中，使用等量的化合物(3)-3来代替化合物(3)-1，除此以外，以与比较例1相同的方法获得了包含作为目标化合物的化合物(1)-3的产物。
(评价)
通过肉眼观察了在实施例及比较例中获得的产物的色调。并且，使用分光光度计(UV-3100，SHIMADZU CORPORATION制造)测定所获得的产物在甲醇中的吸光度，并测定了波长385nm处的摩尔吸光系数ε385与波长430nm处的摩尔吸光系数ε430之比(ε430/ε385)。将结果记载于以下表中。
[表1]
化合物No. 色调 ε<sub>430</sub>/ε<sub>385</sub>
实施例1 (1)-1 黄色 0.024
实施例2 (1)-2 黄色 0.024
实施例3 (1)-3 黄色 0.025
实施例4 (1)-1 黄色 0.025
实施例5 (1)-1 黄色 0.025
实施例6 (1)-1 黄色 0.024
实施例7 (1)-1 黄色 0.026
实施例8 (1)-1 黄色 0.026
比较例1 (1)-1 橙黄色 0.029
比较例2 (1)-2 橙黄色 0.030
比较例3 (1)-3 橙黄色 0.030
通过实施例1～实施例8的方法获得的包含目标化合物的产物的着色比通过比较例的方法获得的产物的着色少。并且，ε430/ε385的值小于比较例。另外，ε430/ε385的值小是指波长385nm的光的吸收大且几乎没有波长430nm的光的吸收。即，是指着色少且长波长侧的紫外线的吸收性优异。
[试验例2]
＜实施例101＞
混合在实施例1中获得的包含化合物(1)-1的产物1.20g、3-三乙氧基甲硅烷基丙基异氰酸酯2.71g及干燥四氢呋喃20mL之后，添加1滴二(2-乙基己酸)锡，并在氮气氛下加热回流了3小时。
接着，向加热回流之后的混合液0.476g中添加四乙氧基硅烷81.0mg、缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷0.602g、超纯水1.73g及作为酸催化剂的乙酸17.0mg之后，搅拌30秒钟，接着，经3分钟照射超声波，接着，在50℃的水浴中搅拌1小时而获得了固化性组合物。
使用30mil(1mil为2.54×10-5m)的刮墨刀，将所获得的固化性组合物以0.1质量％KOH涂布于经处理的玻璃基材上，并利用送风干燥机将涂膜在80℃条件下静放干燥了30分钟。然后，在200℃条件下加热30分钟而制作了玻璃制品。
＜实施例102～实施例108、比较例101～比较例103＞
在实施例101中，分别使用在实施例2～实施例8、比较例1～比较例3中获得的包含目标化合物的产物来代替在实施例1中获得的化合物(1)-1，除此以外，以与实施例101相同的方法制作了玻璃制品。
(评价)
测定玻璃制品的透射光谱，并计算了波长410nm处的透光率(％)(T410)与波长450nm处的透光率(％)(T450)之比(T450/T410)。将结果示于以下。
[表2]
试样No. T450/T410
实施例101 实施例1 6.03
实施例102 实施例2 6.02
实施例103 实施例3 6.01
实施例104 实施例4 6.02
实施例105 实施例5 6.03
实施例106 实施例6 6.02
实施例107 实施例7 5.98
实施例108 实施例8 6.00
比较例101 比较例1 5.40
比较例102 比较例2 5.38
比较例103 比较例3 5.49
如上述表所示，与比较例相比，实施例的T450/T410的值高，且透明性优异。

Claims (12)

1.一种化合物的制造方法，该化合物由式(1)表示，该制造方法包括在还原剂的存在下使由式(2)表示的化合物与由式(3)表示的化合物进行反应的工序，
Figure FDA0002423528830000011
式中，R11及R12各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基；
R21及R22各自独立地表示烷基；
A1及A2各自独立地表示OH或O-，A1及A2中的至少一个表示OH；
X及Y各自独立地表示吸电子性基团；
Z表示n价的阴离子，n表示1以上的整数；其中，在A1及A2中的一个表示O-的情况下，Z不存在；
R11和R12任选相互键合而形成环，R21和R22任选相互键合而形成环，X和Y任选相互键合而形成环。
2.根据权利要求1所述的化合物的制造方法，其中，
所述还原剂的标准氧化还原电位为-0.5V～1.0V。
3.根据权利要求1或2所述的化合物的制造方法，其中，
所述还原剂为有机还原剂。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物的制造方法，其中，
所述还原剂为抗坏血酸。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的化合物的制造方法，其中，
所述由式(1)表示的化合物为由式(4)表示的化合物，
Figure FDA0002423528830000021
式中，R11及R12各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基；
R13及R14各自独立地表示脂肪族基团、芳香族基团或杂环基；
R11和R12任选相互键合而形成环，R13和R14任选相互键合而形成环。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的化合物的制造方法，其中，
在还原剂的存在下使所述由式(2)表示的化合物与所述由式(3)表示的化合物进行反应之后，向所获得的反应物中进一步添加酸。
7.根据权利要求6所述的化合物的制造方法，其中，
所述酸为磺酸。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的化合物的制造方法，其中，
在所述还原剂共存的包含酰胺系溶剂的溶剂的存在下进行所述由式(2)表示的化合物与所述由式(3)表示的化合物的反应。
9.一种组合物，其包含由式(1)表示的化合物，
所述组合物中，在甲醇中测定的分光吸收光谱中，波长385nm处的摩尔吸光系数ε385与波长430nm处的摩尔吸光系数ε430之比即ε430/ε385为0.015～0.028，
Figure FDA0002423528830000022
式中，R11及R12各自独立地表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基；
X及Y各自独立地表示吸电子性基团；
R11和R12任选相互键合而形成环；
X和Y任选相互键合而形成环。
10.根据权利要求9所述的组合物，其为紫外线吸收剂。
11.一种固化性组合物，其包含权利要求9或10所述的组合物和固化性化合物。
12.根据权利要求11所述的固化性组合物，其中，
所述固化性化合物为具有-O-Si-O-结构的化合物。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113993856A (zh) * 2019-06-28 2022-01-28 富士胶片株式会社 紫外线吸收剂、紫外线吸收组合物、紫外线吸收膜、层叠体及新型化合物

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090240067A1 (en) * 2008-03-21 2009-09-24 Fujifilm Corporation Method of producing a bisbenzodithiol compound
JP2009242717A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Fujifilm Corp 液晶組成物、位相差板、偏光板、並びに液晶表示装置
JP2009263617A (ja) * 2008-03-31 2009-11-12 Fujifilm Corp 紫外線吸収材料
CN105705498A (zh) * 2013-11-29 2016-06-22 Dic株式会社 聚合性化合物、组合物、聚合物、光学各向异性体、液晶显示元件和有机el元件
WO2017122503A1 (ja) * 2016-01-12 2017-07-20 富士フイルム株式会社 組成物、膜、ガラス物品、化合物、高純度組成物、化合物の製造方法および膜の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4911155B1 (zh) * 1970-04-17 1974-03-15
JPS4911155A (zh) * 1972-05-30 1974-01-31
US7514206B2 (en) * 2006-04-13 2009-04-07 Carestream Health, Inc. Thermally developable materials with buried conductive backside coatings
JP2010100787A (ja) * 2008-10-27 2010-05-06 Fujifilm Corp 紫外線吸収剤およびこれを含む高分子材料
WO2016147773A1 (ja) * 2015-03-13 2016-09-22 富士フイルム株式会社 有機半導体膜形成用組成物、有機薄膜トランジスタ、電子ペーパー、および、ディスプレイデバイス
WO2017122593A1 (ja) * 2016-01-12 2017-07-20 富士電機株式会社 磁気記録媒体およびこれを製造する方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090240067A1 (en) * 2008-03-21 2009-09-24 Fujifilm Corporation Method of producing a bisbenzodithiol compound
JP2009242717A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Fujifilm Corp 液晶組成物、位相差板、偏光板、並びに液晶表示装置
JP2009263617A (ja) * 2008-03-31 2009-11-12 Fujifilm Corp 紫外線吸収材料
CN105705498A (zh) * 2013-11-29 2016-06-22 Dic株式会社 聚合性化合物、组合物、聚合物、光学各向异性体、液晶显示元件和有机el元件
WO2017122503A1 (ja) * 2016-01-12 2017-07-20 富士フイルム株式会社 組成物、膜、ガラス物品、化合物、高純度組成物、化合物の製造方法および膜の製造方法

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