CN111079281B - 一种分割版图并生成随机图形的方法 - Google Patents

一种分割版图并生成随机图形的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111079281B
CN111079281B CN201911263817.7A CN201911263817A CN111079281B CN 111079281 B CN111079281 B CN 111079281B CN 201911263817 A CN201911263817 A CN 201911263817A CN 111079281 B CN111079281 B CN 111079281B
Authority
CN
China
Prior art keywords
mosaic
row
column
cutting line
generating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201911263817.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111079281A (zh
Inventor
刘伟平
刘�东
杨祖声
陆涛涛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing Empyrean Technology Co Ltd
Original Assignee
Beijing Empyrean Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Empyrean Technology Co Ltd filed Critical Beijing Empyrean Technology Co Ltd
Priority to CN201911263817.7A priority Critical patent/CN111079281B/zh
Publication of CN111079281A publication Critical patent/CN111079281A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111079281B publication Critical patent/CN111079281B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/10—Segmentation; Edge detection
    • G06T7/11—Region-based segmentation
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/60—Analysis of geometric attributes
    • G06T7/62—Analysis of geometric attributes of area, perimeter, diameter or volume

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Controls And Circuits For Display Device (AREA)

Abstract

一种分割版图并生成随机图形的方法，包括以下步骤：1）根据指定的像素单元信息识别显示区和每个所述像素单元的位置；2）根据指定的切割线工艺层确定所述切割线位置；3）根据所述切割线分割所述显示区；4）设置生成马赛克图形的行/列数；5）设置行/列方向上生成所述马赛克图形数目占所述行/列中像素单元数目的比率；6）生成所述马赛克图形。本发明的分割版图并生成随机图形的方法，能够准确地实现对显示区域的切割，同时高效地创建满足严格随机特性和数目的马赛克图形。

Description

一种分割版图并生成随机图形的方法
技术领域
本发明涉及版图设计技术领域，特别是涉及一种分割版图并生成随机图形的方法。
背景技术
随着在对大尺寸面板进行光刻时，当panel的尺寸超过曝光机尺寸时，如果两次曝光边界处是笔直的切割，成品后人眼就能够清晰辨别屏幕发光区内的曝光分割线。因为人眼对长条形的形状比较敏感。
为了规避以上问题，需要专门在曝光边界处进行模糊切割，方法是在像素显示区（AA）区内抽象的曝光分割线（Division line）两侧与分割线平行的范围内，随机选择pixel（像素单元）进行光刻。具体而言，对于某个outline layer来说，某个pixel如果要在shot A内曝光，则在shot A cell内保留其layer图形，反之用与pixel outline等大小的同layer矩形完全遮盖。目标就是让分割线变得非线性且没有规律，规避人眼能识别规则边界的问题。
在当前的大尺寸面板厂，如果曝光机尺寸不足以一次shot去曝光整个面板，基于上述原因考虑，往往需要版图工程师在绘制版图时手工实现对整个面板版图的切割和绘制随机马赛克图形遮挡像素单元，实现模糊曝光。由于大尺寸面板像素单元非常多，要求马赛克图形随时生成因此无法用阵列的方式创建，因此效率非常低下，往往也很难保证很好的随机性。
发明内容
为了解决现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种分割版图并生成随机图形的方法，能够准确地实现对显示区域的切割，同时高效地创建满足严格随机特性和数目的马赛克图形。
为实现上述目的，本发明提供的一种分割版图并生成随机图形的方法，包括以下步骤：
1）根据指定的像素单元信息识别显示区和每个所述像素单元的位置；
2）根据指定的切割线工艺层确定所述切割线位置；
3）根据所述切割线分割所述显示区；
4）设置生成马赛克图形的行/列数；
5）设置行/列方向上生成所述马赛克图形数目占所述行/列中像素单元数目的比率；
6）生成所述马赛克图形。
进一步地，所述像素单元信息包括，所述像素单元的名称，包括库名，单元名，视图名以及所述像素单元中代表像素轮廓的图形所用的工艺层。
进一步地，所述步骤3）进一步包括，竖向切割线将所述显示区切割为左右两块，横向切割线将所述显示区切割为上下两块，分割之后的两块所述显示区具有重叠区域。
进一步地，所述重叠区域的计算公式为：
横向重叠区域的面积 = 生成马赛克图形的行数 / 2 * 像素单元轮廓图形的高度；
竖向重叠区域的面积 = 生成马赛克图形的列数 / 2 * 像素单元轮廓图形的宽度。
进一步地，所述重叠区域中，相同的所述像素单元位置，刻蚀一个所述像素单元，除刻蚀的所述像素单元位置之外的位置对应生成所述马赛克图形进行遮挡。
进一步地，所述步骤4）进一步包括：
分别设置行数X和列数Y；
当所述切割线为横线时，所述马赛克图形沿横向的所述切割线摆放，并满足设置的行数X；
当所述切割线为竖线时，所述马赛克图形沿竖向的所述切割线摆放，并满足设置的列数Y。
进一步地，所述步骤5）进一步包括，所述行/列方向上生成所述马赛克图形数目占所述行/列中像素单元数目的比率为大于0小于1的浮点数字。
进一步地，邻接所述切割线的行/列为第一行/列，次邻接所述切割线的行/列为第二行/列，所述马赛克图形沿所述切割线由内而外依次排列至第n行/列；
根据所述比率确定所述第一行/列马赛克图形数目。
进一步地，设所述比率为P，则所述第一行/列马赛克图形的数目为所述第一行/列像素单元数目*P；
从第一行/列至第n行/列，每行/列中生成的所述马赛克图形数目依次递减；
从第一行/列至第n行/列，每行/列中所述马赛克图形数目占当前行/列所述像素单元数目的比率依次递减。
进一步地，所述步骤6）进一步包括，根据指定工艺层生成所述马赛克图形，所述马赛克图形与所述像素单元轮廓图形的形状一致，所述马赛克图形的中心点与所述像素单元轮廓图形的中心点对齐。
为实现上述目的，本发明还提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机指令，所述计算机指令运行时执行如上文所述的分割版图并生成随机图形的方法步骤。
为实现上述目的，本发明还提供一种分割版图并生成随机图形的设备，包括存储器和处理器，所述存储器上储存有在所述处理器上运行的计算机指令，所述处理器运行所述计算机指令时执行如上文所述的分割版图并生成随机图形的方法步骤。
本发明的一种分割版图并生成随机图形的方法，具有以下有益效果：
1）能够摆脱版图工程师手工规划对大面板显示区域Panel切割的过程，通过对像素单元里outline图形的定义，可以确保创建的马赛克图形对像素单元实现严格准确地遮挡。
2）通过设定一个表征马赛克密度的创建比率值，根据随机算法，可以完全随机地确定出哪些像素单元之上需要创建马赛克图形，哪些不需要，而最终的结果可以保证马赛克图形的分布是完全随机的，密度也是符合要求的。
2）可以准确地实现对显示区域的切割，同时高效地创建满足严格随机特性和数目的马赛克图形，很好地满足模糊曝光，保证了最终的显示质量。
本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，并与本发明的实施例一起，用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1为根据本发明的分割版图并生成随机图形的方法流程图；
图2为根据本发明的切割显示区效果示意图；
图3为根据本发明的像素单元及遮挡的马赛克图形示意图；
图4为根据本发明的生成马赛克图形的整体效果示意图；
图5为根据本发明的实施例一重叠区域的马赛克排布规律示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。
图1为根据本发明的分割版图并生成随机图形的方法流程图，下面将参考图1，对本发明的分割版图并生成随机图形的方法进行详细描述。
首先，在步骤101，指定像素单元，用以在版图中识别像素阵列。
优选地，指定像素单元的名称，包括库名，单元名和视图名。
优选地，指定像素单元的名称，进一步包括指定像素单元中代表outline（轮廓）的图形所用的工艺层，用来确认版图中每一个像素单元的位置及大小。
图3为根据本发明的像素单元及遮挡的马赛克图形示意图，像素单元、重叠区域和像素outline图形如图3所示。
在步骤102，指定切割线。
图2为根据本发明的切割显示区效果示意图。
优选地，通过指定版图中切割线所在layer（工艺层）的方式在版图中找到切割线，切割线的位置如图2所示。
在步骤103，用切线切割像素区阵列。该步骤中，用切割线切割版图中的像素显示区。
优选地，竖向切割线将显示区切割为左右两块，横向切割线将显示区切割为上下两块。如图2所示，分割之后的两块显示区具有一定的重叠区域。
在步骤104，设置生成马赛克图形的行/列数。
优选地，分割之后显示区重叠区域的范围是根据步骤104中设置的马赛克的行、列数决定的，具体满足如下公式：
横向重叠区域的面积 = 生成马赛克图形的行数 / 2 * 像素单元outline图形的高度；
竖向重叠区域的面积 = 生成马赛克图形的列数 / 2 * 像素单元outline图形的宽度；
显示区被切割后的效果和重叠区域的概念如图2所示。
优选地，分别设置两个数字X和Y，X表示生成的马赛克图形的行数，Y表示生成的马赛克图形的列数。当切割线全部都是横线时，只有X数字指定的行数起约束作用；对于切割线全部都是竖线的情况，只有Y数字指定的列数起约束作用。
在步骤105，设置行/列方向上生成的马赛克图形数目占最大可以生成马赛克图形数目的比率。
优选地，指定行/列方向上生成的马赛克图形数目占最大可以生成马赛克图形数目的最大比率，为一个大于0小于1的浮点数字，代表一个概率值。
优选地，马赛克图形沿着切割线生成，对于横向切割线，沿着切割线一共生成指定行数的马赛克图形。最靠近切割线的行为第一行，远离切割线为第二行、第三行……等等。第一行马赛克的数目根据步骤105中设定的比率值确认，如比率值为P，那么第一行的马赛克数目为：最大马赛克数目（与行像素单元数相同）* P。从第一行到第N行，每行中生成的马赛克图形数目依次递减。每一行中马赛克图形占当前行最大可生成马赛克图形数目（与行像素单元数相同）的比率也匀均依次递减。
优选地，马赛克图形沿着切割线生成，对于竖向切割线，沿着切割线一共生成指定列数的马赛克图形。最靠近切割线的行为第一列，远离切割线为第二列、第三列。。。等等。第一列马赛克的数目根据步骤5中设定的比率值确认，如比率值为P，那么第一列的马赛克数目为：最大马赛克数目（与列像素单元数相同）* P。从第一列到第N列，每列中生成的马赛克图形数目依次递减。每一列中马赛克图形占当前列最大可生成马赛克图形数目（与行像素单元数相同）的比率也匀均依次递减。
图4为根据本发明的生成马赛克图形的整体效果示意图，生成马赛克图形的整体效果如图4所示。
在步骤106，生成马赛克图形。
优选地，在步骤106中设定生成的马赛克图形的工艺层，生成的每个马赛克图形与像素单元的outline形状一致，中心点与像素单元的中心点对齐，并使用指定的工艺层生成。
优选地，在步骤106中生成的马赛克区域的重叠区域部分，相同的一个像素单元位置，只有一个完全刻蚀的像素单元，剩下的对应位置都是被生成的马赛克图形遮挡。
图5为根据本发明实施例一重叠区域的马赛克排布规律示意图，如图5所示，举例说明，假设两条切割线处只有4个像素单元，那么四张马赛克mask应该如图5所示。
下面结合一具体实施例对本发明的分割版图并生成随机图形的方法做进一步的说明。
第一步，定义像素单元，包括指定像素单元的库名、单元名、和视图名。进一步地，还包括指定版图中像素单元中表征每个单元轮廓的outline图形所用的工艺层。根据这两个信息在版图中识别出整个显示阵列区域和每个像素单元的准确位置，像素单元和outline图形如图3所示。
第二步，通过设置切割线所用工艺层layer的方式确定切割线的位置，切割线的位置如图2所示。
第三步，将面板显示区域沿着上一步找到的切割线分割，竖向切割线将显示区切割为左右两块，横向切割线将显示区切割为上下两块。分割之后的子显示区具有一定的重叠区域，这个重叠区域的范围时根据将要生成的马赛克的行、列数决定，具体满足如下公式：
横向重叠区域的面积 = 生成马赛克图形的行数 / 2 * 像素单元outline图形的高度；
竖向重叠区域的面积 = 生成马赛克图形的列数 / 2 * 像素单元outline图形的宽度；
显示区被切割后的效果和重叠区域的概念如图2所示。
第四步，设置生成马赛克的行、列数。最终生成的马赛克图形按行沿着横向的切割线摆放，并满足设置的行数；最终生成的马赛克图形按列沿着竖向的切割线摆放，并满足设置的列数。
第五步，设置在行或列中，需要产生的马赛克的数目占当前行或者列中像素单元的数目（也就是最多可以产生的马赛克单元的数目）的最大比率。这个最大比率反应的是最接近切割线的行或列上马赛克图形生成的密度，随着远离切割线，每一行或者列上生成的马赛克图形的数目是递减的，这个递减是均匀的，反应在生成的马赛克图形的数目占本行或列像素单元的数目的这个比率也是均匀递减的。
第六步，根据前面几步的设置，生成具有特定工艺层的马赛克图形。这个马赛克图形与像素单元的轮廓图形（outline）是一致的，在位置上也是与像素单元里的outline图形中心对齐，这样才能起到遮挡像素单元的目的。而生成的马赛克图形的行、列数和密度则分别满足前面几步中对应参数的设置。
生成马赛克图形的效果如图4所示。
本发明提出了一种分割版图并生成随机图形的方法，可以通过用户指定切割线和定义像素单元等方式，由工具自动识别切割线和显示区域，同时根据预先设定的规则准确地切割面板显示区，并按照随机算法，严格地判定出哪些地方的像素单元上需要创建马赛克图形，哪些不需要。按照这种方式可以准确地实现对显示区域的切割，同时高效地创建满足严格随机特性和数目的马赛克图形。
为实现上述目的，本发明还提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机指令，所述计算机指令运行时执行如上文所述的分割版图并生成随机图形的方法步骤。
为实现上述目的，本发明还提供一种分割版图并生成随机图形的设备，包括存储器和处理器，所述存储器上储存有在所述处理器上运行的计算机指令，所述处理器运行所述计算机指令时执行如上文所述的分割版图并生成随机图形的方法步骤。
本领域普通技术人员可以理解：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种分割版图并生成随机图形的方法，其特征在于，包括以下步骤：
1）根据指定的像素单元信息识别显示区和每个所述像素单元的位置；
2）根据指定的切割线工艺层确定所述切割线位置；
3）根据所述切割线分割所述显示区；
4）设置生成马赛克图形的行/列数；
5）设置行/列方向上生成所述马赛克图形数目占所述行/列中像素单元数目的比率；
6）生成所述马赛克图形；
其中，所述步骤3）进一步包括，竖向切割线将所述显示区切割为左右两块，横向切割线将所述显示区切割为上下两块，分割之后的两块所述显示区具有重叠区域；
所述重叠区域的计算公式为：
横向重叠区域的面积 = 生成马赛克图形的行数 / 2 * 像素单元轮廓图形的高度；
竖向重叠区域的面积 = 生成马赛克图形的列数 / 2 * 像素单元轮廓图形的宽度；
所述重叠区域中，相同的所述像素单元位置，刻蚀一个所述像素单元，除刻蚀的所述像素单元位置之外的位置对应生成所述马赛克图形进行遮挡；
其中，所述步骤5）进一步包括，所述行/列方向上生成所述马赛克图形数目占所述行/列中像素单元数目的比率为大于0小于1的浮点数字；
邻接所述切割线的行/列为第一行/列，次邻接所述切割线的行/列为第二行/列，所述马赛克图形沿所述切割线由内而外依次排列至第n行/列；
根据所述比率确定所述第一行/列马赛克图形数目；
设所述比率为P，则所述第一行/列马赛克图形的数目为所述第一行/列像素单元数目*P；
从第一行/列至第n行/列，每行/列中生成的所述马赛克图形数目依次递减；
从第一行/列至第n行/列，每行/列中所述马赛克图形数目占当前行/列所述像素单元数目的比率依次递减。
2.根据权利要求1所述的分割版图并生成随机图形的方法，其特征在于，所述像素单元信息包括，所述像素单元的名称，包括库名，单元名，视图名以及所述像素单元中代表像素轮廓的图形所用的工艺层。
3.根据权利要求1所述的分割版图并生成随机图形的方法，其特征在于，所述步骤4）进一步包括：
分别设置行数X和列数Y；
当所述切割线为横线时，所述马赛克图形沿横向的所述切割线摆放，并满足设置的行数X；
当所述切割线为竖线时，所述马赛克图形沿竖向的所述切割线摆放，并满足设置的列数Y。
4.根据权利要求1所述的分割版图并生成随机图形的方法，其特征在于，所述步骤6）进一步包括，根据指定工艺层生成所述马赛克图形，所述马赛克图形与所述像素单元轮廓图形的形状一致，所述马赛克图形的中心点与所述像素单元轮廓图形的中心点对齐。
5.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机指令，其特征在于，所述计算机指令运行时执行权利要求1至4任一项所述的分割版图并生成随机图形的方法步骤。
6.一种分割版图并生成随机图形的设备，其特征在于，包括存储器和处理器，所述存储器上储存有在所述处理器上运行的计算机指令，所述处理器运行所述计算机指令时执行权利要求1至4任一项所述的分割版图并生成随机图形的方法步骤。
CN201911263817.7A 2019-12-11 2019-12-11 一种分割版图并生成随机图形的方法 Active CN111079281B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911263817.7A CN111079281B (zh) 2019-12-11 2019-12-11 一种分割版图并生成随机图形的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911263817.7A CN111079281B (zh) 2019-12-11 2019-12-11 一种分割版图并生成随机图形的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111079281A CN111079281A (zh) 2020-04-28
CN111079281B true CN111079281B (zh) 2022-05-24

Family

ID=70313748

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911263817.7A Active CN111079281B (zh) 2019-12-11 2019-12-11 一种分割版图并生成随机图形的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111079281B (zh)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1167958A (zh) * 1996-06-10 1997-12-17 联华电子股份有限公司 马赛克图像产生装置及方法
CN105931180A (zh) * 2016-04-12 2016-09-07 西安电子科技大学 利用显著信息引导的图像不规则马赛克拼接方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5694481A (en) * 1995-04-12 1997-12-02 Semiconductor Insights Inc. Automated design analysis system for generating circuit schematics from high magnification images of an integrated circuit
AU2002233812A1 (en) * 2001-12-14 2003-06-30 Samsung Electronics Co., Ltd. A manufacturing method of liquid crystal display
EP1763075A1 (en) * 2005-09-13 2007-03-14 Irvine Sensors Corporation Method for precision integrated circuit DIE singulation using differential etch rates
JPWO2007113941A1 (ja) * 2006-04-05 2009-08-13 シャープ株式会社 表示パネル用の基板、この基板を備える表示パネル、表示パネル用の基板の製造方法および表示パネルの製造方法
CN106405891A (zh) * 2016-10-24 2017-02-15 深圳市华星光电技术有限公司 一种马赛克区域拼接方法及系统

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1167958A (zh) * 1996-06-10 1997-12-17 联华电子股份有限公司 马赛克图像产生装置及方法
CN105931180A (zh) * 2016-04-12 2016-09-07 西安电子科技大学 利用显著信息引导的图像不规则马赛克拼接方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN111079281A (zh) 2020-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4954220B2 (ja) 部品集合体の切断方法
JP4599048B2 (ja) 半導体集積回路のレイアウト構造、半導体集積回路のレイアウト方法、およびフォトマスク
KR930002516B1 (ko) 근접효과 보정방법
US8949749B2 (en) Layout design for electron-beam high volume manufacturing
CN109002566B (zh) 一种冗余金属的填充方法及系统
US10496785B2 (en) Chemical mechanical polishing simulation methods and simulation devices thereof
CN109949261B (zh) 处理图形的方法、图形处理装置和电子设备
JP2009229669A (ja) フォトマスク、そのフォトマスクを有する半導体装置の製造装置、およびそのフォトマスクを用いた半導体装置の製造方法
CN108122267B (zh) 一种冗余金属的填充方法及装置
CN111079281B (zh) 一种分割版图并生成随机图形的方法
JP2006041005A (ja) 半導体素子形成領域の配置決定方法及び装置、半導体素子形成領域の配置決定用プログラム、並びに半導体素子の製造方法
CN114781314A (zh) 一种快速绘制版图的方法及系统
CN109061963B (zh) 一种显示面板和显示装置
US20030008222A1 (en) Phase shift mask layout process for patterns including intersecting line segments
JP2009251013A (ja) アクティブマトリクス型液晶表示装置および表示装置の製造方法
US9754073B2 (en) Layout optimization for integrated circuit design
KR100607014B1 (ko) 패턴 시뮬레이션 방법, 그 프로그램, 그 프로그램을기억한 매체, 및 그 장치
JP4631573B2 (ja) 濃度分布マスクの製造方法
KR19990071390A (ko) 하전입자빔 노광방법 및 그것을 실시하는 하전입자빔 노광장치
KR20070071104A (ko) 스토리지노드컨택 형성을 위한 포토마스크 및 이를 이용한스토리지노드컨택 형성방법
JP2007298625A (ja) 濃度分布マスクの製造方法
CN110853007A (zh) 一种基于图形特性和振镜加工特性的自适应图档分割方法
JP2004280109A (ja) 液晶表示装置用表示板の製造方法
CN112949242B (zh) 遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图
JP4695382B2 (ja) 平面表示装置の露光用マスクの設計方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information
CB02 Change of applicant information

Address after: 100102 floor 2, block a, No.2, lizezhong 2nd Road, Chaoyang District, Beijing

Applicant after: Beijing Huada Jiutian Technology Co.,Ltd.

Address before: 100102 floor 2, block a, No.2, lizezhong 2nd Road, Chaoyang District, Beijing

Applicant before: HUADA EMPYREAN SOFTWARE Co.,Ltd.

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant