CN111060202A - 光栅拼接校正方法、装置以及光栅拼接校正系统 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种光栅拼接校正方法、装置以及光栅拼接校正系统。所述光栅拼接校正装置，应用于光栅拼接校正系统。所述校正方法包括：调节第一反射部和第二反射部中的一者或两者，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的第一干涉场和第二干涉场；调节所述第二光栅，使得所述第一干涉场和所述第二干涉场的干涉条纹一致。本发明实施例能够通过反射部控制机构，调节反射部，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的两个干涉场，然后光栅控制机构调节光栅，使得两个干涉场的干涉条纹一致，从而精确地校正了光栅拼接的误差。

Description

光栅拼接校正方法、装置以及光栅拼接校正系统
技术领域
本发明属于光学技术领域，尤其涉及一种光栅拼接校正方法、装置、干涉仪系统以及光栅拼接校正系统。
背景技术
随着科技的不断发展，为了满足人类对地外太空的探索和对清洁能源激光核聚变的探索，衍射光栅作为天文领域和核聚变领域的核心元件，其尺寸的需求正在不断提高。目前，天文领域和核聚变领域对衍射光栅的尺寸需求已达到了米级以上。
当前，光栅拼接是增大光栅尺寸的主要技术。通常，光栅拼接可分为补偿拼接和严格拼接，补偿拼接指光栅拼接五维误差中绕光栅矢量方向旋转误差Δθx和绕光栅法线方向旋转误差Δθz可相互补偿，沿光栅法线方向平移误差Δz和沿光栅矢量方向平移误差Δx可相互补偿，进而通过调整绕光栅矢量方向旋转误差Δθx、绕光栅栅线方向旋转误差Δθy和沿光栅法线方向平移误差Δz完成光栅拼接误差的校正，实现光栅的拼接，补偿拼接获得的光栅只适合在特定入射角和波长下使用。严格拼接指实现光栅拼接五维误差的分离检测，通过分别独立的调整光栅拼接五维误差实现光栅的拼接。
然而，由于光栅自身的类型不同，现有的特定光栅拼接方式不能保证所有类型的光栅拼接的精度。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供了一种光栅拼接校正方法、装置以及光栅拼接校正系统。
第一方面，提供了一种光栅拼接校正方法，应用于光栅拼接校正系统，所述光栅拼接校正系统包括第一光栅、第二光栅、第一反射部、第二反射部、干涉仪和棱镜，所述干涉仪用于向第一光栅和第二光栅射出光线并且检测反射回的光线，其中，射出的光线经由第一反射部和第二反射部以及所述第一光栅和所述第二光栅被反射；所述棱镜设置在所述干涉仪与所述第一光栅之间，用于使部分光线发生偏折，所述方法包括：调节第一反射部和第二反射部中的一者或两者，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的第一干涉场和第二干涉场；调节所述第二光栅，使得所述第一干涉场和所述第二干涉场的干涉条纹一致。
第二方面，提供了一种光栅拼接校正装置，应用于光栅拼接校正系统，所述光栅拼接校正系统包括：第一光栅；第二光栅；第一反射部；第二反射部；干涉仪，用于向第一光栅和第二光栅射出光线并且检测反射回的光线，其中，射出的光线经由第一反射部和第二反射部以及所述第一光栅和所述第二光栅被反射；棱镜，设置在所述干涉仪与所述第一光栅之间，用于使部分光线发生偏折，所述校正装置包括：光栅安装部，所述第二光栅固定在所述光栅安装部上；反射部安装部，所述第一反射部和所述第二反射部安装在所述反射部安装部上；反射部控制机构，通过调节所述反射部安装部调节调节第一反射部和第二反射部中的一者或两者，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的第一干涉场和第二干涉场；光栅控制机构，通过调节所述光栅安装部调节所述第二光栅，使得所述第一干涉场和所述第二干涉场的干涉条纹一致。
第三方面，提供了一种干涉仪系统，包括：干涉仪以及如第二方面所述的校正装置，其中所述干涉仪与所述校正装置连接。
第四方面，提供了一种光栅拼接校正系统，包括：第一光栅、第二光栅、第一反射部、第二反射部、干涉仪以及如第一方面所述的校正装置。
本发明实施例能够通过调节反射部，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的两个干涉场，然后光栅控制机构调节光栅，使得两个干涉场的干涉条纹一致，从而精确地校正了光栅拼接的误差。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明一个实施例提供的光栅拼接校正方法的示意性流程图；
图2是本发明一个实施例提供的光栅拼接校正装置的示意性框图；
图3是本发明另一实施例提供的光栅拼接校正系统的光路图；
图4是本发明另一实施例提供的根据图2的光栅拼接误差分离校正的干涉图像；
图5是本发明另一实施例提供的干涉仪系统的示意性框图；
图6是本发明另一实施例提供的光栅拼接校正系统的示意性框图。
附图标记：光栅安装部110；反射部安装部120；反射部控制机构130；光栅控制机构140；干涉仪1；棱镜2；第一光栅3；第二光栅4；第一反射部5；第二反射部6；校正装置10。
具体实施方式
以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了诸如特定系统结构、技术之类的具体细节，以便透彻理解本发明实施例。然而，本领域的技术人员应当清楚，在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本发明。在其它情况中，省略对众所周知的系统、装置、电路以及方法的详细说明，以免不必要的细节妨碍本发明的描述。
为了说明本发明所述的技术方案，下面通过具体实施例来进行说明。
图1是本发明一个实施例提供的光栅拼接校正方法的示意性流程图。图2是本发明一个实施例提供的光栅拼接校正装置的示意性框图。下面将将结合图2的光栅拼接校正装置来描述图1的光栅拼接校正方法。图1的光栅拼接校正方法应用于光栅拼接校正系统，所述光栅拼接校正系统包括第一光栅3、第二光栅4、第一反射部5、第二反射部6、干涉仪1、棱镜2和校正装置10。干涉仪1用于向第一光栅3和第二光栅4射出光线并且检测反射回的光线，其中，射出的光线经由第一反射部5和第二反射部6以及第一光栅3和第二光栅4被反射。棱镜2设置在干涉仪1与第一光栅3之间，用于使部分光线发生偏折。
11：调节第一反射部5和第二反射部6中的一者或两者，使得干涉仪1检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的第一干涉场和第二干涉场。
12：调节第二光栅4，使得第一干涉场和第二干涉场的干涉条纹一致。
图2的光栅拼接校正装置应用于光栅拼接校正系统，本发明实施例的校正装置10包括：
光栅安装部110，第二光栅4固定在光栅安装部110上。
反射部安装部120，第一反射部5和第二反射部6安装在反射部安装部120上。
反射部控制机构130，通过调节反射部安装部120调节第一反射部5和第二反射部6中的一者或两者，使得干涉仪1检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的第一干涉场和第二干涉场。
光栅控制机构140，通过调节光栅安装部110调节第二光栅4，使得第一干涉场和第二干涉场的干涉条纹一致。
具体而言，如图3所示，光栅拼接校正系统具体可以实现为光栅拼接误差分离检测系统，其包括：干涉仪(例如，Zygo干涉仪)1、棱镜2、光栅(对应于第一光栅)3、光栅(对应于第二光栅)4、第一反射部5(例如，平面镜)和第二反射部6(例如，平面镜)。沿干涉仪1出射光线方向放置棱镜2，沿干涉仪1和棱镜2出射光线方向放置第一光栅3和第二光栅4，沿第一光栅3和第二光栅4出射光线方向放置第一反射部5和第二反射部6。其中，棱镜2的作用是促使干涉仪1出射的光线发生一定角度的偏折，以产生相同衍射级次不同入射角度的检测光，棱镜2的楔角大小可根据拼接光栅的尺寸和光路结构确定。第一反射部5和第二反射部6的作用是促使经第一光栅3和第二光栅4相同衍射级次不同入射角度的衍射光原路返回，第一反射部5和第二反射部6的尺寸可根据拼接光栅的尺寸和检测光的衍射角度确定。
还应理解，第一干涉场和第二干涉场例如为利用相同衍射级次不同入射角度的检测光而获得的入射角分别为α1和α2的两个干涉场。通过调节反射部安装部120调节第一反射部5和第二反射部6中的一者或两者为调整第一反射部5和第二反射部6，直至相同衍射级次不同入射角度干涉场中光栅3干涉条纹相一致，如图4(a)所示。
还应理解，在一个实施例中，如图3所示，棱镜2的楔角为140，第一光栅3和第二光栅4的尺寸为50mm，第一反射部5和第二反射部6的口径为100mm。第一入射角α1为680，第二入射角α2为75.520。即，调整α1和α2两个干涉场中静光栅干涉条纹相一致，保证α1和α2的两个干涉场中光删间拼接误差的完全校正。
在一个具体的实施例中，相同衍射级次一般实现为衍射效率高的闪耀级次。此外，在另一个具体的实施例中，的两种不同入射角的确定为根据光栅的使用入射角和光栅的衍射效率的计算结果确定。应理解，第一光栅和第二光栅可以为中阶梯光栅。在一个具体的实施例中，光栅控制机构可以分别通过旋转控制机构和平移控制机构独立地控制光栅安装部。
本发明实施例能够通过调节反射部，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的两个干涉场，然后光栅控制机构调节光栅，使得两个干涉场的干涉条纹一致，从而精确地校正了光栅拼接的误差。
应理解，光栅拼接五维误差的分离在现有技术中主要是根据光栅拼接误差与光栅衍射波前的关系，并且利用光栅的零级衍射光完成绕光栅矢量方向旋转误差Δθx、绕光栅栅线方向旋转误差Δθy和沿光栅法线方向平移误差Δz的分离；以及利用光栅非零级衍射光完成绕光栅法线方向旋转误差Δθz和沿光栅矢量方向平移误差Δx的分离。但是该方法仅适用于普通的闪耀光栅的拼接，却不适用于中阶梯光栅的拼接。由于中阶梯光栅的零级衍射光很弱，探测器无法检测。因此，本发明实施例的光栅拼接校正装置既适用于普通闪耀光栅又适用于中阶梯光栅拼接。
在另一个具体的实施例中，调节第二光栅，包括：控制光栅安装部基于第二光栅的矢量方向旋转，使得调节第二光栅的第一干涉场和第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的宽窄。例如，旋转控制机构包括第一旋转控制机构和第二旋转控制机构，第一旋转控制机构能够控制光栅安装部基于第二光栅的矢量方向旋转，以便调节第二光栅的第一干涉场和第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的宽窄。
应理解，用于实现该实施例的方案，确定Δθy为零，依据α1和α2干涉场中动光栅间拼接误差与光栅衍射波前的关系，调整α1和α2干涉场中动光栅干涉条纹宽窄相一致，实现绕光栅矢量方向旋转误差Δθx的分离与校正。具体而言，调整光栅4，确保第一光栅3和第二光栅4间的绕光栅矢量方向旋转误差Δθx的初始值小于
Figure BDA0002335478010000061
其中，α1是第一入射角，β1是第一衍射角，α2是第二入射角，β2是第二衍射角，λ是检测光波长，Δz是拼接光栅间初始沿光栅法线方向平移误差，ν是拼接光栅单元的尺寸。并向Δθx减小的方向调整，直至相同衍射级次不同入射角度干涉场中光栅4干涉条纹宽窄相一致，如图4(c)所示。
在另一个具体的实施例中，调节第二光栅，包括：控制光栅安装部基于第二光栅的法线方向旋转，使得调节第一光栅的第一干涉场和第二光栅的第一干涉场的干涉条纹的宽窄与第一光栅的第二干涉场和第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的宽窄。例如，第一旋转控制机构能够控制光栅安装部基于第二光栅的法线方向旋转，以便调节调节第一光栅的第一干涉场和第二光栅的第一干涉场的干涉条纹的宽窄与第一光栅的第二干涉场和第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的宽窄。
应理解，用于实现该实施例的方案，确定Δθx为零，依据光栅拼接五维误差中绕光栅法线方向旋转误差Δθz对拼接光栅衍射波前的影响，调整α1或α2干涉场中拼接光栅干涉条纹宽窄相一致，实现绕光栅法线方向旋转误差Δθz的分离与校正。具体而言，调整光栅4，调整第一光栅3和第二光栅4间的绕光栅法线方向旋转误差Δθz，直至相同衍射级次不同入射角度干涉场中第一光栅3和第二光栅4干涉条纹宽窄相一致，如图4(d)所示。
在另一个具体的实施例中，调节第二光栅，包括：控制光栅安装部基于第二光栅的栅线方向旋转，使得调节第一光栅的第一干涉场和第二光栅的第一干涉场的干涉条纹的平行度与第一光栅的第二干涉场和第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的平行度。例如，第二旋转控制机构能够控制光栅安装部基于第二光栅的栅线方向旋转，以便调节调节第一光栅的第一干涉场和第二光栅的第一干涉场的干涉条纹的平行度与第一光栅的第二干涉场和第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的平行度。
应理解，用于实现该实施例的方案，依据光栅拼接五维误差中绕光栅栅线方向旋转误差Δθy对拼接光栅衍射波前的影响，调整α1或α2干涉场中拼接光栅干涉条纹相互平行，实现Δθy的分离与校正。具体而言，调整光栅4，调整第一光栅3和第二光栅4间的绕光栅栅线方向旋转误差Δθy，直至相同衍射级次不同入射角度干涉场中第一光栅3和第二光栅4干涉条纹相互平行，如图4(b)所示。
在另一个具体的实施例中，调节第二光栅，包括：控制光栅安装部基于第二光栅的矢量方向平移第二光栅，使得调节第一光栅的第一干涉场和第二光栅的第一干涉场的干涉条纹的错位与第一光栅的第二干涉场和第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的错位。例如，平移控制机构能够控制光栅安装部基于第二光栅的矢量方向平移第二光栅，以便调节第一光栅的第一干涉场和第二光栅的第一干涉场的干涉条纹的错位与第一光栅的第二干涉场和第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的错位。
应理解，用于实现该实施例的方案，确定Δz为零，依据光栅拼接五维误差中沿光栅矢量方向平移误差Δx对拼接光栅衍射波前的影响，调整α1或α2干涉场中拼接光栅干涉条纹错位相一致，实现沿光栅矢量方向平移误差Δx的分离与校正。具体而言，调整光栅4，调整第一光栅3和第二光栅4间的沿光栅矢量方向平移误差Δx，直至相同衍射级次不同入射角度干涉场中第一光栅3和第二光栅4干涉条纹错位相一致，如图4(f)所示。
在另一个具体的实施例中，调节第二光栅，包括：控制光栅安装部基于第二光栅的法线方向平移第二光栅，使得调节第二光栅的第一干涉场和第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的错位。例如，平移控制机构能够控制光栅安装部基于第二光栅的法线方向平移第二光栅，以便调节第二光栅的第一干涉场和第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的错位。
应理解，用于实现该实施例的方案，确定Δθz为零，依据α1和α2干涉场中动光栅间拼接误差与光栅衍射波前的关系，调整α1和α2干涉场中动光栅干涉条纹错位相一致，实现沿光栅法线方向平移误差Δz的分离与校正。具体而言，调整光栅4，确保第一光栅3和第二光栅4间的沿光栅法线方向平移误差Δz小于
Figure BDA0002335478010000081
其中，α1是第一入射角，β1是第一衍射角，α2是第二入射角，β2是第二衍射角，λ是检测光波长。并向Δz减小的方向调整，直至相同衍射级次不同入射角度干涉场中光栅4干涉条纹错位相一致，如图4(e)所示。
图5是本发明另一实施例提供的干涉仪系统的示意性框图。图5的干涉仪系统包括干涉仪1以及校正装置10，其中干涉仪1与校正装置连接10。
应理解，干涉仪1与校正装置连接10可以是机械连接，也可以是电连接。本发明实施例能够通过反射部控制机构，调节反射部，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的两个干涉场，然后光栅控制机构调节光栅，使得两个干涉场的干涉条纹一致，从而精确地校正了光栅拼接的误差。
图6是本发明另一实施例提供的光栅拼接校正系统的示意性框图。图6的光栅拼接校正系统包括：第一光栅3、第二光栅4、第一反射部5、第二反射部6、干涉仪1、棱镜2和校正装置10。
干涉仪1用于向第一光栅3和第二光栅4射出光线并且检测反射回的光线，其中，射出的光线经由第一反射部5和第二反射部6以及第一光栅3和第二光栅4被反射。
棱镜2设置在干涉仪1与第一光栅3之间，用于使部分光线发生偏折。
校正装置10包括：光栅安装部110，第二光栅14固定在光栅安装部110上。反射部安装部120，第一反射部和第二反射部安装在反射部安装部120上。反射部控制机构130，通过调节反射部安装部120调节第一反射部5和第二反射部6中的一者或两者，使得干涉仪1检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的第一干涉场和第二干涉场。光栅控制机构140，通过调节光栅安装部110调节第二光栅4，使得第一干涉场和第二干涉场的干涉条纹一致。
本发明实施例能够通过反射部控制机构，调节反射部，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的两个干涉场，然后光栅控制机构调节光栅，使得两个干涉场的干涉条纹一致，从而精确地校正了光栅拼接的误差。
所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，仅以上述各功能单元、模块的划分进行举例说明，实际应用中，可以根据需要而将上述功能分配由不同的功能单元、模块完成，即将所述装置的内部结构划分成不同的功能单元或模块，以完成以上描述的全部或者部分功能。实施例中的各功能单元、模块可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中，上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件功能单元的形式实现。另外，各功能单元、模块的具体名称也只是为了便于相互区分，并不用于限制本申请的保护范围。上述系统中单元、模块的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述或记载的部分，可以参见其它实施例的相关描述。
本领域普通技术人员可以意识到，结合本文中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤，能够以电子硬件、或者计算机软件和电子硬件的结合来实现。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行，取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。专业技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法来实现所描述的功能，但是这种实现不应认为超出本发明的范围。
在本发明所提供的实施例中，应该理解到，所揭露的装置/终端设备和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置/终端设备实施例仅仅是示意性的，例如，所述模块或单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通讯连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通讯连接，可以是电性，机械或其它的形式。
所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。
以上所述实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种光栅拼接校正方法，其特征在于，应用于光栅拼接校正系统，所述光栅拼接校正系统包括第一光栅、第二光栅、第一反射部、第二反射部、干涉仪和棱镜，所述干涉仪用于向第一光栅和第二光栅射出光线并且检测反射回的光线，其中，射出的光线经由第一反射部和第二反射部以及所述第一光栅和所述第二光栅被反射，所述棱镜设置在所述干涉仪与所述第一光栅之间，用于使部分光线发生偏折，
所述光栅拼接校正方法包括：
调节第一反射部和第二反射部中的一者或两者，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的第一干涉场和第二干涉场；
调节所述第二光栅，使得所述第一干涉场和所述第二干涉场的干涉条纹一致。
2.根据权利要求1所述的光栅拼接校正方法，其特征在于，所述第一光栅和所述第二光栅为中阶梯光栅。
3.根据权利要求1所述的光栅拼接校正方法，其特征在于，所述调节所述第二光栅，包括：控制所述光栅安装部基于所述第二光栅的矢量方向旋转，使得调节所述第二光栅的第一干涉场和所述第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的宽窄。
4.根据权利要求3所述的光栅拼接校正方法，其特征在于，所述调节所述第二光栅，包括：控制所述光栅安装部基于所述第二光栅的法线方向旋转，使得调节所述第一光栅的第一干涉场和所述第二光栅的第一干涉场的干涉条纹的宽窄与第一光栅的第二干涉场和所述第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的宽窄。
5.根据权利要求3所述的光栅拼接校正方法，其特征在于，所述调节所述第二光栅，包括：控制所述光栅安装部基于所述第二光栅的栅线方向旋转，使得调节所述第一光栅的第一干涉场和所述第二光栅的第一干涉场的干涉条纹的平行度与第一光栅的第二干涉场和所述第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的平行度。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的光栅拼接校正方法，其特征在于，所述调节所述第二光栅，包括：控制所述光栅安装部基于所述第二光栅的矢量方向平移所述第二光栅，使得调节所述第一光栅的第一干涉场和所述第二光栅的第一干涉场的干涉条纹的错位与第一光栅的第二干涉场和所述第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的错位。
7.根据权利要求6所述的光栅拼接校正方法，其特征在于，所述调节所述第二光栅，包括：
控制所述光栅安装部基于所述第二光栅的法线方向平移所述第二光栅，使得调节所述第二光栅的第一干涉场和所述第二光栅的第二干涉场的干涉条纹的错位。
8.一种光栅拼接校正装置，其特征在于，应用于光栅拼接校正系统，所述光栅拼接校正系统包括第一光栅、第二光栅、第一反射部、第二反射部、干涉仪和棱镜，所述干涉仪用于向第一光栅和第二光栅射出光线并且检测反射回的光线，其中，射出的光线经由第一反射部和第二反射部以及所述第一光栅和所述第二光栅被反射，所述棱镜设置在所述干涉仪与所述第一光栅之间，用于使部分光线发生偏折，
所述校正装置包括：
光栅安装部，所述第二光栅固定在所述光栅安装部上；
反射部安装部，所述第一反射部和所述第二反射部安装在所述反射部安装部上；
反射部控制机构，通过调节所述反射部安装部调节第一反射部和第二反射部中的一者或两者，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的第一干涉场和第二干涉场；
光栅控制机构，通过调节所述光栅安装部调节所述第二光栅，使得所述第一干涉场和所述第二干涉场的干涉条纹一致。
9.一种光栅拼接校正系统，其特征在于，包括：第一光栅、第二光栅、第一反射部、第二反射部、干涉仪以及如权利要求8所述的校正装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112213836A (zh) * 2020-09-21 2021-01-12 中国科学院西安光学精密机械研究所 星载双光栅调制型成像仪器的光栅阵列的远距离对准方法
CN112229513A (zh) * 2020-09-29 2021-01-15 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种三光栅拼接系统
CN112700369A (zh) * 2020-12-22 2021-04-23 安徽地势坤光电科技有限公司 一种数字微镜工作角度误差的修正方法及设备
CN112712478A (zh) * 2020-12-22 2021-04-27 安徽地势坤光电科技有限公司 一种数字微镜工作角度误差的修正方法及设备
CN112904522A (zh) * 2021-03-31 2021-06-04 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种高精度的光栅拼接误差校正装置和方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105806482A (zh) * 2016-05-23 2016-07-27 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 拼接光栅的拼接误差校正系统及方法
CN105928619A (zh) * 2016-05-23 2016-09-07 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种拼接光栅拼接误差检测系统及拼接误差校正方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105806482A (zh) * 2016-05-23 2016-07-27 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 拼接光栅的拼接误差校正系统及方法
CN105928619A (zh) * 2016-05-23 2016-09-07 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种拼接光栅拼接误差检测系统及拼接误差校正方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
丛敏: "中阶梯光栅拼接及复制技术研究", 《中国博士学位论文全文数据库》 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112213836A (zh) * 2020-09-21 2021-01-12 中国科学院西安光学精密机械研究所 星载双光栅调制型成像仪器的光栅阵列的远距离对准方法
CN112213836B (zh) * 2020-09-21 2021-08-17 中国科学院西安光学精密机械研究所 星载双光栅调制型成像仪器的光栅阵列的远距离对准方法
CN112229513A (zh) * 2020-09-29 2021-01-15 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种三光栅拼接系统
CN112229513B (zh) * 2020-09-29 2021-12-17 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种三光栅拼接系统
CN112700369A (zh) * 2020-12-22 2021-04-23 安徽地势坤光电科技有限公司 一种数字微镜工作角度误差的修正方法及设备
CN112712478A (zh) * 2020-12-22 2021-04-27 安徽地势坤光电科技有限公司 一种数字微镜工作角度误差的修正方法及设备
CN112700369B (zh) * 2020-12-22 2023-03-03 安徽地势坤光电科技有限公司 一种数字微镜工作角度误差的修正方法及设备
CN112904522A (zh) * 2021-03-31 2021-06-04 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种高精度的光栅拼接误差校正装置和方法

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