CN111020527A - 镀膜设备 - Google Patents
镀膜设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111020527A CN111020527A CN202010025246.XA CN202010025246A CN111020527A CN 111020527 A CN111020527 A CN 111020527A CN 202010025246 A CN202010025246 A CN 202010025246A CN 111020527 A CN111020527 A CN 111020527A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- chain
- furnace belt
- plating
- annealing
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0227—Pretreatment of the material to be coated by cleaning or etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/56—After-treatment
Abstract
本发明涉及镀膜设备,所述镀膜设备包括:镀膜装置,所述镀膜装置用于在被镀膜件的表面进行镀膜;退火装置,所述退火装置用于对表面镀膜的被镀膜件进行退火处理;输送机构,所述输送机构用于输送所述被镀膜件依次通过所述镀膜装置以及所述退火装置。本发明实施例的镀膜设备,集成了镀膜装置和退火装置,降低了设备成本,节约了生产场地,且较大的提高了生产效率,进而提高了产能。
Description
技术领域
本发明涉及太阳能电池技术领域,具体涉及一种镀膜设备。
背景技术
现有的在硅片上制备掺杂结构时,先于镀膜装置中在硅片的受光面或背光面生长磷硅玻璃薄膜或硼硅玻璃薄膜作为掺杂层,然后将硅片置于高温管式炉或链式炉中进行退火处理,之后才能使用激光对硅片进行掺杂形成掺杂结构,然而,该方法需要同时使用镀膜装置以及高温管式炉或链式炉,设备成本较高,需要较大的生产场地,且生产效率较低。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明的目的在于提供一种镀膜设备,该镀膜设备集成了镀膜装置和退火装置,降低了设备成本,节约了生产场地,且较大的提高了生产效率,进而提高了产能。
为达到上述目的,本发明采用如下技术方案:
根据本发明实施例的镀膜设备,包括:
镀膜装置,所述镀膜装置用于在被镀膜件的表面进行镀膜;
退火装置,所述退火装置用于对表面镀膜的被镀膜件进行退火处理;
输送机构,所述输送机构用于输送所述被镀膜件依次通过所述镀膜装置以及所述退火装置。
优选地,所述输送机构为链式炉带传动机构,所述链式炉带传动机构的链式炉带依次穿过所述镀膜装置和所述退火装置。
优选地,所述镀膜装置包括:
第一加热机构和第二加热机构,所述第一加热机构和第二加热机构相对设置于所述链式炉带的两侧;
进气管道,所述进气管道用于向所述镀膜装置中通入成膜气体。
优选地,所述进气管道包括氧气进气管道,磷烷或硼烷进气管道,硅烷进气管道。
优选地,所述镀膜装置还包括第一抽风管道,所述第一抽风管道用于抽离所述镀膜装置中的废气。
优选地,所述退火装置包括:
第三加热机构和第四加热机构,所述第三加热机构和第四加热机构相对设置于所述链式炉带的两侧。
优选地,所述镀膜设备还包括用于对所述链式炉带进行清洗的清洗装置,所述清洗装置通过所述链式炉带连接于所述退火装置,所述清洗装置包括:
第一喷淋机构和第二喷淋机构,所述第一喷淋机构和所述第二喷淋机构用于清洗所述链式炉带;
钢丝刷机构,所述钢丝刷机构位于所述第一喷淋机构和所述第二喷淋机构之间,用于刷洗所述链式炉带的表面。
优选地,所述清洗装置中还设置有第二抽风管道,所述第二抽风管道位于所述第二喷淋机构的一侧,用于对清洗后的链式炉带进行抽风。
优选地,所述镀膜设备还包括对所述链式炉带进行预热的预热装置,所述预热装置通过所述链式炉带连接于所述清洗装置,所述预热装置包括:
第五加热机构和第六加热机构,所述第五加热机构和第六加热机构相对设置于所述链式炉带的两侧。
优选地,所述预热装置在进入第五加热机构和第六加热机构前还设置有第三抽风管道,所述第三抽风管道用于对清洗后的所述链式炉带蒸发的水汽进行抽离。
优选地,所述镀膜设备还包括通过所述链式炉带连接于所述退火装置和所述清洗装置之间的冷却装置,所述冷却装置用于对所述链式炉带输送的所述被镀膜件进行降温,所述冷却装置包括热交换器。
本发明的有益效果在于:
通过镀膜设备包括镀膜装置、退火装置和输送机构,输送机构输送被镀膜件依次通过镀膜装置以及退火装置,该镀膜设备集成了镀膜装置和退火装置,避免了分别使用镀膜装置以及退火装置进行镀膜和退火处理,从而降低了设备成本,节约了生产场地,且较大的提高了生产效率,进而提高了产能。
上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,并可依照说明书的内容予以实施,以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
图1为本发明实施例的镀膜设备的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例仅用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
根据本发明实施例的镀膜设备10,包括镀膜装置20、退火装置30和输送机构40,其中,镀膜装置20用于在被镀膜件的表面进行镀膜,退火装置30用于对表面镀膜的被镀膜件进行退火处理,输送机构40用于输送被镀膜件依次通过镀膜装置20以及退火装置30。
被镀膜件可以为硅片,硅片的尺寸可以为125mm*125mm、156mm*156mm、156.75mm*156.75mm、158.75mm*158.75mm或166mm*166mm,具体工作时,硅片置于输送机构40的上料区41,然后输送机构40输送硅片依次通过镀膜装置20以及退火装置30,硅片通过镀膜装置20的过程中,镀膜装置20在硅片的表面镀上作为掺杂层的磷硅玻璃薄膜或硼硅玻璃薄膜,然后在硅片通过退火装置30的过程中,退火装置30对表面镀有掺杂层的硅片进行退火处理,当硅片被输送至输送机构40的下料区42时,将硅片取下,以备使用激光对硅片进行掺杂。
通过镀膜设备10包括镀膜装置20、退火装置30和输送机构40,输送机构40输送被镀膜件依次通过镀膜装置20以及退火装置30,该镀膜设备10集成了镀膜装置20和退火装置30,避免了分别使用镀膜装置20以及退火装置30进行镀膜和退火处理,从而降低了设备成本,节约了生产场地,且较大的提高了生产效率,进而提高了产能。
根据本发明的一些实施例,输送机构40为链式炉带传动机构,链式炉带传动机构的链式炉带依次穿过镀膜装置20和退火装置30。链式炉带传动机构更利于对硅片进行输送,利于提高生产效率。
优选地,镀膜装置20包括第一加热机构21和第二加热机构22以及进气管道,第一加热机构21和第二加热机构22相对设置于链式炉带的两侧,其中第一加热机构21和第二加热机构22可以使用电阻丝进行加热,进气管道用于向镀膜装置20中通入成膜气体。具体地,进气管道包括氧气进气管道23、磷烷或硼烷进气管道26以及硅烷进气管道25,以分别向镀膜装置20中通入氧气、磷烷或硼烷以及硅烷,以在硅片的表面镀上作为掺杂层的磷硅玻璃薄膜或硼硅玻璃薄膜。第一加热机构21和第二加热机构22相对设置于链式炉带的两侧,以保证位于链式炉带上的硅片受热均匀,进而确保镀膜装置20对硅片的镀膜效果。
优选地,镀膜装置20还包括第一抽风管道24,第一抽风管道24用于抽离镀膜装置20中的废气。以将镀膜装置20中的废气及时排出,以免影响镀膜装置20对硅片的镀膜效果。
优选地,退火装置30包括第三加热机构31和第四加热机构32,第三加热机构31和第四加热机构32相对设置于链式炉带的两侧。其中,第三加热机构31和第四加热机构32可以采用红外灯管或电阻丝进行加热,第三加热机构31和第四加热机构32相对设置于链式炉带的两侧以对位于链式炉带上的硅片均匀加热,从而确保对表面镀膜的硅片的退火效果。
优选地,镀膜设备10还包括用于对链式炉带进行清洗的清洗装置50,清洗装置50通过链式炉带连接于退火装置30,清洗装置50包括第一喷淋机构51和第二喷淋机构52以及钢丝刷机构53,钢丝刷机构53位于第一喷淋机构51和第二喷淋机构52之间,其中,第一喷淋机构51和第二喷淋机构52向链式炉带喷淋清洗液以清洗链式炉带,钢丝刷机构53用于刷洗链式炉带的表面。链式炉带上的硅片取下后对链式炉带进行清洗,以防止链式炉带上沾染的污染物对后续的硅片的背面造成影响。
优选地,清洗装置50中还设置有第二抽风管道54,第二抽风管道54位于第二喷淋机构52的一侧,用于对清洗后的链式炉带进行抽风。以对链式炉带进行初步干燥,防止链式炉带中的大量的水进入后续的装置。
优选地,镀膜设备10还包括对链式炉带进行预热的预热装置60,预热装置60通过链式炉带连接于清洗装置50,预热装置60包括第五加热机构61和第六加热机构62,第五加热机构61和第六加热机构62相对设置于链式炉带的两侧。链式炉带在清洗装置50中进行清洗后,于预热装置60中进行预热,以确保进一步的链式炉带输送硅片于镀膜装置20中进行镀膜的效果。
优选地,预热装置60在进入第五加热机构61和第六加热机构62前还设置有第三抽风管道63,第三抽风管道63用于对清洗后的链式炉带蒸发的水汽进行抽离。
优选地,镀膜设备10还包括通过链式炉带连接于退火装置30和清洗装置50之间的冷却装置70,冷却装置70用于对链式炉带输送的被镀膜件进行降温,冷却装置70包括热交换器。硅片经退火处理后再经冷却装置70降温后从链式炉带取下,以便于进一步使用激光对硅片进行掺杂,提高了生产效率。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种镀膜设备,其特征在于,包括:
镀膜装置,所述镀膜装置用于在被镀膜件的表面进行镀膜;
退火装置,所述退火装置用于对表面镀膜的被镀膜件进行退火处理;
输送机构,所述输送机构用于输送所述被镀膜件依次通过所述镀膜装置以及所述退火装置。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述输送机构为链式炉带传动机构,所述链式炉带传动机构的链式炉带依次穿过所述镀膜装置和所述退火装置。
3.根据权利要求2所述的镀膜设备,其特征在于,所述镀膜装置包括:
第一加热机构和第二加热机构,所述第一加热机构和第二加热机构相对设置于所述链式炉带的两侧;
进气管道,所述进气管道用于向所述镀膜装置中通入成膜气体。
4.根据权利要求3所述的镀膜设备,所述进气管道包括氧气进气管道,磷烷或硼烷进气管道,硅烷进气管道。
5.根据权利要求3所述的镀膜设备,其特征在于,所述镀膜装置还包括第一抽风管道,所述第一抽风管道用于抽离所述镀膜装置中的废气。
6.根据权利要求2所述的镀膜设备,其特征在于,所述退火装置包括:
第三加热机构和第四加热机构,所述第三加热机构和第四加热机构相对设置于所述链式炉带的两侧。
7.根据权利要求2所述的镀膜设备,其特征在于,所述镀膜设备还包括用于对所述链式炉带进行清洗的清洗装置,所述清洗装置通过所述链式炉带连接于所述退火装置,所述清洗装置包括:
第一喷淋机构和第二喷淋机构,所述第一喷淋机构和所述第二喷淋机构用于清洗所述链式炉带;
钢丝刷机构,所述钢丝刷机构位于所述第一喷淋机构和所述第二喷淋机构之间,用于刷洗所述链式炉带的表面;所述清洗装置中还设置有第二抽风管道,所述第二抽风管道位于所述第二喷淋机构的一侧,用于对清洗后的链式炉带进行抽风。
8.根据权利要求7所述的镀膜设备,其特征在于,所述镀膜设备还包括对所述链式炉带进行预热的预热装置,所述预热装置通过所述链式炉带连接于所述清洗装置,所述预热装置包括:
第五加热机构和第六加热机构,所述第五加热机构和第六加热机构相对设置于所述链式炉带的两侧。
9.根据权利要求8所述的镀膜设备,其特征在于,所述预热装置还在进入第五加热机构和第六加热机构前设置有第三抽风管道,所述第三抽风管道用于对清洗后的所述链式炉带蒸发的水汽进行抽离。
10.根据权利要求7所述的镀膜设备,其特征在于,所述镀膜设备还包括通过所述链式炉带连接于所述退火装置和所述清洗装置之间的冷却装置,所述冷却装置用于对所述链式炉带输送的所述被镀膜件进行降温,所述冷却装置包括热交换器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010025246.XA CN111020527A (zh) | 2020-01-10 | 2020-01-10 | 镀膜设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010025246.XA CN111020527A (zh) | 2020-01-10 | 2020-01-10 | 镀膜设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111020527A true CN111020527A (zh) | 2020-04-17 |
Family
ID=70198926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010025246.XA Pending CN111020527A (zh) | 2020-01-10 | 2020-01-10 | 镀膜设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111020527A (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN201990728U (zh) * | 2010-12-29 | 2011-09-28 | 福建钧石能源有限公司 | 低压化学气相沉积反应设备 |
CN104451845A (zh) * | 2014-11-13 | 2015-03-25 | 深圳国宝造币有限公司 | 一种贵金属币自动化镀膜系统及方法 |
CN104716223A (zh) * | 2013-12-11 | 2015-06-17 | 中国电子科技集团公司第十八研究所 | 柔性衬底卷对卷制膜退火一体化的制备方法 |
CN204651290U (zh) * | 2015-06-04 | 2015-09-16 | 英利能源(中国)有限公司 | 清洗装置及具有其的烧结炉系统 |
WO2019043497A1 (en) * | 2017-08-30 | 2019-03-07 | Ultra Conductive Copper Company, Inc. | METHOD AND SYSTEM FOR STRETCHING CABLES |
-
2020
- 2020-01-10 CN CN202010025246.XA patent/CN111020527A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN201990728U (zh) * | 2010-12-29 | 2011-09-28 | 福建钧石能源有限公司 | 低压化学气相沉积反应设备 |
CN104716223A (zh) * | 2013-12-11 | 2015-06-17 | 中国电子科技集团公司第十八研究所 | 柔性衬底卷对卷制膜退火一体化的制备方法 |
CN104451845A (zh) * | 2014-11-13 | 2015-03-25 | 深圳国宝造币有限公司 | 一种贵金属币自动化镀膜系统及方法 |
CN204651290U (zh) * | 2015-06-04 | 2015-09-16 | 英利能源(中国)有限公司 | 清洗装置及具有其的烧结炉系统 |
WO2019043497A1 (en) * | 2017-08-30 | 2019-03-07 | Ultra Conductive Copper Company, Inc. | METHOD AND SYSTEM FOR STRETCHING CABLES |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104409339B (zh) | 一种硅片的p扩散方法和太阳能电池的制备方法 | |
CN1041747A (zh) | 玻璃涂层工艺 | |
CN104821345B (zh) | 一种抗电势诱导衰减太阳能电池的制备方法 | |
CN107464857A (zh) | 一种降低perc电池片衰减的镀膜工艺方法 | |
US10030307B2 (en) | Apparatus and process for producing thin layers | |
CN203310228U (zh) | 一种太阳能硅片干燥炉 | |
CN111020527A (zh) | 镀膜设备 | |
CN213951339U (zh) | 一种硅片沉积设备 | |
CN212725343U (zh) | 一种硅片链式扩散氧化两用设备 | |
CN101638713A (zh) | 热处理废热应用于黑化过程的装置 | |
CN102538453B (zh) | 具有高反射率加热区段的快速热焙烧红外线传送带式热处理炉 | |
CN209193793U (zh) | 一种节能型浮法玻璃生产系统 | |
CN213051802U (zh) | 一种硅片清洗供水系统 | |
CN105244410A (zh) | 一种抗电势诱导衰减太阳能电池的生产设备 | |
CN205903731U (zh) | 一种废气处理系统 | |
CN217094114U (zh) | 一种链式双面沉积设备 | |
CN115472713A (zh) | 一种硼扩散制结的方法 | |
CN114388654A (zh) | 一种硅片加热装置及方法 | |
CN106834997A (zh) | 一种热镀锌带钢生产余热利用装置 | |
CN207651452U (zh) | 快速热处理装置 | |
CN219607743U (zh) | 一种利用退火余热升温降低设备能耗装置 | |
JP3774794B2 (ja) | 連続拡散処理装置 | |
CN112665354A (zh) | 钢丝热镀锌和磷化两用烘干炉系统 | |
CN107966015B (zh) | 硅片可悬空烘干的烧结炉 | |
CN212655682U (zh) | 一种玻璃制品成型供热装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20200417 |