CN213051802U - 一种硅片清洗供水系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提出了一种硅片清洗供水系统，包括：依次连通的存水箱、空气热水器、离心泵、分流管道、清洗管道、药洗槽、溢流管道和第三管道，分流管道的上段连接若干清洗管道的进水口；每个清洗管道的出水口均连通一药洗槽；所有清洗管道的长度均相同；分流管道竖直设置；溢流管道为圆形并依次连通药洗槽的下段；溢流管道上设置排水阀；溢流管道的中心线与分流管道的轴线重合。本实用新型通过空气热水器将纯水加热至恒温，之后将恒温的纯水输入各个药洗槽内，避免了药洗槽本身直接加热，节约了电能；同时分流管道和清洗管道配合，将纯水同时输入各个药洗槽内，从而能够减少供水在输送过程中热量的损耗，进一步节约了电能。
Description
技术领域
本实用新型属于硅片清洗领域，尤其涉及一种硅片清洗供水系统。
背景技术
目前，多晶硅片的清洗是多晶硅片加工的过程中重要的工序，微量污染会导致器件的失效，多晶硅片的清洗是采用物理或者化学的方法出去硅片表面的污染物和自身氧化物，使操作人员能够得到符合清洁度要求的硅片的过程。现有的多晶硅片清洗设备有七个槽，其中一槽为浸泡溢流槽、二~四槽为药洗槽、五~七槽为溢流槽，每个药洗槽均具有电加热管以进行单独加热，因此用于对纯水的加热电量较高，浪费电能。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种硅片清洗供水系统，通过空气热水器将纯水加热至恒温，之后将恒温的纯水输入各个药洗槽内，避免了药洗槽本身直接加热，节约了电能，同时溢流管道和清洗管道配合，将纯水同时输入各个药洗槽内，从而能够减少供水在输送过程中热量的损耗，进一步节约了电能。
一种硅片清洗供水系统，包括：
一存水箱，所述存水箱的出水口连接第一管道的进水口；
一空气热水器，所述空气热水器的进水口连接所述第一管道的出水口；所述空气热水器的出水口连接第二管道的进水口；
一离心泵，所述离心泵设置在所述第二管道上；
一分流管道，所述分流管道连接所述第二管道的出水口；所述分流管道的上段连接若干清洗管道的进水口；每个所述清洗管道的出水口均连通一药洗槽；所有所述清洗管道的长度均相同； 所述分流管道竖直设置；
一溢流管道，所述溢流管道为圆形并依次连通所述药洗槽的下段；所述溢流管道连通一第三管道；所述溢流管道上设置排水阀；所述溢流管道的中心线与所述分流管道的轴线重合。
优选地，所述清洗管道的外壁上设置保温层。
优选地，所述药洗槽的数量为3。
优选地，所述溢流管道的直径小于所述清洗管道的直径。
优选地，所述分流管道底部封闭；所述分流管道包括多个依次连接的分流管；相邻所述分流管之间通过一三通管连接；每个三通管的一接口连接一所述清洗管道。
与现有技术相比，本实用新型的优点为：通过空气热水器将纯水加热至恒温，之后将恒温的纯水输入各个药洗槽内，避免了药洗槽本身直接加热，节约了电能；同时分流管道和清洗管道配合，将纯水同时输入各个药洗槽内，从而能够减少供水在输送过程中热量的损耗，进一步节约了电能。
附图说明
图1为本实用新型一实施例的硅片清洗供水系统的俯视图。
其中，1-存水箱，2-空气热水器，3-离心泵，4-分流管道，5-清洗管道，6-溢流管道，7-第二管道，8-第三管道，9-排水阀，10-药洗槽。
具体实施方式
下面将结合示意图对本实用新型进行更详细的描述，其中表示了本实用新型的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型，而仍然实现本实用新型的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本实用新型的限制。
如图1所示，一种硅片清洗供水系统，包括：依次连接的存水箱1、空气热水器2、离心泵3、分流管道4、清洗管道5、药洗槽10、溢流管道6和第三管道8。
存水箱1的出水口连接第一管道的进水口。
空气热水器2的进水口连接第一管道的出水口；空气热水器2的出水口连接第二管道7的进水口。
离心泵3设置在第二管道7上。
分流管道4连接第二管道7的出水口；分流管道4的上段连接若干清洗管道5的进水口；每个清洗管道5的出水口均连通一药洗槽10；所有清洗管道5的长度均相同； 分流管道4竖直设置。优选地，清洗管道5的外壁上设置保温层；药洗槽10的数量为3。
溢流管道6为圆形并依次连通药洗槽10的下段；溢流管道6连通一第三管道8；溢流管道6上设置排水阀9；溢流管道6的中心线与分流管道4的轴线重合。
在本实施例中，溢流管道6的直径小于清洗管道5的直径。
在本实施例中，分流管道4底部封闭；分流管道4包括多个依次连接的分流管；相邻分流管之间通过一三通管连接；每个三通管的一接口连接一清洗管道5。
现有技术中，三个药洗槽10虽本身有电加热管，但是能耗较高，需要一定的加热时间；不利于生产连续操作；而在本实施例中，加热时间可减少30~40min，三个药洗槽10自带加热升温的能耗减去空气热水器2的消耗，可节约30度~40度的电能。
本实用新型的工作原理为：
纯水由存水箱1流入第一管道，之后由第一管道进入空气热水器2，空气热水器2将纯水加热至55℃之后，人工打开第二管道7上的阀门，离心泵3将空气热水器2内的纯水泵入第二管道7内，纯水经第二管道7进入分流管道4、之后在分流管道4处，分别经3个清洗管道5，进入对应的药洗槽10内；当运行一段时间后，人工打开排水阀9，各个药洗槽10内的纯水经溢流管道6，由第三管道8排出。
上述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不对本实用新型起到任何限制作用。任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本实用新型的技术方案的范围内，对本实用新型揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本实用新型的技术方案的内容，仍属于本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种硅片清洗供水系统，其特征在于，包括：
一存水箱，所述存水箱的出水口连接第一管道的进水口；
一空气热水器，所述空气热水器的进水口连接所述第一管道的出水口；所述空气热水器的出水口连接第二管道的进水口；
一离心泵，所述离心泵设置在所述第二管道上；
一分流管道，所述分流管道连接所述第二管道的出水口；所述分流管道的上段连接若干清洗管道的进水口；每个所述清洗管道的出水口均连通一药洗槽；所有所述清洗管道的长度均相同； 所述分流管道竖直设置；
一溢流管道，所述溢流管道为圆形并依次连通所述药洗槽的下段；所述溢流管道连通一第三管道；所述溢流管道上设置排水阀；所述溢流管道的中心线与所述分流管道的轴线重合。
2.根据权利要求1所述的硅片清洗供水系统，其特征在于，所述清洗管道的外壁上设置保温层。
3.根据权利要求1所述的硅片清洗供水系统，其特征在于，所述药洗槽的数量为3。
4.根据权利要求1所述的硅片清洗供水系统，其特征在于，所述溢流管道的直径小于所述清洗管道的直径。
5.根据权利要求1所述的硅片清洗供水系统，其特征在于，所述分流管道底部封闭；所述分流管道包括多个依次连接的分流管；相邻所述分流管之间通过一三通管连接；每个三通管的一接口连接一所述清洗管道。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202021441010.6U CN213051802U (zh) | 2020-07-20 | 2020-07-20 | 一种硅片清洗供水系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN202021441010.6U CN213051802U (zh) | 2020-07-20 | 2020-07-20 | 一种硅片清洗供水系统 |
Publications (1)
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| CN213051802U true CN213051802U (zh) | 2021-04-27 |
Family
ID=75574593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202021441010.6U Active CN213051802U (zh) | 2020-07-20 | 2020-07-20 | 一种硅片清洗供水系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN213051802U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113231619A (zh) * | 2021-05-08 | 2021-08-10 | 吴薇娜 | 一种发动机悬挂支架铝合金压铸件浇排结构 |
-
2020
- 2020-07-20 CN CN202021441010.6U patent/CN213051802U/zh active Active
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| CN113231619A (zh) * | 2021-05-08 | 2021-08-10 | 吴薇娜 | 一种发动机悬挂支架铝合金压铸件浇排结构 |
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