CN110997126A - 用于清洁处理光气的装置的方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及通过用氨气加压至恒定压力来清洁处理光气的装置的方法。采用这种方式，待清洁的装置中的光气残余物被有效分解。

Description

用于清洁处理光气的装置的方法

本发明涉及通过用氨气加压至恒定压力来清洁处理光气的装置的方法。采用这种方式，待清洁的装置中的光气残余物被有效分解。

光气作为辅助剂或作为中间体被用于许多化学领域。就数量而言，最大的应用领域是制备作为聚氨酯化学的起始材料的二异氰酸酯和/或多异氰酸酯。这里可特别提及甲苯二异氰酸酯(特别是间甲苯二异氰酸酯)、萘二异氰酸酯(特别是萘1,5-二异氰酸酯)、戊烷1,5-二异氰酸酯、六亚甲基1,6-二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、二环己基甲烷二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯(特别是二甲苯1,3二异氰酸酯和/或1,4二异氰酸酯)及二苯甲烷系列的二胺和多胺。光气的另一个重要应用领域是聚碳酸酯的制备。

用于生产此类材料的生产设备自然包括许多处理光气的装置，例如用于制备光气的反应器或用于使光气与适当的反应性起始材料(例如胺或酚)反应的反应器。此外，许多后处理(work-up)装置(例如蒸馏塔)被认为是处理光气的装置。这一点自然也应用于许多外围设备，例如储罐和管道。

在所有情况下，都可能需要打开此类装置，例如用于维护、维修和清洁工作，或者为了例如从反应器中除去耗尽的催化剂。由于光气的高毒性，几十年来已经成为良好的工业实践的一部分的是在打开之前非常小心地去除此类装置中的光气。本领域技术人员已知关于本行业中惯常的主题的说明。可提及国际异氰酸酯研究所股份有限公司(International Isocyanate Institute Inc.)的“Phosgene Safety Practices for design, production and processing(光气设计、生产和加工的安全实践)”的实例。在2012版中，第2部分第3.2.3项中描述了尤其包括用氮气冲洗装置、用氨冲洗装置和用水、氢氧化钠溶液或氨水浸没装置的程序。同样可参考美国化学委员会(American ChemistryCouncil)的“Phosgene Safe Practice Guidelines (光气安全实践指南)”。其中，在2014版的第9.0章(“Equipment Cleaning and Repair(设备清洗和维修)”)中公开了可尤其使用无水氨来去除难以清洗的装置中的光气。

光气通常由一氧化碳和氯气在活性炭催化剂上反应来制备。在可以打开用于该目的的反应器之前，必须确保其中存在的活性炭也不含光气，这是因为必须非常小心地处理大的内表面积。国际专利申请WO 2016/109987 A1解决了这个问题，该专利申请涉及快速去除光气生产塔中的光气的方法。该方法包括，在切断起始材料一氧化碳和氯气的引入之后，首先是用氮气冲洗以便将光气的主要部分从反应器中赶出的步骤A)。该步骤A)之后任选是步骤B)，其中将氨气引入光气生产塔(其出口目前是关闭的)直至建立在0.11 MPa至5 MPa范围内的压力。在1小时至10小时之后，通过打开光气生产塔的出口，对系统进行减压。如有必要，重复多次这种用氨气加压和减压的程序。据说，采用这种方式，首先防止了下游管道堵塞，其次活性炭催化剂的孔中存在的光气也充分反应了。该任选的步骤B)之后是使氨气通过光气生产塔的步骤C)。实施该步骤直至在光气生产塔出口处测得的光气含量降至不超过1 ppm的值。因此，仅通过分析残留光气含量来检查光气分解的成功与否。该申请还公开了在壳管式反应器用于光气生产的情况下，在取出活性炭后用水清洁反应器。

但是，仅仅通过在仅使用气态氨分解光气中进行取样和分析残余光气含量来检查光气分解的成功与否是不严格的，因为不能排除隐藏的光气残余物会因此被遗漏。

因此，在清洁领域，即，特别是在去除处理光气的装置中的光气方面需要进一步改进。当清洁程序，即，特别是残余光气的分解结束并且装置可以被安全打开时，能够以简单的方式建立将是特别合意的。特别地，实现具有固有吸引力的使用气态氨来进行光气分解的进一步改进将是合意的。

考虑到该需要，本发明提供用于清洁处理光气的装置的方法，该装置具有至少一个可以被关闭的进料导管和至少一个可以被关闭的排放导管，该方法包括以下步骤：

a)使待清洁的装置中的压力降低至小于或等于900毫巴_(abs.)、优选小于或等于500毫巴_(abs.)、特别优选小于或等于100毫巴_(abs.)、甚至更优选小于或等于50毫巴_(abs.)、最优选小于或等于25毫巴_(abs.)的值；

b)关闭与待清洁的装置连接的所有导管，除了至少一个进料导管用于氨气之外；

c)通过至少一个未关闭的进料导管自氨气源引入气态氨，直至在待清洁的装置中累积大于或等于1.01巴_(abs.)、特别在1.01巴_(abs.)至5.00巴_(abs.)范围内的预定压力；

d)连续地或以至多1个小时的间隔测量待清洁的装置中的压力，并且一旦该压力下降至低于预定值超过5.0%，就通过引入更多的气态氨来使该压力恢复至预定值(或至偏离预定值的最多± 2.0%的值)；

e)一旦待清洁的装置中的压力持续大于1.0小时、优选至少6.0小时、特别优选至少12.0小时、甚至更优选至少24.0小时的时间段保持在预定值左右± 5.0%的波动范围内，就将氨气源与待清洁的装置分离，任选地降低该装置中的压力优选至900毫巴_(abs.)至1000毫巴_(abs.)的值，解除至少一个排放导管的关闭，接着使惰性气体通过待清洁的装置。

出于本发明的目的，“处理光气的装置”是在操作过程中与光气接触的所有设备部件，即，特别是用于制备光气的反应器、用于使光气与反应性起始材料反应的反应器、用于纯化使用光气生产的产物的后处理装置(特别是蒸馏塔)、以及外围设备例如管道和容器(例如储罐)。

首先，以下是本发明的各种可能的实施方案的简单概述：

在可与所有其它实施方案组合的本发明的第一实施方案中，步骤a)之前是以下步骤：

aa)使一氧化碳通过待清洁的装置。

在可与所有其它实施方案组合、特别是与第一实施方案组合的本发明的第二实施方案中，在步骤a)之前、特别是当进行步骤aa)时，在步骤aa)之后并且在步骤a)之前进行以下步骤：

ab)使惰性气体通过待清洁的装置。

在可与所有其它实施方案组合的本发明的第三实施方案中，若进行步骤aa)，则在步骤aa)期间，和/或，若进行步骤ab)，则在步骤ab)期间，和/或在步骤a)期间使待清洁的装置达到60.0°C至140.0°C范围内的温度。

在可与所有其它实施方案组合的本发明的第四实施方案中，在步骤c)和d)期间使待清洁的装置达到50.0°C至80.0°C范围内的温度。

在可与所有其它实施方案组合的本发明的第五实施方案中，步骤e)之后是以下另一步骤：

f)使含水流通过待清洁的装置，特别使水或氨水通过待清洁的装置，接着通过使空气或惰性气体通过而进行干燥。

在代表第五实施方案的替代方案但是另外可与所有其它实施方案组合的本发明的第六实施方案中，在步骤e)之后，待清洁的装置要么是打开的，要么进入操作，而在打开或进入操作之前没有含水流通过待清洁的装置。

在可与所有其它实施方案组合的本发明的第七实施方案中，待清洁的装置选自：

·用于制备光气的反应器，

·用于使光气与反应性起始材料反应的反应器，

·用于纯化使用光气生产的产物的后处理装置，和

·外围设备，例如，特别是管道和容器。

在是第七实施方案的特别的变型的本发明的第八实施方案中，待清洁的装置是用于由一氧化碳和氯气制备光气的填充活性炭的反应器。

在是第八实施方案的特别的变型的本发明的第九实施方案中，用于由一氧化碳和氯气制备光气的填充活性炭的反应器是用于通过使光气反应性起始材料与光气反应来制备化工产品的生产设备的一部分。

在是第九实施方案的特别的变型的本发明的第十实施方案中，光气反应性起始材料是具有两个或更多个酚羟基的化合物，或具有两个或更多个伯氨基的化合物。

在是第九或第十实施方案的特别的变型的本发明的第十一实施方案中，用于制备化工产品的生产设备具有n个用于由一氧化碳和氯气制备光气的反应器，其填充有活性炭并能彼此独立地进行调节，其中n是2至10、优选2至5的自然数，在m个反应器中由一氧化碳和氯气制备光气，其中m是1至n – 1范围内的自然数，而清洁步骤aa)、任选地ab)、和a)至e)在至少一个反应器中进行。

在可与所有包含步骤aa)的实施方案组合、并且可特别与第十一实施方案组合的本发明的第十二实施方案中，将在步骤aa)中离开待清洁的装置的含有一氧化碳的气体进料至用于由一氧化碳和氯气制备光气的工艺中、特别是用于在m个反应器中由一氧化碳和氯气制备光气的工艺中。

在可与其中待清洁的装置是用于由一氧化碳和氯气制备光气的填充活性炭的反应器的所有实施方案组合的本发明的第十三实施方案中，步骤e)或，若进行的话，步骤f)之后是以下步骤：

g)移除活性炭并用新鲜的活性炭替换它。

在可与所有其它实施方案组合的第十四实施方案中，步骤c)中的预定压力在1.02巴_(abs.)至4.00巴_(abs.)范围内、优选在1.05巴_(abs.)至4.00巴_(abs.)范围内、特别优选在1.10巴_(abs.)至3.00巴_(abs.)范围内、非常特别优选在1.20巴_(abs.)至1.50巴_(abs.)范围内。

在下文中更详细地解释上文已简要指明的实施方案和本发明的其它可能的变型。除非上下文清楚地对本领域技术人员作出相反的指示，否则各种实施方案可采取任何方式彼此组合。

在实施本发明的方法之前，当然有必要中断通常进料至待清洁的装置中的起始材料的引入(在光气生产反应器的情况下，是一氧化碳和氯气，并且在用于异氰酸酯的光气化的反应器的情况下，是胺和光气，等等)，并且如果需要，排出任何存在的液体(例如反应溶液)。也可用溶剂和/或惰性气体(例如在步骤ab)的背景下在下文描述的那些)来冲洗装置。

在本发明方法的步骤a)中，然后降低待清洁的装置中的压力。原则上，合意的是在这一阶段尽可能降低压力，即，在技术上可行的情况下尽可能使装置排空。但是，取决于生产设备中存在的装置，在不采取过度措施的情况下，可能仅能将压力降至略低于大气压。在此类情况下，将压力降至900毫巴_(abs.)的值就足够了；尽管如此，但是代价是后面过程中氨气消耗量较高。

可使用本领域技术人员将熟悉的所有真空产生装置来实施步骤a)中的降低压力。步骤a)用于除去装置中仍然存在的光气的主要部分。真空产生装置的废气优选被进料至废气后处理，该废气后处理包括借助水在活性炭上的光气分解。

在本发明的一个实施方案中，在步骤a)之前的步骤aa)中使一氧化碳通过待清洁的装置。当待清洁的装置是含有具有大的内表面积的催化剂(特别是活性炭)的反应器时，执行步骤aa)是特别优选的。引入的一氧化碳用于脱附存在于催化剂的孔中的光气和可能的氯气。离开待清洁的装置的气体混合物可被进料至包括借助水在活性炭上的光气分解的废气后处理，或可用于制备新鲜光气。在步骤aa)中，优选使一氧化碳通过达1.0小时至168小时、特别优选8.0小时至120小时、非常特别优选12.0小时至72小时且极其非常特别优选18小时至48小时的时段。

本发明方法还可包括步骤ab)，其中使惰性气体通过待清洁的装置。合适的惰性气体特别是氮气、二氧化碳或稀有气体，例如氩气或氦气。优选使用氮气。步骤 ab)在进行步骤aa)时是特别优选的，并且在该情况下，在步骤aa)之后优选进行步骤ab)。在该特别优选的实施方案中，借助步骤ab)将一氧化碳冲洗出待清洁的装置。离开待清洁的装置的气体混合物可优选被进料至包括借助水在活性炭上的光气分解的废气后处理。在步骤ab)中，优选使惰性气体通过达1.0小时至120小时、特别优选3.0小时至72小时、非常特别优选6.0小时至48小时且极其非常特别优选12小时至24小时的时段。

在步骤aa)和步骤ab)中，彼此独立地优选使待清洁的装置达到60.0°C至140.0°C范围内、优选80.0°C至120.0°C范围内的温度。在步骤a)本身中，也优选维持在该范围内的温度；特别优选在步骤aa)、步骤ab)和步骤a)中维持同样的温度。

在步骤b)中，若执行步骤a)时还未发生的话，则关闭与待清洁的装置连接的所有导管，除了至少一个、优选正好一个氨气进料导管之外。表述“与待清洁的装置连接的所有导管”表示用于在正常操作期间被引入待清洁的装置中的起始材料以及从中去除的产物的进料导管和排放导管；由此不包括诸如过压阀之类的安全装置。这些进料导管和排放导管通常配备有在步骤b)中关闭的阀。

在步骤c)中，随后用氨气将已排空并且除了氨气进料导管之外都关闭的装置浸没，直至累积大于或等于1.01巴_(abs.)、特别在1.01巴_(abs.)至5.00巴_(abs.)范围内、优选在1.02巴_(abs.)至4.00巴_(abs.)范围内、特别优选在1.05巴_(abs.)至4.00巴_(abs.)范围内、非常特别优选在1.10巴_(abs.)至3.00巴_(abs.)范围内、极其非常特别优选在1.20巴_(abs.)至1.50巴_(abs.)范围内的预定压力。“预定压力”可为在所提及范围内的任何压力，例如1.01巴_(abs.)、1.05巴_(abs.)、1.50巴_(abs.)、2.00巴_(abs.)、2.50巴_(abs.)、3.00巴_(abs.)、3.50巴_(abs.)、4.00巴_(abs.)、4.50巴_(abs.)或5.00巴_(abs.)。在本发明的优选实施方案中，在步骤c)中，使待清洁的装置达到50.0°C至80.0°C范围内的温度。

连续地(“在线”)或间断地(至少每小时一次、优选每半小时一次、特别优选每一刻钟一次)测量待清洁的装置中的压力(步骤d)。出于该目的，将压力测量装置(特别是压力变送器)安装在待清洁的装置上或使用现有的压力测量装置(例如在关闭阀上游的待清洁的装置的排放导管中)。本领域技术人员非常清楚的事实是，装置中的压力取决于温度。若在步骤d)期间使待清洁的装置的温度保持恒定，例如借助设定在预定温度(例如针对步骤c)所选的温度)的外部加热来保持恒定，则这对于本发明方法不具有实际影响。若装置中的温度未经调节，并因此取决于环境温度，则在步骤d)中连续地或以至少每小时一次的间隔测量的压力可能具有误导性。例如，它可能误导性地看起来显示由于光气持续分解而导致的压力下降，而实际上观察到的压力下降只是较低环境温度的结果。在此类情况下，必须针对温度的影响校正步骤d)中测量的压力，-步骤c)结束时，即，在第一次建立预定压力时的时间点处装置中的温度是参考点。这能容易地使用以下方程来计算，对于本发明的目的而言，该方程是足够精确的：

p_校正 = (T_参考 / T_测量) · p_测量。

(p_校正 =针对温度影响而校正的压力；T_参考 = 步骤c)结束时装置中的温度；T_测量 =装置中实际测量的温度；p_测量 = 装置中实际测量的压力)

在测量压力与预定压力的向下偏差超过5.0%的情况下，通过引入更多的气态氨将压力再次增加到预定值。例如，当期望压力为1.20巴_(abs.)时，一旦测量压力降至低于1.14巴_(abs.)的值时就供入更多的氨。压力下降表明供入的氨与存在的光气正在反应。在步骤d)中，还会不言而喻地发生待清洁的装置的任何温度控制。实际上，可能难以再次准确地达到预定的压力值。但是，与预定值的至多± 2.0%的偏差并不损害本发明。在预定压力值为1.20巴_(abs.)的实例的情况下，这意味着引入氨气直到压力上升到1.18巴_(abs.)至1.22巴_(abs.)(1.20巴_(abs.)的2%为0.02巴_(abs.))范围内的值。

一旦待清洁的装置中的压力在预定值周围的± 5.0%的波动范围内保持超过1.0小时、优选至少12.0小时、特别优选至少24.0小时的时段，就将氨气源与待清洁的装置分离，并解除至少一个排放管道的关闭，以便使含氨气体混合物减压。随后使惰性气体通过待清洁的装置(步骤e)，以便冲洗出仍存在的含氨气体混合物的残余物。从预定压力值计算±5.0%的波动范围，而不考虑±2.0%的可能的偏差。在预定压力值为1.20巴_(abs.)的实例的情况下，这意味着压力在1.14巴_(abs.)至1.26巴_(abs.) (1.20巴_(abs.)的6%为0.06巴_(abs.))的范围内保持恒定。实际上，压力将通常保持在预定值或稍低(即，至多-5.0%)；在预定压力值为1.20巴_(abs.)的实例中，这意味着压力将通常在1.14巴_(abs.)至1.20巴_(abs.)的范围内保持恒定。

惰性气体的引入可通过仅为该目的而提供的单独进料导管或通过先前通过气态氨的同一导管来实现。使惰性气体通过待清洁的装置，即，它通过至少一个打开的排放管道排出。合适的惰性气体特别是氮气、二氧化碳或稀有气体，例如氩气或氦气。优先使用氮气。离开装置的气体混合物优选被进料至废气后处理，其包括例如碱(例如NaOH)洗涤步骤。最终，离开的气体混合物虽然已不含光气，但由于在任何情况下都存在相应的管道，因此有利地被进料至上述借助水在活性炭上的光气分解。

在解除至少一个排放导管的关闭之前，可以进行降低待清洁的装置中的压力的步骤。这是出于安全原因，由此防止了在例外情况下可能仍然存在于装置中的任何潜在有害物质的释放。如果进行该压力释放步骤，则压力仅被降至略低于大气压，优选至900毫巴_(abs.)~1000毫巴_(abs.)的值。

在本发明的一个实施方案中，在步骤e)之后，在步骤f)中，用含水流冲洗待清洁的装置，特别用水或氨水冲洗待清洁的装置，接着通过使空气或惰性气体通过而干燥装置。再一次，合适的惰性气体，特别是氮气、二氧化碳或稀有气体，例如氩气或氦气。优选使用氮气。当待清洁的装置是用于由一氧化碳和氯气制备光气的填充活性炭的反应器时，该实施方案是特别优选的。在其它情况下(当待清洁的装置是：例如，(i)用于使光气与反应性起始材料反应的反应器，该反应性起始材料例如是具有两个或更多个酚羟基的化合物(以便形成聚碳酸酯)和具有两个或更多个伯氨基的化合物(以便形成多异氰酸酯))，(ii)用于纯化使用光气制备的产物的后处理装置(特别是蒸馏塔)，或(iii)外围设备件，例如管道或容器，例如储罐)，经常优选忽略该冲洗步骤f)，并打开装置(当出于在装置中进行维护或维修工作的目的或出于装置的视觉检查的目的进行清洁时)或在步骤e)之后即刻再次进入操作。这里，进入操作特别表示出于与清洁之前相同目的的装置的操作。

本发明方法特别适合用于清洁用于由一氧化碳和氯气制备光气的填充活性炭的反应器。此类反应器特别用作通过使光气反应性起始材料与光气反应来制备化工产品的生产设备的一部分。合适的光气反应性起始材料特别是具有两个或更多个酚羟基的化合物(以形成聚碳酸酯)和具有两个或更多个伯氨基的化合物(以形成多异氰酸酯)。

在本发明优选的实施方案中，用于制备化工产品的生产设备具有n个用于由一氧化碳和氯气制备光气的的反应器，其填充有活性炭，并能彼此独立地进行调节，其中n是2至10、特别是2至5的自然数，在m个反应器中由一氧化碳和氯气制备光气，其中m是1至n – 1范围内的自然数，而清洁步骤aa)、任选地ab)、和a)至e)在至少一个反应器中进行。采用这种方式，在一个光气生产反应器中的活性炭催化剂能被替换，而不必中断其它光气生产反应器的操作。而且，在特别优选的实施方案中，本发明的该变型使得有可能将在步骤aa)中离开待清洁的装置的含有一氧化碳的气体进料至用于由一氧化碳和氯气制备光气的工艺中、特别是用于在m个反应器中由一氧化碳和氯气制备光气的工艺中。

因此，本发明方法允许在光气生产反应器中进行催化剂替换的特别有利的方式。此类催化剂替换通过在步骤e)之后，或若进行的话，在步骤f)之后的步骤g)中移除活性炭并用新鲜的活性炭替换它来进行。

总体而言，本发明方法至少通过以下优点而是突出的：

(i) 无论待清洁的装置是否不含光气，不打开装置且不取样的情况下，其都可被建立。

(ii) 该装置可快速去除光气并因此可更快速地再次使用。

(iii)相比于仅用水或氨水冲洗，废水量减少，或在用水或氨水的后冲洗完全免去时，这些完全消失，其结果是，随后也免去了装置的复杂干燥并避免了腐蚀。

实施例：

实施例1 (根据本发明)

将排空后用溶剂冲洗并在步骤ab)中用氮气吹扫以除去残余溶剂痕迹的气相光气化反应器抽真空至900毫巴_(abs.)的压力(步骤a))。在下一步骤中，关闭与该装置连接的所有导管，除了用于氨气的进料导管之外(步骤b))。将氨气经由该导管引入，直至装置中的压力升至1.23巴_(abs.)的预定值(步骤c))。在大约29小时的时间段内，在测量到显著的压力损失后(压力降至低达1.12巴_(abs.)的值)，引入五倍的新鲜氨气，由此每次使压力达到1.25巴_(abs.)的值(步骤d))。在那之后，压力持续10小时的时段不再下降至低于1.23巴_(abs.)超过5%。在那之后，将氨气源与装置分离，将装置抽真空至900毫巴_(abs.)的压力并随后用氮气冲洗(步骤e))。

Claims (15)

1.用于清洁处理光气的装置的方法，所述处理光气的装置具有至少一个可以被关闭的进料导管和至少一个可以被关闭的排放导管，包括以下步骤：

a)使待清洁的装置中的压力降低至小于或等于900毫巴_(abs.)的值；

b)关闭与待清洁的装置连接的所有导管，除了至少一个进料导管用于气态氨之外；

c)通过所述至少一个未关闭的进料导管自氨气源引入气态氨，直至在待清洁的装置中累积大于或等于1.01巴_(abs.)的预定压力；

d)连续地或以至多1个小时的间隔测量待清洁的装置中的压力，并且一旦所述压力下降至低于预定值超过5.0%，就通过引入更多的气态氨来使所述压力恢复至预定值或至偏离预定值最多± 2.0%的值；

e)一旦待清洁的装置中的压力持续大于1.0小时的时间段保持在预定值左右± 5.0%的波动范围内，就将氨气源与待清洁的装置分离，任选地降低所述装置中的压力，解除至少一个排放导管的关闭，接着使惰性气体通过待清洁的装置。

2.根据权利要求1的方法，其中步骤a)之前是以下步骤：

aa) 使一氧化碳通过待清洁的装置。

3.根据权利要求1或2、特别根据权利要求2的方法，其中在步骤a)之前、特别是当进行步骤aa)时，在步骤aa)之后并在步骤a)之前进行以下步骤：

ab) 使惰性气体通过待清洁的装置。

4.根据权利要求1至3中任一项的方法，其中若进行步骤aa)，则在步骤aa)期间，和/或若进行步骤ab)，则在步骤ab)期间和/或在步骤a)期间使待清洁的装置达到60.0°C至140.0°C范围内的温度。

5.根据前述权利要求中任一项的方法，其中在步骤c)和d)期间使待清洁的装置达到50.0°C至80.0°C范围内的温度。

6.根据前述权利要求中任一项的方法，其中步骤e)之后是：

f)使含水流通过待清洁的装置，特别使水或氨水通过待清洁的装置，接着通过使空气或惰性气体通过而进行干燥。

7.根据权利要求1至5中任一项的方法，其中在步骤e)之后，要么打开待清洁的装置，要么使其进入操作，而在打开或进入操作之前没有含水流通过待清洁的装置。

8.根据前述权利要求中任一项的方法，其中所述待清洁的装置选自：

用于制备光气的反应器，

用于使光气与反应性起始材料反应的反应器，

用于纯化使用光气生产的产物的后处理装置，和

外围设备，例如，特别是管道和容器。

9.根据权利要求8的方法，其中所述待清洁的装置是适合用于由一氧化碳和氯气制备光气的填充活性炭的反应器。

10.根据权利要求9的方法，其中所述适合用于由一氧化碳和氯气制备光气的填充活性炭的反应器是用于通过使光气反应性起始材料与光气反应来制备化工产品的生产设备的一部分。

11.根据权利要求10的方法，其中所述光气反应性起始材料是具有两个或更多个酚羟基的化合物，或具有两个或更多个伯氨基的化合物。

12.根据权利要求10或11的方法，其中所述用于制备化工产品的生产设备具有n个适合用于由一氧化碳和氯气制备光气的反应器，其填充有活性炭并可彼此独立地进行调节，其中n是2至10的自然数，在m个反应器中由一氧化碳和氯气制备光气，其中m是1至n – 1范围内的自然数，而清洁步骤aa)、任选地ab)、和a)至e)在至少一个反应器中进行。

13.根据权利要求2至12中任一项的方法，其中进行步骤aa)，并且将在步骤aa)中离开待清洁的装置的含有一氧化碳的气体进料至用于由一氧化碳和氯气制备光气的工艺中。

14.根据权利要求9至13中任一项的方法，其中步骤e)或，若进行的话，步骤f)之后是以下步骤：

g)除去活性炭并用新鲜的活性炭替换。

15.根据前述权利要求中任一项的方法，其中步骤c)中的所述预定压力在1.02巴_(abs.)至4.00巴_(abs.)范围内。