CN110983301B - 一种镀膜管p设备高频自动补镀方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种镀膜管P设备高频自动补镀方法，包括以下步骤：设备出现高频，系统控制石墨舟自动跳步离开沉积工艺、并记录运行过的沉积步骤和时间；高频石墨舟出舟，进行降温、处理，处理完成后将高频石墨舟重新放至设备中；系统识别石墨舟，并控制设备从跳步处继续进行未运行的沉积步骤。本发明通过自动识别补镀工艺减少人为干涉，极大产能提升；因减少人员干涉，节省车间工艺人员人力，节约人力成本；镀膜段全程自动化识别镀膜，最大化保证膜色稳定，减少膜色异常，确保品质稳定。
Description
技术领域
本发明涉及太阳能电池镀膜技术领域，具体为一种镀膜管P设备高频自动补镀方法。
背景技术
太阳能是一种最普遍、最清洁和最有潜力的替代能源，太阳能发电装置又称为光伏电池或太阳能电池，其发电原理是基于半导体PN结的光生伏特效应，可以将太阳能直接转换成电池。
太阳能电池制作过程，例如常规的PERC电池的生产工艺；制绒一扩散一刻蚀一镀M203一镀背面SiNx一镀正面SiNx一激光开槽或开孔一丝网印刷一烧结一测试，此工艺比起原多晶电池工艺镀膜段增加氧化铝沉积、背膜沉积，也就是需要两次镀膜。
之前在太阳能电池片制造领域PECVD工艺，针对管P机台出现高频异常，需要进行手动高频处理流程，手动高频处理流程如下：(1)高频时，系统将自动跳步结束工艺，自动上下料界面三管显示工艺舟失败；(2)查看历史记录，确定高频补镀时间，建立补镀工艺；(3)高频舟需要调整机器状态为手动模式，手动将高频舟放置到滑台车上并发送至自动化，并将自动化调整为手动模式；(4)生产员工检查完毕之后，从自动化将滑台上将高频舟送至主机台内，并从滑台拉至空管，加载补镀工艺并运行；(5)恢复自动化，机台自动运转。
对于上述手动高频处理的方法流程，可以很明显的看出存在的问题：当需要进行人工手动跳步、手动新建补镀工艺、手动预约补镀工艺时，比较浪费人力，并需要进行自动化和手动化得来回切换，容易出现因处理不及时耽误产量的情况，并且因人员能力差异极易产生补镀膜色异常情况，造成成本浪费。
发明内容
本发明的目的在于提供一种镀膜管P设备高频自动补镀方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种镀膜管P设备高频自动补镀方法，包括以下步骤：
设备出现高频，系统控制石墨舟自动跳步离开沉积工艺、并记录运行过的沉积步骤和时间；
高频石墨舟出舟，进行降温、处理，处理完成后将高频石墨舟重新放至设备中；
系统识别石墨舟，并控制设备从跳步处继续进行未运行的沉积步骤。
优选的，设备出现高频，系统控制石墨舟自动跳步离开沉积步骤、并记录运行过的沉积步骤和时间，具体包括：当设备出现高频报警信号，系统控制高频石墨舟自动跳步离开沉积工艺，并记录已经运行过的沉积步骤、以及沉积时间，随后运行完后非沉积工艺。
优选的，高频石墨舟出舟，进行降温、处理，处理完成后将高频石墨舟重新放至设备中，具体包括：待产生高频信号的石墨舟出舟后，对石墨舟进行自动化顺序阶梯式降温，随后对石墨舟内的碎片进行处理，处理完成后将此石墨舟发回主机台设备中。
优选的，系统识别石墨舟，并控制设备从跳步处继续进行未运行的沉积步骤，具体包括：设备系统在高频石墨舟发回主机台设备后，进行自动识别，识别完成后控制设备带动高频石墨舟从开始处重新运行沉积工艺，之前运行过的沉积步骤和时间自动跳过，直到记录点的沉积工艺开始进行镀膜，并完成后续沉积工艺和非沉积工艺。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、通过自动识别补镀工艺减少人为干涉，极大产能提升；
2、因减少人员干涉，节省车间工艺人员人力，节约人力成本；
3、镀膜段全程自动化识别镀膜，最大化保证膜色稳定，减少膜色异常，确保品质稳定。
本发明通过在镀膜工艺沉积步骤过程中出现高频异常时，系统自动识别、自动跳步、自动下到缓存区降温，炉管设备正常其它舟运行工作，高频舟降温完成后，自动送到自动化，同时给自动化高频舟信号，自动化接收信号，生产人员清理完碎片，处理后的高频石墨舟自动发回主机台，从主机台开始处重新运行之前运行过的工艺并往后顺延运行，但是运行过的步数和时间会自动跳过，直至到没有运行的时间点开始镀膜直到所有工艺完成，对提升产量、节约人力、增强镀膜均匀性，有助品质外观稳定。
附图说明
图1为本发明的补镀方法流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1，本发明提供一种技术方案：
一种镀膜管P设备高频自动补镀方法，包括以下步骤：
步骤S1、设备出现高频，系统控制石墨舟自动跳步离开沉积工艺、并记录运行过的沉积步骤和时间；
设备正常运行过程中，石墨舟入舟，通过镀膜管P设备对石墨舟内的电池片进行镀膜操作，且设备在运行过程中分为沉积工艺和沉积后的非沉积工艺，对于镀膜以及镀膜后的完善均必不可少，沉积工艺用来镀膜，非沉积工艺用来对镀膜所形成的膜层进行完善处理，当设备出现高频报警信号，系统接收到高频信号，系统可以采用PLC控制器或CPU进行设备的智能操控，其内存储有提前录入的程序，该管P设备的系统自动挑选出产生高频的石墨舟，此时，系统控制此高频石墨舟自动跳步离开当前所在的沉积工艺步骤，当前所在的沉积工艺步骤即发出高频信号时的沉积工艺所在步骤以及时间，所以，在自动带着高频石墨舟跳步离开后面未完成的沉积工艺时，记录下已经运行过的沉积步骤、以及沉积时间，为了后面补镀时，从此刻记录的跳步离开时的沉积步骤接着进行沉积补镀，在跳步离开沉积工艺后，仍然运行完之后的非沉积工艺，对已经完成的沉积形成的膜层进行完善处理。
步骤S2、高频石墨舟出舟，进行降温、处理，处理完成后将高频石墨舟重新放至设备中；
当高频石墨舟完成了后续的非沉积工艺后，石墨舟自动完成出舟操作，此时该高频石墨舟自动落入桨上，并且设备系统控制对该高频石墨舟的外框进行红色信号标记，以便后续对该高频石墨舟进行识别，随后对该高频石墨舟进行自动化顺序阶梯式降温，降温后通过自动化设备进行传输，随后对石墨舟内的碎片进行处理，剔除舟内的碎片，待处理完成后将此高频石墨舟通过自动化发回主机台设备中，并且同时向主机台设备的系统发送该高频石墨舟的高频信号，实现该高频石墨舟的重新进管，进行补镀工艺。
步骤S3、系统识别石墨舟，并控制设备从跳步处继续进行未运行的沉积步骤；
高频石墨舟重新进管P设备后，进行补镀，设备系统在高频石墨舟发回主机台设备后，通过此前留下的红色标记信号，进行自动识别，识别完成后，确认该高频石墨舟后，系统控制设备带动该高频石墨舟从进管开始处重新运行沉积工艺，但是由于之前系统已经记录下之前运行过的沉积步骤和沉积时间，所以系统控制发生高频的石墨舟自动跳过已经运行过的沉积步骤，直到记录点的沉积工艺开始继续进行镀膜，即之前完成过的沉积步骤不再运行，从完成后的沉积步骤这个节点进行续接运行，即可实现补镀，且采用自动化续接进行补镀的方式相比手动补镀的方式使得补镀后的膜色更加稳定，减少膜色异常，确保品质稳定，并完成后续沉积工艺步骤和时间，并最终进行非沉积工艺步骤，至工艺结束。
实施例：
①：出现高频时，系统将自动跳步离开特气沉积步骤，并运行完之后工艺参数；
②：待高频石墨舟出舟，舟自动放在桨上(有红色外框标识)；
③：高频石墨舟像正常舟一样进行按顺序阶梯式降温；
④：高频舟并自动发至自动化，同时给自动化高频信号；
⑤：高频舟至自动化处，舟内碎片处理完毕；
⑥：高频舟自动发给主机台(同时给主机台高频信号)，进管工艺，运行其高频时的工艺，自动识别跳过之前运行过的沉积步骤和时间，直至在未运行的沉积步骤和时间节点开始运行，非沉积步骤正常运行，至工艺结束；
⑦：工艺结束，按正常流程进行卸片。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (2)
1.一种镀膜管P设备高频自动补镀方法，其特征在于，包括以下步骤：
设备出现高频，系统控制石墨舟自动跳步离开沉积工艺、并记录运行过的沉积步骤和时间；
高频石墨舟出舟，进行降温、处理，处理完成后将高频石墨舟重新放至设备中；当高频石墨舟完成了后续的非沉积工艺后，石墨舟自动完成出舟操作，此时该高频石墨舟自动落入桨上，并且设备系统控制对该高频石墨舟的外框进行红色信号标记，以便后续对该高频石墨舟进行识别，随后对该高频石墨舟进行自动化顺序阶梯式降温，降温后通过自动化设备进行传输，随后对石墨舟内的碎片进行处理，剔除舟内的碎片，待处理完成后将此高频石墨舟通过自动化发回主机台设备中，并且同时向主机台设备的系统发送该高频石墨舟的高频信号，实现该高频石墨舟的重新进管，进行补镀工艺；
系统识别石墨舟，并控制设备从跳步处继续进行未运行的沉积步骤；设备系统在高频石墨舟发回主机台设备后，进行自动识别，识别完成后控制设备带动高频石墨舟从开始处重新运行沉积工艺，之前运行过的沉积步骤和时间自动跳过，直到记录点的沉积工艺开始进行镀膜，并完成后续沉积工艺和非沉积工艺。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜管P设备高频自动补镀方法，其特征在于，设备出现高频，系统控制石墨舟自动跳步离开沉积步骤、并记录运行过的沉积步骤和时间，具体包括：当设备出现高频报警信号，系统控制高频石墨舟自动跳步离开沉积工艺，并记录已经运行过的沉积步骤、以及沉积时间，随后运行完之后的非沉积工艺。
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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