CN110977679A - 一种全口径低缺陷平面工件的加工设备及方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种全口径低缺陷平面工件的加工设备，包括：表面设有用以供工件抛光加工的抛光模层的转台；用以带动工件自转实现抛光并能够使工件沿着抛光模层的表面摆动以防止工件表面产生环形痕迹的偏摆式平面抛光装置；用以过滤抛光液并能够向抛光模层的表面输送预设温度的抛光液的抛光液循环过滤装置；设于转台的外部、用以当工件抛光时控制空气的洁净度和湿度以提高工件表面质量的空气控制装置。本发明还公开了一种应用于上述全口径低缺陷平面工件的加工设备的加工方法。上述全口径低缺陷平面工件的加工设备可以解决由于工件加工精度和表面质量不能同时达标所造成的反复加工，从而可以提高工件全口径加工质量及加工效率。

Description

一种全口径低缺陷平面工件的加工设备及方法

技术领域

本发明涉及抛光加工技术领域，特别涉及一种全口径低缺陷平面工件的加工设备。本发明还涉及一种应用于该全口径低缺陷平面工件的加工设备的加工方法。

背景技术

平面工件全口径抛光是实现光学工件从研磨表面到抛光表面快速有效的方法，其广泛运用于光学冷加工行业中，能够得到较高的精度及较好的表面质量。

现有技术中，通常将工件置于一个口径大于工件直径的抛光盘上，使工件与抛光盘相对转动，并加注抛光颗粒以实现工件材料的去除，根据所使用的抛光盘材料、工件与抛光盘的相对转动方式以及抛光颗粒的不同，可以得到不同的抛光设备以及不同的抛光效果。随着光学系统越来越精密，对光学工件的质量的要求也越来越高，集中体现在要求高精度的同时还要求工件的表面几乎没有划痕。然而，现有的全口径加工设备及加工方法缺乏对影响抛光精度及表面质量的全要素控制，这样容易造成由于某些状态失控而产生的加工精度和加工表面质量二者不能同时达标。例如，现有的全口径加工设备对于抛光盘面的状态缺乏有效的控制，不管是使用抛光沥青或者聚氨酯抛光垫，长时间的使用会造成大量颗粒沉积板结于抛光模表面从而使加工工件的表面质量下降；而通常使用的商用抛光液，虽然中值粒径达到标称值，但由于制造、运输、存储过程中不可避免的存在团聚现象，这些团聚的异常大颗粒极易造成表面划痕。此外，对于抛光环境的控制虽然可以对整个加工车间加装空气颗粒净化系统，但一方面由于价格昂贵而导致生产成本较高，另一方面，在设备加工区域，随着时间累积还是会有大颗粒积累于抛光盘面上的概率，这会成为影响加工表面质量的不确定因素。在加工精度的控制上，由于抛光沥青会不停形变而抛光垫也会不停磨损，对抛光模形状缺乏控制，造成加工精度的一致性较差，因此，需要人为的不停调整干预，以致影响了加工的确定性及连续性。

因此，如何避免由于现有的全口径加工设备缺乏对影响加工精度和加工表面质量的全要素控制手段而导致这两个指标很难同时达标，以致降低生产效率，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种全口径低缺陷平面工件的加工设备，该加工设备可以解决由于工件加工精度和表面质量不能同时达标所造成的反复加工的问题，从而可以提高工件全口径加工质量及加工效率。本发明的另一目的是提供一种应用于该全口径低缺陷平面工件的加工设备的加工方法。

为实现上述目的，本发明提供一种全口径低缺陷平面工件的加工设备，包括：

表面设有用以供工件抛光加工的抛光模层的转台；

用以带动工件自转实现抛光并能够使工件沿着所述抛光模层的表面摆动以防止工件表面产生环形痕迹的偏摆式平面抛光装置；

用以过滤抛光液并能够向所述抛光模层的表面输送预设温度的抛光液的抛光液循环过滤装置；

设于所述转台的外部、用以当工件抛光时控制空气的洁净度和湿度以提高工件表面质量的空气控制装置。

可选地，所述转台连接有用以支撑并驱动所述转台运转的基座。

可选地，所述基座包括环形座，所述环形座的内部设有：

用以提供驱动力以供所述转台旋转的驱动电机；

与所述驱动电机连接的减速机。

可选地，所述抛光液循环过滤装置包括：

设于所述基座的一侧、用以盛装抛光液的箱体；

与箱体相连、用以将所述箱体中的抛光液输送至所述抛光模层的表面的输送管路；

与所述输送管路连接、用以提供驱动力以供所述箱体内的抛光液沿着所述输送管路流至所述抛光模层的表面的蠕动泵。

可选地，所述箱体的内部还设有：

用以滤掉抛光液中预设尺寸的颗粒物以防止团聚的颗粒物造成工件表面出现划痕的过滤器；

用以供抛光液加热至第一预设温度的加热器；

用以供抛光液降温至第二预设温度的制冷机。

可选地，所述空气控制装置包括：

设于所述转台的外部、用以当工件抛光时提供密闭环境的密封罩；

与所述密封罩通过管道连接的风机；

其中，所述管道连接有：

用以过滤空气以使其达到预设洁净度的过滤机构；

用以使空气达到预设湿度的湿度调节机构。

可选地，还包括：

用以检测所述密封罩内空气洁净度的尘埃粒度计检测机构；

用以检测所述密封罩内空气湿度的湿度传感器；

与所述尘埃粒度计检测机构和所述湿度传感器相连、用以控制所述过滤机构和所述湿度调节机构启停的控制器。

可选地，所述偏摆式平面抛光装置包括：

用以装夹工件并能够使工件贴合于所述抛光模层的表面的夹持架；

与所述夹持架连接、用以带动工件绕其轴线旋转的环抛驱动机构；

与所述环抛驱动机构连接、用以带动工件沿所述转台的径向摆动的偏摆机构；

其中，所述环抛驱动机构连接有能够跟随所述偏摆机构运动以磨损所述抛光模层的表面的磨损补偿块。

可选地，所述抛光模层具体为聚氨酯抛光模层，且所述抛光模层可拆卸地连接于所述转台的上表面。

本发明还提供一种全口径低缺陷的平面工件加工方法，包括：

通过金刚石丸片打磨抛光模层并使用超声清洗头清洗所述抛光模层的表面；

配置抛光液并通过抛光液循环过滤装置获取抛光滤液；

启动空气控制装置并获取预设洁净度和预设湿度的空气；

开启偏摆式平面抛光装置、转台和所述抛光液循环过滤装置并对工件进行抛光加工。

相对于上述背景技术，本发明针对平面工件抛光加工的不同要求，设计了一种全口径低缺陷平面工件的加工设备，具体来说，上述全口径低缺陷平面工件的加工设备包括转台、偏摆式平面抛光装置、抛光液循环过滤装置和空气控制装置；其中，转台表面设有用于供工件抛光加工的抛光模层，转台的作用是能够提供稳定的转速，以供抛光模层对工件进行抛光加工；偏摆式平面抛光装置不仅能够带动工件自转以实现抛光，而且能够使工件沿着抛光模层的表面摆动以防止工件表面产生环形痕迹；抛光液循环过滤装置用于过滤抛光液并能够向抛光模层的表面输送预设温度的抛光液；空气控制装置设于转台的外部，当工件抛光时，空气控制装置能够控制空气的洁净度和湿度以提高工件表面质量。同时，本申请还提供一种全口径低缺陷的平面工件加工方法，包括：S1：通过金刚石丸片打磨抛光模层并使用超声清洗头清洗所述抛光模层的表面；S2：配置抛光液并通过抛光液循环过滤装置获取抛光滤液；S3：启动空气控制装置并获取预设洁净度和预设湿度的空气；S4：开启偏摆式平面抛光装置、转台和抛光液循环过滤装置并对工件进行抛光加工。这样一来，上述全口径低缺陷平面工件的加工设备及方法通过对影响全口径加工中加工精度及表面质量的全要素进行了控制，并将转台、偏摆式平面抛光装置、抛光液循环过滤装置和空气控制装置整合到一台设备中，以实现全口径高精度低缺陷工件的抛光加工；具体地，在加工精度的控制上，该设备使用偏摆式平面抛光装置能够实现工件在环抛加工的同时还进行偏摆抛光，这样可以有效抑制工件产生环形的痕迹，以实现大口径平面工件的高精度、无周期性痕迹的批量加工，并且可以保证工件面形分布的一致性；在表面质量的控制上，该设备使用抛光液循环过滤装置对商用抛光液进行处理，从而可以实时去除掉加工过程中可能产生的团聚大颗粒；同时，通过使用空气控制装置，以实时有效的保持设备内部空气的洁净度及湿度，从而可以显著提高加工工件的表面质量。综上，上述全口径低缺陷平面工件的加工设备及方法能够实现光学工件的全口径高精度的抛光并有效控制工件表面及亚表面缺陷的产生，从而可以解决由于工件加工精度和表面质量不能同时达标所造成的反复加工，从而可以提高工件全口径加工质量及加工效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例公开的一种全口径低缺陷平面工件的加工设备的结构示意图；

图2为本发明实施例公开的一种全口径低缺陷平面工件的加工方法的流程图。

其中：

100-工件、1-基座、2-转台、21-抛光模层、3-偏摆式平面抛光装置、4-抛光液循环过滤装置、5-空气控制装置。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明的核心是提供一种全口径低缺陷平面工件的加工设备，该加工设备可以解决由于工件加工精度和表面质量不能同时达标所造成的反复加工的问题，从而可以提高工件全口径加工质量及加工效率。本发明的另一核心是提供一种应用于该全口径低缺陷平面工件的加工设备的加工方法。

为了使本技术领域的技术人员更好地理解本发明方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。

需要说明的是，下文所述的“上端、下端、左侧、右侧”等方位词都是基于说明书附图所定义的。

请参考图1和图2，图1为本发明实施例公开的一种全口径低缺陷平面工件的加工设备的结构示意图；图2为本发明实施例公开的一种全口径低缺陷平面工件的加工方法的流程图。其中，图1中转台处的箭头即为转台的旋转方向，工件处的箭头即为工件的自转方向，偏摆式平面抛光装置处的箭头即为其偏摆方向。

本发明实施例所提供的全口径低缺陷平面工件的加工设备，包括转台2、偏摆式平面抛光装置3、抛光液循环过滤装置4和空气控制装置5；其中，偏摆式平面抛光装置3不仅能够带动工件100自转以实现抛光，而且能够使工件100沿着抛光模层21的表面摆动以防止工件100表面产生环形痕迹；抛光液循环过滤装置4用于过滤抛光液并能够向抛光模层21的表面输送预设温度的抛光液；空气控制装置5设于转台2的外部，当工件100抛光时，空气控制装置5能够控制空气的洁净度和湿度以提高工件100表面质量。

上述全口径低缺陷平面工件的加工设备及方法通过对影响全口径加工中加工精度及表面质量的全要素进行了控制，并将转台2、偏摆式平面抛光装置3、抛光液循环过滤装置4和空气控制装置5整合到一台设备中，以实现全口径高精度低缺陷工件100的抛光加工。

具体地说，在加工精度的控制上，该设备使用偏摆式平面抛光装置3能够实现工件100在环抛加工的同时还进行偏摆抛光，这样可以有效抑制工件100产生环形的痕迹，以实现大口径平面工件的高精度、无周期性痕迹的批量加工，并且可以保证工件100面形分布的一致性；在表面质量的控制上，该设备使用抛光液循环过滤装置4对商用抛光液进行处理，从而可以实时去除掉加工过程中可能产生的团聚大颗粒；同时，通过使用空气控制装置5，以实时有效的保持设备内部空气的洁净度及湿度，从而可以显著提高加工工件100的表面质量。

这样一来，上述全口径低缺陷平面工件的加工设备能够实现光学工件100的全口径高精度的抛光并有效控制工件100表面及亚表面缺陷的产生，从而可以解决由于工件100加工精度和表面质量不能同时达标所造成的反复加工，从而可以提高工件100全口径加工质量及加工效率。

当然，根据实际需要，上述转台2具体可以设置为圆盘状的大理石转台，转台2的表面设有用于供工件100抛光加工的抛光模层21，抛光模层21可以为聚氨酯材质的抛光模层，且抛光模层21可以设置为可拆卸地连接于转台2，以便于更换模层，当然，抛光模层21也可以粘接于转台2的表面，转台2的作用是能够提供稳定的转速，以供抛光模层21对工件100进行抛光加工。

进一步地，为了保证转台2具体稳定的转速且便于调节转台2的转速，该转台2可以连接有用于支撑并驱动转台2运转的基座1。基座1包括环形座，环形座的内部设有驱动电机、减速机和轴承(平面轴承)，其中，驱动电机与减速机连接，驱动电机用于提供驱动力以供转台2旋转；减速机的机架通过轴承与转台2连接，也就是说，轴承的外圈与减速机的机架固接，轴承的内圈与减速机主轴固接，这样即可实现将驱动电机的运动与动力传递至转台2。

具体地说，上述抛光液循环过滤装置4具体可以设置为包括箱体、输送管路和蠕动泵，其中，箱体设于基座1的一侧，箱体用于盛装抛光液；输送管路与箱体相连，输送管路用于将箱体中的抛光液输送至抛光模层21的表面；蠕动泵与输送管路连接，蠕动泵用于提供驱动力以供箱体内的抛光液沿着输送管路流至抛光模层21的表面。

此外，箱体的内部还可以设置过滤器、加热器和制冷机，其中，过滤器用于滤掉抛光液中预设尺寸的颗粒物，以防止团聚的颗粒物造成工件100表面出现划痕；加热器用于使抛光液加热至第一预设温度，制冷机用于使抛光液降温至第二预设温度。当然，第一预设温度和第二预设温度可以设置为相等，对于抛光液的温度要求为25摄氏度，当实际抛光液的温度高于25摄氏度或者低于25摄氏度时，可以通过加热器或者制冷剂将抛光液的温度调整至25摄氏度。

更加具体地说，上述空气控制装置5具体可以设置为包括密封罩和风机，密封罩设于转台2的外部，当工件100抛光时，密封罩可以提供密闭环境、以防外界环境的干扰因素影响工件100的加工精度和质量，当然，该密封罩具体可以设置为包括壳体和翻盖，翻盖能够相对壳体转动，以实现翻盖的打开和盖合；风机可以通过负压向密封罩内输送气流，风机可以通过管道与密封罩连接；其中，管道上可以连接有过滤机构和湿度调节机构，过滤机构用于过滤空气以使其达到预设洁净度，该过滤机构具体可以设置为滤网，滤网的网眼可以根据空气的洁净度要求进行设置；湿度调节机构用于使空气达到预设湿度，湿度调节机构可以参照现有技术。

比如，为了保证工件100的加工精度和表面质量，本申请所提供的加工设备对于内部空气的洁净度要求可以设置为100级，而相对湿度的范围可以在40％-60％之间，这样即可确保长时间加工中设备内的洁净度要求，并可以保持空气湿润，以避免抛光液干燥。

为了优化上述实施例，设备还可以设置尘埃粒度计检测机构、湿度传感器和相应的控制器；其中，尘埃粒度计检测机构用于检测密封罩内空气洁净度，湿度传感器用于检测所述密封罩内空气湿度；控制器与尘埃粒度计检测机构和湿度传感器相连，控制器用于控制过滤机构和湿度调节机构启停。具体地，尘埃粒度计检测机构和湿度传感器可以将检测的信号传递至控制器，当空气洁净度和湿度未达到相应的预设值时，控制器可以执行保持过滤机构和湿度调节机构开启状态的操作；当空气洁净度和湿度达到相应的预设值时，控制器可以执行关闭过滤机构和湿度调节机构的操作。当然，该控制器可以设置为具有预设控制程序的PLC或者PCB电路板，控制器可以设置于外部的电控箱体中。

在上述基础上，为了实现工件100自转和摆动的功能，偏摆式平面抛光装置3具体可以设置为包括夹持架、环抛驱动机构、偏摆机构和磨损补偿块，其中，夹持架用于装夹工件100并能够使工件100贴合于抛光模层21的表面；环抛驱动机构与夹持架连接，环抛驱动机构用于带动工件100绕其轴线旋转；偏摆机构与环抛驱动机构连接，偏摆机构用于带动工件100沿转台2的径向摆动；磨损补偿块与环抛驱动机构连接，磨损补偿块能够跟随偏摆机构运动以磨损抛光模层21的表面。

具体地，夹持架可以设置用于安装工件100的安装槽，安装槽的结构可以根据工件100进行调整；环抛驱动机构具体可以包括底板、旋转电机和旋转减速器，旋转电机和旋转减速器装置在底板上，夹持架通过连接架与旋转减速器相连，旋转电机通过旋转减速器带动连接架和夹持架自转，从而使工件100在抛光模层21上进行自转环抛。

磨损补偿块可以设置在夹持架的外围，磨损补偿块的下侧端面与抛光模层21的表面贴合，磨损补偿块可以通过连接柱与底板连接，底板与偏摆机构连接并由其带动进行偏摆运动；夹持架在随着底板做偏摆运动的同时还进行自转，而磨损补偿块仅随着底板做偏摆运动，不随夹持架旋转，磨损补偿块上可以设置与夹持架外围匹配的连接槽，比如圆弧形槽，这样一来，通过磨损补偿块可以对抛光模层21产生特定磨损，从而补偿工件100对抛光模层21造成的不均匀磨损，保证在加工区域内抛光模层21的面形分布长期保持稳定，从而实现加工工件100的面形分布保持一致。

偏摆机构主要包括平行于抛光模层21的加载连杆，加载连杆一端与底板连接，加载连杆的另一端沿定轴旋转进行偏摆运动，从而可以通过加载连杆带动底板进行偏摆运动，夹持架随着底板一同进行偏摆运动的同时还进行自转。

当然，上述偏摆式平面抛光装置3可以有不同的设置方式，其中，夹持架、环抛驱动机构、偏摆机构和磨损补偿块具体可以参照现有技术，此处本文将不再一一展开。

同时，本申请还提供一种全口径低缺陷的平面工件加工方法，包括：

S1：通过金刚石丸片打磨抛光模层21并使用超声清洗头清洗抛光模层21的表面；

S2：配置抛光液并通过抛光液循环过滤装置4获取抛光滤液；

S3：启动空气控制装置5并获取预设洁净度和预设湿度的空气；

S4：开启偏摆式平面抛光装置3、转台2和抛光液循环过滤装置4并对工件100进行抛光加工。

具体来说，上述加工方法具体可以包括以下操作过程：

一、抛光模层21处理：使用金刚石丸片均匀打磨转台2上的抛光模层21，以将干燥板结于抛光模层21中的大颗粒打磨出来；然后使用超声清洗头清洗抛光模层21表面，以去除抛光模层21中的颗粒污染物。

二、抛光液准备：按照去离子水与抛光液比例为1：1的比例配制抛光液，并加入1％的六偏硫酸钠提高抛光颗粒的悬浮性、加入KOH将抛光液的PH值调整到9-10的范围内，然后通过抛光液循环过滤装置4将配制好的抛光液循环过滤1小时，以滤去抛光液中的大于2um的颗粒，从而获取预设要求的抛光滤液，这样即可减少由于抛光液的团聚大颗粒造成工件100表面出现划痕。

三、抛光加工准备：启动空气控制装置5，并使用尘埃粒度计检测机构和湿度传感器，以使设备内空气的洁净度达到100级，相对湿度达到40％-60％之间，以确保长时间加工中设备内的洁净度，并保持空气湿润避免抛光液干燥。

四、抛光加工：通过偏摆式平面抛光装置3装夹好工件100，并设定好转台2的转速、工件100的转速、工件100偏摆幅度和速度，再启动抛光液循环过滤装置4以实现加注抛光液，从而进行工件100的抛光加工。

五、加工后处理：抛光5小时后，停止设备运转，取下工件100，使用超声波清洗工件100，并检测工件100面形精度、表面粗糙度以及表面质量；最后将加工好的工件100包装存储，完成此工件100的加工工作。

需要说明的是，在本说明书中，诸如第一和第二之类的关系术语仅仅用来将一个实体与另外几个实体区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体之间存在任何这种实际的关系或者顺序。

以上对本发明所提供的全口径低缺陷平面工件的加工设备及方法进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。

Claims (10)

1.一种全口径低缺陷平面工件的加工设备，其特征在于，包括：

表面设有用以供工件(100)抛光加工的抛光模层(21)的转台(2)；

用以带动工件(100)自转实现抛光并能够使工件(100)沿着所述抛光模层(21)的表面摆动以防止工件(100)表面产生环形痕迹的偏摆式平面抛光装置(3)；

用以过滤抛光液并能够向所述抛光模层(21)的表面输送预设温度的抛光液的抛光液循环过滤装置(4)；

设于所述转台(2)的外部、用以当工件(100)抛光时控制空气的洁净度和湿度以提高工件(100)表面质量的空气控制装置(5)。

2.根据权利要求1所述的全口径低缺陷平面工件的加工设备，其特征在于，所述转台(2)连接有用以支撑并驱动所述转台(2)运转的基座(1)。

3.根据权利要求2所述的全口径低缺陷平面工件的加工设备，其特征在于，所述基座(1)包括环形座，所述环形座的内部设有：

用以提供驱动力以供所述转台(2)旋转的驱动电机；

与所述驱动电机连接的减速机。

4.根据权利要求3所述的全口径低缺陷平面工件的加工设备，其特征在于，所述抛光液循环过滤装置(4)包括：

设于所述基座(1)的一侧、用以盛装抛光液的箱体；

与箱体相连、用以将所述箱体中的抛光液输送至所述抛光模层(21)的表面的输送管路；

与所述输送管路连接、用以提供驱动力以供所述箱体内的抛光液沿着所述输送管路流至所述抛光模层(21)的表面的蠕动泵。

5.根据权利要求4所述的全口径低缺陷平面工件的加工设备，其特征在于，所述箱体的内部还设有：

用以滤掉抛光液中预设尺寸的颗粒物以防止团聚的颗粒物造成工件(100)表面出现划痕的过滤器；

用以供抛光液加热至第一预设温度的加热器；

用以供抛光液降温至第二预设温度的制冷机。

6.根据权利要求5所述的全口径低缺陷平面工件的加工设备，其特征在于，所述空气控制装置(5)包括：

设于所述转台(2)的外部、用以当工件(100)抛光时提供密闭环境的密封罩；

与所述密封罩通过管道连接的风机；

其中，所述管道连接有：

用以过滤空气以使其达到预设洁净度的过滤机构；

用以使空气达到预设湿度的湿度调节机构。

7.根据权利要求6所述的全口径低缺陷平面工件的加工设备，其特征在于，还包括：

用以检测所述密封罩内空气洁净度的尘埃粒度计检测机构；

用以检测所述密封罩内空气湿度的湿度传感器；

与所述尘埃粒度计检测机构和所述湿度传感器相连、用以控制所述过滤机构和所述湿度调节机构启停的控制器。

8.根据权利要求7所述的全口径低缺陷平面工件的加工设备，其特征在于，所述偏摆式平面抛光装置(3)包括：

用以装夹工件(100)并能够使工件(100)贴合于所述抛光模层(21)的表面的夹持架；

与所述夹持架连接、用以带动工件(100)绕其轴线旋转的环抛驱动机构；

与所述环抛驱动机构连接、用以带动工件(100)沿所述转台(2)的径向摆动的偏摆机构；

其中，所述环抛驱动机构连接有能够跟随所述偏摆机构运动以磨损所述抛光模层(21)的表面的磨损补偿块。

9.根据权利要求1至8任一项所述的全口径低缺陷平面工件的加工设备，其特征在于，所述抛光模层(21)具体为聚氨酯抛光模层，且所述抛光模层(21)可拆卸地连接于所述转台(2)的上表面。

10.一种全口径低缺陷平面工件的加工方法，其特征在于，包括：

通过金刚石丸片打磨抛光模层(21)并使用超声清洗头清洗所述抛光模层(21)的表面；

配置抛光液并通过抛光液循环过滤装置(4)获取抛光滤液；

启动空气控制装置(5)并获取预设洁净度和预设湿度的空气；

开启偏摆式平面抛光装置(3)、转台(2)和所述抛光液循环过滤装置(4)并对工件(100)进行抛光加工。

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