CN110954301A - 测定系统及测定方法 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及测定系统及测定方法。测定系统包括：积分器，具有形成于相互对置的位置的入射窗和试样窗；受光器，通过在离开试样窗规定距离的位置形成的观测窗，测定积分器的照度；挡板，配置于连结积分器内的试样窗和观测窗的光学路径上；以及处理装置，通过处理从受光器输出的测定值来计算出光学特性。入射窗构成为能选择来自配置于积分器的外部的第一光源的光的向积分器内的导入和切断。试样窗构成为能选择性地装接反射率已知的漫反射构件和第二光源。

Description

测定系统及测定方法
技术领域
本发明涉及一种能测定总光通量等光学特性的测定系统及测定方法。
背景技术
已开发有用于测定试样光源的总光通量的装置及方法。特别是，已开发有适用于LED(light emitting diode：发光二极管)光源的装置及方法。
例如，日本工业标准JIS C8152－1：2012“照明用白色発光ダイオード(L ED)の測光方法－第1部：LEDパッケージ(照明用白色发光二极管(LED)的测光方法－第一部：LED封装体)”(文献1)对使用了总光通量测定用积分球的总光通量的测定方法进行了规定(参照p.9－11等)。
根据上述文献1，规定了将总光通量被赋值了的标准LED在积分球内的与被测定LED相同的位置点亮。在该情况下，需要准备具有2π的配光特性的标准LED。当前，在JCSS(Japan Calibration Service System：日本校准服务系统)下所提供的标准LED的波长范围为380－800nm。在当前的JCSS下，不存在波长范围包括380nm以下的紫外区域的辐射束标准光源以及波长范围包括800nm以上的红外区域的辐射束标准光源。
因此，在对具有380－800nm以外的波长范围的试样光源的总光通量进行测定的情况下，除了使用分光辐射照度标准光源(典型的，为250－2500nm的波长范围)以外，没有确保可追溯性的方法。
已开发有几种使用分光辐射照度标准光源来测定试样光源的总光通量的方法。作为使用分光辐射照度标准光源的总光通量的测定方法的一个例子，提出在积分球的外部配置分光辐射照度标准光源的构成。
在“LEDの全光束測定の効率化を実現－新方式に基づく全光束LED校正装置の開発－(实现LED的总光通量测定的效率化－基于新方式的总光通量LED校正装置的开发－)”，TIRI News 2009年5月号，地方独立行政法人东京都立产业技术研究中心，[online]https://www.iri-tokyo.jp/uploaded/attachment/2602.pdf(2018年9月3日检索)(文献2)中，公开了一种将分光辐射照度标准灯泡配置在积分球的外部的总光通量LED校正装置。同样地，在“LEDの全光束測定法の開発(LED的总光通量测定法的开发)”，钱卫东、小方冲、星野房雄、滝上昌孝、河本康太郎，照明学会全国大会演讲论文集，2008，41卷，平成20年度(第41届)照明学会全国大会演讲论文集，会话(session)ID 126，p.126，公开日2008/11/14(文献3)中，公开了在壁面设有面积已知的光圈的积分球的外部配置了分光辐射照度标准灯泡的LED的总光通量测定方法。
此外，在“NIST Measurement Services：Photometric Calibrations”，YoshihiroOhno，Optical Technology Division Physics Laboratory National Institute ofStandards and Technology Gaithersburg，MD 20899，July 1997(文献4)中，公开了在积分球中，在形成于从检测器开始135°的位置的开口处，通过限制光圈将来自外部光源的光导入的构成(参照p.30－31等)。
发明内容
本申请发明者们锐意研究的结果是：新发现了在上述文献2－4中公开的、在积分球的外部配置分光辐射照度标准光源的构成中可能产生的潜在的问题。本发明的一个目的在于提供一种能解决本申请发明者们发现的新问题的测定系统及测定方法。
遵照本发明的某个方面的测定系统包括：积分器，具有形成于相互对置的位置的入射窗和试样窗；受光器，通过在离开试样窗规定距离的位置形成的观测窗，测定积分器的照度；挡板，配置于连结积分器内的试样窗和观测窗的光学路径上；以及处理装置，通过处理从受光器输出的测定值来计算出光学特性。入射窗构成为能选择来自配置于积分器的外部的第一光源的光的向积分器内的导入和切断。试样窗构成为能选择性地装接反射率已知的漫反射构件和第二光源。
也可以是，处理装置基于第一测定值和第二测定值来计算出试样光源的光学特性，其中，在试样窗装接有漫反射构件并且来自作为第一光源的标准光源的光通过入射窗被导入至积分器内的第一状态下，从受光器输出所述第一测定值，在试样窗装接有作为第二光源的试样光源并且通过入射窗的朝向积分器内的光被切断的第二状态下，从受光器输出所述第二测定值。
也可以是，测定系统还包括配置于入射窗与第一光源之间的、开口面积已知的光圈。
也可以是，处理装置基于第一测定值和第二测定值来计算出试样光源的光学特性，其中，在试样窗装接有作为第二光源的标准光源并且通过入射窗的朝向积分器内的光被切断的第一状态下，从受光器输出所述第一测定值，在试样窗装接有漫反射构件并且来自试样光源的光作为第二光源通过入射窗被导入至积分器内的第二状态下，从受光器输出所述第二测定值。
也可以是，处理装置计算出试样光源的总光通量作为试样光源的光学特性。
也可以是，测定系统还包括自吸收校正用光源。也可以是，处理装置执行基于在自吸收校正用光源点亮的状态下从受光器输出的测定值的自吸收校正处理。
也可以是，积分器包括具有全球型的积分空间的积分球。
也可以是，积分器包括具有半球型的积分空间的积分半球和堵塞积分半球的开口的平面镜。
遵照本发明的另一个方面的测定方法包括准备测定系统和标准光源的步骤。测定系统包括：积分器，具有形成于相互对置的位置的入射窗和试样窗；受光器，通过在离开试样窗规定距离的位置形成的观测窗，测定积分器的照度；以及挡板，配置于连结积分器内的试样窗和观测窗的光学路径上。测定方法包括：获取第一测定值的步骤，其中，在试样窗装接有反射率已知的漫反射构件并且来自配置于积分器的外部的标准光源的光通过入射窗被导入至积分器内的第一状态下，从受光器输出所述第一测定值；获取第二测定值的步骤，其中，在试样窗装接有试样光源并且通过入射窗的朝向积分器内的光被切断的第二状态下，从受光器输出所述第二测定值；以及基于第一测定值和第二测定值，计算出试样光源的光学特性的步骤。
遵照本发明的又一个方面的测定方法包括准备测定系统和标准光源的步骤。测定系统包括：积分器，具有形成于相互对置的位置的入射窗和试样窗；受光器，通过在离开试样窗规定距离的位置形成的观测窗，测定积分器的照度；以及挡板，配置于连结积分器内的试样窗和观测窗的光学路径上。测定方法包括：获取第一测定值的步骤，其中，在试样窗装接有标准光源并且通过入射窗的朝向积分器内的光被切断的第一状态下，从受光器输出所述第一测定值；获取第二测定值的步骤，其中，在试样窗装接有反射率已知的漫反射构件并且将自试样光源的光通过入射窗被导入至积分器内的第二状态下，从受光器输出所述第二测定值；以及基于第一测定值和第二测定值，计算出试样光源的光学特性的步骤。
该发明的上述和其他目的、特征、方面以及优点根据结合附图所理解的与该发明相关的以下详细说明而变得显而易见。
附图说明
图1的(A)和(B)是用于说明遵照本发明的背景技术的测定方法的示意图。
图2的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式1的测定系统的概略构成及测定方法的示意图。
图3是表示使用了遵照实施方式1的测定系统的测定处理流程的一个例子的流程图。
图4的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式1的变形例的测定系统的概略构成及测定方法的示意图。
图5是表示使用了遵照实施方式1的变形例的测定系统的测定处理流程的一个例子的流程图。
图6的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式2所述的测定系统的概略构成及测定方法的示意图。
图7是表示使用了遵照实施方式2的测定系统的测定处理流程的一个例子的流程图。
图8的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式2的变形例的测定系统的概略构成及测定方法的示意图。
图9是表示使用了遵照实施方式2的变形例的测定系统的测定处理流程的一个例子的流程图。
图10的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式3的测定系统的概略构成及测定方法的示意图。
图11的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式3的变形例的测定系统的概略构成及测定方法的示意图。
图12的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式4的测定系统的概略构成及测定方法的示意图。
图13的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式4的变形例的测定系统的概略构成及测定方法的示意图。
附图标记说明：
1、2积分球；4积分半球；5平面镜；6、7、8、62挡板；12入射窗；13精密光圈；14观测窗；16试样窗；20受光器；22漫透射构件；30、34试样光源；32、33、46、48支承构件；40、44标准光源；42遮光盖；50漫反射构件；60自吸收校正用光源；100A、100B、100C、100D、100E、100F、100G、100H、200测定系统；150处理装置；AX1、AX2、AX3、AX4光轴。
具体实施方式
参照附图对本发明的实施方式进行详细说明。需要说明的是，对于图中的相同或相当部分，标注相同的附图标记，不进行重复说明。
＜A.背景技术及问题＞
首先，对背景技术的概要及背景技术中的问题进行说明。
图1的(A)和的(B)是用于说明遵照本发明的背景技术的测定方法的示意图。图1的(A)和(B)所示的构成相当于文献2和文献3所公开的构成。即，图1的(A)和(B)中示出了将来自配置于积分球的外部的标准光源40的光导入至积分球内的光学系统。图1的(A)中示出了使用了标准光源40的校正时的光学系统，图1的(B)示出了针对试样光源30的测定时的光学系统。
参照图1的(A)，遵照本发明的背景技术的测定系统200包括积分球1。在积分球1中，形成有入射窗12和观测窗14。在入射窗12的附近配置有精密光圈13，在观测窗14配置有受光器20。
来自配置于积分球1的外部的标准光源40的光穿过入射窗12。标准光源40是分光辐射照度标准光源，典型地，使用分光辐射照度标准灯泡和分光辐射照度标准重氢灯等。
一般，在校正光轴向上从光源离开500mm的位置处的分光辐射照度P(μW/cm2)被赋值给分光辐射照度标准光源。在测定系统200中，在作为分光辐射照度标准光源的标准光源40被赋值的位置(一般是500mm)配置有精密光圈13。精密光圈13具有开口面积A(cm2)被精密地定义的开口部。即，在测定系统200中，开口面积已知的精密光圈13被配置于入射窗12与标准光源40之间。
从标准光源40穿过精密光圈13并入射至积分球1内的光的辐射通量ΦST能如以下的算式(1)那样计算出。
ΦST＝P×A……(1)
入射至积分球1内的辐射束在与积分球1的入射窗12对置的积分球1的内壁形成点状的照射面。由积分球1内的照射面反射的辐射束在积分球1的内壁进行多重反射，由此在积分球1的内壁产生固定的辐射照度。
存在于积分球1内的一部分光通过观测窗14，入射至受光器20。更具体而言，在受光器20的检测部的前段配置有漫透射构件22。漫透射构件22以使由受光器20接受的光的斜入射光特性满足余弦定律为目的来进行配置。由此，受光器20通过观测窗14，输出与在积分球1的内壁产生的辐射照度的大小相应的测定值。
来自形成于积分球1的内壁的点状的照射面的一次反射光直接入射至受光器20成为测定误差要因。因此，在点状的照射面与受光器20之间，配置有用于防止光向受光器20直接入射的挡板6。
如图1的(A)所示，配置了标准光源40时的受光器20的测定值IST与来自标准光源40的辐射通量ΦST建立对应地储存。
接着，参照图1的(B)，代替标准光源40和精密光圈13而将LED等试样光源30装接于入射窗12。并且，获取点亮试样光源30时的受光器20的测定值ISMP。使用针对标准光源40而获取到的测定值IST和辐射通量ΦST，试样光源30的辐射通量ΦSMP能如以下的算式(2)那样计算出。
ΦSMP＝ΦST×ISMP/IST……(2)
从试样光源30辐射的光直接入射至受光器20成为测定误差要因。因此，在装接有试样光源30的入射窗12与受光器20之间，配置有用于防止光向受光器20直接入射的挡板8。
如图1的(A)和(B)所示，在使用了标准光源40的校正时和在针对试样光源30的测定时的任一情况下，都需要使积分球1内的构造相同。即，挡板6和挡板8在任一情况下，都存在于积分球1内。
在此，作为测定对象的试样光源30的配光特性各种各样。本申请发明者们发现根据试样光源30的配光特性，从试样光源30辐射的光变为杂散光而会产生测定误差这样的新的问题。即，从试样光源30辐射且由挡板6反射的光直接入射至受光器20，由此会产生测定误差。
这样，在文献2和文献3所公开的测定方法中，采用将来自配置于积分球1的外部的标准光源40(分光辐射照度标准光源)的光导入至积分球1内的光学系统。在该光学系统中，在校正时，将从配置于外部的标准光源40导入至积分球1内的光由积分球1的内壁进行反射后的光作为辐射束标准，但在测定时，在与来自标准光源40的光进行反射的照射面不同的位置上，配置有试样光源30。其结果是，依赖于在积分球1中光束入射的位置的空间响应分布函数(SRDF：Spatial Response Distribution Function)不相同，其结果是，会产生测定误差。
本申请发明者们，基于上述那样的新的问题及其原因等，发明了在校正时和测定时，能使在积分球1中光束入射的位置实质上相同的测定系统。
＜B.实施方式1＞
首先，对遵照实施方式1的测定系统100A进行说明。
(b1：构造)
图2的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式1的测定系统100A的概略构成及测定方法的示意图。图2的(A)中示出了使用了标准光源40的校正时的光学系统，图2的(B)中示出了针对试样光源30的测定时的光学系统。
参照图2的(A)和(B)，测定系统100A包括作为全球型的积分器的积分球2和处理装置150。积分球2具有全球型的积分空间。以下，以积分球2作为全球型的积分器的一个例子进行说明。
在积分球2中，在其内壁具有光漫反射层，通过在光漫反射层的光的多重反射，形成全球型的积分空间。光漫反射层典型的是通过涂布或吹付硫酸钡或PTFE(polytetrafluoroethylene：聚四氟乙烯)等光漫射材料而形成的。
在积分球2中，设有入射窗12、观测窗14以及试样窗16。入射窗12和试样窗16形成于在积分球2内相互对置的位置。
入射窗12是用于将从配置于积分球2的外部的标准光源40辐射的光导入至积分球2内的开口。在入射窗12的附近配置有精密光圈13。在使用了图2的(A)所示的标准光源40的校正时，来自配置于积分球2的外部的标准光源40的光通过入射窗12和精密光圈13入射至积分球2内。在针对图2的(B)所示的试样光源30的测定时，在入射窗12装接有将遮光盖42。
这样，入射窗12构成为能选择来自配置于积分球2的外部的标准光源40(或者，后述的试样光源34)的光的向积分球2内的导入和切断。
标准光源40是通过预先指定的装置而被赋予了光学特性值的光源。在实施方式1中，标准光源40是分光辐射照度标准光源，典型的是使用了分光辐射照度标准灯泡、分光辐射照度标准重氢灯等。在实施方式1中，标准光源40设为具有2π的配光特性的光源。需要说明的是，在以下的实施方式中也是同样。
观测窗14形成于离开试样窗16规定距离的位置，是用于测定积分球2内的照度的开口。通过观测窗14，受光器20与积分球2连通。受光器20通过观测窗14对积分球2的照度进行测定。更具体而言，受光器20输出与在积分球2的内壁产生的辐射照度的大小相应的测定值。图2的(A)和(B)表示在积分球2直接配置有受光器20的构成例，但并不限于此，例如，也可以是，通过光纤等光学地连接观测窗14与受光器20之间，由此将受光器20配置于离开积分球2的位置。在以下说明的其他实施方式中也是同样。
试样窗16相当于在积分球2内实质上产生光束的部分。在使用了图2的(A)所示的标准光源40的校正时，在试样窗16装接有漫反射构件50。在针对图2的(B)所示的试样光源30的测定时，在试样窗16装接有试样光源30。通常，试样光源30具有各种各样的大小，因此，试样光源30配置于用于装接于试样窗16的支承构件32上。
这样，试样窗16构成为能选择性地装接反射率ρ已知的漫反射构件50和试样光源30(或者，后述的标准光源44)。
配置有用于防止来自装接于试样窗16的漫反射构件50的一次反射光或来自试样光源30的直接光入射至受光器20的挡板6。挡板6配置于连结积分球2内的试样窗16和观测窗14的光学路径上。挡板6的大小和位置被设为使试样窗16不包含于受光器20的视野内。
处理装置150通过对从受光器20输出的测定值进行处理，计算出试样光源30的光学特性。处理装置150典型的是通过通用计算机来实现的。在通过通用计算机实现的情况下，处理器将安装于硬盘等存储器中的程序在内存中展开并执行，由此实现处理装置150。也可以是通过专用的硬连接电路(hard-wired circuit)来实现处理装置150所需的一部分功能或全部功能。
在实施方式1中，作为试样光源30的光学特性，对计算试样光源30的总光通量(lm)的例子进行了说明，但并不限于此，也可以是计算试样光源30的辐射通量(W)。对于后述的其他实施方式和各变形例也是同样。
(b2：校正时的光学系统)
接着，参照图2的(A)，对使用了标准光源40的校正时的光学系统进行说明。在使用了标准光源40进行校正时，将从标准光源40辐射的光通过精密光圈13导入至积分球2内。典型的是标准光源40配置于穿过入射窗12和试样窗16的各中心的光轴AX1上。
一般，在校正光轴向上从光源离开500mm的位置处的分光辐射照度P(μW/cm2)被赋值给分光辐射照度标准光源。在测定系统100A中，在作为分光辐射照度标准光源的标准光源40被赋值的位置(一般是500mm)配置有精密光圈13。精密光圈13具有开口面积A(cm2)被精密定义的开口部。
从标准光源40穿过精密光圈13入射至积分球2内的光的辐射通量ΦST能如以下的算式(3)那样计算出。
ΦST＝P×A……(3)
入射至积分球2内的辐射束在装接于与积分球2的入射窗12对置的试样窗16的漫反射构件50形成点状的照射面。
漫反射构件50是反射率已知的漫反射板，作为反射率标准发挥功能。漫反射构件50使用包括所有的从标准光源40辐射的光所形成的点状的照射面那样的大小的构件。即，构成为所形成的点状的照射面不会从漫反射构件50溢出。
若将漫反射构件50的反射率设为ρ，则由漫反射构件50反射，在积分球2内产生的辐射通量ΦR能如以下的算式(4)那样计算出。
ΦR＝ρ×ΦST＝ρ×P×A……(4)
即，图2的(A)所示的光学系统中，能视为是与将具有辐射通量ΦR的辐射束标准光源在试样窗16点亮的状态相同的状态。从试样窗16辐射的辐射束在积分球2的内壁进行多重反射，由此在积分球2的内壁产生固定的辐射照度。
(b3：测定时的光学系统)
接着，参照图2的(B)，对针对试样光源30的测定时的光学系统进行说明。在针对试样光源30的测定时，试样光源30配置于积分球2内。即，代替漫反射构件50而将试样光源30装接于试样窗16。为了对应于各种各样大小的试样光源30，使用适用于向试样窗16进行装接的支承构件32。在试样光源30装接于支承构件32的基础上，试样光源30和支承构件32被装接于试样窗16。在图2的(B)所示出的状态下，试样光源30被点亮。
此外，在入射窗12装接有遮光盖42。通过装接遮光盖42，来自积分球2的外部的光被切断。因此，成为在积分球2内仅存在从试样光源30辐射的辐射束的情况。
从试样光源30辐射的辐射束之中，朝向受光器20的分量由挡板6反射，从而妨碍了其直接入射至受光器20。
在图2的(B)所示的状态下，当在将点亮试样光源30时所获取到的受光器20的测定值设为ISMP时，使用针对标准光源40所获取到的测定值IST和辐射通量ΦST以及漫反射构件50的反射率ρ，则试样光源30的辐射通量ΦSMP如以下的算式(5)那样计算出。
ΦSMP＝ρ×ΦST×ISMP/IST……(5)
而且，通过根据算式(5)所计算出的辐射通量Φ乘以最大视觉感知效果度K[lm/W]，能测定试样光源30的总光通量。即，试样光源30的总光通量ΦLM，SMP[lm]如以下的算式(6)那样计算出。
ΦLM，SMP＝K×ΦSMP……(6)
(b4：测定处理流程)
接着，对使用了遵照实施方式1的测定系统100A的测定处理流程进行说明。
图3是表示使用了遵照实施方式1的测定系统100A的测定处理流程的一个例子的流程图。参照图3，首先，准备包括积分球2的测定系统100A和标准光源40(步骤S100)。标准光源40的分光辐射照度(分光辐射照度P)是已知的。
接着，在积分球2的试样窗16装接漫反射构件50(反射率ρ)(步骤S102)。此外，调整标准光源40与精密光圈13的位置关系(步骤S104)。然后，点亮标准光源40(步骤S106)，并且在已点亮标准光源40的状态下获取从受光器20输出的测定值(测定值IST)(步骤S108)。获取到测定值后，熄灭标准光源40。
步骤S102～S108的处理流程相当于使用标准光源40进行的校正处理。在该校正处理中，在试样窗16装接有漫反射构件50，并且在来自标准光源40的光通过入射窗12被导入至积分球2内的第一状态下，获取从受光器20输出的第一测定值(测定值IST)。
接着，代替装接于试样窗16的漫反射构件50而装接试样光源30(步骤S112)。此外，在入射窗12装接遮光盖42(步骤S114)。然后，点亮试样光源30(步骤S116)，并且在已点亮试样光源30的状态下获取从受光器20输出的测定值(测定值ISMP)(步骤S118)。获取测定值后，熄灭试样光源30。
处理装置150使用在步骤S108中获取到的测定值IST和在步骤S118中获取到的测定值ISMP，来计算出试样光源30的总光通量(步骤S120)。
步骤S112～S120的处理流程相当于针对试样光源30的测定处理。在该测定处理中，在试样窗16装接试样光源30，并且在通过入射窗12的朝向积分球2内的光被切断的第二状态下，获取从受光器20输出的第二测定值(测定值ISMP)。然后，处理装置150计算出作为试样光源30的光学特性的总光通量。然后，处理结束。
在图3中，作为典型例，示出了继使用了标准光源40的校正处理之后，执行针对试样光源30的测定处理的处理流程，但两个处理的执行顺序并不限定于此。例如，也可以是，在先执行针对试样光源30的测定处理的基础上，执行使用了标准光源40的校正处理。此外，必须测定多个试样光源30的总光通量的情况也很多，在该情况下，无需对按针对试样光源30的每个测定处理执行使用了标准光源40的校正处理。在该情况下，例如，也可以是，首先，在执行使用了标准光源40的校正处理后，依次执行分别针对多个试样光源30的测定处理。关于这些方面，对于以下说明的其他实施方式也是同样。
(b5：优点)
根据遵照实施方式1的测定系统100A，在使用了标准光源40的校正处理和针对试样光源30的测定处理的任一个中，都能将辐射束产生的位置维持为实质上相同。因此，能在两处理之间将空间响应度分布函数维持为实质上相同，因此能减少测定误差的产生。
此外，根据遵照实施方式1的测定系统100A，能减少配置于积分球2内的挡板的数量，因此能减少由积分球2内的光吸收引起的误差要因。
＜C.实施方式1的变形例＞
作为实施方式1的变形例，对于遵照实施方式1的测定系统100A，对能进行光源的自吸收校正的测定系统100B进行说明。
图4的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式1的变形例的测定系统100B的概略构成及测定方法的示意图。图4的(A)中示出了使用了标准光源40的校正时的光学系统，图4的(B)示出了针对试样光源30的测定时的光学系统。
参照图4的(A)和(B)，测定系统100B与图2的(A)和(B)所示的测定系统100A进行比较，在积分球2内还设有自吸收校正用光源60和挡板62。挡板62设为能防止来自自吸收校正用光源60的光直接入射至受光器20、精密光圈13以及漫反射构件50的大小和位置。
自吸收校正用光源60用于在测定时，校正由试样光源30或标准光源40产生的自吸收而引起的测定误差。即，处理装置150执行基于在自吸收校正用光源60点亮的状态下从受光器20输出的测定值的自吸收校正处理。自吸收校正处理将在后面详细叙述。
在实施方式1的变形例中，若漫反射构件50的反射率ρ与形成于积分球2的内壁的漫反射层的平均反射率相同或者在其以上，则实质上能无视配置于积分球2的外部的标准光源40的自吸收。因此，在以下的说明中，假定对在试样光源30产生的自吸收进行校正。不过，也可以是，还对在标准光源40产生的自吸收进行校正。
接着，对使用了实施方式1所述的变形例的测定系统100B的测定处理流程进行说明。
图5是表示使用了遵照实施方式1的变形例的测定系统100B的测定处理流程的一个例子的流程图。在图5所示的流程图中所包括的处理之中，对与图3所石的流程图相同的处理，赋予相同的步骤编号。
参照图5，首先，准备包括积分球2的测定系统100B和标准光源40(步骤S100)。标准光源40的分光辐射照度(分光辐射照度P)是已知的。
接着，在积分球2的试样窗16装接漫反射构件50(反射率ρ)(步骤S102)。此外，调整标准光源40与精密光圈13的位置关系(步骤S104)。然后，点亮标准光源40(步骤S106)，并且在已点亮标准光源40的状态下获取从受光器20输出的测定值(测定值IST)(步骤S108)。获取到测定值后，熄灭标准光源40。步骤S102～S108的处理流程相当于使用了标准光源40的校正处理。
接着，在已熄灭标准光源40的状态下点亮自吸收校正用光源60(步骤S122)，并且在已点亮自吸收校正用光源60的状态下获取从受光器20输出的测定值(测定值IST_1)(步骤S124)。步骤S122和S124相当于自吸收校正处理的一部分。
接着，代替装接于试样窗16的漫反射构件50而装接试样光源30(步骤S112)。此外，在入射窗12装接遮光盖42(步骤S114)。然后，点亮试样光源30(步骤S116)，并且在已点亮试样光源30的状态下获取从受光器20输出的测定值(测定值ISMP)(步骤S118)。获取到测定值后，熄灭试样光源30。
接着，在已熄灭试样光源30的状态下点亮自吸收校正用光源60(步骤S126)，并且在已点亮自吸收校正用光源60的状态下获取从受光器20输出的测定值(测定值ISMP_1)(步骤S128)。步骤S126和S128相当于自吸收校正处理的一部分。
处理装置150使用在步骤S108中获取到的测定值IST、在步骤S118中获取到的测定值ISMP、在步骤S124中获取到的测定值IST_1以及在步骤S128中获取到的测定值ISMP_1，来计算出试样光源30的总光通量(步骤S121)。
作为具体的流程，使用在步骤S124中获取到的测定值IST_1和在步骤S128中获取到的测定值ISMP_1，自校正系数α如以下的算式(7)那样计算出。
α＝IST_1/ISMP_1……(7)
通过根据上述算式(6)计算出的总光通量ΦLM，SMP乘以根据算式(7)计算出的自校正系数α，能计算出校正了自吸收后的试样光源30的总光通量。
步骤S112～S118、S121的处理流程相当于针对试样光源30的测定处理。然后，处理结束。
在图5中，作为典型例，示出了在使用了标准光源40的校正处理之后，执行针对标准光源40的自吸收校正处理，接着，执行针对试样光源30的测定处理和针对试样光源30的自吸收校正处理的处理流程，但这些处理的执行顺序并不限定于此。例如，也可以是在优先执行针对试样光源30的测定处理和针对试样光源30的自吸收校正处理的基础上，执行使用了标准光源40的校正处理和针对标准光源40的自吸收校正处理。此外，必须测定多个试样光源30的总光通量的情况也很多，在该情况下，无需按针对试样光源30的每个测定处理执行使用了标准光源40的校正处理和针对标准光源40的自吸收校正处理，例如，也可以是，首先，在执行了使用标准光源40的校正处理和针对标准光源40的自吸收校正处理之后，依次执行分别针对多个试样光源30的测定处理和针对试样光源30的自吸收校正处理。关于这方面，对于以下说明的其他实施方式也是同样。
根据遵照实施方式1的变形例的测定系统100B，除了上述的遵照实施方式1的测定系统100A中的优点以外，还能对在测定时会在试样光源30产生的自吸收进行校正，能进行更准确的总光通量测定。
＜D.实施方式2＞
接着，作为实施方式2，对将遵照实施方式1的测定系统100A中的标准光源40和试样光源30的配置位置进行实质性地替换后的构成进行说明。
(d1：构造)
图6的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式2的测定系统100C的概略构成及测定方法的示意图。图6的(A)示出了使用标准光源44的校正时的光学系统，图6的(B)示出了针对试样光源34的测定时的光学系统。
遵照实施方式2的测定系统100C典型的是适合于以激光光源这样的辐射束状的光的光源来作为试样光源34的情况。在实施方式2中，即使是辐射光束状的光的试样光源34，也能使用具有2π的配光特性的标准光源44来测定总光通量等。
遵照实施方式2的测定系统100C的构成与上述的遵照实施方式1的测定系统100A相同，因此不对各构件重复进行详细说明。不过，不一定必须配置精密光圈13。
(d2：校正时的光学系统)
接着，参照图6的(A)，对使用了标准光源44的校正时的光学系统进行说明。在使用了标准光源44的校正时，在试样窗16装接有标准光源44。在实施方式2中，标准光源44是对总光通量进行了赋值的总光通量标准光源，典型的是使用了LED等具有2π的配光特性的发光体。
通常，为了使标准光源44的大小与试样窗16的大小相匹配，标准光源44配置于用于装接于试样窗16的支承构件46上。
此外，在入射窗12装接有遮光盖42。通过装接遮光盖42，来自积分球2的外部的光被切断。因此，在积分球2内仅存在从标准光源44辐射的辐射束。
(d3：测定时的光学系统)
接着，参照图6的(B)，对针对试样光源34的测定时的光学系统进行说明。在针对试样光源34的测定时，试样光源34配置于积分球2的外部。即，从入射窗12卸下遮光盖42，试样光源34沿通过试样窗16和入射窗12的光轴AX2配置。
此外，代替标准光源40而将漫反射构件50装接于试样窗16。漫反射构件50的反射率ρ是已知的。漫反射构件50使用包括所有的从试样光源34辐射的光所形成的照射面那样的大小的构件。即，构成为由所形成的试样光源34产生的照射面不会从漫反射构件50溢出。
当在图6的(A)所示的状态下点亮标准光源44时，将从标准光源44辐射至积分球2内的总光通量设为ΦLM，ST[lm]，将受光器20的测定值设为ISMP。
另一方面，当在图6的(B)所示的状态下点亮试样光源34时，将从试样光源34照射至漫反射构件50的总光通量设为ΦLM，SMP[lm]。此外，将在点亮试样光源34时获取到的受光器20的测定值设为ISMP。
来自试样光源30的光由漫反射构件50反射，在积分球2内产生的总光通量ΦLM，SMP，R能如以下的算式(8)那样计算出。
ΦLM，SMP，R＝ρ×ΦLM，SMP……(8)
因此，使用在使用了标准光源44的校正时所获取到的测定值IST和针对试样光源34的测定时所获取到的测定值ISMP，试样光源34的总光通量ΦLM，SMP如以下的算式(9)那样计算出。
ΦLM，SMP＝1/ρ×ΦLM，ST×I/I0……(9)
通过以上那样的处理，能测定试样光源34的总光通量。
(d4：测定处理流程)
接着，对使用了遵照实施方式2的测定系统100C的测定处理流程进行说明。
图7是使用了遵照实施方式2的测定系统100C的测定处理流程的一个例子的流程图。参照图7，首先，准备包括积分球2的测定系统100C和标准光源44(步骤S200)。标准光源44的总光通量是已知的。
接着，在积分球2的试样窗16装接标准光源44(步骤S202)。此外，在积分球2的入射窗12装接遮光盖42(步骤S204)。然后，点亮标准光源44(步骤S206)，并且在已点亮标准光源44的状态下获取从受光器20输出的测定值(测定值ISMP)(步骤S208)。获取到测定值后，熄灭标准光源4。
步骤S202～S208的处理流程相当于使用了标准光源44的校正处理。在该校正处理中，在试样窗16装接有标准光源44，并且在通过入射窗12的朝向积分球2内的光被切断的第一状态下，获取从受光器20输出的第一测定值(测定值IST)。
接着，代替装接于试样窗16的标准光源44而装接漫反射构件50(步骤S212)。此外，调整试样光源34与入射窗12和试样窗16的位置关系(步骤S214)。然后，点亮试样光源34(步骤S216)，并且在已点亮试样光源34的状态下获取从受光器20输出的测定值(测定值IST)(步骤S218)。获取到测定值后，熄灭试样光源34。
处理装置150使用在步骤S208中获取到的测定值IST和在步骤S218中获取到的测定值ISMP，来计算出试样光源34的总光通量(步骤S220)。步骤S212～S220的处理流程相当于针对试样光源34的测定处理。在该测定处理中，在试样窗16装接有漫反射构件50，并且在来自试样光源34的光被导入至积分球2内的第二状态下，获取从受光器20输出的第二测定值(测定值ISMP)。然后，处理装置150计算出作为试样光源30的光学特性的总光通量。然后，处理结束。
(d5：优点)
根据遵照实施方式2的测定系统100C，在使用了标准光源44的校正处理和针对试样光源34的测定处理的任一个中，都能将光束产生的位置维持为实质上相同。因此，能在两处理之间将空间响应度分布函数维持为实质上相同，因此能减少测定误差的产生。
此外，根据遵照实施方式2所述的测定系统100C，能减少配置于积分球2内的挡板的数量，因此能减少积分球2内的由光吸收引起的误差要因。
此外，根据遵照实施方式2的测定系统100C，能使激光光源这样的辐射光束状的光的光源的总光通量的测定容易化。
＜E.实施方式2的变形例＞
作为实施方式2的变形例，对于遵照实施方式2的测定系统100C，对能进行光源的自吸收校正的测定系统100D进行说明。
图8的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式2的变形例的测定系统100D的概略构成及测定方法的示意图。图8的(A)示出了使用标准光源44的校正时的光学系统，图8的(B)示出了针对试样光源34的测定时的光学系统。
参照图8的(A)和(B)，测定系统100D与图6的(A)和(B)所示的测定系统100C进行比较，在积分球2内还设有自吸收校正用光源60和挡板62。挡板62设为能防止来自自吸收校正用光源60的光直接入射至受光器20和漫反射构件50的大小和位置。
自吸收校正用光源60和挡板62与图4的(A)和B)所示的测定系统100B中所采用的自吸收校正用光源60和挡板62实质上相同，因此，在此不重复进行详细说明。
在测定系统100D中，若漫反射构件50的反射率ρ与形成于积分球2的内壁的漫反射层的平均反射率相同或者在其以上，则实质上能无视配置于积分球2的外部的试样光源34的自吸收。
因此，在以下的说明中，假定对在试样光源34产生的自吸收进行校正。不过，也可以是，还对在标准光源44产生的自吸收进行校正。
接着，对使用了遵照实施方式2的变形例的测定系统100D的测定处理流程进行说明。
图9是表示使用了遵照实施方式2的变形例的测定系统100D的测定处理流程的一个例子的流程图。在图9所示的流程图中包括的处理之中，对与图7所示的流程图相同的处理，赋予相同的步骤编号。
参照图9，首先，准备包括积分球2的测定系统100D和标准光源44(步骤S200)。标准光源44的总光通量是已知的。
接着，在积分球2的试样窗16装接标准光源44(步骤S202)。此外，在积分球2的入射窗12装接遮光盖42(步骤S204)。然后，点亮标准光源44(步骤S206)，并且在已点亮标准光源44的状态下获取从受光器20输出的测定值(测定值IST)(步骤S208)。获取到测定值后，熄灭标准光源44。步骤S202～S208的处理流程相当于使用了标准光源44的校正处理。
接着，在已熄灭标准光源44的状态下点亮自吸收校正用光源60(步骤S222)，并且在已点亮自吸收校正用光源60的状态下获取从受光器20输出的测定值(测定值IST_1)(步骤S224)。步骤S222和S224相当于自吸收校正处理的一部分。
接着，代替装接于试样窗16的标准光源44而装接漫反射构件50(步骤S212)。此外，调整试样光源34与入射窗12和试样窗16的位置关系(步骤S214)。然后，点亮试样光源34(步骤S216)，并且在已点亮试样光源34的状态下获取从受光器20输出的测定值(测定值ISMP)(步骤S218)。获取到测定值后，熄灭试样光源34。
接着，在已熄灭试样光源34的状态下点亮自吸收校正用光源60(步骤S226)，并且在已点亮自吸收校正用光源60的状态下获取从受光器20输出的测定值(测定值ISMP_1)(步骤S228)。步骤S226和S228相当于自吸收校正处理的一部分。
处理装置150使用在步骤S208中获取到的测定值IST、在步骤S218中获取到的测定值ISMP、在步骤S224中获取到的测定值IST_1以及在步骤S228中获取到的测定值ISMP_1，来计算出试样光源34的总光通量(步骤S221)。步骤S221中的总光通量的计算处理与上述的实施方式1的变形例中的处理相同，因此不重复进行详细说明。
步骤S212～S218、S221的处理流程相当于针对试样光源34的测定处理。然后，处理结束。
根据遵照实施方式2的变形例的测定系统100D，除了上述的遵照实施方式2的测定系统100C中的优点以外，还能对在测定时会在标准光源44产生的自吸收进行校正，能进行更准确的总光通量测定。
＜F.实施方式3＞
接着，作为实施方式3，对代替遵照实施方式1的测定系统100A中的全球型的积分球2而使用半球型的积分器的构成进行说明。
(f1：构造)
图10的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式3的测定系统100E的概略构成及测定方法的示意图。图10的(A)示出了使用标准光源40的校正时的光学系统，图10的(B)示出了针对试样光源30的测定时的光学系统。
参照图10的(A)和(B)，测定系统100E包括积分半球4和处理装置150。
积分半球4通过平面镜5堵塞开口，由此在其内部形成半球型的积分空间。以下，将积分半球4与平面镜5的组合作为半球型的积分器的一个例子进行说明。积分半球4具有半球型的积分空间，平面镜5以堵塞积分半球4的开口的方式进行配置。
在积分半球4中，在其内壁具有光漫反射层，通过在光漫反射层的光的多重反射，形成全球型的积分空间。光漫反射层典型的是通过涂布或吹付硫酸钡或PTFE等光漫射材料而形成的。
另一方面，平面镜5形成为圆板状，以通过积分半球4的实质上的曲率中心的方式进行配置。平面镜5在积分半球4的内表面侧具有进行镜面反射(正反射和漫反射)的光漫反射层。通过将平面镜5的光漫反射层朝向积分半球4的内部进行配置，生成积分半球4的虚像。将在积分半球4的内部定义的空间(实像)与通过平面镜5生成的虚像进行组合，则能得到与使用了全球型的积分的情况实质上相同的照度分布。
在积分半球4中，设有入射窗12、观测窗14以及试样窗16。入射窗12和试样窗16形成于在积分半球4内相互对置的位置。
入射窗12主要用于将来自配置于积分半球4的外部的光源的光导入至积分半球4内。在入射窗12的附近配置有精密光圈13。
观测窗14形成于离开试样窗16规定距离的位置，是用于测定积分半球4内的照度的开口。通过观测窗14将受光器20与积分半球4连通。受光器20通过观测窗14对积分半球4的照度进行测定。更具体而言，受光器20输出与在积分半球4的内壁产生的放射照度的大小相应的测定值。
试样窗16相当于在积分半球4内实质上产生辐射束的部分。配置有用于防止从试样窗16产生的辐射束直接入射至受光器20的挡板7。挡板7配置于连结积分半球4内的试样窗16和观测窗14的光学路径上。挡板7设为在受光器20的视野内不包括试样窗16这样的大小和位置。
关于其他的构成，由于与图2的(A)和(B)所示的测定系统100A的对应的构成相同，不重复进行详细说明。
(f2：校正时的光学系统)
接着，参照图10的(A)，对使用了标准光源40的校正时的光学系统进行说明。在使用了标准光源40的校正时，将从标准光源40辐射的光通过精密光圈13导入至积分半球4内。典型的是标准光源40配置于穿过入射窗12和试样窗16的各中心的光轴AX3上。
一般，在校正光轴向上从光源离开500mm的位置处的分光辐射照度P(μW/cm2)被赋值给分光辐射照度标准光源。在测定系统100E中，精密光圈13具有开口面积A(cm2)被精密定义的开口部，并配置于作为分光辐射照度标准光源的标准光源40被赋值的位置(一般为500mm)。
在试样窗16装接有漫反射构件50。入射至积分半球4内的辐射束在装接于试样窗16的漫反射构件50处形成点状的照射面。
(f3：测定时的光学系统)
接着，参照图10的(B)，对针对试样光源30的测定时的光学系统进行说明。在针对试样光源30的测定时，将试样光源30配置于积分半球4内。即，代替漫反射构件50而将试样光源30装接于试样窗16。为了对应于各种各样大小的试样光源30，使用适用于向试样窗16进行装接的支承构件33。在试样光源30装接于支承构件32的基础上，试样光源30和支承构件32被装接于试样窗16。
此外，在入射窗12装接有遮光盖42。通过装接遮光盖42，来自积分半球4的外部的光被切断。因此，成为在积分半球4内仅存在从试样光源30辐射的辐射束的情况。
从试样光源30辐射的辐射束之中，朝向受光器20的分量由挡板6反射，从而妨碍了其直接入射至受光器20。
(f4：测定处理流程)
使用了遵照实施方式3的测定系统100E的测定处理流程与上述的使用了遵照实施方式1的测定系统100A的测定处理流程(参照图3等)实质上相同，因此将在实施方式1中说明过的内容援引于此。
(f5：优点)
根据遵照实施方式3的测定系统100E，除了上述的遵照实施方式1的测定系统100A中的优点以外，还能使积分器小型化，能使测定系统整体省空间化。
＜G.实施方式3的变形例＞
作为实施方式3的变形例，对能对遵照实施方式3的测定系统100E进行光源的自吸收校正的测定系统100F进行说明。
图11的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式3的变形例的测定系统100F的概略构成及测定方法的示意图。图11的(A)中示出了使用标准光源40的校正时的光学系统，图11的(B)示出了针对试样光源30的测定时的光学系统。
参照图11的(A)和(B)，测定系统100F与图10的(A)和(B)所示的测定系统100E进行比较，在积分半球4内还设有自吸收校正用光源60和挡板62。自吸收校正用光源60和挡板62与图4的(A)和(B)所示的测定系统100B中所采用的自吸收校正用光源60和挡板62实质上相同，因此，在此不重复进行详细说明。
此外，关于使用了遵照实施方式3的变形例的测定系统100F的测定处理流程，与上述的使用了遵照实施方式1的变形例的测定系统100B的测定处理流程(参照图5等)实质上相同，因此将在实施方式1的变形例中说明过的内容援引于此。
根据遵照实施方式3的变形例的测定系统100F，除了上述的遵照实施方式3的测定系统100E中的优点以外，还能对在测定时会在试样光源30产生的自吸收进行校正，能进行更准确的总光通量测定。
＜H.实施方式4＞
接着，作为实施方式4，对代替遵照实施方式2的测定系统100C中的全球型的积分球2而使用半球型的积分器的构成进行说明。
(h1：构造)
图12的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式4的测定系统100G的概略构成及测定方法的示意图。图12的(A)中示出了使用标准光源44的校正时的光学系统，图12的(B)中示出了针对试样光源34的测定时的光学系统。
遵照实施方式4的测定系统100G典型的是适合于以激光光源这样的辐射光束状的光的光源作为试样光源34的情况。
遵照实施方式4的测定系统100G的构成与上述的遵照实施方式3的测定系统100E相同，因此不对各构件重复进行详细说明。不过，不一定必须配置精密光圈13。
其他构成与图6的(A)和(B)所示的测定系统100C的对应的构成相同，因此不重复进行详细说明。
(h2：校正时的光学系统)
接着，参照图12的(A)，对使用了标准光源44的校正时的光学系统进行说明。在使用了标准光源44的校正时，在试样窗16装接有标准光源44。通常，为了使标准光源44的大小与试样窗16的大小相匹配，标准光源44配置于用于装接于试样窗16的支承构件48上。
在入射窗12装接有遮光盖42。通过装接遮光盖42，来自积分半球4的外部的光被切断。因此，在积分半球4内仅存在从标准光源44辐射的辐射束。
(h3：测定时的光学系统)
接着，参照图12的(B)，对针对试样光源34的测定时的光学系统进行说明。在针对试样光源34的测定时，试样光源34配置于积分半球4的外部。即，从入射窗12卸下遮光盖42，试样光源34沿通过试样窗16和入射窗12的光轴AX4配置。此外，代替标准光源40而将漫反射构件50装接于试样窗16。
(h4：测定处理流程)
使用了遵照实施方式4的测定系统100G的测定处理流程与上述的使用了遵照实施方式2的测定系统100C的测定处理流程实质上相同，因此将在实施方式2中说明过的内容援引于此。
(h5：优点)
根据遵照实施方式4的测定系统100G，除了上述的遵照实施方式2的测定系统100C中的优点以外，还能使积分器小型化，能使测定系统整体省空间化。
＜I.实施方式4的变形例＞
作为实施方式4的变形例，对能对遵照实施方式4的测定系统100G进行光源的自吸收校正的测定系统100H进行说明。
图13的(A)和(B)是用于说明遵照实施方式4的变形例的测定系统100H的概略构成及测定方法的示意图。图13的(A)中示出了使用标准光源44的校正时的光学系统，图13的(B)中示出了针对试样光源34的测定时的光学系统。
参照图13的(A)和(B)，测定系统100H与图12的(A)和(B)所示的测定系统100G进行比较，在积分半球4内还设有自吸收校正用光源60和挡板62。自吸收校正用光源60和挡板62与图4的(A)和(B)所示的测定系统100B中所采用的自吸收校正用光源60和挡板62实质上相同，因此，在此不重复进行详细说明。
此外，使用了遵照实施方式4的变形例的测定系统100G的测定处理流程与上述的使用了遵照实施方式2的变形例的测定系统100D的测定处理流程(参照图9等)实质上相同，因此将在实施方式2的变形例中说明过的内容援引于此。
根据遵照实施方式4的变形例的测定系统100F，除了上述的遵照实施方式3的测定系统100E中的优点以外，还能对在测定时会在试样光源30产生的自吸收进行校正，能进行更准确的总光通量测定。
＜J.总结＞
遵照本实施方式的测定系统采用具有试样窗和入射窗的积分器，所述试样窗能选择性地装接光源(标准光源或试样光源)和漫反射构件，所述入射窗用于将在与试样窗对置的位置来自配置于外部的光源(标准光源或试样光源)的光导入至积分器内。由此，在从装接于试样窗的光源辐射的光与从外部导入的光对装接于相同的试样窗的漫反射构件进行照射而辐射的光之间，能使辐射位置实质上相同。因此，在校正时与测定时之间，能减少由于辐射位置不同而导致的误差的产生，能提高测定精度。
遵照本实施方式的测定系统对于测定任意的光源(例如，LED)及照明器具的总光通量的用途等是有益的。此外，遵照本实施方式的测定系统对测定UVLED(紫外发光二极管)和IRLED(红外发光二极管)等分光全辐射束的用途等是有益的。
虽然说明了本发明的实施方式，但是应该认为本次公开的实施方式在所有方面都是例示而非限制性的。本发明的范围由权利要求书来表示，意在包括与权利要求书等同的意思及范围内的所有变更。

Claims (10)

1.一种测定系统，其特征在于，具备：
积分器，具有形成于相互对置的位置的入射窗和试样窗；
受光器，通过在离开所述试样窗规定距离的位置形成的观测窗，测定所述积分器的照度；
挡板，配置于连结所述积分器内的所述试样窗和所述观测窗的光学路径上；以及
处理装置，通过处理从所述受光器输出的测定值来计算出光学特性，
所述入射窗构成为能选择来自配置于所述积分器的外部的第一光源的光的向所述积分器内的导入和切断，
所述试样窗构成为能选择性地装接反射率已知的漫反射构件和第二光源。
2.根据权利要求1所述的测定系统，所述处理装置基于第一测定值和第二测定值来计算出所述试样光源的光学特性，
其中，在所述试样窗装接有所述漫反射构件并且来自作为所述第一光源的标准光源的光通过所述入射窗被导入至所述积分器内的第一状态下，从所述受光器输出所述第一测定值，
在所述试样窗装接有作为所述第二光源的试样光源并且通过所述入射窗的朝向所述积分器内的光被切断的第二状态下，从所述受光器输出所述第二测定值。
3.根据权利要求2所述的测定系统，还具备配置于所述入射窗与所述第一光源之间的、开口面积已知的光圈。
4.根据权利要求1所述的测定系统，
所述处理装置基于第一测定值和第二测定值来计算出所述试样光源的光学特性，
其中，在所述试样窗装接有作为第二光源的标准光源并且通过所述入射窗的朝向所述积分器内的光被切断的第一状态下，从所述受光器输出所述第一测定值，
在所述试样窗装接有所述漫反射构件并且来自作为所述第二光源的试样光源的光通过所述入射窗被导入至所述积分器内的第二状态下，从所述受光器输出所述第二测定值。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的测定系统，
所述处理装置计算出所述试样光源的总光通量作为所述试样光源的光学特性。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的测定系统，
还具备自吸收校正用光源，
所述处理装置执行基于在所述自吸收校正用光源点亮的状态下从所述受光器输出的测定值的自吸收校正处理。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的测定系统，
所述积分器包括具有全球型的积分空间的积分球。
8.根据权利要求1至4中任一项所述的测定系统，
所述积分器包括具有半球型的积分空间的积分半球和堵塞所述积分半球的开口的平面镜。
9.一种测定方法，其特征在于，具备：
准备测定系统和标准光源的步骤，其中，所述测定系统包括：积分器，具有形成于相互对置的位置的入射窗和试样窗；受光器，通过在离开所述试样窗规定距离的位置形成的观测窗，测定所述积分器的照度；以及挡板，配置于连结所述积分器内的所述试样窗和所述观测窗的光学路径上；
获取第一测定值的步骤，其中，在所述试样窗装接有反射率已知的漫反射构件并且来自配置于所述积分器的外部的所述标准光源的光通过所述入射窗被导入至所述积分器内的第一状态下，从所述受光器输出所述第一测定值；
获取第二测定值的步骤，其中，在所述试样窗装接有试样光源并且通过所述入射窗的朝向所述积分器内的光被切断的第二状态下，从所述受光器输出所述第二测定值；以及
基于所述第一测定值和所述第二测定值，计算出所述试样光源的光学特性的步骤。
10.一种测定方法，其特征在于，具备：
准备测定系统和标准光源的步骤，其中，所述测定系统包括：积分器，具有形成于相互对置的位置的入射窗和试样窗；受光器，通过在离开所述试样窗规定距离的位置形成的观测窗，测定所述积分器的照度；以及挡板，配置于连结所述积分器内的所述试样窗和所述观测窗的光学路径上；
获取第一测定值的步骤，其中，在所述试样窗装接有所述标准光源并且将通过所述入射窗的朝向所述积分器内的光被切断的第一状态下，从所述受光器输出所述第一测定值；
获取第二测定值的步骤，其中，在所述试样窗装接有反射率已知的漫反射构件并且来自试样光源的光通过所述入射窗被导入至所述积分器内的第二状态下，从所述受光器输出所述第二测定值；以及
基于所述第一测定值和所述第二测定值，计算出所述试样光源的光学特性的步骤。
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