CN110945434A - 具有透明窗组合件的用于固持及传送光罩的容器 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于传送光罩的盒,所述盒包含内罩盖及内底板。所述内底板与所述罩盖合作以建立用于安装光罩的空间。所述内底板包含具有周边的孔及从所述周边向内延伸的第一凸缘及第二凸缘。窗组合件安装于所述孔中。所述窗组合件包含透明板、密封件及保持器。所述密封件接触所述透明板的外平坦表面或侧平坦表面及所述孔的所述周边以密封所述窗组合件与所述孔之间的界面。所述保持器接触所述第二凸缘以将所述密封件及透明板保持于所述孔内。
Description
相关申请案的交叉参考
本申请案主张在2017年7月21日申请的美国临时申请案第62/535660号的权利及优先权,所述申请案的全文出于全部目的以引用的方式并入本文中。
技术领域
本发明涉及存储、传送、运输及处理易碎装置(例如光掩模、光罩、半导体衬底及晶片)的技术。
背景技术
极紫外线(EUV)光刻是用于制造集成电路及其它半导体装置的显影技术。反射式光掩模(也称为光罩)经形成具有在大量衬底(也称为晶片)上再现的所要图案。光罩是平面玻璃板,且每一晶片优选地为半导体材料薄片。一般来说,光刻涉及将晶片暴露于辐射源(在此情况中,极紫外线辐射)。辐射反射离开光罩且到晶片上以将图案从光罩转印到晶片。
在与常规光刻中使用的光罩相比时,运用EUV光刻,光罩对污染及损坏尤其敏感。敏感度差异部分因辐射反射离开光罩(如与透射穿过光罩相反)而引起。辐射因当前不存在可用于光罩的对EUV辐射透明的材料而反射离开光罩。
光罩污染的风险一般发生在容器中传送光罩期间。容器通常经密封以防止污染物进入容器。但是,光罩与容器在传送期间的相对移动可引起颗粒形成且损坏光罩。另一问题在于,光罩可从相对于容器的初始位置移动且因此并未适当对准。当光罩从容器移除且放置到处理设备中时,通常使用自动化设备。因此,传送时引起的任何未对准在处理期间可能也存在且引起形成在晶片上的图案有缺陷。
如从上文论述可见,此项技术中需要一种用于固持光罩的容器组合件,所述容器组合件包含窗以有利于感测设备确认光罩与容器组合件适当对准。优选地,窗经设计以防止污染物进入到容器组合件中且最小化在安装所述窗期间的污染物的产生。
发明内容
本发明大体上涉及一种用于传送光罩的盒(pod)。所述盒包含安装在罩盖及基底内的内罩盖及内底板。所述内底板经配置以与所述罩盖合作以建立用于安装光罩的空间。所述内底板包含具有周边的孔、从所述周边向内延伸且具有安装表面的第一凸缘,及从所述周边向内延伸的第二凸缘。窗组合件经配置以安装在所述孔中。所述窗组合件具有拥有内平坦表面、外平坦表面及侧平坦表面的透明板,其中所述内表面经配置以接触所述安装表面。所述窗组合件也具有密封件,所述密封件接触所述透明板的所述外平坦表面或侧平坦表面,且经配置以接触所述孔的所述周边且密封所述窗组合件与所述孔之间的界面。保持器经配置以接触所述第二凸缘且将所述密封件及透明板保持在所述孔内。所述透明板经配置以促进从所述盒外部观看支撑在所述内底板上的光罩。在一些实施例中,所述保持器经配置以将所述密封件及透明板可移除地保持在所述孔内。
在一个说明性实施例中,所述保持器由聚合物制成。在另一说明性实施例中,所述保持器是卡环,且所述窗组合件具有垫圈。在一些情况中,所述卡环由不锈钢制成,且所述垫圈由不锈钢制成。
在一些实施例中,所述透明板是具有圆角的矩形,在本文中也称为圆角矩形。在其它实施例中,所述透明板为圆形的。
在一些实施例中,所述内底板经形成具有缺口凹槽以促进用工具移除所述窗组合件。所述内底板也包含所述周边处的底切区域以接纳所述保持器。
提供以上发明内容以促进理解本发明独有的一些新颖特征且并不希望为全面描述。可通过将整个说明书、权利要求书、附图及摘要视为整体而获得对本发明的全面了解。
附图说明
可结合附图考虑各种说明性实施例的以下描述而更完全理解本发明,其中:
图1展示根据本发明的实施例的EUV光罩盒的横截面。
图2展示图1中展示的盒的内底板的透视图。
图3A展示沿线3-3取得的图2的底板的横截面,其中窗安装在底板中且由单独矩形密封件及窗保持器保持在适当位置中。
图3B展示图3A的密封件及窗保持器的分解图。
图4A展示根据本发明的实施例的安装在底板中且由单独圆形密封件及窗保持器保持在适当位置中的窗的横截面。
图4B展示图4A的密封件及窗保持器的分解图。
图5A展示根据本发明的另一实施例的安装在底板中且由单独圆形密封件、垫圈及窗保持器保持在适当位置中的窗的横截面。
图5B展示图5A的密封件、垫圈及窗保持器的分解图。
图6A展示根据本发明的又一实施例的安装在底板中且由单独矩形密封件及窗保持器保持在适当位置中的窗的横截面。
图6B展示图6A的密封件及窗保持器的分解图。
虽然本发明可有各种修改及替代形式,但其的细节已在附图中以实例方式展示且将被详细描述。但是,应了解,本发明并未将本发明的方面限于所描述的特定说明性实施例。相反,本发明将涵盖落在本发明的精神及范围内的全部修改、等效物及替代物。
具体实施方式
如本说明书及所附权利要求书中所使用,单数形式“一”、“一个”及“所述”包含复数指示物,除非上下文另有清楚指示。如本说明书及所附权利要求书中所使用,术语“或”一般在其包含“及/或”的意义上使用,除非上下文另有清楚指示。
应参考附图阅读以下具体实施方式,其中不同附图中的类似元件相同地编号。具体实施方式及附图(其不一定按比例)描绘说明性实施例且不希望限制本发明的范围。所描绘的说明性实施例仅希望为示范性的。除非有明确相反陈述,否则任何说明性实施例的选定特征可并入到额外实施例中。
首先参考图1,其展示示范性EUV盒100。盒100经配置以固持光罩105(尤其EUV光罩)以进行传送及存储。盒100包含基底110及罩盖115。基底110及罩盖115形成适于容纳内盒125的密封围封壳120。内盒125包含内底板130及内罩盖135。内底板130及内罩盖135形成适于容纳光罩105的密封围封壳140。基底110包含从基底110的内表面向上延伸的定位突部145。内底板130支撑在基底110上,其中定位突部145延伸到形成于内底板130的下部(或外部)面150中的凹入槽(不可见)中以相对于盒100定位内盒125。光罩105支撑在内底板130的上部(或内部)面151上。罩盖115包含从罩盖115的内表面向下延伸的定位突部155。定位突部155延伸到形成于内罩盖135中的孔(不可见)中以相对于盒100定位内盒125。
图2展示内底板130的下部面150。内底板130包含多个孔200到205,每一孔200到205包含对应窗组合件210到215。这促进定位在内底板130下方的感测设备(未展示)在光罩105支撑在内底板130的上部面151上(如图1中展示)时确定光罩105的位置。内底板130也包含多个凹入槽220到222,其经配置以与定位突部145(图1)配接以将内底板130相对于基底105对准。
现参考图3A,展示内底板130的横截面。明确来说,图3A展示孔200及窗组合件210。孔200具有周边(或周边侧壁)300。凸缘305从周边300向内延伸,且底切(或凹槽)310向外延伸到周边300中。凸缘305具有安装表面315。窗组合件210包含透明板320、密封件325及保持器330。板320具有外(或下)平坦表面335及内(或上)平坦表面336,其中内平坦表面336与安装表面315接触。板320经配置以促进观看支撑在内底板130的上部面151上的光罩。密封件325接触板320的外平坦表面335及底切310。密封件325经配置以密封窗组合件210与孔200之间的界面。保持器330接触密封件325及底切310以将密封件325及板320保持于孔200内。在一些情况中,保持器330经配置以将密封件325及板320可移除地保持于孔200内。此保持是归因于内底板130从上方及下方跨窗组合件210延伸,借此防止窗组合件210的垂直移动。特定来说,包含底切310导致从周边300向内延伸的第二凸缘340。凸缘340防止窗组合件210向外(或向下)移动穿过孔200,而凸缘305防止窗组合件210向内(或向上)移动穿过孔200。即,凸缘340与保持器330之间的接触防止保持器330的向外移动,且密封件325与保持器330之间的接触防止保持器330的向内移动,这是因为密封件325及板320在所述方向上通过凸缘305固持在适当位置中。类似地,凸缘305与板320之间的接触防止板320的向内移动,且密封件325与板320之间的接触防止板320的向外移动,这是因为密封件325及保持器330在所述方向上通过凸缘340固持于适当位置中。
图3B提供窗组合件210的分解图。此视图突显孔200、板320、密封件325及保持器330的矩形形状,但因为矩形具有圆角,所以此形状更准确地称为圆角矩形。另外,保持器330包含多个突部345。当窗组合件210安装于孔200内时,突部345接触凸缘340。不需要螺纹紧固件(例如,螺钉)来固定窗组合件210。换句话说,窗组合件210不需要螺纹紧固件。此减少颗粒产生,借此减少污染光罩105的机会。优选地,内底板130由铝制成且板320由玻璃制成,而密封件325及保持器330中的每一者由聚合物制成。适于作为聚合物密封件的聚合物的非限制性实例包含氟化聚合物、弹性体聚合物及热塑性弹性体聚合物。优选聚合物是展现低程度释气的聚合物。保持器也可包含为聚合物的实施例。适用于保持器的聚合物的非限制性实例包含聚醚醚酮及聚醚酰亚胺。
为将窗组合件210安装于孔200内,板320经放置以与安装表面315接触。接着,将密封件325放置于底切310中而使密封件325接触板320的外平坦表面335。保持器330放置于底切310中使得保持器330接触密封件325及凸缘340,借此将密封件325及板320可移除地保持于孔200内。在插入保持器330期间,密封件325由保持器330压缩。密封件325所施加的恢复力有助于维持保持器330与凸缘340之间的接触。
现参考图4A,其展示根据本发明的实施例构造的另一内底板400的横截面。内底板400包含孔405及定位于孔405中的窗组合件410。缺口凹槽415形成于内底板400的下部(或外部)面420中。缺口凹槽415针对工具(未展示)提供出入口,使得可用工具从孔405移除窗组合件410而不损坏窗组合件410。孔405具有周边(或周边侧壁)425。凸缘430从周边425向内延伸,且底切(或凹槽)435向外延伸到周边425中。凸缘430具有安装表面440。窗组合件410包含透明板445、密封件450及保持器455。板445具有外(或下)平坦表面460及内(或上)平坦表面461,其中内平坦表面461与安装表面440接触。板445经配置以促进观看支撑在内底板400上的光罩。密封件450接触板445的外平坦表面460及底切435。密封件450经配置以密封窗组合件410与孔405之间的界面。保持器455接触密封件450及底切435以将密封件450及板445保持于孔405内。在一些情况中,保持器455经配置以将密封件450及板445可移除地保持于孔405内。此保持是归因于内底板400从上方及下方跨窗组合件410延伸,借此防止窗组合件410的垂直移动。特定来说,包含底切435导致从周边425向内延伸的第二凸缘465。凸缘465防止窗组合件410向外(或向下)移动穿过孔405,而凸缘430防止窗组合件410向内(或向上)移动穿过孔405。即,凸缘465与保持器455之间的接触防止保持器455的向外移动,且密封件450与保持器455之间的接触防止保持器455的向内移动,这是因为密封件450及板445在所述方向上通过凸缘430固持在适当位置中。类似地,凸缘430与板445之间的接触防止板445的向内移动,且密封件450与板445之间的接触防止板445的向外移动,这是因为密封件450及保持器455在所述方向上通过凸缘465固持于适当位置中。
图4B提供窗组合件410的分解图。此视图突显孔405、板445、密封件450及保持器455的圆形形状。不需要螺纹紧固件(例如,螺钉)来将窗组合件410固定于孔405内。换句话说,窗组合件420不包含螺纹紧固件。这减少颗粒产生,借此减少污染支撑于内底板400上的光罩的机会。优选地,内底板400由铝制成且板445由玻璃制成,而密封件450及保持器455中的每一者由聚合物制成。适于作为聚合物密封件的聚合物的非限制性实例包含氟化聚合物、弹性体聚合物及热塑性弹性体聚合物。优选聚合物是展现低程度释气的聚合物。保持器也可包含为聚合物的实施例。适用于保持器的聚合物的非限制性实例包含聚醚醚酮及聚醚酰亚胺。
现参考图5A,其展示根据本发明的另一实施例构造的另一内底板500的横截面。内底板500包含孔505及定位于孔505中的窗组合件510。缺口凹槽515形成于内底板500的下部(或外部)面520中。缺口凹槽515针对工具(未展示)提供出入口使得可用工具从孔505移除窗组合件510而不损坏窗组合件510。孔505具有周边(或周边侧壁)525。凸缘530从周边525向内延伸,且底切(或凹槽)535向外延伸到周边525中。凸缘530具有安装表面540。窗组合件510包含透明板545、密封件550、垫圈555及保持器560。板545具有外(或下)平坦表面565及内(或上)平坦表面566,其中内平坦表面566与安装表面540接触。板545经配置以促进观看支撑在内底板500上的光罩。密封件550接触板545的外平坦表面565及底切535。密封件550经配置以密封窗组合件510与孔505之间的界面。垫圈555定位于密封件550与保持器560之间且接触密封件550、保持器560及底切535。保持器560接触底切535且将密封件550及板545保持于孔505内。在一些情况中,保持器560经配置以将密封件550及板545可移除地保持于孔505内。此保持是归因于内底板500从上方及下方跨窗组合件510延伸,借此防止窗组合件510的垂直移动。特定来说,包含底切535导致从周边525向内延伸的第二凸缘570。凸缘570防止窗组合件510向外(或向下)移动穿过孔505,而凸缘530防止窗组合件510向内(或向上)移动穿过孔505。即,凸缘570与保持器560之间的接触防止保持器560的向外移动,且垫圈555与保持器560之间的接触防止保持器560的向内移动,这是因为垫圈555、密封件550及板545在所述方向上通过凸缘530固持在适当位置中。类似地,凸缘530与板545之间的接触防止板545的向内移动,且密封件550与板545之间的接触防止板545的向外移动,这是因为密封件550、垫圈555及保持器560在所述方向上通过凸缘570固持于适当位置中。
图5B提供窗组合件510的分解图。此视图突显孔505、板545、密封件550、垫圈555及保持器560的圆形形状。另外,在保持器560的第一端575与第二端576之间提供间隙。此空间有利于保持器560在窗组合件510的安装期间收缩使得保持器560用作卡环。不需要螺纹紧固件(例如,螺钉)来将窗组合件510固定于孔505内。换句话说,窗组合件510不包含螺纹紧固件。此减少颗粒产生,借此减少污染支撑于内底板500上的光罩的机会。优选地,内底板500由铝制成,板545由玻璃制成,且密封件550由聚合物制成,而垫圈555及保持器560中的每一者由不锈钢制成。适于作为聚合物密封件的聚合物的非限制性实例包含氟化聚合物、弹性体聚合物及热塑性弹性体聚合物。优选聚合物是展现低程度释气的聚合物。保持器也可包含为聚合物的实施例。适用于保持器的聚合物的非限制性实例包含聚醚醚酮及聚醚酰亚胺。适于作为聚合物密封件的聚合物的非限制性实例包含氟化聚合物、弹性体聚合物及热塑性弹性体聚合物。优选聚合物是展现低程度释气的聚合物。保持器也可包含为聚合物的实施例。适用于保持器的聚合物的非限制性实例包含聚醚醚酮及聚醚酰亚胺。
现参考图6A,其展示根据本发明的又一实施例构造的另一内底板600的横截面。内底板600包含孔605及定位于孔605中的窗组合件610。孔605具有周边(或周边侧壁)615。凸缘620从周边615向内延伸,且底切(或凹槽)625向外延伸到周边615中。凸缘620具有安装表面630。窗组合件610包含透明板635、密封件640及保持器645。板635具有外(或下)平坦表面650及内(或上)平坦表面651,其中内平坦表面651与安装表面630接触。板635经配置以促进观看支撑在内底板600上的光罩。密封件640接触周边615、安装表面630及板635的侧平坦表面655。密封件640经配置以密封窗组合件610与孔605之间的界面。保持器645接触密封件640、底切625及板635的外平坦表面650。保持器645经配置以将密封件640及板635保持于孔605内。在一些情况中,保持器645经配置以将密封件640及板635可移除地保持于孔605内。此保持是归因于内底板600从上方及下方跨窗组合件610延伸,借此防止窗组合件610的垂直移动。特定来说,包含底切625导致从周边615向内延伸的第二凸缘660。凸缘660防止窗组合件610向外(或向下)移动穿过孔605,而凸缘620防止窗组合件610向内(或向上)移动穿过孔605。即,凸缘660与保持器645之间的接触防止保持器645的向外移动,且密封件640、板635与保持器645之间的接触防止保持器645的向内移动,这是因为密封件640及板635在所述方向上通过凸缘620固持在适当位置中。类似地,凸缘620与板635之间的接触防止板635的向内移动,且保持器645与板635之间的接触防止板635的向外移动,这是因为保持器645在所述方向上通过凸缘660固持于适当位置中。
图6B提供窗组合件610的分解图。此视图突显孔605、板635、密封件640及保持器645的矩形形状,但此形状更准确地称为圆角矩形。另外,保持器645包含多个突部665。当安装窗组合件610时,突部665接触凸缘660。不需要螺纹紧固件(例如,螺钉)来将窗组合件610固定于孔605内。此减少颗粒产生,借此减少污染支撑于内底板600上的光罩的机会。优选地,内底板600由铝制成且板635由玻璃制成,而密封件640及保持器645中的每一者由聚合物制成。适用于保持器的聚合物的非限制性实例包含聚醚醚酮及聚醚酰亚胺。适于作为聚合物密封件的聚合物的非限制性实例包含氟化聚合物、弹性体聚合物及热塑性弹性体聚合物。优选聚合物是展现低程度释气的聚合物。保持器也可包含为聚合物的实施例。适用于保持器的聚合物的非限制性实例包含聚醚醚酮及聚醚酰亚胺。
在已因此描述本发明的若干说明性实施例的情况下,所属领域的技术人员将容易明白,可进行且使用在所附于此处的权利要求书的范围内的其它实施例。前文描述中已阐述本文件所涵盖的本发明的许多优点。但是,将了解,本发明在许多方面仅为说明性的。可在不超出本发明的范围的情况下在细节上、尤其是在零件的形状、大小及布置方面进行改变。当然,本发明的范围是以表达所附权利要求书的语言定义。
Claims (20)
1.一种用于传送光罩的盒,其包括:
罩盖;及
内底板,其经配置以与所述罩盖合作以建立用于安装光罩的空间,所述内底板包含:
孔,其具有周边,
第一凸缘,其从所述周边向内延伸且具有安装表面,
第二凸缘,其从所述周边向内延伸,及
窗组合件,其经配置以安装于所述孔中,所述窗组合件具有
透明板,其具有内平坦表面、外平坦表面及侧平坦表面,所述内表面经配置以接触所述安装表面,
密封件,其接触所述透明板的所述外平坦表面或侧平坦表面,且经配置以接触所述孔的所述周边且密封所述窗组合件与所述孔之间的界面,及
保持器,其经配置以接触所述第二凸缘且将所述密封件及透明板保持于所述孔内。
2.根据权利要求1所述的盒,其中所述保持器由聚合物制成。
3.根据权利要求1所述的盒,其中所述保持器是卡环。
4.根据权利要求3所述的盒,其中所述窗组合件具有垫圈。
5.根据权利要求4所述的盒,其中所述卡环由不锈钢制成,且所述垫圈由不锈钢制成。
6.根据权利要求1所述的盒,其中所述透明板是圆角矩形或是圆形的。
7.根据权利要求1所述的盒,其中所述保持器经配置以接触所述第二凸缘且将所述密封件及透明板可移除地保持于所述孔内。
8.根据权利要求1所述的盒,其中所述内底板经形成具有促进用工具移除所述窗组合件的缺口凹槽及在所述周边处的用以接纳所述保持器的底切区域。
9.根据权利要求1所述的盒,其中所述透明板经配置以促进从所述盒外部观看支撑于所述内底板上的光罩。
10.一种经配置以安装于内底板中的窗组合件,所述内底板具有拥有周边的孔、从所述周边向内延伸且具有安装表面的第一凸缘,及从所述周边向内延伸的第二凸缘,所述窗组合件包括:
透明板,其具有内平坦表面、外平坦表面及侧平坦表面,所述内表面经配置以接触所述安装表面,
密封件,其接触所述透明板的所述外平坦表面或侧平坦表面,且经配置以接触所述孔的所述周边且密封所述窗组合件与所述孔之间的界面,及
保持器,其经配置以接触所述第二凸缘且将所述密封件及透明板保持于所述孔内。
11.根据权利要求10所述的窗组合件,其中所述保持器由聚合物制成。
12.根据权利要求10所述的窗组合件,其中所述保持器是卡环。
13.根据权利要求12所述的窗组合件,其进一步包括垫圈。
14.根据权利要求13所述的窗组合件,其中所述卡环由不锈钢制成,且所述垫圈由不锈钢制成。
15.根据权利要求10所述的窗组合件,其中所述透明板是圆角矩形或是圆形的。
16.根据权利要求10所述的窗组合件,其中所述保持器经配置以接触所述第二凸缘且将所述密封件及透明板可移除地保持于所述孔内。
17.一种用于将窗组合件安装于用于传送光罩的盒的内底板中的方法,所述内底板包含具有周边的孔、从所述周边向内延伸且具有安装表面的第一凸缘,及从所述周边向内延伸的第二凸缘,所述方法包括:
放置具有内平坦表面、外平坦表面及侧平坦表面的透明板使得所述内平坦表面与所述安装表面接触,
将密封件放置成与所述透明板的所述外平坦表面或侧平坦表面及所述孔的所述周边接触以密封所述窗组合件与所述孔之间的界面,及
将保持器放置成与所述第二凸缘接触以将所述密封件及透明板保持于所述孔内。
18.根据权利要求17所述的方法,其中将所述保持器放置成与所述第二凸缘接触包含:将所述保持器放置于所述内底板在所述周边处的底切部分中。
19.根据权利要求17所述的方法,其进一步包括用所述保持器压缩所述密封件。
20.根据权利要求17所述的方法,其进一步包括用所述密封件施加压力于所述透明板上以密封所述窗组合件与所述孔之间的所述界面且允许从所述盒外部观看支撑于所述内底板上的光罩。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201762535660P | 2017-07-21 | 2017-07-21 | |
US62/535,660 | 2017-07-21 | ||
PCT/US2018/042275 WO2019018281A1 (en) | 2017-07-21 | 2018-07-16 | CONTAINER FOR CONTAINING AND TRANSPORTING RETICLES HAVING A TRANSPARENT WINDOW ASSEMBLY |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110945434A true CN110945434A (zh) | 2020-03-31 |
CN110945434B CN110945434B (zh) | 2022-06-21 |
Family
ID=65015495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201880049119.4A Active CN110945434B (zh) | 2017-07-21 | 2018-07-16 | 具有透明窗组合件的用于固持及传送光罩的容器 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11914287B2 (zh) |
JP (1) | JP6796741B2 (zh) |
KR (1) | KR102398973B1 (zh) |
CN (1) | CN110945434B (zh) |
TW (1) | TWI699849B (zh) |
WO (1) | WO2019018281A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102019117484B4 (de) | 2019-06-28 | 2021-07-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Anordnung zum Laden einer Komponente in eine Ladeposition in einem optischen System für die Mikrolithographie |
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US10593577B2 (en) * | 2016-04-06 | 2020-03-17 | Entegris, Inc. | Substrate container with window retention spring |
-
2018
- 2018-07-16 CN CN201880049119.4A patent/CN110945434B/zh active Active
- 2018-07-16 US US16/631,121 patent/US11914287B2/en active Active
- 2018-07-16 KR KR1020207004684A patent/KR102398973B1/ko active IP Right Grant
- 2018-07-16 JP JP2020502632A patent/JP6796741B2/ja active Active
- 2018-07-16 WO PCT/US2018/042275 patent/WO2019018281A1/en active Application Filing
- 2018-07-20 TW TW107125196A patent/TWI699849B/zh active
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Publication number | Publication date |
---|---|
TWI699849B (zh) | 2020-07-21 |
WO2019018281A1 (en) | 2019-01-24 |
US11914287B2 (en) | 2024-02-27 |
JP2020528160A (ja) | 2020-09-17 |
JP6796741B2 (ja) | 2020-12-09 |
KR102398973B1 (ko) | 2022-05-17 |
KR20200020981A (ko) | 2020-02-26 |
CN110945434B (zh) | 2022-06-21 |
US20200159109A1 (en) | 2020-05-21 |
TW201921565A (zh) | 2019-06-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |