CN110892319A - 偏振光照射装置 - Google Patents

Abstract

本发明能够一次性地对大型的工件进行曝光处理。长度方向与对象物的搬运方向大致正交的第一灯及第二灯在搬运方向及作为与搬运方向大致正交的方向的正交方向上错开配置，在正交方向上，第一灯的第一端部与第二灯重叠，第二灯的第二端部与第一灯重叠。在俯视下，第一遮光部设置为与第一区域重叠，该第一区域为被来自第一灯的光照射的在正交方向上较长的带状的区域的一部分的，第二遮光部设置为与第二区域重叠，该第二其与为被来自第二灯的光照射的在正交方向上较长的带状的区域的一部分的，第一区域和第二区域在正交方向的位置大致相同。另外，第一遮光部的面积与第二遮光部的面积之和与第一区域及第二区域的面积大致相同。

Description

偏振光照射装置

技术领域

本发明涉及偏振光照射装置。

背景技术

在专利文献1中公开了如下光取向用偏振光照射装置，即，沿着光取向膜的搬运方向多级地配置在与光取向膜的搬运方向正交的方向上延伸的线状的灯，沿着光源的延伸的方向排列有多个线栅偏振元件。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4815995号公报

发明内容

发明要解决的课题

近年来，随着液晶等显示面板的大型化，对宽度超过3m的大型工件进行曝光处理这样的要求变得强烈。然而，由于灯的制造上的挠曲等问题，难以制造3m左右这样长的灯。

在专利文献1所记载的发明中，工件的宽度(与搬运方向正交的方向的长度)比灯的宽度窄，因此无法应对对大型的工件进行曝光处理这样的要求。

本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供能够一次性地对大型的工件进行曝光处理的偏振光照射装置。

用于解决课题的方案

为了解决上述课题，本发明的偏振光照射装置的特征在于，例如具备：工作台，其载置被照射偏振光的对象物；第一灯及第二灯，它们以长度方向与所述对象物的搬运方向大致正交的方式设置；偏振构件，其设置于所述第一灯及所述第二灯与所述工作台之间，使从所述第一灯及所述第二灯照射的光偏振；第一遮光部，其设置于所述第一灯与所述工作台之间，遮挡从所述第一灯照射的光；以及第二遮光部，其设置于所述第二灯与所述工作台之间，遮挡从所述第二灯照射的光，所述第一灯和所述第二灯在所述搬运方向及作为与所述搬运方向大致正交的方向的正交方向上错开配置，在所述正交方向上，所述第一灯的第一端部与所述第二灯重叠，所述第二灯的第二端部与所述第一灯重叠，在俯视下，所述第一遮光部设置为与第一区域重叠，该第一区域为被来自所述第一灯的光照射的在所述正交方向上较长的带状的区域的一部分，在俯视下，所述第二遮光部设置为与第二区域重叠，该第二区域为被来自所述第二灯的光照射的在所述正交方向上较长的带状的区域的一部分，所述第一区域和所述第二区域在所述正交方向的位置大致相同，所述第一遮光部的面积与所述第二遮光部的面积之和与所述第一区域及所述第二区域的面积大致相同。

根据本发明的偏振光照射装置，长度方向与对象物的搬运方向大致正交的第一灯及第二灯在搬运方向及作为与搬运方向大致正交的方向的正交方向上错开配置，在正交方向上，第一灯的第一端部与第二灯重叠，第二灯的第二端部与第一灯重叠。在俯视下，第一遮光部设置为与第一区域重叠，该第一区域为被来自第一灯的光照射的在正交方向上较长的带状的区域的一部分，第二遮光部设置为与第二区域重叠，该第二区域为被来自第二灯的光照射的在正交方向上较长的带状的区域的一部分，第一区域和第二区域在正交方向的位置大致相同。这样，通过沿着搬运方向及正交方向排列第一灯和第二灯，并在第一区域及第二区域(连接部区域)设置第一遮光部、第二遮光部，从而能够连接两盏灯。另外，第一遮光部的面积与第二遮光部的面积之和与第一区域及第二区域的面积大致相同。由此，能够使连接部区域中的从第一灯照射的光的累积光量与从第二灯照射的光的累积光量之和与连接部区域以外的区域中的从第一灯照射的光的累积光量及从第二灯照射的光的累积光量大致相同，能够消除连接部区域中的曝光量不均。因此，能够一次性地对宽度比第一灯、第二灯的长度大的大型的工件进行曝光处理。

在此，也可以是，在俯视下，所述第一遮光部具有相对于所述搬运方向倾斜的第一边，所述第二遮光部具有相对于所述搬运方向倾斜的第二边，以使所述第一边与所述第二边大致一致的方式排列所述第一遮光部和所述第二遮光部而成的形状为大致矩形形状。由此，即使在第一遮光部、第二遮光部的位置在旋转方向上偏移、或者在平行方向上偏移的情况下，也能够减少对曝光量、光学特性造成的影响。

在此，也可以是，俯视下的所述第一灯的照度分布具有沿着所述第一灯的长度方向大致平行的第三区域和不沿着所述第一灯的长度方向大致平行的第四区域，俯视下的所述第二灯的照度分布具有沿着所述第二灯的长度方向大致平行的第五区域和不沿着所述第一灯的长度方向大致平行的第六区域，在以与所述第一灯的正下方大致相同的照度被照射光的区域中，所述第一边的所述第一端部侧的端部位于所述第三区域与所述第四区域的边界线上，在以与所述第二灯的正下方大致相同的照度被照射光的区域中，所述第二边的所述第二端部侧的端部位于所述第五区域与所述第六区域的边界线上。由此，能够使照射到对象物的光的曝光量的分布与从一盏较长的灯照射光的情况下的曝光量的分布大致相同。

在此，也可以是，从所述搬运方向观察时，所述第一灯及所述第二灯的照度分布分别是中心部分高且随着趋向端部而变低的大致梯形形状，当将所述大致梯形形状的上底部分的高度设为100时，与所述大致梯形形状的底大致平行且存在于大致90～大致99的高度的线与表示所述照度分布的线交叉的点的所述正交方向上的位置与所述第一边的所述第一端部侧的端部及所述第二边的所述第二端部侧的端部的所述正交方向上的位置大致一致。由此，能够使照射到对象物的光的曝光量的分布与从一盏较长的灯照射光的情况下的曝光量的分布大致相同。

在此，也可以是，所述偏振光照射装置具备：第一光圈，其在所述第一灯与所述工作台之间设置为覆盖被来自所述第一灯的光照射的区域；以及第二光圈，其在所述第二灯与所述工作台之间设置为覆盖被来自所述第二灯的光照射的区域，所述第一遮光部及所述第二遮光部呈包含多个点的点图案，所述第一光圈具有大致板状的第一透光构件和形成于所述第一透光构件的所述第一遮光部，所述第二光圈具有大致板状的第二透光构件和形成于所述第二透光构件的所述第二遮光部，在所述第一区域中，单位面积的所述点的数量以越接近所述第一端部则单位面积的所述点的数量越多且越远离所述第一端部则单位面积的所述点的数量越少的方式逐渐变化，在所述第二区域中，单位面积的所述点的数量以越接近所述第二端部则单位面积的所述点的数量越多且越远离所述第二端部则单位面积的所述点的数量越少的方式逐渐变化。由此，能够消除连接部区域中的曝光量不均。

在此，也可以是，在所述第一灯与所述对象物的距离为大致150mm～大致160mm的情况下，所述第一区域的长度为所述第一灯的长度方向的长度的大致8％～大致15％，在所述第二灯与所述对象物的距离为大致150mm～大致160mm的情况下，所述第二区域的长度为所述第二灯的长度方向的长度的大致8％～大致15％。这样，通过利用第一遮光部、第二遮光部覆盖在第一灯、第二灯劣化的情况下变黑而曝光量降低的区域，从而由第一灯、第二灯的劣化导致的曝光量的降低不会影响到曝光，因此能够消除曝光量不均。

在此，也可以是，在俯视下，所述第一遮光部的形状是以第二点为中心而使所述第二遮光部旋转大致180度而成的形状，该第二点是所述第二边与所述第二灯的中心轴交叉的点，所述第二遮光部的形状是以第一点为中心而使所述第一遮光部旋转大致180度而成的形状，该第一点是所述第一边与所述第一灯的中心轴交叉的点。由此，能够消除照射到对象物的偏振光的偏振轴的偏差、即光学特性不均。

在此，也可以是，所述偏振光照射装置具有使所述第一灯或所述第二灯在与所述搬运方向大致正交的方向上移动的移动部。由此，不需要使用在第一灯、第二灯劣化的情况下变黑而曝光量降低的区域。因此，通过使由第一灯、第二灯的劣化导致的曝光量的降低不影响到曝光，从而能够消除曝光量不均。

发明效果

根据本发明，能够一次性地对大型的工件进行曝光处理。

附图说明

图1是表示第一实施方式的偏振光照射装置1的概要的主视图。

图2是表示第一实施方式的偏振光照射装置1的概要的俯视图。

图3是表示从侧面观察偏振光照射部10及工件W时的概要的主要部分透视图。

图4是表示偏振光照射装置1的俯视下的光圈17、18的配置的图。

图5是表示光圈17、18与向工件W照射的光的累积光量的关系的图，(A)表示俯视下的光圈17、18的配置，(B)表示各灯11、12的累积光量，(C)表示灯11、12的累积光量的总和。

图6是表示光的偏振轴与光圈17、18的位置的关系的图。

图7是俯视下的灯11、12的照度分布的一例。

图8是示意性地表示偏振光照射装置2的俯视下的光圈17A、18A与照度分布的关系的图。

图9是示意性地表示变形例的偏振光照射装置2A的俯视下的光圈17B、18B与照度分布的关系的图。

图10的(A)表示灯11、12的长度方向的位置与照度分布的关系，(B)表示照度分布与光圈17C的关系，(C)表示照度分布与光圈18C的关系。

图11是表示偏振光照射装置3的俯视下的光圈17C、18C的配置的图。

图12是表示偏振光照射装置4的俯视下的偏振光照射部10A的配置的图。

图13是表示光圈17E、18E的概要的俯视图。

图14是表示光圈17E、18E与向工件W照射的光的累积光量的关系的图，(A)表示俯视下的光圈17E、18E的配置，(B)表示各灯11、12的累积光量，(C)表示灯11、12的累积光量的总和。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行详细说明。本发明的偏振光照射装置例如使来自光源的光通过偏振膜而得到偏振光，将该偏振光照射到玻璃基板等(以下称为工件W)的被曝光面，从而生成液晶面板用的取向膜等。

<第一实施方式>

图1是表示第一实施方式的偏振光照射装置1的概要的主视图。图2是表示第一实施方式的偏振光照射装置1的概要的俯视图。在此，将工件W的搬运方向设为y方向，将与搬运方向正交的方向设为x方向，将铅垂方向设为z方向。

偏振光照射装置1主要具有偏振光照射部10、工作台20和工作台驱动部30。

偏振光照射部10向工件W照射偏振光。偏振光照射部10具有两盏灯11、12。灯11、12是发光长度为大致1500mm～2000mm的长棒状的灯，照射不偏振的光(例如，紫外线)。对于灯11、12，能够使用高效地发出光取向处理所需的短波长紫外线(例如254nm波长光)的长弧灯。在灯11、12的两端分别设置有电极11a、11b、12a、12b。

灯11、12以长度方向与工件W的搬运方向(y方向)大致正交的方式(大致沿着x方向)设置。另外，灯11、12在x方向及y方向上错开地配置。

图3是从侧面观察偏振光照射部10及工件W时的概要的主要部分透视图。偏振光照射部10主要具有灯11、12、反射器13、特定波长透过滤光片14、偏振构件15、盖板玻璃16以及光圈17、18。

在灯11、12的下侧(-z侧)、即灯11、12与工作台20之间分别设置有特定波长透过滤光片14、偏振构件15及盖板玻璃16。从灯11、12照射的光分别被反射器13反射，通过特定波长透过滤光片14、偏振构件15等，照射到工件W。

反射器13在侧视时为大致碗形状，在俯视时为大致矩形形状。反射器13以来自灯11、12的光集中于照射区域的方式反射来自灯11、12的光。

特定波长透过滤光片14是以仅使特定的波长范围的光透过而吸收其他波长的光的方式制作的滤光片。特定波长透过滤光片14在作为板状的玻璃(石英玻璃等)的透明基板上形成有仅使特定的波长范围的光透过的带通滤光片的滤光片层。但是，在透明基板上形成的滤光片并不限于带通滤光片，例如也可以是低截滤光片、反射滤光片。

偏振构件15通过沿着x方向排列多个入射角度依存性少的线栅偏振片而形成。线栅偏振片是指在透明基板的表面形成有金属线的偏振片，通过将金属线的间距设为入射的光的波长以下，从而将与金属线的长度方向大致平行的偏振光成分反射，并使与金属线的长度方向大致正交的偏振光成分通过。需要说明的是，偏振构件15不限于线栅偏振片。

在偏振构件15的下侧设置有盖板玻璃16。但是，盖板玻璃16并非必须。

在盖板玻璃16的下侧、即盖板玻璃16与工作台20之间设置有光圈17、18。光圈17设置于灯11的下侧，光圈18设置于灯12的下侧。对于光圈17、18，后面进行详细说明。另外，光圈17、18也可以不设置在盖板玻璃16与工作台20之间，例如设置于特定波长透过滤光片14与偏振构件15之间。

返回图1、2的说明。工作台20设置为能够在y方向上移动。在工作台20的上表面载置有供偏振光照射的工件W。

工作台驱动部30包括在y方向上延伸设置的工作台导轨31、工作台扫描轴32和具有致动器等的驱动部33。

工作台20设置为能够通过未图示驱动单元而沿着工作台导轨31移动(参照图1、2的粗箭头)。驱动部33使工作台20沿着工作台导轨31(即，搬运方向)移动(参照图1的粗箭头)。

当工作台20沿着工作台导轨31在y方向上移动时，利用未图示的位置检测部对工作台扫描轴32上的工作台20的位置进行检测。由此，能够调整工作台20的y方向的位置。需要说明的是，工作台20的移动及定位是已经公知的技术，因此省略说明。

机械手40是使工件W向工作台20移动、或者使工件W从工作台20移动的移动机构。机械手40是已经公知的，因此省略说明。需要说明的是，机械手40的位置不限于图1、2等所示的位置。另外，使工件W向工作台20移动、或者使工件W从工作台20移动的移动机构不限定于机械手40。

偏振光照射部10、工作台20和工作台驱动部30设置于装置框50的内部。在装置框50设置有用于供作业者出入、或者机械手40使工件W相对于工作台20移动的开口部(未图示)。

接着，对光圈17、18进行详细说明。图4是表示俯视下(从+z方向观察时)的光圈17、18的配置的图。在图4中，由双点划线表示灯11、12。另外，在图4中，为了说明，对遮光部17a、18a进行点阵显示。

光圈17、18分别具有遮光部17a、18a和开口部17b、18b。光圈17、18以在俯视下覆盖被来自灯11、12的光照射的区域的方式设置。

遮光部17a设置于开口部17b的灯12侧(+x侧)，遮光部18a设置于开口部18b的灯11侧(-x侧)。

在此，被来自灯11、12的光照射的区域在俯视下分别是在x方向上较长的带状的区域。被来自灯11的光照射的区域与图4中的配置有遮光部17a及开口部17b的区域大致一致。另外，被来自灯12的光照射的区域与图4中的配置有遮光部18a及开口部18b的区域大致一致。

在x方向上，灯11的端部11c(+x侧的端部)位于与灯12重叠的位置，将该位置设为x＝X1。另外，在x方向上，灯12的端部12c(-x侧的端部)位于与灯11重叠的位置，将该位置设为x＝X2。

在俯视下，遮光部17a以与被来自灯11的光照射的在x方向上较长的带状的区域中的+x侧的区域A1重叠的方式设置。另外，在俯视下，遮光部18a以与被来自灯12的光照射的在x方向上较长的带状的区域中的-x侧的区域A2重叠的方式设置。区域A1、A2分别是被来自灯11、12的光照射的在x方向上较长的带状的区域的一部分。区域A1、A2无法视觉确认，但为了说明，在图4中用虚线对区域A1、A2的端部进行显示。区域A1和区域A2的x方向的位置大致相同，将区域A1、A2定义为连接部区域。

遮光部17a、18a具有相对于x方向及y方向倾斜的边17m、18m。边17m、18m相对于x方向及y方向分别倾斜大致45度。但是，边17m、18m的倾斜度不限于大致45度。

遮光部17a、18a分别是将大致矩形形状的板状构件相对于y方向倾斜地切断而成的形状。换言之，以使边17m与边18m大致一致的方式排列遮光部17a和遮光部18a的形状为大致矩形形状。遮光部17a的面积与遮光部18a的面积之和与区域A1、A2的面积大致相同。

将边17m的+x侧的端部的位置设为x＝X4，将边18m的-x侧的端部的位置设为x＝X3。当灯11、12与工件W的距离H(参照图3)为大致150mm～大致160mm的情况下，位置X2与位置X3的距离d及位置X1与位置X4的距离d为灯11、12的长度方向(在此x方向)的长度的大致8％～大致15％。例如，当灯11、12的长度为大致2500mm的情况下，距离d为大致200mm，是灯11、12的长度的大致8％。另外，例如，当灯11、12的长度为大致2250mm的情况下，距离d为大致225mm，是灯11、12的长度的大致10％。另外，例如，当灯11、12的长度为大致1500mm的情况下，距离d为大致200mm，是灯11、12的长度的大致13.3％。

从灯11、12的端部开始灯11、12的长度方向的长度的大致8％～大致15％的区域是在灯11、12劣化的情况下灯变黑，曝光量降低的区域。通过使用遮光部17a、18a覆盖该区域，从而由灯11、12的劣化导致的曝光量的降低不会影响到工件W的曝光，因此能够消除曝光量不均。

对偏振光照射装置1的作用进行说明。从偏振光照射部10照射光，并且一边借助驱动部33使工作台20(即，工件W)在作为搬运方向的y方向上移动(一次往复)一边使从偏振光照射部10照射的光照射到工件W的被曝光面，来进行生成取向膜等的曝光处理。

图5是表示光圈17、18与向工件W照射的光的累积光量的关系的图，(A)表示俯视下的光圈17、18的配置，(B)表示各灯11、12的累积光量，(C)表示灯11、12的累积光量的总和。从灯11照射的光通过光圈17的开口部17b而向工件W照射，但由于被遮光部17a遮挡，因此在区域A1中，随着趋向+x侧而累积光量逐渐变小。另外，从灯12照射的光通过光圈18的开口部18b而向工件W照射，但由于被遮光部18a遮挡，因此在区域A2中，随着趋向-x侧而累积光量逐渐变小。

遮光部17a的面积与遮光部18a的面积之和与区域A1、A2的面积大致相同，因此连接部区域中的从灯11照射的光的累积光量与从灯12照射的光的累积光量之和与连接部区域以外的区域中的从灯11照射的光的累积光量和从灯12照射的光的累积光量大致相同。由此，能够消除连接部区域中的曝光量不均。

图6是表示从灯11、12照射、由偏振构件15偏振的光的偏振轴与光圈17、18的位置的关系的图。俯视下的遮光部17a的形状是以灯12的中心轴ax2与边18m交叉的点18s为中心使遮光部18a大致旋转180度而成的形状，俯视下的遮光部18a的形状是以灯11的中心轴ax1与边17m交叉的点17s为中心使遮光部17a大致旋转180度而成的形状，因此遮光部17a、18a主要遮挡具有在图6中以向右下降的方式示出的偏振轴的偏振光，向工件W主要照射具有在图6中以向右上升的方式示出的偏振轴的偏振光。因此，能够消除照射到工件W的偏振光的偏振轴的偏差、即光学特性不均。

根据本实施方式，通过沿着x方向及y方向排列多个(在此为两个)灯11、12，在连接部区域设置遮光部17a、18a，从而能够在没有曝光量不均、光学特性不均的状态下连接两盏灯。因此，能够一次性(一次往复)地对大型的工件进行曝光处理。

另外，根据本实施方式，通过遮光部17a、18a覆盖在灯11、12劣化的情况下灯变黑、曝光量降低的区域(在本实施方式中，从灯11、12的端部开始灯11、12的长度方向的长度的大致8％～大致15％的区域)，因此即使因灯11、12的劣化使曝光量降低，也能够不受影响地进行曝光处理。

另外，根据本实施方式，遮光部17a、18a具有相对于x方向及y方向倾斜的边17m、18m，因此即使在光圈17、18的位置在旋转方向上偏移、或者在y方向上偏移的情况下，也能够减少对曝光量、光学特性造成的影响。

需要说明的是，在本实施方式中，通过设置具有遮光部17a、18a和开口部17b、18b的光圈17、18来局部覆盖来自灯11、12的光，但也可以仅在想要遮挡来自灯11、12的光的部分设置遮光部17a、18a(也可以没有开口部17b、18b)。

<第二实施方式>

本发明的第一实施方式是由遮光部17a、18a覆盖从灯11、12的端部开始灯11、12的长度方向的长度的大致8％～大致15％的区域，但遮光部17a、18a的配置并不限于此。

第二实施方式是基于灯11、12的照度分布来确定由遮光部17a、18a覆盖的区域的方式。以下，对第二实施方式的偏振光照射装置2进行说明。第一实施方式的偏振光照射装置1与第二实施方式的偏振光照射装置2的差异仅是光圈，因此以下主要对第二实施方式的偏振光照射装置2中的光圈17A、18A进行说明。另外，对与第一实施方式相同的部分标注相同的附图标记，省略说明。

首先，对从灯11、12照射的光的照度分布进行说明。图7是俯视下的灯11、12的照度分布的一例。灯11、12的照度分布具有沿着灯11、12的长度方向大致平行的区域I和不沿着灯11、12的长度方向大致平行的区域II。需要说明的是，照度分布的图6中的上下端被反射器13(图6中省略图示)的两端面遮挡。

图8是示意性地表示俯视下的光圈17A、18A与照度分布的关系的图。在图8中，为了说明，由双点划线图示出照度分布。光圈17A、18A与光圈17、18同样地分别设置于灯11、12的下侧，以覆盖被来自灯11、12的光照射的区域的方式设置。光圈17A、18A分别具有遮光部17c、18c和开口部17d、18d。

遮光部17c设置于开口部17d的+x侧，遮光部18c设置于开口部18d的-x侧。遮光部17c、18c具有相对于x方向及y方向倾斜的边17n、18n。以使边17n与边18n大致一致的方式排列遮光部17c和遮光部18c而成的形状为大致矩形形状。遮光部17c的面积与遮光部18c的面积之和与连接部区域A3的面积大致相同。

俯视下的遮光部17c的形状是以灯12的中心轴ax2与边18n交叉的点18t为中心而使遮光部18c大致旋转180度而成的形状，俯视下的遮光部18c的形状是以灯11的中心轴ax1与边17n交叉的点17t为中心而使遮光部17c大致旋转180度而成的形状。

边17n的+x侧的端部位于区域I与区域II的边界线上，边18m的-x侧的端部位于区域I与区域II的边界线上。因此，连接部区域A3中的从灯11照射的光的累积光量与从灯12照射的光的累积光量之和与连接部区域A3以外的区域中的从灯11照射的光的累积光量和从灯12照射的光的累积光量大致相同。

根据本实施方式，照射到工件W的光的曝光量的分布与从一盏长的灯照射光的情况下的曝光量的分布大致相同，因此能够对大型的工件进行适当的曝光处理。

需要说明的是，在本实施方式中，边17n的+x侧的端部位于区域I与区域II的边界线上，边18n的-x侧的端部位于区域I与区域II的边界线上，但例如如图9所示，也可以使用具有遮光部17e的光圈17B和具有遮光部18e的光圈18B，该遮光部17e的灯11的中心轴ax1与边17o交叉的点17u位于区域I与区域II的边界线上，该遮光部18e的灯12的中心轴ax2与边18o交叉的点18u位于区域I与区域II的边界线上。

光圈17B、18B具有遮光部17e、18e和开口部17f、18f。遮光部17e、18e在俯视下为大致三角形状。俯视下的遮光部17e的形状是以点18u为中心而使遮光部18e大致旋转180度而成的形状，俯视下的遮光部18e的形状是以点17u为中心而使遮光部17e大致旋转180度而成的形状。在该情况下，连接部区域中照射到工件W的光的曝光量稍微降低，但能够在使照射到工件W的光的曝光量的分布与从一盏长的灯照射光的情况下的曝光量的分布大致相同的状态下，在更大的范围内使用灯11、12。

<第三实施方式>

在本发明的第二实施方式中，基于俯视下的灯11、12的照度分布来确定光圈17A、18A的形状，但光圈的方式并不限于此。

第三实施方式是基于大致沿着搬运方向观察时的灯11、12的照度分布来决定光圈的形状的方式。以下，对第三实施方式的偏振光照射装置3进行说明。第一实施方式的偏振光照射装置1与第三实施方式的偏振光照射装置3的差异仅是光圈，因此以下主要对第三实施方式的偏振光照射装置3中的光圈17C、18C进行说明。另外，对与第一实施方式相同的部分标注相同的附图标记，省略说明。

图10的(A)表示灯11、12的长度方向的位置与照度分布的关系，图10的(B)表示照度分布与光圈17C的关系，图10的(C)表示照度分布与光圈18C的关系。在图10中，例示了从灯11、12的某一点的放射角为30度的情况。

图10的(A)的双点划线表示从灯11、12的发光区域的端部放射的光的情形。在图10的(A)中的比内侧的双点划线靠外侧的区域中，仅为从内侧放射的光，不存在从外侧放射的光。因此，从y方向观察，灯11、12的照度分布是中心部分高、随着趋向端部而变低的大致梯形形状。需要说明的是，照度分布的图10的(A)中的左右端被反射器13(图10中省略图示)的两端面遮挡。

光圈17C、18C分别具有遮光部17g、18g和开口部17h、18h。遮光部17g设置于开口部17h的+x侧，遮光部18g设置于开口部18h的-x侧。遮光部17g、18g具有相对于x方向及y方向倾斜的边17p、18p。以使边17p与边18p大致一致的方式排列遮光部17g和遮光部18g而成的形状为大致矩形形状。

线11是与大致梯形形状的底大致平行的线，在将表示灯11、12的照度分布的大致梯形形状的上底部分的高度设为100时，线11存在于大致90～大致99的高度。线11与表示照度分布的线交叉的点P1、P2的x方向的位置与边17p的+x侧的端部和边18p的-x侧的端部大致一致。

图11是表示俯视下的光圈17C、18C的配置的图。遮光部17g以与区域A4重叠的方式设置，遮光部18g以与区域A5重叠的方式设置。区域A4和区域A5的x方向的位置大致相同，将区域A4、A5定义为连接部区域。遮光部17g的面积与遮光部18g的面积之和与区域A4、A5的面积大致相同。

俯视下的遮光部17g的形状是以灯12的中心轴ax2与边18p交叉的点18v为中心而使遮光部18g大致旋转180度而成的形状，俯视下的遮光部18g的形状是以灯11的中心轴ax1与边17p交叉的点17v为中心而使遮光部17g大致旋转180度而成的形状。

根据本实施方式，使用在将灯11、12的中央部分的照度设为100时成为大致90～大致99的照度的区域，因此能够使利用从两盏灯11、12照射的光进行曝光的曝光量的分布与从一盏长的灯照射光的情况下的曝光量的分布大致相同。因此，能够对大型的工件进行适当的曝光处理。

<第四实施方式>

在本发明的第一实施方式中，通过利用遮光部17a、18a覆盖灯11、12劣化时曝光量降低的区域，从而不使用该区域，但不使用在灯11、12劣化时曝光量降低的区域的方式并不限于此。

第四实施方式是使灯11、12移动而不使用劣化部分的方式。以下，对第四实施方式的偏振光照射装置4进行说明。

第一实施方式的偏振光照射装置1与第四实施方式的偏振光照射装置4的差异仅为偏振光照射部的结构，因此以下仅对第四实施方式的偏振光照射装置4中的偏振光照射部10A进行说明，对于其他内容省略图示及说明。另外，对与第一实施方式相同的部分标注相同的附图标记，省略说明。

图12是表示俯视下的偏振光照射部10A的配置的图。偏振光照射部10A主要具有灯11、12、反射器13(省略图示)、特定波长透过滤光片14(省略图示)、偏振构件15(省略图示)、盖板玻璃16(省略图示)、光圈17D、18D以及灯移动部(省略图示)。

光圈17D、18D分别具有遮光部17i、18i和开口部17j、18j。遮光部17i设置于开口部17j的+x侧，遮光部18i设置于开口部18j的-x侧。遮光部17i、18i在俯视下为大致三角形状，以使相对于遮光部17i、18i的x方向及y方向倾斜的边大致一致的方式排列遮光部17i和遮光部18i的而成形状为大致矩形形状。

灯移动部使灯11、12在x方向上移动。灯移动部能够使用已经公知的技术，因此省略说明。

灯11、12最初位于与光圈17D、18D重叠的位置(图12中由虚线示出)。当灯11、12劣化，灯11、12的端部变黑时，灯移动部使灯11向+x方向移动，使灯12向一x方向移动(图12中由实线示出)。此时，以遮光部17i、18i分别覆盖灯11、12的变黑的部分的方式配置灯11、12。

根据本实施方式，通过使灯11、12在x方向上移动而不使用灯11、12劣化时曝光量降低的区域，由灯11、12的劣化造成的曝光量的降低不会影响到工件W的曝光，能够消除曝光量不均。

<第五实施方式>

在本发明的第一实施方式中，光圈17、18包括分别具有相对于x方向及y方向倾斜的边17m、18m的大致板状的遮光部17a、18a，但光圈的方式并不限于此。

第五实施方式是不使用大致板状的遮光部的方式。以下，对第五实施方式的偏振光照射装置5进行说明。第一实施方式的偏振光照射装置1与第五实施方式的偏振光照射装置5的差异仅是光圈，因此以下主要对第五实施方式的偏振光照射装置5中的光圈17E、18E进行说明。另外，对与第一实施方式相同的部分标注相同的附图标记，省略说明。

图13是表示光圈17E、18E的概要的俯视图。光圈17E以在俯视下覆盖被来自灯11的光照射的区域的方式设置在灯11的下侧。光圈18E以在俯视下覆盖被来自灯12的光照射的区域的方式设置在灯12的下侧。

光圈17E、18E分别具有遮光部17k、18k和大致板状的透光构件17l、18l。遮光部17k以与区域A1重叠的方式设置，遮光部18k以与区域A2重叠的方式设置。

遮光部17k、18k是包含多个点的点图案。遮光部17k形成于透光构件17l，遮光部18k形成于透光构件18l。

在区域A1中，单位面积的点的数量以越接近端部11c则单位面积的点的数量越多且越远离端部11c则单位面积的点的数量越少的方式逐渐变化。由此，在区域A1中，与端部11c相邻的位置的点图案最浓，随着远离端部11c而点图案逐渐变淡。

另外，在区域A2中，单位面积的点的数量以越接近端部12c则单位面积的点的数量越多且越远离端部12c则单位面积的点的数量越少的方式逐渐变化。在图13中，靠近端部12c的区域F1的点的数量比远离端部12c的区域F2的点的数量多。由此，在区域A2中，与端部12c相邻的位置的点图案最浓，随着远离端部12c而点图案逐渐变淡。

需要说明的是，在图13中，为了图示方便，点图案的浓度呈阶梯变化，但实际上点图案的浓度是连续变化的。需要说明的是，也能够使点图案的浓度呈阶梯变化，但为了消除遮光量的不均，优选使点图案的浓度连续变化。

图14是表示光圈17E、18E与向工件W照射的光的累积光量的关系的图，(A)表示俯视下的光圈17E、18E的配置，(B)表示各灯11、12的累积光量，(C)表示灯11、12的累积光量的总和。从灯11照射的光被遮光部17k遮挡，因此在区域A1中，随着朝向+x侧而累积光量逐渐变小。另外，从灯12照射的光被遮光部18k遮挡，因此在区域A2中，随着朝向-x侧而累积光量逐渐变小。

遮光部17k的面积与遮光部18k的面积之和与区域A1、A2的面积大致相同，因此连接部区域中的从灯11照射的光的累积光量与从灯12照射的光的累积光量之和与连接部区域以外的区域中的从灯11照射的光的累积光量和从灯12照射的光的累积光量大致相同。由此，能够消除连接部区域中的曝光量不均。

根据本实施方式，能够在没有曝光量不均、光学特性不均的状态下连结两盏灯。因此，能够一次性地对大型的工件进行曝光处理。

以上，参照附图对本发明的实施方式进行了详细说明，但具体结构并不限于该实施方式，也包括不脱离本发明的主旨的范围内的设计变更等。另外，能够采用将作为上述的各实施方式、变形例说明的结构适当组合的结构。例如，能够将第四实施方式的结构适当组合于第一实施方式的结构中。

另外，在本发明中，“大致”是指，不仅是严格意义上相同的情况，还包括不丧失等同性的程度的误差、变形的概念。例如，大致平行不限于严格意义上平行的情况。另外，例如，在仅表示为平行、正交等的情况下，不仅是严格意义上平行、正交等的情况，还包括大致平行、大致正交等的情况。

附图标记说明：

1、2、2A、3、4：偏振光照射装置

10、10A：偏振光照射部

11、12：灯

11a、11b、12a、12b：电极

11c、12c：端部

13：反射器

14：特定波长透过滤光片

15：偏振构件

16：盖板玻璃

17、17A、17B、17C、17D：光圈

17a、17c、17e、17g、17i：遮光部

17b、17d、17f、17h、17j：开口部

17m、17n、17o、17p：边

18、18A、18B、18C、18D：光圈

18a、18c、18e、18g、18i：遮光部

18b、18d、18f、18h、18j：开口部

18m、18n、18o、18p：边

20：工作台

30：工作台驱动部

31：工作台导轨

32：工作台扫描轴

33：驱动部

40：机械手

50：装置框。

Claims (8)

1.一种偏振光照射装置，其特征在于，

所述偏振光照射装置具备：

工作台，其载置被照射偏振光的对象物；

第一灯及第二灯，它们以长度方向与所述对象物的搬运方向大致正交的方式设置；

偏振构件，其设置于所述第一灯及所述第二灯与所述工作台之间，使从所述第一灯及所述第二灯照射的光偏振；

第一遮光部，其设置于所述第一灯与所述工作台之间，遮挡从所述第一灯照射的光；以及

第二遮光部，其设置于所述第二灯与所述工作台之间，遮挡从所述第二灯照射的光，

所述第一灯和所述第二灯在所述搬运方向及作为与所述搬运方向大致正交的方向的正交方向上错开配置，

在所述正交方向上，所述第一灯的第一端部与所述第二灯重叠，所述第二灯的第二端部与所述第一灯重叠，

在俯视下，所述第一遮光部设置为与第一区域重叠，该第一区域为被来自所述第一灯的光照射的在所述正交方向上较长的带状的区域的一部分，

在俯视下，所述第二遮光部设置为与第二区域重叠，该第二区域为被来自所述第二灯的光照射的在所述正交方向上较长的带状的区域的一部分，

所述第一区域和所述第二区域在所述正交方向上的位置大致相同，

所述第一遮光部的面积与所述第二遮光部的面积之和与所述第一区域及所述第二区域的面积大致相同。

2.根据权利要求1所述的偏振光照射装置，其特征在于，

在俯视下，所述第一遮光部具有相对于所述搬运方向倾斜的第一边，所述第二遮光部具有相对于所述搬运方向倾斜的第二边，

以使所述第一边与所述第二边大致一致的方式排列所述第一遮光部和所述第二遮光部而成的形状为大致矩形形状。

3.根据权利要求2所述的偏振光照射装置，其特征在于，

俯视下的所述第一灯的照度分布具有沿着所述第一灯的长度方向大致平行的第三区域和不沿着所述第一灯的长度方向大致平行的第四区域，

俯视下的所述第二灯的照度分布具有沿着所述第二灯的长度方向大致平行的第五区域和不沿着所述第一灯的长度方向大致平行的第六区域，

在以与所述第一灯的正下方大致相同的照度被照射光的区域中，所述第一边的所述第一端部侧的端部位于所述第三区域与所述第四区域的边界线上，

在以与所述第二灯的正下方大致相同的照度被照射光的区域中，所述第二边的所述第二端部侧的端部位于所述第五区域与所述第六区域的边界线上。

4.根据权利要求2所述的偏振光照射装置，其特征在于，

从所述搬运方向观察时，所述第一灯及所述第二灯的照度分布分别是中心部分高且随着趋向端部而变低的大致梯形形状，

当将所述大致梯形形状的上底部分的高度设为100时，与所述大致梯形形状的底大致平行且存在于大致90～大致99的高度的线与表示所述照度分布的线交叉的点的所述正交方向上的位置与所述第一边的所述第一端部侧的端部及所述第二边的所述第二端部侧的端部大致一致。

5.根据权利要求1所述的偏振光照射装置，其特征在于，

所述偏振光照射装置具备：

第一光圈，其在所述第一灯与所述工作台之间设置为覆盖被来自所述第一灯的光照射的区域；以及

第二光圈，其在所述第二灯与所述工作台之间设置为覆盖被来自所述第二灯的光照射的区域，

所述第一遮光部及所述第二遮光部呈包含多个点的点图案，

所述第一光圈具有大致板状的第一透光构件和形成于所述第一透光构件的所述第一遮光部，

所述第二光圈具有大致板状的第二透光构件和形成于所述第二透光构件的所述第二遮光部，

在所述第一区域中，单位面积的所述点的数量以越接近所述第一端部则单位面积的所述点的数量越多且越远离所述第一端部则单位面积的所述点的数量越少的方式逐渐变化，

在所述第二区域中，单位面积的所述点的数量以越接近所述第二端部则单位面积的所述点的数量越多且越远离所述第二端部则单位面积的所述点的数量越少的方式逐渐变化。

6.根据权利要求1、2、5中任一项所述的偏振光照射装置，其特征在于，

在所述第一灯与所述对象物的距离为大致150mm～大致160mm的情况下，所述第一区域的长度为所述第一灯的长度方向的长度的大致8％～大致15％，

在所述第二灯与所述对象物的距离为大致150mm～大致160mm的情况下，所述第二区域的长度为所述第二灯的长度方向的长度的大致8％～大致15％。

7.根据权利要求2至4中任一项所述的偏振光照射装置，其特征在于，

在俯视下，所述第一遮光部的形状是以第二点为中心而使所述第二遮光部旋转大致180度而成的形状，该第二点是所述第二边与所述第二灯的中心轴交叉的点，所述第二遮光部的形状是以第一点为中心而使所述第一遮光部旋转大致180度而成的形状，该第一点是所述第一边与所述第一灯的中心轴交叉的点。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的偏振光照射装置，其特征在于，

所述偏振光照射装置具有使所述第一灯或所述第二灯在与所述搬运方向大致正交的方向上移动的移动部。

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