CN110863176A - 一种掩膜版及其制作方法、显示面板 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种掩膜版及其制作方法、显示面板，该掩膜版包括：框架；第一掩膜条，第一掩膜条沿第一方向延伸；第一掩膜条在框架所在平面上的正投影至少覆盖框架的第一中线；第一中线为框架沿第一方向上的中线；多条第二掩膜条，第二掩膜条沿第一方向延伸；第二掩膜条上设置有多个掩膜开口；沿第二方向上，第一掩膜条的两侧均依次排列有多个第二掩膜条；第二方向为第一掩膜条的宽度方向；多条遮挡条；遮挡条沿第一方向延伸；相邻两个第二掩膜条之间的间隙处，以及相邻第一掩膜条和第二掩膜条之间的间隙处均设置有一条遮挡条。本发明提供的技术方案，可解决中心遮挡条导致掩膜版的框架形变较大，影响掩膜版掩膜的精准性的问题。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版及其制作方法、显示面板。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)采用蒸镀技术制备有机发光层，在器件制备过程中，有机材料通过高温蒸镀沉淀在基板上。为了将有机材料蒸镀至像素区域，在蒸镀源和基板之间放置高精度金属掩膜版(Fine Metal Mask，FMM)，掩膜版(即高精度金属掩膜版)上预留有预先设计好的掩膜开口，有机材料可通过掩膜开口沉积在基板上，形成与掩膜开口对应的预设图形。
但在蒸镀制备过程中，需要对母版进行对称曝光，且对称线周围区域设置有膜厚标记，所以无法进行像素区域的设置，并且为了保证有机材料不被蒸镀至该对称线周围区域，需要在该区域设置中心遮挡条。该中心遮挡条张网拉力过大，导致掩膜版的框架形变较大，影响掩膜版掩膜的精准性。
发明内容
本发明实施例提供了一种掩膜版及其制作方法、显示面板，以解决中心遮挡条导致掩膜版的框架形变较大，影响掩膜版掩膜的精准性的问题。
第一方面，本发明实施例提供了一种掩膜版，包括：框架；
第一掩膜条，所述第一掩膜条沿第一方向延伸，并固定在所述框架上；所述第一掩膜条在所述框架所在平面上的正投影至少覆盖所述框架的第一中线；所述第一中线为所述框架沿所述第一方向上的中线；
多条第二掩膜条，所述第二掩膜条沿所述第一方向延伸，并固定在所述框架上；所述第二掩膜条上设置有多个掩膜开口；沿第二方向上，所述第一掩膜条的两侧均依次排列有多个所述第二掩膜条；所述第二方向为所述第一掩膜条的宽度方向；
多条遮挡条；所述遮挡条沿所述第一方向延伸，并固定在所述框架上；相邻两个第二掩膜条之间的间隙处，以及相邻第一掩膜条和第二掩膜条之间的间隙处均设置有一条所述遮挡条。
第二方面，基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种掩膜版的制作方法，包括：
提供框架；
将多条遮挡条沿第二方向依次焊接至所述框架上；其中，所述遮挡条沿第一方向延伸；
将第一掩膜条焊接至所述框架上；所述第一掩膜条沿所述第一方向延伸，所述第二方向为所述第一掩膜条的宽度方向；所述第一掩膜条在所述框架所在平面上的正投影至少覆盖所述框架的第一中线；所述第一中线为所述框架沿所述第一方向上的中线；
沿第二方向上，在所述第一掩膜条的两侧依次拼接设置多个第二掩膜条；所述第二掩膜条沿所述第一方向延伸，所述第二掩膜条上设置有多个掩膜开口；其中，相邻两个第二掩膜条之间的间隙处，以及相邻第一掩膜条和第二掩膜条之间的间隙处均设置有一条所述遮挡条。
第三方面，基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括：
有机发光层；所述有机发光层由本发明任意实施例提供的掩膜版采用蒸镀工艺形成。
本发明中，掩膜版包括框架以及固定在框架上的第一掩膜条和第二掩膜条，上述掩膜条均沿第一方向延伸，其中，第一掩膜条在框架所在平面上的正投影覆盖框架的第一中线，即第一掩膜条覆盖框架沿第一方向上的中线，从而防止基板对应第一中线处的标记设置区域被蒸镀上蒸镀材料。并且在第一掩膜条的宽度方向上的两侧，分别依次排列有多个第二掩膜条，第二掩膜条上设置有掩膜开口，用于实现面板材料的蒸镀，并且相邻两个第二掩膜条之间的间隙处，以及相邻的第一掩膜条和第二掩膜条之间的间隙处，均设置有遮挡条，用于避免蒸镀材料通过掩膜条之间的缝隙漏蒸至基板。上述第一掩膜条代替了中心遮挡条设置于第一中线所在区，避免了中心遮挡条张网拉力过大导致掩膜版的框架形变较大的问题，降低蒸镀过程中框架的形变量，从而提高掩膜版的掩膜精度，防止最终形成的显示面板发生混色现象，提高产品良率。
附图说明
图1是相关技术中的掩膜版的结构示意图；
图2是图1中区域B1的结构示意图；
图3是图1中掩膜版沿线段a-a’的剖面示意图；
图4是本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图；
图5是图4中区域B2的结构示意图；
图6是图4中掩膜版沿线段a1-a1’的剖面示意图；
图7是本发明提供的一种基板的结构示意图；
图8是本发明实施例提供的张网后的框架的平面结构视图；
图9是本发明实施例提供的另一种掩膜版的结构示意图；
图10是图9中掩膜版沿线段a2-a2’的剖面示意图；
图11是本发明实施例提供的一种掩膜版的制作方法的流程示意图；
图12是本发明实施例提供的另一种掩膜版的制作方法的流程示意图；
图13是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
图1是相关技术中的掩膜版的结构示意图，图2是图1中区域B1的结构示意图，图3是图1中掩膜版沿线段a-a’的剖面示意图，掩膜版包括框架11’，以及固定在框架11’上多条平行排布的掩膜条12’，用于进行蒸镀材料的蒸镀，相邻掩膜条12’之间的空隙处设置有与掩膜条12’平行设置的遮挡条131’，如图1所示，框架11’的中心区域无需进行蒸镀材料的蒸镀，所以需要通过中心遮挡条132’，对上述中心区域进行遮挡，但是中心遮挡条132’张网拉力过大，导致掩膜版的框架形变较大，影响了掩膜版的掩膜精度。此外，参考图2和图3，为了防止中心遮挡条132’因拉力过大造成遮挡条与框架11’的焊接区产生褶皱，并降低虚焊率，在框架11’的中心区域设置了两条中心遮挡条132’，由图2和图3可知两条中心遮挡条132’之间存在间隙d1，容易导致蒸镀材料由间隙d1漏蒸至基板上，在后续封装过程中，也容易造成中心区域的有机材料的剥落的情况。
为解决上述问题，本发明实施例提供了一种掩膜版，包括：框架；
第一掩膜条，第一掩膜条沿第一方向延伸，并固定在框架上；第一掩膜条在框架所在平面上的正投影至少覆盖框架的第一中线；第一中线为框架沿第一方向上的中线；
多条第二掩膜条，第二掩膜条沿第一方向延伸，并固定在框架上；第二掩膜条上设置有多个掩膜开口；沿第二方向上，第一掩膜条的两侧均依次排列有多个第二掩膜条；第二方向为第一掩膜条的宽度方向；
多条遮挡条；遮挡条沿第一方向延伸，并固定在框架上；相邻两个第二掩膜条之间的间隙处，以及相邻第一掩膜条和第二掩膜条之间的间隙处均设置有一条遮挡条。
本发明实施例中，掩膜版包括框架以及固定在框架上的第一掩膜条和第二掩膜条，上述掩膜条均沿第一方向延伸，其中，第一掩膜条在框架所在平面上的正投影覆盖框架的第一中线，即第一掩膜条覆盖框架沿第一方向上的中线，从而防止基板对应第一中线处的标记设置区域被蒸镀上蒸镀材料。并且在第一掩膜条的宽度方向上的两侧，分别依次排列有多个第二掩膜条，第二掩膜条上设置有掩膜开口，用于实现面板材料的蒸镀，并且相邻两个第二掩膜条之间的间隙处，以及相邻的第一掩膜条和第二掩膜条之间的间隙处，均设置有遮挡条，用于避免蒸镀材料通过掩膜条之间的缝隙漏蒸至基板。上述第一掩膜条代替了中心遮挡条设置于第一中线所在区，避免了中心遮挡条张网拉力过大导致掩膜版的框架形变较大的问题，降低蒸镀过程中框架的形变量，从而提高掩膜版的掩膜精度，防止最终形成的显示面板发生混色现象，提高产品良率。此外，也不会将蒸镀材料漏蒸至显示面板的标记设置区，有效避免了后续薄膜封装过程中，有机封装材料发生翘起或剥落，无法有效封装的问题。
以上是本发明的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
图4是本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图，图5是图4中区域B2的结构示意图，图6是图4中掩膜版沿线段a1-a1’的剖面示意图，如图4至图6所示，掩膜版包括框架11，以及固定在框架11上的掩膜条12，框架11所在平面的形状，也即框架11在平行于基板的平面内的形状可依照需要基板的形状进行设置，本示例中，基板一般为矩形，则可选取框架11为矩形，当然框架11可以为其他规则或不规则的形状，本实施对此不进行限定。本示例中基板一般为显示面板制作过程中的母版。在显示面板制作过程中，首先在包括多个显示面板的母版上进行各个膜层的制作或蒸镀，在完成各膜层的制作之后需要将母版切割形成各显示面板，上述基板即为母版，可选的，上述基板一般为玻璃基板。
掩膜条12包括第一掩膜条121和第二掩膜条122，第一掩膜版条121在框架11形成的平面内，沿第一方向X延伸，并与框架11固定连接，可选的，第一掩膜条121与框架11之间通过焊接的方式连接。第一掩膜条121在框架所在平面的正投影至少覆盖框架11的第一中线L1，第一中线L1为框架11沿第一方向X上的中线,框架11的第一中线L1的两侧的区域可沿上述第一中线L1对称设置。第一掩膜条121的两侧分别设置有多条第二掩膜条122，第二掩膜条122沿第一方向X延伸，并同样与框架11固定连接，图4中在第一掩膜条121两侧仅各示出两条第二掩膜条122进行示意，实际应用中，第一掩膜条121的两侧对称设置有更多的第二掩膜条122。本实施例将第一掩膜版条121的宽度方向称为第二方向Y，同样的，第二方向Y也为第二掩膜条122的宽度方向，在沿第二方向Y上，第一掩膜条121两侧的第二掩膜条122在由所述第一掩膜条121的边缘至远离所述第一掩膜条121的方向上依次排布。如图4所示，掩膜版对称曝光且在对称的中间区域对应的基板设置有膜厚标记等用于校准的标记，所以该中间区域不需要进行蒸镀材料的材料，从而防止显示面板在后续薄膜封装时各膜层的翘起或剥离等状况，本实施例中，中间区域指的是框架11的第一中线L1以及其周围的区域，本实施例中将第一掩膜条121覆盖上述中间区域，从而避免蒸镀材料蒸镀至基板上，所以第一掩膜条121上未设置有用于透过蒸镀材料的掩膜开口，第二掩膜条122在第一掩膜条121两侧对称排布，并且第二掩膜条122设置有多个掩膜开口122a，使得蒸镀材料经由掩膜开口122a蒸镀至基板上的对应位置，可选的，第二掩膜条122包括多个掩膜开口区122b，每个掩膜开口区122b包括阵列排布的掩膜开口122a，参考图7，图7是本发明提供的一种基板的结构示意图，基板2上包括多个对应不同显示面板的基板区21，基板区21与上述掩膜开口区122b一一对应，掩膜开口区122b内的掩膜开口122a与对应基板区21上的子像素开口区一一对应，可进行发光材料的蒸镀，以形成子像素。
第一掩膜条121的张网拉力远小于图1中示出的中心遮挡条132'的张网拉力，避免框架11的变形，从而提高掩膜版的蒸镀至基板2上的蒸镀材料的位置的精准性。并且第一掩膜条121覆盖的区域不会有蒸镀材料漏蒸至基板2上。
此外，相邻的掩膜条12之间均设置有遮挡条131，上述遮挡条131沿第一方向X延伸，能够对相邻两个掩膜条12之间的间隙进行遮挡，防止蒸镀材料漏蒸至基板上，同样的，遮挡条131固定在框架11上，示例性的，遮挡条131焊接在上述框架11上。相邻的掩膜条12之间可以指相邻两个第二掩膜条122之间，也可以指相邻的第一掩膜条121和第二掩膜条122之间。
可选的，第一掩膜条121和第二掩膜条122的材料可以相同，厚度可以相同。本示例中，第一掩膜条121可以与第二掩膜条122的材料相同，则整个框架11在第一方向X上受到的拉力均匀，相对于图1中示出的中心遮挡条132'，框架11的中心区域不会因为受到张力过大，从而避免了框架11形变过大。此外，第一掩膜条121和第二掩膜条122的材料相同的同时，厚度也可以相同，以进一步使得框架11受到的拉力更加均匀，增强掩膜版的掩膜精度，防止最终形成显示面板发生混色现象。
可选的，第一掩膜条121和第二掩膜条122的材料可以为镍铁合金或镍钴合金；遮挡条131的材料可以为镍铁合金、镍钴合金和不锈钢中的至少一种。无论是镍铁合金还是镍钴合金，本实施例中第一掩膜条121和第二掩膜条122的材料为相同的材料，遮挡条131的材料可以与第一掩膜条121和第二掩膜条122相同，即为镍铁合金或镍钴合金，或者，遮挡条131的材料还可以为不锈钢材料，本实施例对遮挡条131的具体材料不进行限定。
可选的，第一掩膜条121和第二掩膜条122的材料可以为因瓦合金；遮挡条131的材料可以为不锈钢。第一掩膜条121和第二掩膜条122还可以采用因瓦合金，因瓦合金为镍铁合金中的一种，其成分可以包括36％的镍，63.8％的铁，0.2％的碳。因瓦合金在常温条件下，具有较小的热膨胀系数，使得掩膜版受温度变化影响较小，不易变形。因为遮挡条131的宽度一般为2～10mm，而第一掩膜条121或第二掩膜条122的宽度一般为30～70mm，即掩膜条12的宽度要远宽于遮挡条131，为防止遮挡条131的塌陷，可选取硬度较高的材料作为遮挡条131的材料，本实施例中选取不锈钢作为遮挡条131的材料，示例性的，选取的不锈钢的具体型号可以为SUS304。
可选的，第一掩膜条121的厚度范围可以为20μm～30μm，包括端点值；遮挡条131的厚度范围可以为40μm～60μm，包括端点值。一般情况下，框架11的尺寸范围为800～900mm，则掩膜条12以及遮挡条131的长度大约能够达到1000mm，遮挡条131的宽度较窄，为了增强遮挡条131的硬度，可选取遮挡条131的厚度范围可以为40μm～60μm，而第一掩膜条121，以及第二掩膜条122的厚度范围可以为20μm～30μm。
在一具体示例中，参考图4，本实施例的掩膜版可选取材料为SUS304，厚度为50μm的遮挡条131，并选取材料为Invar36型号的因瓦合金，厚度为25μm的第一掩膜条121和第二掩膜条122。将图1所示的掩膜版作为对比例，并且对比例选择材料为SUS304，厚度为50μm的遮挡条131’，选择材料为Invar36型号的因瓦合金，厚度为25μm的掩膜条12’，并选择材料为SUS304，厚度为50μm的中心遮挡条132’。本示例将本实施例的掩膜版与对比例中的掩膜版分别进行张网拉伸模拟仿真，如图8所示，图8是本发明实施例提供的张网后的框架的平面结构视图，框架11可以为图8所示的矩形，包括沿第一方向X相对设置的两个边缘，以及沿第二方向Y相对设置的两个边缘。对比例中的掩膜版的模拟结果如表1和表2所示，表1是对比例中掩膜版的中心遮挡条的模拟拉伸仿真数据表，表2是对比例中掩膜版的框架的模拟拉伸仿真数据表。本实施例中的掩膜版的模拟结果如表3和表4所示，表3是本实施例中掩膜版的第一掩膜条和遮挡条的模拟拉伸仿真数据表，表4是本实施例中掩膜版的框架的模拟拉伸仿真数据表。
参考表1和图1，已知中心遮挡条132’沿第一方向X延伸，表1中的宽度即为中心遮挡条132’沿第二方向Y上的宽度，伸缩率X为中心遮挡条132’张网拉伸后，沿第一方向X的尺寸相对变化。△Y指的是中心遮挡条132’在宽度方向上的形变量。张力为沿第一方向X上，中心遮挡条132’对框架的拉力大小，对比例中包括两条中心遮挡条132’，每条中心遮挡条132’对框架的拉力为80N。参考表2，因瓦合金的框架沿第一方向X的形变量△X为23.8μm，即框架沿第二方向Y延伸的边缘的形变量△X为23.8μm，框架沿第二方向Y的形变量△Y为9.7μm，即框架沿第二方向Y延伸的边缘的形变量△Y为23.8μm。
表1：对比例中掩膜版的中心遮挡条的模拟拉伸仿真数据表
表2：对比例中掩膜版的框架的模拟拉伸仿真数据表
| 材质 | 长边△X(μm) | 长边△Y(μm) | |
| 框架 | 因瓦合金 | 23.8 | 9.7 |
参考表3和图4，本实施例由一条第一掩膜条121代替对比例中的两条中心遮挡条，第一掩膜条121沿第一方向X延伸，表3中的宽度即为第一掩膜条121或遮挡条131沿第二方向Y上的宽度，且本示例中可选取第一掩膜条121的宽度为54.55mm，遮挡条131的宽度为3.2mm，伸缩率X为第一掩膜条121和遮挡条131张网拉伸后，沿第一方向X的尺寸相对变化。第一掩膜条121的厚度为25μm，遮挡条131的厚度为50μm，第一掩膜条121对框架的拉力大小为23N，远小于80N，参考表4，因瓦合金的框架沿第一方向X的形变量△X为23.8μm，即框架沿第二方向Y延伸的边缘的形变量△X为13.2μm，框架沿第二方向Y的形变量△Y为7.9μm，即框架沿第一方向X延伸的边缘的形变量△Y为7.9μm。
将对比例与本实施例的掩膜版相比较，第一掩膜条在第一方向X上对框架施加的拉力仅有23N，而对比例中两条中心遮挡条在第一方向X上对框架施加的拉力为160N，本实施例对框架的拉力降低较多，并且本实施例中的框架在第一方向X上的形变量仅为13.2μm，比对比例中的框架在第一方向X上的形变量减小了10.6μm。并且本实施例中，框架在第一方向X上的形变量相比于对比例减小了1.8μm。由上述可知，本实施例中的掩膜版能够较大程度减少框架以及第二掩膜条上的掩膜开口的位移和变形，增大掩膜精度。
表3：本实施例中掩膜版的第一掩膜条和遮挡条的模拟拉伸仿真数据表
表4：本实施例中掩膜版的框架的模拟拉伸仿真数据表
| 材质 | 长边△X(μm) | 长边△Y(μm) | |
| 框架 | 因瓦合金 | 13.2 | 7.9 |
可选的，可选的，继续参考图6，遮挡条131可以设置于框架11与第一掩膜条121之间。本实施例中的遮挡条131可以设置于框架11和第一掩膜条121之间，并且使得遮挡条131的宽度可稍宽于第一掩膜条121和第二掩膜条122之间的间隙，以及相邻两个第二掩膜条122之间的间隙，以进一步防止蒸镀材料透过上述间隙漏蒸至基板上。可选的，框架11上可设置有与遮挡条131一一对应的凹槽111，遮挡条131焊接于对应凹槽111内，在增强焊接稳固性的同时，降低整体掩膜版的厚度，从而增强掩膜精准度。此外，本实施例在形成第一掩膜条121之后，还需要在第一掩膜条121两侧对称设置第二掩膜条122，则遮挡条131还设置于框架11与第二掩膜条122之间，也即，遮挡条131设置于框架11与掩膜条12之间。
可选的，参考图9，图9是本发明实施例提供的另一种掩膜版的结构示意图，图10是图9中掩膜版沿线段a2-a2’的剖面示意图，掩膜版还可以包括：多条支撑条15；支撑条15可以沿第二方向Y延伸，并固定在框架11上，用于支撑第一掩膜条121和第二掩膜条122。本实施例中，支撑条15沿第二方向Y延伸，用于对各掩膜条12进行支撑，防止各掩膜条12发生塌陷。如图9和图10所示，支撑条15可以设置于遮挡条131与掩膜条12之间，以对掩膜条12进行支撑，并且支撑条15设置于相邻两个掩膜开口区122b之间的区域，防止支撑条15对掩膜开口122a进行遮挡。同理，框架11上设置有与支撑条15一一对应的凹槽(图10中未示出)，用于放置并焊接对应的支撑条15，以进一步减小掩膜版的整体厚度，增强掩膜精度。此外，上述支撑条15还可以设置于框架11与遮挡条131之间，本实施例对此不进行限定。可选的，支撑条15的材料可以为不锈钢。
此外，为了进一步减小掩膜版的整体厚度，可在框架上设置于掩膜条一一对应的凹槽，上述凹槽用于放置并固定对应的掩膜条。
基于同一构思，本发明实施例还提供一种掩膜版的制作方法。图11是本发明实施例提供的一种掩膜版的制作方法的流程示意图，如图11所示，本实施例的方法包括如下步骤：
步骤S110、提供框架。
步骤S120、将多条遮挡条沿第二方向依次焊接至框架上；其中，遮挡条沿第一方向延伸。
步骤S130、将第一掩膜条焊接至框架上；第一掩膜条沿第一方向延伸，第二方向为第一掩膜条的宽度方向；第一掩膜条在框架所在平面上的正投影至少覆盖框架的第一中线；第一中线为框架沿第一方向上的中线。
步骤S140、沿第二方向上，在第一掩膜条的两侧依次拼接设置多个第二掩膜条；第二掩膜条沿第一方向延伸，第二掩膜条上设置有多个掩膜开口；其中，相邻两个第二掩膜条之间的间隙处，以及相邻第一掩膜条和第二掩膜条之间的间隙处均设置有一条遮挡条。
掩膜版的设置顺序为框架、遮挡条、第一掩膜条和第二掩膜条，遮挡条用于遮挡相邻两个第二掩膜条之间的间隙，或者相邻第一掩膜条和第二掩膜条之间的间隙，本示例首先在框架上固定遮挡条，并在遮挡条远离框架的一侧设置掩膜条，并且在设置掩膜条时，首先将第一掩膜条设置于框架的中心区域，并在第一掩膜条的两侧对称设置有第二掩膜条。
本发明实施例中，掩膜版包括框架以及固定在框架上的第一掩膜条和第二掩膜条，上述掩膜条均沿第一方向延伸，其中，第一掩膜条在框架所在平面上的正投影覆盖框架的第一中线，即第一掩膜条覆盖框架沿第一方向上的中线，从而防止基板对应第一中线处的标记设置区域被蒸镀上蒸镀材料。并且在第一掩膜条的宽度方向上的两侧，分别依次排列有多个第二掩膜条，第二掩膜条上设置有掩膜开口，用于实现面板材料的蒸镀，并且相邻两个第二掩膜条之间的间隙处，以及相邻的第一掩膜条和第二掩膜条之间的间隙处，均设置有遮挡条，用于避免蒸镀材料通过掩膜条之间的缝隙漏蒸至基板。上述第一掩膜条代替了中心遮挡条设置于第一中线所在区，避免了中心遮挡条张网拉力过大导致掩膜版的框架形变较大的问题，降低蒸镀过程中框架的形变量，也不会将蒸镀材料漏蒸至显示面板的标记设置区，从而提高掩膜版的掩膜精度，防止最终形成的显示面板发生混色现象，提高产品良率。
可选的，掩膜版还包括多条支撑条；本实施例还提供了一种掩膜版的制作方法，具体的，图12是本发明实施例提供的另一种掩膜版的制作方法的流程示意图，如图12所示，本实施例的方法包括如下步骤：
步骤S210、提供框架。
步骤S220、将多条遮挡条沿第二方向依次焊接至框架上；其中，遮挡条沿第一方向延伸。
步骤S230、将多条支撑条沿第一方向依次焊接至框架上；支撑条沿第二方向延伸。
步骤S240、将第一掩膜条焊接至框架上；第一掩膜条沿第一方向延伸，第二方向为第一掩膜条的宽度方向；第一掩膜条在框架所在平面上的正投影至少覆盖框架的第一中线；第一中线为框架沿第一方向上的中线。
步骤S250、沿第二方向上，在第一掩膜条的两侧依次拼接设置多个第二掩膜条；第二掩膜条沿第一方向延伸，第二掩膜条上设置有多个掩膜开口；其中，相邻两个第二掩膜条之间的间隙处，以及相邻第一掩膜条和第二掩膜条之间的间隙处均设置有一条遮挡条。
本实施例的掩膜版还设置有支撑条，用于对各掩膜条进行支撑，防止掩膜条的塌陷，从而进一步提高掩膜版的掩膜精度。
本发明实施例还提供一种显示面板。图13是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图，如图13所示，本发明实施例提供的显示面板3包括：有机发光层31，有机发光层31由本发明任意实施例所述的掩膜版采用蒸镀工艺形成。在上述显示面板3中，有机发光层31形成的有机发光材料的蒸镀位置精确，与显示面板3的像素开口32一一对应，有机发光材料被精确地蒸镀于对应像素开口22中，有效防止混色现象的发生，提高面板的产品良率。本实施例中，上述显示面板可以应用于手机，也可以应用于电脑、电视机、智能穿戴设备等，本实施例对此不作特殊限定。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (10)
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：框架；
第一掩膜条，所述第一掩膜条沿第一方向延伸，并固定在所述框架上；所述第一掩膜条在所述框架所在平面上的正投影至少覆盖所述框架的第一中线；所述第一中线为所述框架沿所述第一方向上的中线；
多条第二掩膜条，所述第二掩膜条沿所述第一方向延伸，并固定在所述框架上；所述第二掩膜条上设置有多个掩膜开口；沿第二方向上，所述第一掩膜条的两侧均依次排列有多个所述第二掩膜条；所述第二方向为所述第一掩膜条的宽度方向；
多条遮挡条；所述遮挡条沿所述第一方向延伸，并固定在所述框架上；相邻两个第二掩膜条之间的间隙处，以及相邻第一掩膜条和第二掩膜条之间的间隙处均设置有一条所述遮挡条。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的材料相同，厚度相同。
3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的材料为镍铁合金或镍钴合金；
所述遮挡条的材料为镍铁合金、镍钴合金和不锈钢中的至少一种。
4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的材料为因瓦合金；所述遮挡条的材料为不锈钢。
5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一掩膜条的厚度范围为20μm～30μm，包括端点值；
所述遮挡条的厚度范围为40μm～60μm，包括端点值。
6.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述遮挡条设置于所述框架与所述第一掩膜条之间。
7.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，还包括：多条支撑条；所述支撑条沿所述第二方向延伸，并固定在所述框架上，用于支撑所述第一掩膜条和所述第二掩膜条。
8.一种掩膜版的制作方法，其特征在于，包括：
提供框架；
将多条遮挡条沿第二方向依次焊接至所述框架上；其中，所述遮挡条沿第一方向延伸；
将第一掩膜条焊接至所述框架上；所述第一掩膜条沿所述第一方向延伸，所述第二方向为所述第一掩膜条的宽度方向；所述第一掩膜条在所述框架所在平面上的正投影至少覆盖所述框架的第一中线；所述第一中线为所述框架沿所述第一方向上的中线；
沿第二方向上，在所述第一掩膜条的两侧依次拼接设置多个第二掩膜条；所述第二掩膜条沿所述第一方向延伸，所述第二掩膜条上设置有多个掩膜开口；其中，相邻两个第二掩膜条之间的间隙处，以及相邻第一掩膜条和第二掩膜条之间的间隙处均设置有一条所述遮挡条。
9.根据权利要求8所述的掩膜版的制作方法，其特征在于，所述掩膜版还包括多条支撑条；
在将第一掩膜条焊接至所述框架上之前，还包括：
将多条所述支撑条沿第一方向依次焊接至所述框架上；所述支撑条沿所述第二方向延伸。
10.一种显示面板，其特征在于，包括：有机发光层；所述有机发光层由上述权利要求1-7任一项所述的掩膜版采用蒸镀工艺形成。
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