CN110832358A - 塑料光学制品以及塑料眼镜片和眼镜 - Google Patents

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Abstract

[课题]本发明提供具有防反射特性等所期望的特性、密合性和抗外部应力性优异的塑料光学制品等。[解决手段]一种塑料光学制品，其在塑料基材的单面或双面具备直接或隔着中间膜形成的光学多层膜，上述光学多层膜包含具有拉伸应力作为内部应力的高折射率材料制的拉伸应力高折射率层、以及低折射率材料制的低折射率层，上述拉伸应力高折射率层以物理膜厚为10nm以下的状态配置在上述光学多层膜中从上述基材侧数起的第1层。

Description

塑料光学制品以及塑料眼镜片和眼镜
技术领域
本发明涉及以塑料眼镜片(包括太阳镜镜片)为代表的塑料光学制品以及使用了该塑料眼镜片的眼镜(包括太阳镜)。
背景技术
作为在反射特性和耐热性方面均具有良好性能的塑料镜片，已知国际公开第2010/016462号(专利文献1)中记载的实施例2、3。
该镜片在塑料基材上具备热固化性的有机硅系硬涂层和防反射膜。该防反射膜是低折射率层和高折射率层交替层积而成的总共4层的结构，最靠近塑料基材的第1层是物理膜厚为11nm(纳米)的作为高折射率层的二氧化锆层，第2、4层是作为低折射率层的二氧化硅，防反射膜的总膜厚小于200nm(实施例2：174nm；实施例3：170nm)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2010/016462号
发明内容
发明所要解决的课题
在上述镜片中，由于防反射膜的第1层的物理膜厚为11nm，因此防反射膜可能会变脆。
即，二氧化锆层呈现出拉伸应力作为内部应力，二氧化硅层以及塑料基材和有机硅系硬涂层呈现出压应力作为内部应力，因此多数情况下，与上述镜片不同，将与硬涂层相邻的防反射膜的第1层设定为呈现出与塑料基材相同的压应力的二氧化硅层。另一方面，与二氧化硅层相比，二氧化锆层对硬涂层的密合性更好。因此，在重视密合性而将防反射膜的第1层设定为11nm的物理膜厚的二氧化锆层时，其拉伸应力和硬涂层的压应力这样相互相反的作用被保持在防反射膜和硬涂膜的内部。于是，例如，在将塑料眼镜片和粘附于其上的夹具(镜片锁帽)用镜片加工轴夹持来实施为了装入眼镜框中而对塑料眼镜片的外形进行切削的镜片形状加工时，塑料眼镜片的防反射膜会从被镜片加工轴和夹具夹持的部分发生破裂等，带防反射膜的镜片对外部应力的耐性可能会变弱。
因此，本发明的主要目的在于提供具有防反射特性等所期望的特性、密合性和抗外部应力性优异的塑料光学制品、塑料眼镜片、眼镜。
用于解决课题的手段
为了实现上述目的，第1方面的发明涉及一种塑料光学制品，其特征在于，在塑料制的基材的单面或双面具备直接或隔着中间膜配置的光学多层膜，上述光学多层膜包含具有拉伸应力作为内部应力的高折射率材料制的拉伸应力高折射率层、以及低折射率材料制的低折射率层，上述拉伸应力高折射率层以物理膜厚为10nm以下的状态配置在上述光学多层膜中从上述基材侧数起的第1层。
第2方面的发明涉及上述发明，其特征在于，上述光学多层膜中，高折射率材料制的高折射率层以及上述低折射率层交替配置。
第3方面的发明涉及上述发明，其特征在于，上述拉伸应力高折射率层为ZrO2层。
第4方面的发明涉及上述发明，其特征在于，上述光学多层膜的总物理膜厚为200nm以上。
第5方面的发明涉及上述发明，其特征在于，上述中间膜为硬涂膜。
第6方面的发明涉及一种塑料眼镜片，其特征在于，其使用了上述的塑料光学制品。
第7方面的发明涉及一种眼镜，其特征在于，其使用了上述的塑料眼镜片。
发明的效果
本发明的主要效果在于提供具有防反射特性等所期望的特性、密合性和抗外部应力性优异的塑料光学制品等。
附图说明
图1是示出实施例1、比较例1的反射率分布的图。
图2是示出实施例2、比较例2～3的反射率分布的图。
图3是示出实施例3、比较例5的反射率分布的图。
图4是示出实施例4、比较例6的反射率分布的图。
具体实施方式
下面对本发明的实施方式的示例进行说明。
本发明并不限于以下的方式。
本发明的塑料光学制品中，在基材的单面或两面形成有光学多层膜。
本发明中，基材只要是塑料即可，可以为任何材质，优选具有透光性。作为基材的材料，优选使用热固化性树脂，例如使用聚氨酯树脂、硫代氨基甲酸酯树脂、氨基甲酸酯-脲树脂、环硫树脂、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、丙烯酸树脂、聚醚砜树脂、聚4-甲基-1-戊烯树脂、二乙二醇双烯丙基碳酸酯树脂、或者它们的组合。另外，作为折射率高的(特别是用作眼镜片)优选的树脂，可以举出将环硫基与多硫醇和/或含硫多元醇加成聚合而得到的环硫树脂、或者该环硫树脂与其他树脂的组合。
赋予光学多层膜是为了得到防反射特性、反射增强特性等所期望的特性。通过通过高折射率层、低折射率层的层数、材质的选择、各层的厚度(层的物理膜厚或光学膜厚)的增减等设计要素的变更来变更光学多层膜的设计。光学多层膜优选为使用了电介质材料的无机多层膜，并优选具有下述特征。需要说明的是，在光学多层膜形成于双面的情况下，优选任一光学多层膜均具有下述特征，进一步优选任一光学多层膜均形成为相同的层积结构。
即，在光学多层膜中，优选的是，低折射率层与高折射率层交替层积，在将最靠基材侧的层(离基材最近的层)作为第1层时，将第1层设定为具有拉伸应力作为内部应力的高折射率层、即拉伸应力高折射率层，并且将物理膜厚设定为10nm以下。
这样的第1层的高折射率层由氧化锆(ZrO2)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铌(Nb2O5)、氧化铪(HfO2)、或者它们中的两种以上的混合物等高折射率材料形成，优选由ZrO2形成。目前代表性的高折射率材料中，除了氧化硒(CeO2)以外，均具有拉伸应力。
另外，第奇数层为高折射率层，由与第1层同样的高折射率材料形成(拉伸应力高折射率层)，或者由CeO2等呈现出压应力的高折射率材料(压应力高折射率层)形成，或者由它们的混合物形成(混合高折射率层)。
此外，第偶数层为低折射率层，由氧化硅(SiO2)、氧化铝(Al2O3)、氟化钙(CaF2)、氟化镁(MgF2)、或者它们中的两种以上的混合物等低折射率材料形成。目前代表性的低折射率材料中，除了氟化镁(MgF2)以外，均具有压应力。
或者，可以将CeO2等呈现出压应力的高折射率材料配置在与第1层相邻的第2层。此时，在第3层可以配置高折射率材料、也可以配置低折射率材料，后者的情况下，第3层以后的第奇数层为低折射率层、第偶数层为高折射率层。同样地，在第1层以外的高折射率层的相邻层可以配置其他材质的高折射率层，在第1层以外的低折射率层的相邻层可以配置其他材质的低折射率层。
光学多层膜的低折射率层、高折射率层利用真空蒸镀法、离子辅助淀积法、离子镀法、溅射法等形成。
另外，从膜设计的容易性、成膜成本的方面出发，高折射率材料和低折射率材料优选分别使用2种以下，更优选高折射率材料和低折射率材料分别使用1种。
本发明中，在光学多层膜与基材之间、以及光学多层膜的表面中的至少一处可以附加硬涂膜(HC膜)、防污膜(防水膜、防油膜)等其他种类的膜，在光学多层膜形成于双面的情况下，所附加的膜的种类可以相互改变，膜的有无也可以相互改变。
在配置HC膜作为附加在光学多层膜与基材之间的膜(中间膜)的情况下，HC膜优选通过在基材的表面均匀地施用硬涂液而形成。
另外，HC膜优选使用包含无机氧化物微粒的有机硅氧烷系树脂来形成(有机硅系HC膜的一例)。有机硅氧烷系树脂优选通过使烷氧基硅烷水解、缩合而得到。另外，作为有机硅氧烷系树脂的具体例，可以举出γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、硅酸乙酯、或者它们的组合。这些烷氧基硅烷的水解缩合物通过将该烷氧基硅烷化合物或者它们的组合利用盐酸等酸性水溶液水解而制造。
另一方面，作为无机氧化物微粒的材质的具体例，可以举出氧化锌、二氧化硅(二氧化硅微粒)、氧化铝、氧化钛(氧化钛微粒)、氧化锆(氧化锆微粒)、氧化锡、氧化铍、氧化锑、氧化钨、氧化铈的单独的各溶胶或者将任意两种以上混晶化而成的材质。从确保HC膜的透明性的方面出发，无机氧化物微粒的直径优选为1nm以上100nm以下、更优选为1nm以上50nm以下。另外，从以适当的程度确保HC膜的硬度、强韧性的方面出发，无机氧化物微粒的混配量(浓度)优选占HC膜的全部成分中的40重量％以上60重量％以下。此外，在硬涂液中可以附加乙酰丙酮金属盐以及乙二胺四乙酸金属盐中的至少一者等作为固化催化剂，进而，可以根据确保对基材的密合性、形成的容易性、赋予所期望的(半)透明色等需要添加表面活性剂、着色剂、溶剂等。
另外，HC膜可以使用丙烯酸系树脂来形成(丙烯酸系HC膜)。这种情况下，优选使用通过照射紫外线(UV)而发生固化的UV固化性丙烯酸树脂，通过照射UV来形成。
HC膜的物理膜厚优选设定为0.5μm(微米)以上4.0μm以下。该膜厚范围的下限是基于比此更薄时难以得到充分的硬度而确定的。另一方面，上限是基于比此更厚时裂纹或脆性产生等物性相关的问题的发生可能性显著提高而确定的。
此外，从提高HC膜的密合性的方面出发，可以在HC膜与基材表面之间附加底涂膜。作为底涂膜的材质，可以举出例如聚氨酯系树脂、丙烯酸系树脂、甲基丙烯酸树脂、有机硅系树脂、或者它们的组合。底涂膜优选通过在基材的表面均匀地施用底涂液而形成。底涂液是将上述树脂材料和无机氧化物微粒混合在水或醇系溶剂中而成的液体。
这样的塑料基材和HC膜具有压应力作为内部应力，在与它们中的任一者接触的光学多层膜的第1层为具有拉伸应力的高折射率层时，尽管对基材或HC膜的密合性比第1层为具有压应力的低折射率层的情况提高，但保持有压应力和拉伸应力这样相反的内部应力，由于膜构成而使对外部应力的耐性减弱。
本发明的光学多层膜中，由于作为具有拉伸应力的高折射率层的第1层的物理膜厚为10nm以下，因此所保持的拉伸应力的每单位面积的大小为规定程度以下，即使与具有压应力的基材或HC膜相接，相反的内部应力的程度也被抑制得较小。并且，即使第1层的物理膜厚为10nm以下，作为具有拉伸应力的高折射率层的第1层与基材或HC膜相接的情况也没有变化，因此可维持光学多层膜与基材或HC膜的密合性。
光学多层膜中，从下述方面出发，优选各层的物理膜厚合计得到的总物理膜厚为200nm以上。即，总物理膜厚为这种程度的厚度时，难以确保因各层的内部应力所致的光学多层膜的内部应力的平衡，在这种状态下难以确保光学多层膜的密合性，但通过配置上述的第1层的高折射率层，即使为像这样厚的光学多层膜，也可确保密合性。
若光学多层膜的密合性得以确保，则带有该光学多层膜的塑料光学制品对外部应力的抗性提高，可防止由于在塑料光学制品的加工时等所施加的压力或应力的作用而使光学多层膜等产生裂纹(龟裂)的情况。
另外，优选的是，基材为塑料眼镜片基材，塑料光学制品为塑料眼镜片。
塑料光学制品为塑料眼镜片时，在对其进行镜片形状加工时，可防止光学多层膜等产生裂纹(龟裂)的情况。
另外，可以使用该塑料眼镜片来制作眼镜。
[实施例]
接着，适当地使用附图对本发明的实施例1～4以及不属于本发明的比较例1～6进行说明。
需要说明的是，本发明并不限于以下的实施例。另外，根据本发明的理解方式，可能存在下述实施例实质上成为比较例、或者下述比较例实质上成为实施例的情况。
《基材与中间膜等》
这些实施例或比较例均为塑料眼镜片，它们的基材均为热固化性树脂制、作为眼镜用塑料镜片的标准尺寸的圆形且度数为S-0.00的球面镜片基材，更详细地说，为下述2种中的任一种。
即，第1基材为硫代氨基甲酸酯树脂制，折射率为1.60，阿贝值为41(硫代氨基甲酸酯基材)。第1基材被用于实施例1～3、比较例1～5。
另外，第2基材为丙烯酸系树脂制，折射率为1.49，阿贝值为58(丙烯酸系基材)。第2基材被用于实施例4、比较例6。
另外，在这些实施例或比较例中，作为中间膜，在双面赋予了通过硬涂液的涂布形成的HC膜。
与塑料眼镜片基材相接的HC膜更详细地说为下述2种中的任一种。
即，第1HC膜为有机硅系热固化性硬涂膜，物理膜厚均为2.5μm(有机硅系HC膜)。有机硅系HC膜的折射率为1.60，被用于实施例1～2、比较例1～3。
另外，第2HC膜为丙烯酸系UV固化性硬涂膜，物理膜厚均为2.0μm(丙烯酸系HC膜)。丙烯酸系HC膜被用于实施例3～4、比较例4～6。
《光学多层膜等》
进而，在这些实施例或比较例(除比较例4以外)中，在基材的双面的中间膜上，以相同的构成形成光学多层膜。
光学多层膜的高折射率层为ZrO2层、低折射率层为SiO2层(无机多层膜)，实施例1～4至比较例1～6(除比较例4以外)的各例中，各层的物理膜厚和光学膜厚如下述[表1]～[表4]中的“层构成”栏中所示。更详细地说，实施例1和比较例1的物理膜厚等示于[表1]的上部，实施例2以及比较例2和比较例3的物理膜厚等示于[表2]的上部，实施例3以及比较例4和比较例5的物理膜厚等示于[表3]的上部，实施例4和比较例6的物理膜厚等示于[表4]的上部。
需要说明的是，ZrO2层的折射率在波长500nm下为2.034，SiO2层的折射率在波长500nm下为1.469。另外，光学膜厚为设计波长λ＝500nm下的膜厚。
Figure BDA0002348922840000081
Figure BDA0002348922840000091
Figure BDA0002348922840000101
即，实施例1、比较例1中，按照光学多层膜为可见区域(此处为400nm以上780nm以下)及其相邻区域(此处为380nm以上且小于400nm)内的波长450nm附近的区域的反射率(极大值6.8％附近)比其他区域更大的防反射膜的方式进行设计，实施例1的光学多层膜总共为6层，比较例1的光学多层膜总共为5层。图1中示出了它们在上述波长区域中的反射率分布。
实施例1中的与最靠近基材的HC膜相邻的第1层是物理膜厚为9.20nm的ZrO2层，总物理膜厚为469.72nm。
比较例1中的第1层是物理膜厚为167.05nm的SiO2层，总物理膜厚为404.12nm。
另外，实施例2、比较例2～3中，按照光学多层膜为上述波长区域内的波长480nm附近的区域的反射率(极大值30％附近)比其他区域更大的防反射膜的方式进行设计，实施例2的光学多层膜总共为10层，比较例2的光学多层膜总共为9层，比较例3的光学多层膜总共为10层。图2中示出了它们在上述波长区域中的反射率分布。
实施例2中的第1层是物理膜厚为8.50nm的ZrO2层，总物理膜厚为804.41nm。
比较例2中的第1层是物理膜厚为20.00nm的SiO2层，总物理膜厚为789.53nm。
比较例3中的第1层是物理膜厚为15.00nm的ZrO2层，总物理膜厚为864.55nm。
此外，实施例3、比较例5中，按照在硫代氨基甲酸酯基材上形成有丙烯酸系HC膜的情况下，光学多层膜在可见区域内呈现出防反射特性的方式进行设计，实施例3的光学多层膜总共为6层，比较例5的光学多层膜总共为5层。图3中示出了它们在上述波长区域中的反射率分布。由于硫代氨基甲酸酯基材与丙烯酸系HC膜的折射率不同，因而反射率分布产生了波动(波)。
实施例3中的第1层是物理膜厚为6.50nm的ZrO2层，总物理膜厚为238.47nm。
比较例5中的第1层是物理膜厚为25.00nm的SiO2层，总物理膜厚为233.90nm。
需要说明的是，比较例4是在硫代氨基甲酸酯基材上形成有丙烯酸系HC膜的示例，等同于实施例3或者比较例5中省略了光学多层膜的示例。
此外，实施例4、比较例6中，按照下述方式进行设计：在丙烯酸系基材上形成有丙烯酸系HC膜的情况下，光学多层膜在可见区域内呈现出防反射特性，并且在近红外区域(此处为大于780nm的波长区域)呈现出近红外线反射特性(在波长1040nm附近反射率分布的极大值为35％左右)，实施例4的光学多层膜总共为8层，比较例6的光学多层膜总共为7层。图4中示出了它们在可见区域和红外区域中1500nm以下的区域合并而成的波长区域中的反射率分布。
实施例4中的第1层是物理膜厚为7.50nm的ZrO2层，总物理膜厚为561.66nm。
比较例6中的第1层是物理膜厚为40.00nm的SiO2层，总物理膜厚为559.75nm。
《耐候密合试验和抗外部应力性试验等》
为了对上述实施例、比较例中的光学多层膜(比较例4中为HC膜)的密合性进行评价，进行了耐候密合试验。
耐候密合试验在促进的状态下如下进行。
首先，在镜片的各面，利用切割器以1格为1边尺寸10mm(毫米)的正方形的状态形成100格的方格。
接着，对方格形成部位反复进行5次玻璃纸胶带的粘附和强力的剥离，确认未发生剥离的格数(初期确认)。将半格的剥离计数为0.5格。
接着，将镜片投入到日光耐候试验机(SUGA TEST INSTRUMENTS株式会社制造的S80B)中60小时(hr.)，之后与投入前同样地对新形成的方格形成部位应用玻璃纸胶带，计数未发生剥离的格数(60hr.确认)。
进而，之后同样地将镜片投入到日光耐候试验机中60小时，确认未剥离的方格数(120hr.确认)，从最初投入起每60小时反复进行这样的投入和确认，直至240小时投入后的确认为止(180hr.确认、240hr.确认)。
这样的试验的结果示于上述[表1]～[表4]中的“耐候密合”一栏中。
另外，为了评价上述的实施例和比较例中的光学多层膜对外部应力的耐久性，除了未形成光学多层膜的比较例4以外，进行了抗外部应力性试验。
抗外部应力性试验中，作为镜片形状加工，如下进行。
即，将镜片设置于镜片形状加工机(磨边机)中，进行镜片形状加工。
更详细地说，磨边机具有可移动且可绕自身的轴旋转的磨石、以及一对镜片加工轴，在单面(凸面)用双面胶带粘附有夹具(镜片锁帽)的镜片在镜片加工轴上以被夹具定位的状态夹持设置，适当旋转的磨石通过移动而应用于所设置的镜片的外周部，圆形的镜片被加工成可装入眼镜框内的大致椭圆形的镜片形状。
在这样的镜片形状加工中，对镜片中与镜片加工轴或夹具接触的部位或其相邻部位施加的外部应力最大。在抗外部应力性试验中，确认在镜片形状加工时否防止了裂纹(龟裂)的产生。
这样的试验的结果示于上述[表1]～[表4]中的“镜片形状加工裂纹防止”一栏中。
镜片形状加工中，在防止了裂纹的产生的情况下，将“○”表示在该栏中；在产生了裂纹的情况下，将“×”表示在该栏中。
实施例1和比较例1均具有对波长450nm附近进行反射的特性，另外，尽管可防止镜片形状加工时的裂纹产生、具有抗外部应力性，但耐候密合试验的结果产生了差异。
即，比较例1中，尽管在初期未发生剥离(100格未剥离)，但在60hr.有半格剥离(99.5格未剥离)、在120hr.有1格剥离(99格未剥离)、在180hr.以后有5格剥离(95格未剥离)。
与之相对，实施例1中，直至240hr.为止未发生剥离。
这样的差异是由于下述原因：比较例1中，光学多层膜的第1层为SiO2层，尽管其与HC膜同样地具有压应力并在镜片形状加工时具有防止裂纹的作用，但其与HC膜的密合性比较差；与之相对，实施例1中，光学多层膜的第1层为ZrO2层，与HC膜的密合性比较优异。
此外，实施例1中，光学多层膜的第1层的物理膜厚被抑制为10nm以下(9.20nm)，因此第1层的压应力受到抑制，由此在镜片形状加工时具有防止裂纹的作用，具有抗外部应力性。
实施例2和比较例2、3尽管均具有对波长480nm附近进行反射的特性，但耐候密合试验的结果和抗外部应力性试验的结果产生了差异。
即，比较例2中，尽管在抗外部应力性试验中在镜片形状加工时未产生裂纹，但在耐候密合试验中在60hr.有半格发生剥离，在120hr.以后有2格发生剥离。
另外，比较例3中，尽管在耐候密合试验中未发生剥离，但在抗外部应力性试验中产生了裂纹。
与之相对，实施例2中，在耐候密合试验中直至240hr.为止未发生剥离，在抗外部应力性试验中防止了裂纹的产生。
认为这样的差异是由于下述原因。即，比较例2中，光学多层膜的第1层为SiO2层，尽管与HC膜同样地具有压应力并在镜片形状加工时具有防止裂纹的作用，但与HC膜的密合性比较差。另外，比较例3中，光学多层膜的第1层为ZrO2层，尽管与HC膜的密合性比较优异，但第1层的物理膜厚大于10nm(15.00nm)，第1层的拉伸应力变得比较大，与HC膜的压应力发生较大的相反作用，在像镜片形状加工时这样施加较大的外部应力时发生破裂。与之相对，实施例2中，光学多层膜的第1层为ZrO2层，与HC膜的密合性比较优异，进而将物理膜厚抑制为10nm以下(8.50nm)，压应力受到抑制，具备抗外部应力性，在镜片形状加工时具有防止裂纹的作用。
实施例3和比较例4、5均在硫代氨基甲酸酯基材上形成了丙烯酸系HC膜，实施例3和比较例5进一步在HC膜上形成了相互具有同样的反射率分布的光学多层膜。
比较例4的耐候密合试验的结果中，HC膜在120hr.有半数剥离脱落，显示出丙烯酸系HC膜对硫代氨基甲酸酯基材的密合性比较差，不实施之后的耐候密合试验、以及抗外部应力性试验。
比较例5中，尽管在抗外部应力性试验中未产生裂纹，但耐候密合试验的结果为240hr.剥离80格等，显示出光学多层膜对HC膜的密合性比较差。
与之相对，实施例3中，在耐候密合试验中在240hr.有12格发生剥离，在抗外部应力性试验中防止了裂纹的产生。
实施例3中，光学多层膜的第1层为ZrO2层，与比较例5(光学多层膜的第1层为SiO2层、耐候密合试验结果为在240hr.有80格发生剥离)相比，对丙烯酸系HC膜的密合性显著变得良好。
并且，即使HC膜与基材的密合性如比较例4所示比较差，通过进一步形成实施例3的光学多层膜，也可改善作为塑料镜片整体的耐候密合性。另外，实施例3中，光学多层膜的第1层的物理膜厚为10nm以下(6.50nm)，因此在镜片形状加工时防止了裂纹的产生，抗外部应力性也良好。
实施例4和比较例6均在丙烯酸系基材上形成了丙烯酸系HC膜和光学多层膜，在可见区域具有防反射特性、并且在近红外区域具有反射特性。
比较例6中，光学多层膜的第1层为SiO2层，尽管在抗外部应力性试验中抑制了裂纹的产生，但在耐候密合试验中产生了最多为95格(180hr.)的剥离。
与之相对，实施例4中，光学多层膜的第1层为ZrO2层，在耐候密合试验中剥离最大为4格(180hr.)，得到了大幅改善。另外，第1层的物理膜厚为10nm以下(7.50nm)，因此在镜片形状加工时防止了裂纹的产生，抗外部应力性也良好。
需要说明的是，实施例3、4的耐候密合试验的结果尽管比实施例1、2的结果稍差，但实施例1、2中为硫代氨基甲酸酯基材和有机硅系HC膜，材料和形成的成本比较高，实施例3(硫代氨基甲酸酯基材和丙烯酸系HC膜)和实施例4(丙烯酸系基材和丙烯酸系HC膜)在成本方面有优势。
如上所述，若如实施例1～4这样光学多层膜中的基材侧的第1层是物理膜厚为10nm以下的具有拉伸应力的高折射率层，则可实现所期望的特性，并且可兼顾密合性和抗外部应力性。

Claims (7)

1.一种塑料光学制品，其特征在于，
在塑料制的基材的单面或双面具备直接或隔着中间膜配置的光学多层膜，
所述光学多层膜包含具有拉伸应力作为内部应力的高折射率材料制的拉伸应力高折射率层、以及低折射率材料制的低折射率层，
所述拉伸应力高折射率层以物理膜厚为10nm以下的状态配置在所述光学多层膜中从所述基材侧数起的第1层。
2.如权利要求1所述的塑料光学制品，其特征在于，所述光学多层膜中，高折射率材料制的高折射率层以及所述低折射率层交替配置。
3.如权利要求1或权利要求2所述的塑料光学制品，其特征在于，所述拉伸应力高折射率层为ZrO2层。
4.如权利要求1至3中任一项所述的塑料光学制品，其特征在于，所述光学多层膜的总物理膜厚为200nm以上。
5.如权利要求1至4中任一项所述的塑料光学制品，其特征在于，所述中间膜为硬涂膜。
6.一种塑料眼镜片，其特征在于，其使用了权利要求1至5中任一项所述的塑料光学制品。
7.一种眼镜，其特征在于，其使用了权利要求6所述的塑料眼镜片。
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