CN110824787B - 照相机模块用光学快门及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种照相机模块用光学快门及其制造方法，照相机模块用光学快门防止在散射状态的聚合物网络液晶层中产生条纹状的透明部，可靠性优良。本发明的照相机模块用光学快门具有：利用密封部而贴合的一对基板；以及在上述一对基板间封装的聚合物网络液晶层，在上述一对基板中包含的至少一个基板，具有：透明电极，其由氧化物导电膜构成；以及覆膜，其覆盖上述透明电极，包含在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物。

Description

照相机模块用光学快门及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种照相机模块用光学快门及其制造方法。更详细地说，涉及一种利用了聚合物网络液晶层的照相机模块用光学快门及其制造方法。
背景技术
在现有的照相机中，通常设置利用弹簧的力对分隔板高速地进行开闭的这种机械控制式的光学快门，但根据小型化·薄型化、耐冲击性、制造成本、高速化等各种的理由，近年来，进行了电子控制式的光学快门的开发。作为电子控制式的光学快门的例子，在专利文献1中记载了使快门由分散型液晶元件构成的技术。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2007－208587号公报
发明内容
本发明所要解决的技术问题
另外，本发明者们着眼于制作下述的照相机模块用光学快门，该照相机模块用光学快门利用了聚合物网络液晶(PNLC：p olymer network liquid crystal)层在无电压施加时使光散射、在电压施加时使光透过的性质。但是，在实际试制在由密封部贴合的一对基板间设置PNLC层的照相机模块用光学快门用的PNLC单元时，可知在散射状态的PNLC层中会产生条纹状的透明部(以下也称为“裂纹图案的缺陷”。)。图4是表示在现有的照相机模块用光学快门中产生的裂纹图案的缺陷的平面示意图。根据本发明者们的研究发现，裂纹图案的缺陷90在对PNLC层30进行封装的密封部40的附近产生，随着时间的经过，存在向P NLC层30的整个面扩张的倾向。另外发现，当投入高温试验等老化试验中，则该裂纹图案的缺陷90会变得显著。
在上述专利文献1中，针对在使用了PNLC层的设备中的这种裂纹图案的缺陷的产生，并未记载。
本发明就是鉴于上述现状，其目的在于，提供一种防止在散射状态的聚合物网络液晶层中产生条纹状的透明部，可靠性优良的照相机模块用光学快门及其制造方法。
解决问题的方案
本发明者们针对裂纹图案的缺陷进行了各种研究，其结果，预测原因在于构成PNLC层的聚合物网络从用于向PNLC层施加电压的透明电极的表面剥离。以下，参照图5A及图5B，对基于本发明者们的预测的裂纹图案的缺陷的产生机理进行说明。图5A是表示现有的照相机模块用光学快门的正常状态的剖面示意图。图5B是表示在现有的照相机模块用光学快门中产生裂纹图案的缺陷时的状态的剖面示意图。
如图5A所示，在正常状态的PNLC单元中，聚合物网络31与在透明基板11及21上分别设置的透明电极12及22接触，但PNLC层30中的液晶液滴32与透明电极12及22未接触。在透明电极12及22中，通常使用由氧化铟锡构成的ITO电极这种氧化物导电膜。但是，由于ITO电极等氧化物导电膜是稍微亲水性的，与之相对，聚合物网络31是疏水性的，因此聚合物网络31容易从透明电极12及22的表面剥离。如图5B所示，如果聚合物网络31剥离，则PNLC层30中的液晶液滴32进入而与透明电极12及22的表面接触，因此PNLC单元中的液晶的界面会局部地变化。其结果，液晶的配向状态发生变化，在散射状态中产生不均匀，由此识别出裂纹图案的缺陷。特别是在密封部40附近，考虑具有环氧基、羟基等亲水性官能基的密封剂(硬化前的密封部)的成分会向PNLC层30溶出，因此疏水性的聚合物网络31不与透明电极12及22的表面接触，聚合物网络31的分布容易变得不均匀，从制造开始就容易产生裂纹图案。
基于以上的预测，本发明者们针对抑制了聚合物网络31的剥离的方法进行了研究。并且发现，通过在透明电极12及22上形成含有在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物的覆膜，从而上述多聚物与密封剂(特别是密封剂中的硅烷偶联剂)之间的相溶性良好，因此密封部40的基板粘合力提高，可以抑制密封剂的具有亲水性官能基的成分向PNLC层30的溶出，可以防止聚合物网络31的剥离。由此，想到可以完美地解决上述课题，直至实现本发明。
(1)本发明的实施方式涉及一种照相机模块用光学快门，其中，具有：一对基板，其利用密封部而贴合；以及聚合物网络液晶层，其被封装于所述一对基板之间，在所述一对基板中包含的至少一个基板，具有：透明电极，其由氧化物导电膜构成；以及覆膜，其覆盖所述透明电极，包含在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物。
(2)另外，本发明的某个实施方式的照相机模块用光学快门，在上述(1)的结构的基础上，所述多聚物在侧链具有由下述化学式(A)表示的基团。
[化1]
Figure BDA0002140363220000041
(式中，＊表示键合位置。)
(3)另外，本发明的某个实施方式的照相机模块用光学快门，在上述(1)或者上述(2)的结构的基础上，所述多聚物，具有将基于由下述化学式(A)表示的基团的构造和所述聚合物网络液晶层中的聚合物网络键合而成的构造。
[化2]
Figure BDA0002140363220000042
(式中，＊表示键合位置。)
(4)另外，本发明的某个实施方式的照相机模块用光学快门，在上述(1)、上述(2)或者上述(3)的结构的基础上，所述聚合物网络液晶层的厚度是10μm～25μm。
(5)另外，本发明的某个实施方式的照相机模块用光学快门，在上述(1)、上述(2)、上述(3)或者上述(4)的结构的基础上，所述氧化物导电膜含有氧化铟锡、氧化锌或者氧化锡。
(6)另外，本发明的某个实施方式的照相机模块用光学快门，在上述(1)、上述(2)、上述(3)、上述(4)或者上述(5)的结构的基础上，所述透明电极的厚度是5nm～50nm。
(7)另外，本发明的某个实施方式的照相机模块用光学快门，在上述(1)、上述(2)、上述(3)、上述(4)、上述(5)或者上述(6)的结构的基础上，在所述一对基板间的由所述密封部包围的区域内，具有将所述聚合物网络液晶层的中央包围而配置的至少1个壁部件。
(8)另外，本发明的某个实施方式的照相机模块用光学快门，在上述(7)的结构的基础上，所述至少1个壁部件，将所述聚合物网络液晶层的中央多重地包围而配置。
(9)本发明的另一个实施方式涉及一种照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，包含下述工序：在设置有由氧化物导电膜构成的透明电极的第一基板的所述透明电极上，形成含有在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物的覆膜；在所述第一基板或者第二基板上，以框状配置未硬化的密封剂；在所述第一基板或者所述第二基板上，将含有聚合物网络形成用单体的液晶材料滴下；在所述第一基板，经由所述未硬化的密封剂将所述第二基板重叠；以及进行所述未硬化的密封剂的硬化、和所述液晶材料中的聚合物网络形成用单体的聚合的密封部硬化/单体聚合工序。
(10)另外，本发明的某个实施方式的照相机模块用光学快门的制造方法，在上述(9)的结构的基础上，所述多聚物，在侧链具有由下述化学式(A)表示的基团，
在所述密封部硬化/单体聚合工序中，使从所述多聚物的由下述化学式(A)表示的基团生成的自由基、和所述聚合物网络形成用单体反应。
[化3]
Figure BDA0002140363220000061
(式中，＊表示键合位置。)
(11)另外，本发明的某个实施方式的照相机模块用光学快门的制造方法，在上述(9)或者上述(10)的结构的基础上，包含在所述第一基板上形成至少1个壁部件的工序，所述未硬化的密封剂配置于所述第一基板上，所述液晶材料向所述第一基板上滴下，所述至少1个壁部件，在由所述未硬化的密封剂包围的区域内，包围所述液晶材料的滴下位置而配置。
(12)另外，本发明的某个实施方式的照相机模块用光学快门的制造方法，在上述(11)的结构的基础上，所述至少1个壁部件，在由所述未硬化的密封剂包围的区域内，将所述液晶材料的滴下位置多重地包围而配置。
发明效果
根据本发明，可以提供一种防止在散射状态的聚合物网络液晶层中产生条纹状的透明部、可靠性优良的照相机模块用光学快门及其制造方法。
附图说明
图1是表示实施方式的照相机模块用光学快门的剖面结构的示意图的例子。
图2是表示实施方式的照相机模块用光学快门的剖面结构的示意图的例子。
图3A是表示实施方式的照相机模块用光学快门的平面结构的例子的示意图。
图3B是表示实施方式的照相机模块用光学快门的平面结构的例子的示意图。
图3C是表示实施方式的照相机模块用光学快门的平面结构的例子的示意图。
图4是表示在现有的照相机模块用光学快门中产生的裂纹图案的缺陷的平面示意图。
图5A是表示现有的照相机模块用光学快门的正常的状态的剖面示意图。
图5B是表示现有的照相机模块用光学快门中产生裂纹图案的缺陷时的状态的剖面示意图。
具体实施方式
以下基于实施方式，参照附图针对本发明更详细地进行说明，但本发明并不仅限定于这些实施方式。
图1是表示实施方式的照相机模块用光学快门的剖面结构的示意图的例子。本实施方式的照相机模块用光学快门1，具有在由密封部40贴合的第一基板10和第二基板20之间具备聚合物网络液晶(PNLC)层30的结构，也称为“PNLC单元”。第一基板10具有在透明基板11上层叠透明电极12以及覆膜13而成的结构，该覆膜13含有在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物。同样地，第二基板20具有在透明基板21上层叠透明电极22以及覆膜23而成的结构，该覆膜23含有在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物。另外，在第一基板10及第二基板20上，也可以不设置TFT等有源元件。
作为透明基板11及21，例如可以使用玻璃基板、塑料基板等。透明电极12及22由氧化物导电膜构成。通过向透明电极12与透明电极22之间施加电压，从而可以控制PNLC层30中的液晶的配向。在照相机模块用光学快门中设置的透明电极12及22由于可以不像显示装置用的液晶单元内设置的像素电极那样以矩阵状配置多个，相比于为了低电阻化而设为较厚，从提高透过状态中的透明性的观点来看，优选设为较薄。具体地说，透明电极12及22的厚度优选设为5nm～50nm。如果透明电极12及22的厚度低于5nm，则基板上不会均匀地形成电极，有可能存在微小的电极未形成区域，在该情况下，无法向PNLC层30充分地施加电压。另一方面，如果透明电极12及22的厚度超过50nm，则由电极材料引起的透过率的降低变大，因此有时无法充分地获得透过状态的透过率。
作为在透明电极12及22中使用的氧化物导电膜，可以举出含有氧化铟锡、氧化锌或者氧化锡的氧化物导电膜，特别地，优选使用含有氧化铟锡的ITO电极。
覆膜13及23分别覆盖透明电极12及22，并且，含有在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物(以下，也称为聚酰胺酸系多聚物。)。通过设为这种方式，由于聚酰胺酸系多聚物中的羧基、与密封剂(硬化前的密封部40)的具有亲水性官能基的成分(例如环氧化合物、含有羟基的化合物、硬化材料的胺、硅烷偶联剂等，特别是硅烷偶联剂)之间的相溶性良好，因此可以使密封部40的基板粘合力提高，可以抑制来自于密封部40外部的水分、和密封剂的具有上述亲水性官能基的成分向PNLC层30溶出。其结果，即使在密封部40附近，疏水性的聚合物网络31也可以与覆膜13及23的表面接触，可以抑制产生聚合物网络31的分布不均匀性，抑制在散射状态的聚合物网络液晶层30中产生裂纹图案的缺陷。
在本实施方式中，利用在覆膜13及23中包含的聚酰胺酸中的羧基与密封剂的具有亲水性官能基的成分之间的相溶性的良好性，使密封部40的基板粘合力提高，抑制裂纹图案的缺陷的产生，但即使是除了聚酰胺酸以外的多聚物，只要是具有与具有密封剂的亲水性官能基的成分的相溶性好的基团的多聚物，就可以获得同样的效果。作为这种多聚物，例如可以举出聚丙烯酸、聚异丁烯酸等。但是，由于聚丙烯酸及聚异丁烯酸是乙烯类多聚物，与聚酰胺酸相比多聚物的亲水性低，因此认为使密封部的基板粘合力提高的效果比聚酰胺酸小，抑制裂纹图案的缺陷的效果也比聚酰胺酸小。
覆膜13及23的膜厚优选是10nm～500nm，更优选是50n m～200nm。如果上述膜厚比10nm小，则有时无法将透明电极12及22完全地覆盖。另一方面，如果上述膜厚比500nm大，则覆膜13及23的表面的凹凸变得急剧，因从覆膜13及23的表面的散射、以及在液晶分子中产生预期以外的倾斜角，有时透过状态中的透过率会降低。
作为覆膜13及23、和它们的聚酰胺酸系多聚物，可以适当地使用在液晶显示装置的领域中通常使用的配向膜、和其多聚物，该液晶显示装置是相对于在一对基板间夹持的液晶层施加电压而对光的透过量进行控制。
上述聚酰胺酸系多聚物，只要构成多聚物分子的重复单位的至少一部分的主链是聚酰胺酸构造即可。因此，聚酰胺酸系多聚物可以使构成多聚物分子的重复单位的全部主链是聚酰胺酸构造，也可以是构成多聚物分子的重复单位的一部分主链是聚酰胺酸构造，上述一部分以外的主链是酰亚胺构造。在包含酰亚胺构造的情况下，聚酰胺酸系多聚物在构成多聚物分子的重复单位之中，也可以例如超过0摩尔％、60摩尔％以下的重复单位的主链是酰亚胺构造。另外，覆膜13及23也可以含有除了聚酰胺酸系多聚物以外的第2多聚物、即在主链不具有聚酰胺酸构造的第2多聚物。
上述聚酰胺酸系多聚物优选重均分子量为1,000～1,000,000，更优选为10,000～100,000。通过使上述聚酰胺酸系多聚物的重均分子量为上述范围，从而容易以期望的膜厚均匀地成膜。如果上述聚酰胺酸系多聚物的重均分子量过小，则难以以期望的膜厚成膜，如果膜厚过厚，则无法成为均匀的膜厚，膜面的凹凸有时会变得显著。此外，在本说明书中，重均分子量可以利用G PC(凝胶透过色谱法)进行测定。
图2是表示实施方式的照相机模块用光学快门的剖面结构的示意图的例子。上述聚酰胺酸系多聚物优选在侧链具有由下述化学式(A)表示的基团。如后所述，由于由下述化学式(A)表示的基团可以作为光自由基聚合引发剂起作用，因此在上述聚酰胺酸系多聚物在侧链具有由下述化学式(A)表示的基团的情况下，可以将由下述化学式(A)表示的基团作为聚合引发剂起作用而形成聚合物网络31。此时，可以在基于由下述化学式(A)表示的基团的构造和聚合物网络31之间形成键14、24。此外，在聚合反应中，通常，一部分聚合引发剂直接以未反应状态残留。因此，即使在形成了PNLC层30之后的照相机模块用光学快门1中，上述聚酰胺酸系多聚物通常也作为未反应的聚合引发剂而具有由下述化学式(A)表示的基团。
[化4]
Figure BDA0002140363220000111
(式中，＊表示键合位置。)
另外，如上所述，上述聚酰胺酸系多聚物优选具有基于由上述化学式(A)表示的基团的构造和PNLC层30中的聚合物网络31键合而成的构造。通过设置这种方式，从而提高上述多聚物与聚合物网络31之间的相溶性，通过提高各基板10、20附近的聚合物网络31的密度，从而可以提高散射的程度。其结果，可以使电压断开时(无电压施加时)的雾度提高。另外，可以更加抑制聚合物网络31从各基板10、20的表面的剥离。
在照相机模块用光学快门1中，关于基于由上述化学式(A)表示的基团的构造和PNLC层30中的聚合物网络31形成键14、24的情况，可以通过下面的方法验证。
将照相机模块用光学快门1解体为第一基板10及第二基板20，使用己烷等溶剂将第一基板10及第二基板20上的液晶洗掉后，利用TOF－SIMS(Time－of－Flight SecondaryIon M ass Spectrometry，飞行时间二次离子质谱仪)进行覆膜13及23的解析。在这里，由上述化学式(A)表示的基团，如后所述可以作为光自由基聚合引发剂起作用。光自由基聚合引发剂可以使主要具有乙烯基的单体(以下也称为乙烯单体。)的聚合开始。因此，在将乙烯单体聚合而形成聚合物网络31时，如果使用具有由上述化学式(A)表示的基团的聚酰胺酸系多聚物，则由上述化学式(A)表示的基团成为聚合引发剂而聚合上述乙烯单体，形成与上述聚酰胺酸系多聚物键合的聚合物网络31。通常，由于乙烯单体及低聚物被己烷等的溶剂洗掉，因此通过上述TOF－SIMS的解析，可以在覆膜13及23中检测出由乙烯基引起的烃基(通过乙烯基聚合而形成的饱和烃基)、和酰亚胺基、酰胺基及羧基中的至少1个，并且，如果通过质量分析、1H－NMR(Nuc lear Magnetic Resonance)及13C－NMR等示出在覆膜13及23中包含的聚酰胺酸系多聚物具有由上述化学式(A)表示的基团，则认为聚酰胺酸系多聚物所具有的由上述化学式(A)表示的基团作为引发剂起作用，形成聚合物网络，可以说基于由上述化学式(A)表示的基团的构造和PNLC层30中的聚合物网络31形成键14、24。另外，将覆膜13及23中所包含的聚合物回收而进行加水分解，通过进行质量分析及元素分析，从而还可以对在聚酰胺酸系多聚物中包含的由化学式(A)表示的基团与聚合物网络之间是否形成键进行解析。
由上述化学式(A)表示的基团，由于通过照射紫外线而引起开裂，可以生成＊－O－C(CH3)2·、及·CO－C6H5这2个种类的自由基，因此可以作为光自由基聚合引发剂起作用。在这里，“·”表示自由基。由上述化学式(A)表示的基团也称为引发剂官能基。
在上述聚酰胺酸系多聚物具有由上述化学式(A)表示的基团的情况下，如果由上述化学式(A)表示的基团因紫外线照射而开裂，则在聚酰胺酸系多聚物的侧链会产生自由基。该自由基例如与为了形成PNLC层30中的聚合物网络31而添加的单体(例如，含有乙烯基的单体)反应而使单体的自由基聚合，通过进行单体的聚合而形成聚合物网络31。这样，在聚酰胺酸系多聚物的侧链，由＊－O－C(CH3)2－表示的构造作为基于由上述化学式(A)表示的基团的构造而残留，在该构造的碳与PNLC层30中的聚合物网络31之间形成共价键。
由上述化学式(A)表示的基团，优选包含于上述聚酰胺酸系多聚物的侧链。基本上，在覆膜13及23中包含的聚酰胺酸系多聚物对于ITO等透明电极12及22具有较高的亲和性，且与透明电极12及22进行接触。因此，在由上述化学式(A)表示的基团包含于聚酰胺酸系多聚物的主链的情况下，在制作照相机模块用光学快门1时，由上述化学式(A)表示的基团与后述的聚合物网络形成用单体之间的平均距离变大，使聚合物网络形成用单体的聚合开始的聚合起始效率降低。因此，由上述化学式(A)表示的基团，优选包含于聚酰胺酸系多聚物的侧链。
PNLC层30具有在聚合物网络(也称为“多聚物矩阵”)31中存在液晶液滴32的结构。在PNLC层30中包含的聚合物网络31及液晶液滴32的比例并不特别限定，但在更多地包含液晶液滴的方式(例如，在液晶层中多聚物分子形成网络的这种方式)中，在散射状态的PNLC层30中更容易产生条纹状的透明部，本实施方式在这种方式时，可以有效地抑制条纹状的透明部的产生。
上述聚酰胺酸系多聚物优选具有由下述化学式(PA)表示的至少一种构造。在这里，PNLC层30，通过增大聚合物网络31的折射率与液晶液滴32的折射率的差，从而将光散射，通过减小该差，从而让光透过。PNLC层30中的聚合物网络31的折射率相对地变大，液晶分子的配向方向相对于基板10及20越接近水平，则液晶液滴32的折射率越小，相对于基板10及20越接近垂直，则液晶液滴32的折射率越大。通过使聚酰胺酸系多聚物具有由下述化学式(PA)表示的至少一种构造，可以使液晶分子的倾斜角尽可能小，可以在无电压施加时使液晶分子相对于基板10及20大致水平地配向，减小液晶液滴32的折射率。其结果，相对于无电压施加时的液晶液滴32的折射率，可以使电压施加时的液晶液滴32的折射率更大，可以相对于无电压施加时而使电压施加时(透过时)的透过率更加提高。
[化5]
Figure BDA0002140363220000141
(式中，X是由下述化学式(X－1)表示的基团，Y1是由下述化学式(Y1－1)或者(Y1－2)表示的基团，Y2是由下述化学式(Y2－1)或者(Y2－2)表示的基团，L是－(CH2)q－CO－(q是0、1、2或者3)，m、n及p是分别独立的1以上的整数，m及n满足0＜m/(m+n)＜1。)
[化6]
Figure BDA0002140363220000151
(式中，＊表示键合位置。)
[化7]
Figure BDA0002140363220000152
(式中，＊表示键合位置。)
[化8]
Figure BDA0002140363220000153
(式中，＊表示键合位置。)
上述化学式(PA)中的m/(m+n)表示共聚合比，满足0＜m/(m+n)＜1，优选满足0.2≦m/(m+n)≦0.8。如果上述化学式(PA)中的m/(m+n)低于0.2，则有时使后述的聚合物网络形成用单体的聚合开始的聚合起始效率降低。如果上述化学式(PA)中的m/(m+n)超过0.8，则在液晶分子中会产生若干倾斜角，有时透过状态的透过率稍微地降低。
向在液晶材料中溶解的聚合物网络形成用单体照射紫外光，通过对该单体进行聚合从而可以形成聚合物网络31。作为聚合物网络形成用单体，例如使用丙烯系单体。液晶液滴32中的液晶分子在无电压施加时使光散射，但如果隔着PNLC层30对相对配置的透明电极12及22之间被施加电压，则与电场对应而向一个方向排列，使光透过。即，利用向透明电极12及22间的电压施加的有无，可以对散射状态和透过状态进行开关。
在上述聚酰胺酸系多聚物具有由上述化学式(A)表示的基团的情况下，将由化学式(A)表示的基团作为聚合引发剂而将上述聚合物网络形成用单体聚合，可以形成聚合物网络31。另外，在聚酰胺酸系多聚物不具有由上述化学式(A)表示的基团的情况下，可以在液晶材料中另外添加聚合引发剂而将聚合物网络形成用单体聚合。此外，在聚酰胺酸系多聚物具有由化学式(A)表示的基团的情况下，也可以在液晶材料中另外添加聚合引发剂。作为在液晶材料中另外添加的聚合引发剂，优选是光自由基聚合引发剂。
PNLC层30的厚度(单元厚度)优选为10μm～25μm。如果PNLC层30的厚度不足10μm，则散射强度降低，因此会担心无法得到照相机模块用光学快门所要求的遮光性能。如果PNLC层30的厚度超过25μm，则PNLC层30的开关的响应变慢，因此有时会担心无法获得照相机模块用光学快门所要求的响应速度。PNLC层30的厚度更优选为大致15μm。此外，由于PNLC单元的单元厚度比面向显示装置的一般的液晶单元(5μm程度)厚，因此在制造时聚合物网络31的形成或密封剂的硬化、以及可靠性试验的冷热循环而产生的应力存在变大的倾向，考虑这也是裂纹图案的缺陷产生的重要原因之一。
密封部40是配置于第一基板10与第二基板20之间且在第一基板10与第二基板20之间以隔着规定的间隔的状态将两者接合的封装部件。密封部40沿第一基板10及第二基板20的外缘以框状配置，PNLC层30被封装在由第一基板10、第二基板20及密封部40包围而形成的空间内。密封部40可以通过利用分配器等涂敷密封剂并使其硬化而形成。
在密封剂中优选包含具有亲水性官能基的成分。在密封剂中包含具有亲水性官能基的成分的情况下，具有亲水性官能基的成分从密封部向PNLC层溶出而容易产生裂纹图案，但通过设为本实施方式的方式，利用在覆膜13及23中包含的聚酰胺酸中的羧基、和密封剂的具有亲水性官能基的成分之间的相溶性的良好性，使密封部40的基板粘合力提高，可以有效地抑制在散射状态的聚合物网络液晶层30中产生裂纹图案的缺陷。
作为具有上述亲水性官能基的成分，可以举出环氧化合物、含有羟基的化合物、硬化材料的胺、硅烷偶联剂、含有羧基的化合物、含有磺基的化合物等。
作为含有具有上述亲水性官能基的成分的密封剂，例如可以举出含有环氧化合物的密封剂。包含上述环氧化合物的密封剂，是利用热进行硬化的热硬化型的密封剂。在包含上述环氧化合物的密封剂中，除了环氧化合物之外，含有具有含有羟基的化合物、硬化材料的胺、硅烷偶联剂、含有羧基的化合物、含有磺基的化合物等的亲水性官能基的成分。
在上述密封剂中，也可以含有除了具有上述亲水性官能基的成分以外的其它成分。作为其它成分，例如可以举出丙烯系单体。由于丙烯系单体可以利用紫外光而硬化，因此例如通过在包含环氧化合物在内的密封剂中包含丙烯系单体和光聚合引发剂，从而可以利用紫外光及热使密封剂硬化。
密封剂优选是热硬化型、或者利用紫外光及热进行硬化的(紫外光及热硬化型)，更优选是紫外光及热硬化型。如果使用利用紫外光进行硬化的密封剂，则可以通过紫外光照射同时进行密封剂的硬化和聚合物网络31的形成。
上述规定的间隔(第一基板10与第二基板20之间的间隔)由间隔物(图示省略)控制。作为间隔物，例如使用塑料微珠或感光间隔物。塑料微珠也可以在密封剂中混合。感光间隔物可以通过将感光性树脂(抗蚀)通过光刻进行图案化从而形成。
在图1及图2中省略了图示，但在第一基板10与第二基板20之间的由密封部40包围的区域内，也可以设置将PNLC液晶层30的中央包围而配置的至少1个壁部件。由于该至少1个壁部件的设置目的为，保护未硬化的密封剂免受液晶材料的压力，因此也称为“止动壁”。在利用滴下法(ODF)设置PNLC层30的情况下，在利用分配器等涂敷密封剂之后，在第一基板10或者第二基板20(一个基板)之上，将添加了聚合物网络形成用单体的液晶材料滴下，使第二基板20或者第一基板10(另一个基板)贴合。在该贴合时，液晶材料被摊开，填充在由密封部40包围的区域内，但在使用通过紫外光照射使密封剂的硬化和聚合物网络31的形成同时进行的方法的情况下，由于在贴合时，密封剂是未硬化状态，因此有时会担心因摊开的液晶材料的压力而在密封剂的框状的配置图案上产生缺失部。因此，通过在液晶材料的滴下位置与密封剂之间设置止动壁，从而可以保护未硬化的密封剂免受液晶材料的压力。止动壁优选设置于除了配置有透明电极12及22的区域(以下也称为“有源区域”)之外。止动壁的配置图案并不特别限定，例如，可以设置框状的止动壁，也可以以框状配置多个直线状的止动壁。止动壁的高度优选PNLC单元的单元厚度的0.8倍以上、1倍以下，更优选0.95倍以上、1倍以下。如果止动壁的高度低于单元厚度的0.8倍，则含有单体的液晶材料与未硬化的密封剂接触的可能性变高。另一方面，如果止动壁的高度超过单元厚度(PNLC液晶层30的厚度)的1倍，则有时无法适当地控制单元厚度。
图3A～图3C是表示实施方式的照相机模块用光学快门的平面结构的例子的示意图。如图3A～图3C所示，止动壁的配置方式不同。如图3A所示，也可以在密封部40附近配置止动壁51。止动壁51例如配置于从密封部40的内侧边界起分离0.1～0.5mm的位置。另外，如图3B所示，也可以在有源区域(A.A.)附近配置止动壁52。止动壁52例如配置于从有源区域(A.A.)的外侧边界起分离0.1～0.5mm的位置。并且，如图3C所示，也可以设置止动壁51和止动壁52这两者。即，止动壁可以将PNL C层30的中央2重地包围而配置，也可以3重以上地包围而配置。
在图3A～图3C所示的例子中，涂敷了密封剂的基板具有6mm×5mm的大小。在有源区域(A.A.)的周围，以框状设置宽度0.3～1mm的遮光区域，在遮光区域的周围，密封部40以外形5mm×5mm、宽度0.3～1.2mm的尺寸以框状形成。止动壁51和/或52在遮光区域内，以包围有源区域(A.A.)的方式设置。
止动壁51及52可以使用感光性树脂(抗蚀)，利用光刻形成于第一基板10或者第二基板20上。另外，止动壁51及52也可以与为了控制单元厚度而在第一基板10和第二基板20之间设置的感光间隔物同时地形成。
本实施方式的照相机模块用光学快门1的制造方法并不特别限定，但优选使用包含下述工序(1)～(5)在内的方法。
(1)在设置有由氧化物导电膜构成的透明电极12的第一基板10的透明电极12上，形成含有在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物(聚酰胺酸系多聚物)的覆膜的工序
(2)在第一基板10或者第二基板20上，以框状配置未硬化的密封剂的工序
(3)在第一基板10或者第二基板20上，将含有聚合物网络形成用单体的液晶材料滴下的工序
(4)在第一基板10，经由上述未硬化的密封剂及上述液晶材料将第二基板20重叠的工序
(5)进行上述未硬化的密封剂的硬化和上述液晶材料中的聚合物网络形成用单体的聚合的密封部硬化/单体聚合工序
上述聚酰胺酸系多聚物，优选在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团，并在上述密封部硬化/单体聚合工序中，使由上述多聚物的由上述化学式(A)表示的基团生成的自由基和上述聚合物网络形成用单体反应。通过设为这种方式，从而提高上述聚酰胺酸系多聚物与聚合物网络31之间的相溶性，通过提高基板附近的聚合物网络31的密度，从而可以提高散射的程度。其结果，可以使电压断开时的雾度提高。另外，可以更加抑制聚合物网络31从基板(第一基板10及第二基板20)表面的剥离。
上述工序(2)优选是在第一基板10上将未硬化的密封剂配置于框上的工序，上述工序(3)优选是在第一基板10上，在被上述未硬化的密封剂包围而形成上述覆膜的区域内，将含有聚合物网络形成用单体的液晶材料滴下的工序。通过设为这种方式，从而可以抑制上述液晶材料向由上述密封剂包围的区域的外侧流出。
上述工序(5)优选通过照射紫外光而进行。由此，可以利用容易的方法同时进行密封剂的硬化和聚合物网络31的形成。
上述聚合物网络形成用单体优选具有至少1个自由基聚合性基。通过设为这种方式，从而在上述多聚物在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的情况下，通过照射紫外线，从而可以使从由上述化学式(A)表示的基团产生的自由基和聚合物网络形成用单体反应，可以在上述多聚物与聚合物网络31之间形成键。
上述聚合物网络形成用单体更优选具有2个以上的自由基聚合性基。如果在聚合物网络中存在未反应的单体，则电荷保持特性(电压保持率)恶化，或者利用施加电压中的直流偏移成分的存在而容易形成电气二重层，容易产生残留DC，但通过使上述聚合物网络形成用单体具有2个以上的自由基聚合性基，从而大幅地提高自由基聚合的聚合速度，可以使未反应的单体大致消失，因此可以抑制电荷保持特性的恶化或残留DC的产生。
上述自由基聚合性基优选是含有乙烯基的基团。作为上述自由基聚合性基的例子，可以举出丙烯酸酯基或者异丁烯酸基。
作为上述聚合物网络形成用单体，例如，可以举出由下述化学式(M1)～(M4)表示的单体。
[化9]
Figure BDA0002140363220000221
(式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基(优选甲基)，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数(优选2～12的整数，更优选4～8的整数)。)
另外，本实施方式的照相机模块用光学快门的制造方法，也可以包含在第一基板10上形成至少1个壁部件(止动壁51和/或52)的工序(6)。上述工序(6)优选在上述工序(1)之前实施。至少1个壁部件优选在由未硬化的密封剂包围的区域内，将液晶材料的滴下位置包围而配置。由此，可以保护未硬化的密封剂免受由上述工序(4)摊开的液晶材料的压力。另外，至少1个壁部件也可以在由未硬化的密封剂包围的区域内，将液晶材料的滴下位置多重地包围而配置。
另外，本实施方式的照相机模块用光学快门，组装于照相机模块而使用，可以是在投光侧配置的光学快门，也可以是在受光侧配置的光学快门。在将光学快门配置于投光侧的情况下，用于对光源发出的光的透过及遮断进行控制。在将光学快门配置于受光侧的情况下，用于对向受光元件等的受光部入射的光的透过及遮断进行控制。可以在照相机模块中设置多个本实施方式的照相机模块用光学快门，也可以在本实施方式的照相机模块用光学快门中设置多个有源区域。另外，由光学快门控制的对象，并不限定于可见光，也可以是红外线或紫外线。照相机模块例如在数字照相机、智能手机、平板PC等中使用。
以下，举出实施例及对比例而对本发明更详细地进行说明，但本发明并不是限定于这些实施例。
＜合成例1＞
以下，示出在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的二胺化合物单体的合成的一个例子。
工序A
使二硝基苯基乙酸3g(13.3mmol，化合物(1))溶解于“SOLM IXAP－I”8mL中，加入阮内Ni0.06g，放入高压灭菌器中。在系统内进行氢置换，在室温下以0.4MPa的压力放置一晩。利用HP LC(高速液体色谱法)确认反应停止，通过硅藻土将反应液过滤。将滤液浓缩至无流出。对获得的粗液体进行减压蒸馏，获得2,4－二氨基苯基乙酸(2)1.98g(11.9mmol，生成率90％)。然后将化合物(2)1.8g(10.8mmol)溶解于丙酮5mL中，将t－丁氧羰无水物(5g/THF 5mL)滴下。在滴下后，升温至回流温度而放置一晩。在反应结束后将反应液浓缩，使其干燥，得到B oc体(3)。(3.73g，10.2mmol，生成率94％)。
[化10]
Figure BDA0002140363220000241
工序B
然后，在包含Boc体(3)3.5g(9.56mmol)的苯溶液(30mL)中将氯化亚硫酰滴下，合成如下述式(4)所示的酰氯化合物(3.42g，8.89mmol，生成率93％)。接着，在包含下述式(5)所示的2－羟基－2－甲基－1－苯基－丙烷－1－酮1.64g(10mmo l)、并且包含三乙基胺1.5g(15mmol)的苯(30mL)溶液中，将包含如下述式(4)所示的酰氯化合物3.3g(8.5mmol)在内的苯溶液(20mL)，在室温、氮气气氛下滴下。其后，以2小时在室温下使其反应。在反应结束后，将杂质由水提取后，利用柱型色层分离法(甲苯/醋酸乙基(4/1))进行精制，获得由下述式(6)示出的目标化合物4.10g(生成率80％)。
[化11]
Figure BDA0002140363220000251
工序C
使式(6)所示的化合物溶解于氯化亚甲基，以0℃将三氟乙甲烷磺酸锡(II)(Sn(OTf)2)分割投入。在室温下使其反应后，加入5％NaHCO3aq而进行中和。之后用水清洗至变为中性，利用无水硫酸镁对有机层进行干燥，通过硅藻土而进行过滤。通过对滤液进行浓缩，从而获得如下述式(7)所示的目标的二胺化合物单体(1.92g，6.16mmol，生成率77％)。
[化12]
Figure BDA0002140363220000261
＜缩合聚合例1＞
示出在主链具有聚酰胺酸构造，并且在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的二胺单元的导入量为40摩尔％的多聚物的合成例。在下述二胺化合物DA1(0.06摩尔)、和下述二胺化合物DA2(在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的二胺化合物)(0.04摩尔)的γ－丁内酯溶液中，加入下述酸酐(0.10摩尔)，以60℃使其反应12小时，从而获得无规构造的聚酰胺酸(在主链具有聚酰胺酸构造，并且在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的多聚物)。
[化13]
Figure BDA0002140363220000271
＜缩合聚合例2＞
示出在主链具有聚酰胺酸构造，并且在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的二胺单元的导入量为40摩尔％的多聚物的合成例。在下述二胺化合物DA3(0.06摩尔)、和下述二胺化合物DA2(在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的二胺化合物)(0.04摩尔)的γ－丁内酯溶液中，加入下述酸酐(0.10摩尔)，以60℃使其反应12小时，从而获得无规构造的聚酰胺酸(在主链具有聚酰胺酸构造，并且，在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的多聚物)。
[化14]
Figure BDA0002140363220000281
＜实施例1－2＞
通过以下的方法制作作为光学快门设备用的PNLC单元。
准备2片在一个面设置有厚度30nm的ITO电极的无色透明的玻璃基板，针对2片基板分别进行以下的处理。在这里，2片玻璃基板中的一个，在形成有ITO电极的面侧，形成高度15μm的柱状的感光间隔物、及图3A所示的高度15μm的止动壁。
首先，将由与缩合聚合例1同样的方法合成的、在主链具有聚酰胺酸构造，并且在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的多聚物(聚酰胺酸系多聚物)，利用旋转涂覆在上述2片基板的ITO电极的表面上成膜，以90℃进行1分钟的预烧制，及以200℃进行10分钟的主烧制，从而形成厚度100nm的覆膜。在这里，在聚酰胺酸系多聚物中，在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的二胺单元的导入量r设为20mol％。另外，通过以200℃进行主烧制，使得聚酰胺酸系多聚物的一部分被酰亚胺化，在聚酰胺酸系多聚物的主链包含酰亚胺构造。
然后，在2片基板的仅一个的表面上，利用分配器描绘由紫外线及热而进行硬化的密封剂(积水化学工业社制，“Photo lec”)。在描绘后，将PNLC用液晶材料(DIC社制)向该基板滴下。该PNLC用液晶材料，作为聚合物网络形成用单体，含有具有由上述化学式(M1)表示的乙烯基的单体(其中，上述化学式(M1)中的n1及n2是4，R1及R2是甲基)。另外，主液晶的Tni(向列相－各向同性相转移温度)为70℃，Δn(折射率各向异性)为0.2，Δε(介电常数各向异性)为8。在这里，在上述PNLC用液晶材料中未包含聚合引发剂。另外，所谓上述主液晶，是在PNLC用液晶材料中包含的、聚合物网络形成用单体以外的液晶化合物成分。一般地，认为实际使用时的设备(例如，照相机模块用光学快门)的特性，主要依赖于上述主液晶的物理特性值。
然后，将另一个基板贴合后，在18℃的环境下照射波长365nm的紫外光照射2.5J/cm2，同时进行密封剂的硬化和PNLC用液晶材料中的单体的聚合(聚合物网络的形成)。此时，在聚酰胺酸系多聚物的侧链包含的由上述化学式(A)表示的基团，通过紫外光分解而产生自由基，认为该自由基与聚合物网络形成用单体反应而使单体的聚合开始。因此，认为在覆膜中包含的聚酰胺酸系多聚物和聚合物网络进行化学键合。然后，通过在130℃的烤炉中进行1小时加热处理，从而使密封剂完全硬化。
通过以上所述，完成在通过硬化了的密封剂(密封部)而贴合的一对基板间具有PNLC液晶层的PNLC单元。该PNLC单元可以通过在2片基板上设置的ITO电极而向PNLC液晶层施加电压，作为在电压断开时示出散射状态、在电压接通时(电压施加时)示出透过状态的光学快门起作用。
＜实施例1－1，1－3～1－5＞
除了在上述聚酰胺酸系多聚物中，将具有由上述化学式(A)表示的基团的二胺单元的导入量r分别变更为0mol％、40mol％、60mol％及80mol％以外，与实施例1－2同样地，制作实施例1－1、1－3、1－4及1－5的PNLC单元。此外，在实施例1－1中，在上述PNLC用液晶材料中另外添加光自由基聚合引发剂0.05重量％。
＜对比例1＞
除了不形成上述覆膜，并且在上述PNLC用液晶材料中另外添加光自由基聚合引发剂0.05重量％以外，与实施例1－2同样地，制作了对比例1的PNLC单元。
＜评价方法＞
针对通过实施例1－1～1－5及对比例1制作的PNLC单元，进行以下的评价试验，将获得的结果示出下述表1。
(裂纹图案的有无的观察)
通过利用显微镜进行目视，确认在电压断开时的PNLC单元中是否产生了条纹状的透明部(裂纹图案)。
(雾度)
使用日本电色工业社制造的“NDH7000”，以25℃对电压断开时的PNLC单元的雾度进行了测定。
(响应特性)
使用大塚电子社制造的“Photal5200”，以25℃测定0.5V与20V之间的PNLC单元的响应特性，确认了上升(0.5V→20V)的响应时间、以及下降(20V→0.5V)的响应时间。
(老化试验)
在－20℃的烤炉内将PNLC单元保存500小时(500h)保存之后，与上述同样地，进行裂纹图案的有无的观察。
[表1]
Figure BDA0002140363220000311
如实施例1－1～1－5所示，通过将含有聚酰胺酸系多聚物的覆膜形成于ITO电极上，从而未观测到在密封部附近产生的裂纹图案(缺陷)，在70℃环境下500h后也未产生裂纹图案。认为通过将含有聚酰胺酸系多聚物的覆膜形成于基板表面，从而覆膜与密封部的粘合力提高，因此从单元外部的水分浸入、及密封部成分向液晶层的溶出未发生(或者被抑制)，裂纹图案的产生在初始时、在500h后均未确认到。
另一方面，在未形成含有聚酰胺酸系多聚物的覆膜的情况下(对比例1)，初始时在密封部附近确认到裂纹图案，－20℃试验后，裂纹图案变广。在不存在聚酰胺酸系多聚物的对比例1的情况下，认为基板与密封部之间的粘合不充分，密封部成分与来自于外部的水分一起向液晶层溶出，并且，聚合物网络的基板粘合力也弱，因此确认到裂纹图案。
在使用了聚酰胺酸系多聚物的实施例1－1～1－5中，在聚合物网络未与覆膜键合的情况下(具有由上述化学式(A)表示的基团的二胺单元的导入量r为0mol％的实施例1－1的情况下)，雾度稍微降低。推测这是由于，因聚酰胺酸系多聚物与聚合物网络的相溶性低，从而基板附近的聚合物网络的密度变得稍微低，作为结果，散射的程度稍微降低。由此，在聚酰胺酸系多聚物在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的情况下，也能够提高电压断开时的雾度。
另外，在使用了聚酰胺酸系多聚物的实施例1－1～1－5中，在聚合物网络未与覆膜键合的实施例1－1中，以1500小时的时间产生裂纹图案，但在聚合物网络与覆膜键合的实施例1－2～1－5中，直至3000小时为止，裂纹图案未产生。考虑在实施例1－2～1－5中，由于覆膜与聚合物网络键合，因此聚合物网络的基板粘合力变高，裂纹图案更加难以产生。
＜实施例2－1～2－5＞
使用由与缩合聚合例2同样的方法合成的、在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物(聚酰胺酸系多聚物)，并且，除了将在ITO电极的表面上将聚酰胺酸系多聚物成膜以后的主烧制的温度设为180℃，将时间设为20分钟以外，与实施例1－1～1－5同样地，制作了实施例2－1～2－5的PNLC单元。此外，在实施例2－1～2－5中使用的聚酰胺酸系多聚物，是在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物，在实施例2－2～2－5中使用的聚酰胺酸系多聚物，是进一步在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的多聚物。
＜评价方法＞
针对通过实施例2－1～2－5制作的PNLC单元，以与实施例1－2同样的条件进行评价试验，将获得的结果示于下述表2中。
[表2]
Figure BDA0002140363220000331
与实施例1－1～1－5的情况同样地，在实施例2－1～2－5中，通过在ITO电极上形成含有聚酰胺酸系多聚物的覆膜，从而提高覆膜与密封部的粘合力，因此未观测到裂纹图案(缺陷)。另外，在聚酰胺酸系多聚物在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的情况下(实施例2－2～2－5)，可以提高电压断开时的雾度。并且，在实施例2－2～2－5中，覆膜与聚合物网络键合，与实施例2－1相比，提高了聚合物网络的基板粘合力，因此更加难以产生裂纹图案。
＜实施例3－1～3－5＞
除了将感光间隔物及止动壁的高度分别变更为5mm、10mm、20mm、25mm及30mm以外，与实施例1－3同样地，制作了实施例3－1、3－2、3－3、3－4及3－5的PNLC单元。在实施例3－1～3－5中使用的多聚物，是在主链具有聚酰胺酸构造，并且在侧链具有由上述化学式(A)表示的基团的多聚物(聚酰胺酸系多聚物)。在实施例3－1～3－5中使用的聚酰胺酸系多聚物中的、具有由上述化学式(A)表示的基团的二胺单元的导入量r均为40mol％。
针对通过实施例3－1～3－5制作的PNLC单元，以与实施例1－2同样的条件进行评价试验，将获得的结果示于下述表3中。
[表3]
Figure BDA0002140363220000341
Figure BDA0002140363220000351
在感光间隔物的高度(单元厚度)为5mm～30mm范围的任一个的实施例中，均未确认到裂纹图案。在这里，作为光学快门用途，优选雾度为90％以上，但在单元厚度为5mm的实施例3－1中，雾度低于90％。另外，在单元厚度为30mm的实施例3－5中，响应特性大幅度降低。因此作为光学快门用途，可以说单元厚度优选10mm～25mm的范围。
附图标记说明
1：照相机模块用光学快门
10：第一基板
11、21：透明基板
12、22：透明电极
13、23：覆膜
14、24：键
20：第二基板
30：聚合物网络液晶层(PNLC层)
31：聚合物网络
32：液晶液滴
40：密封部
51、52：止动壁
90：裂纹图案的缺陷

Claims (42)

1.一种照相机模块用光学快门，其特征在于，具有：
一对基板，其利用密封部而贴合；以及
聚合物网络液晶层，其被封装于所述一对基板之间，且含有液晶分子，
在所述一对基板中包含的至少一个基板，具有：透明电极，其由氧化物导电膜构成；以及覆膜，其覆盖所述透明电极，包含在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物，
所述多聚物具有由下述化学式PA1表示的至少一种结构，在无电压施加时使所述液晶分子相对于所述基板大致水平地配向，
Figure FDA0003848198010000011
m、n及p是分别独立的1以上的整数，m及n满足0＜m/(m+n)＜1。
2.根据权利要求1所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述多聚物，具有将基于由下述化学式(A)表示的基团的构造和所述聚合物网络液晶层中的聚合物网络键合而成的构造,
[化2]
Figure FDA0003848198010000021
式中，＊表示键合位置。
3.根据权利要求1或2所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层的厚度是10μm～25μm。
4.根据权利要求1或2所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述氧化物导电膜含有氧化铟锡、氧化锌或者氧化锡。
5.根据权利要求1或2所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述透明电极的厚度是5nm～50nm。
6.根据权利要求1或2所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
在所述一对基板间的由所述密封部包围的区域内，具有将所述聚合物网络液晶层的中央包围而配置的至少1个壁部件。
7.根据权利要求6所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述至少1个壁部件，将所述聚合物网络液晶层的中央多重地包围而配置。
8.根据权利要求1或2所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M1所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000031
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
9.根据权利要求1或2所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M2所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000032
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
10.根据权利要求1或2所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M3所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000041
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
11.根据权利要求1或2所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M4所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000042
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
12.根据权利要求6所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述至少1个壁部件的高度为所述聚合物网络液晶层的单元厚度的0.8倍以上且1倍以下。
13.一种照相机模块用光学快门，其特征在于，具有：
一对基板，其利用密封部而贴合；以及
聚合物网络液晶层，其被封装于所述一对基板之间，且含有液晶分子，
在所述一对基板中包含的至少一个基板，具有：透明电极，其由氧化物导电膜构成；以及覆膜，其覆盖所述透明电极，包含在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物，
所述多聚物具有由下述化学式PA2表示的至少一种结构，在无电压施加时使所述液晶分子相对于所述基板大致水平地配向，
Figure FDA0003848198010000051
m、n及p是分别独立的1以上的整数，m及n满足0＜m/(m+n)＜1。
14.根据权利要求13所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述多聚物，具有将基于由下述化学式(A)表示的基团的构造和所述聚合物网络液晶层中的聚合物网络键合而成的构造,
[化2]
Figure FDA0003848198010000061
式中，＊表示键合位置。
15.根据权利要求13或14所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层的厚度是10μm～25μm。
16.根据权利要求13或14所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述氧化物导电膜含有氧化铟锡、氧化锌或者氧化锡。
17.根据权利要求13或14所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述透明电极的厚度是5nm～50nm。
18.根据权利要求13或14所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
在所述一对基板间的由所述密封部包围的区域内，具有将所述聚合物网络液晶层的中央包围而配置的至少1个壁部件。
19.根据权利要求18所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述至少1个壁部件，将所述聚合物网络液晶层的中央多重地包围而配置。
20.根据权利要求13或14所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M1所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000071
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
21.根据权利要求13或14所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M2所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000072
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
22.根据权利要求13或14所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M3所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000081
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
23.根据权利要求13或14所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M4所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000082
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
24.根据权利要求18所述的照相机模块用光学快门，其特征在于，
所述至少1个壁部件的高度为所述聚合物网络液晶层的单元厚度的0.8倍以上且1倍以下。
25.一种照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，包含下述工序：
在设置有由氧化物导电膜构成的透明电极的第一基板的所述透明电极上，形成含有在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物的覆膜；
在所述第一基板或者第二基板上，以框状配置未硬化的密封剂；
在所述第一基板或者所述第二基板上，将含有聚合物网络形成用单体的液晶材料滴下，该聚合物网络含有液晶分子；
在所述第一基板，经由所述未硬化的密封剂将所述第二基板重叠；以及
进行所述未硬化的密封剂的硬化、和所述液晶材料中的聚合物网络形成用单体的聚合的密封部硬化/单体聚合工序，
所述多聚物具有由下述化学式PA1表示的至少一种结构，在无电压施加时使所述液晶分子相对于所述基板大致水平地配向，
Figure FDA0003848198010000091
m、n及p是分别独立的1以上的整数，m及n满足0＜m/(m+n)＜1。
26.根据权利要求25所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述多聚物，在侧链具有由下述化学式(A)表示的基团，
在所述密封部硬化/单体聚合工序中，使从所述多聚物的由下述化学式(A)表示的基团生成的自由基、和所述聚合物网络形成用单体反应,
[化3]
Figure FDA0003848198010000101
式中，＊表示键合位置。
27.根据权利要求25或者26所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
包含在所述第一基板上形成至少1个壁部件的工序，
所述未硬化的密封剂配置于所述第一基板上，
所述液晶材料向所述第一基板上滴下，
所述至少1个壁部件，在由所述未硬化的密封剂包围的区域内，包围所述液晶材料的滴下位置而配置。
28.根据权利要求27所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述至少1个壁部件，在由所述未硬化的密封剂包围的区域内，将所述液晶材料的滴下位置多重地包围而配置。
29.根据权利要求25或者26所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M1所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000111
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
30.根据权利要求25或者26所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M2所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000112
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
31.根据权利要求25或者26所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M3所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000121
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
32.根据权利要求25或者26所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M4所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000122
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
33.根据权利要求27所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述至少1个壁部件的高度为所述聚合物网络液晶层的单元厚度的0.8倍以上且1倍以下。
34.一种照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，包含下述工序：
在设置有由氧化物导电膜构成的透明电极的第一基板的所述透明电极上，形成含有在主链具有聚酰胺酸构造的多聚物的覆膜；
在所述第一基板或者第二基板上，以框状配置未硬化的密封剂；
在所述第一基板或者所述第二基板上，将含有聚合物网络形成用单体的液晶材料滴下，该聚合物网络含有液晶分子；
在所述第一基板，经由所述未硬化的密封剂将所述第二基板重叠；以及
进行所述未硬化的密封剂的硬化、和所述液晶材料中的聚合物网络形成用单体的聚合的密封部硬化/单体聚合工序，
所述多聚物具有由下述化学式PA2表示的至少一种结构，在无电压施加时使所述液晶分子相对于所述基板大致水平地配向，
Figure FDA0003848198010000131
m、n及p是分别独立的1以上的整数，m及n满足0＜m/(m+n)＜1。
35.根据权利要求34所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述多聚物，在侧链具有由下述化学式(A)表示的基团，
在所述密封部硬化/单体聚合工序中，使从所述多聚物的由下述化学式(A)表示的基团生成的自由基、和所述聚合物网络形成用单体反应,
[化3]
Figure FDA0003848198010000141
式中，＊表示键合位置。
36.根据权利要求34或者35所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
包含在所述第一基板上形成至少1个壁部件的工序，
所述未硬化的密封剂配置于所述第一基板上，
所述液晶材料向所述第一基板上滴下，
所述至少1个壁部件，在由所述未硬化的密封剂包围的区域内，包围所述液晶材料的滴下位置而配置。
37.根据权利要求36所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述至少1个壁部件，在由所述未硬化的密封剂包围的区域内，将所述液晶材料的滴下位置多重地包围而配置。
38.根据权利要求34或者35所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M1所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000151
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
39.根据权利要求34或者35所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M2所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000152
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
40.根据权利要求34或者35所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M3所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000161
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
41.根据权利要求34或者35所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述聚合物网络液晶层包含聚合物网络，所述聚合物网络由包含下述化学式M4所表示的化合物至少一种单体聚合而成，
Figure FDA0003848198010000162
式中，R1及R2相同或者不同，表示氢原子或者甲基，n1及n2相同或者不同，表示0～20的整数。
42.根据权利要求36所述的照相机模块用光学快门的制造方法，其特征在于，
所述至少1个壁部件的高度为所述聚合物网络液晶层的单元厚度的0.8倍以上且1倍以下。
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