CN110797381A - 显示面板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种显示面板和显示装置，涉及显示技术领域，可以提高半透光区域对应的前置摄像头拍摄效果。该显示面板的像素电路层包括开口部和非开口部，开口部覆盖透光区；非开口部覆盖像素区和第二显示区；非开口部包括底面和侧面，底面平行于基底所在平面，侧面位于非开口部靠近开口部的一侧，且，侧面与底面相交，侧面与底面之间的夹角为锐角；遮光层包括第一遮光层，第一遮光层在基底所在平面的正投影覆盖侧面在基底所在平面的正投影。
Description
【技术领域】
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板和显示装置。
【背景技术】
屏占比是用于手机等显示装置上的概念，用于表示屏幕和显示装置前面板面积的相对比值，高屏占比对用户的视觉体验提升明显。随着显示技术的发展，为了实现更高的屏占比，可以在显示面板的显示区中设置半透光区域，半透光区域一方面实现画面显示功能，另一方面利用透光的特性使设置在显示面板背面的前置摄像头可以穿过半透光区域实现前置拍摄功能，即在不牺牲显示面积的前提下实现了前置拍摄。
然而，目前的显示装置，在显示面板半透光区域对应的前置摄像头的拍摄效果较差。
【发明内容】
有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示面板和显示装置，可以提高半透光区域对应的前置摄像头拍摄效果。
一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括第一显示区和第二显示区；其中，所述第一显示区和所述第二显示区均包括多个像素，所述第一显示区的像素密度小于所述第二显示区的像素密度，所述第一显示区包括多个透光区和像素区，所述透光区与所述像素区不交叠；
所述显示面板还包括：
基底；
像素电路层，位于所述基底的一侧，所述像素电路层包括开口部和非开口部，所述开口部覆盖所述透光区；所述非开口部覆盖所述像素区和所述第二显示区；所述非开口部包括底面和侧面，所述底面平行于所述基底所在平面，所述侧面位于所述非开口部靠近所述开口部的一侧，且，所述侧面与所述底面相交，所述侧面与所述底面之间的夹角为锐角；
遮光层，包括第一遮光层，所述第一遮光层在所述基底所在平面的正投影覆盖所述侧面在所述基底所在平面的正投影。
可选地，所述像素电路层包括层叠设置的至少一层有机层和至少一层无机层；其中，所述有机层位于所述无机层远离所述基底的一侧，所述开口部包括贯穿所述有机层和所述无机层的过孔，所述第一遮光层在所述基底所在平面的正投影覆盖所述过孔的侧壁在所述基底所在平面的正投影。
可选地，所述像素电路层包括多条第一信号线和第二信号线；多条所述第一信号线沿第一方向延伸，沿第二方向排列，所述第一方向与所述第二方向相交；多条所述第二信号线沿所述第一方向排列，沿所述第二方向延伸；所述第一信号线和所述第二信号线交叉限定出像素电路的位置；所述像素电路与所述像素电连接；位于所述第一显示区的所述像素电路的密度小于位于所述第二显示区的所述像素电路的密度。
可选地，所述第一显示区还包括多个非透光区；所述像素电路层的非开口部覆盖所述非透光区；
沿所述第一方向和所述第二方向，所述像素区均位于相邻两个所述非透光区之间；
沿所述第一方向和所述第二方向，所述透光区均位于相邻两个所述非透光区之间；
且，所述像素区和所述透光区沿第三方向排列，所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向均相交；
所述遮光层还包括第二遮光层，所述第二遮光层在所述基底所在平面的正投影位于所述非透光区，且，所述第二遮光层在所述像素电路层所在平面的正投影覆盖位于所述非透光区的所述第一信号线和/或所述第二信号线。
可选地，所述过孔包括贯穿所述有机层的第一过孔，以及贯穿所述无机层的第二过孔；
所述第一遮光层包括第一子遮光层和第二子遮光层；
所述第一子遮光层和所述第二遮光层与所述有机层远离所述无机层的表面接触，且，所述第一子遮光层覆盖所述第一过孔的侧壁；所述第二子遮光层与所述无机层远离所述基底的表面接触，且，所述第二子遮光层覆盖所述第二过孔的侧壁。
可选地，所述第一遮光层和/或所述第二遮光层与所述无机层靠近所述基底的表面接触。
可选地，所述第一遮光层和/或所述第二遮光层位于所述有机层和所述无机层之间。
可选地，所述无机层的数量为多层；所述第一遮光层和/或所述第二遮光层位于相邻两层所述无机层之间。
可选地，所述有机层的数量为多层，所述第一遮光层和/或所述第二遮光层位于相邻两层所述有机层之间。
可选地，所述显示面板还包括显示器件层，所述显示器件层位于所述像素电路层远离所述基底的一侧，所述显示器件层包括多个第一显示器件和多个第二显示器件，所述第一显示器件在所述基底所在平面的正投影位于所述像素区，所述第二显示器件在所述基底所在平面的正投影位于所述第二显示区，所述第一显示器件和所述第二显示器件包括层叠设置的第一电极、发光层和第二电极，所述第一电极与所述像素电路电连接，相邻两个所述第一显示器件的所述第一电极之间的距离大于相邻两个所述第二显示器件的所述第一电极之间的距离。
可选地，所述第一遮光层和/或所述第二遮光层与所述第一电极同层设置。
可选地，所述第二遮光层靠近所述基底的一侧的表面包括多个凸起部。
可选地，所述第二遮光层与所述有机层的表面接触，所述有机层靠近所述第二遮光层的表面包括多个凹陷部，所述凸起部嵌入所述凹陷部内。
可选地，所述非透光区还包括吸光层，所述吸光层位于所述第二遮光层靠近所述基底的一侧，且，所述吸光层在所述基底所在平面的正投影覆盖所述第二遮光层。
可选地，所述像素电路包括多个薄膜晶体管；
所述吸光层为半导体层；所述半导体层与所述薄膜晶体管的有源层同层设置。
另一方面，本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述的显示面板，以及成像元件，所述成像元件位于所述基底远离所述像素电路层的一侧，所述成像元件在所述基底所在平面的正投影位于所述第一显示区内。
本发明实施例中的显示面板和显示装置，通过设置第一遮光层，并令第一遮光层在基底所在平面的正投影覆盖非开口部的侧面在基底所在平面的正投影，能够遮挡照射至非开口部侧面的光线或者穿过非开口部侧面出射的光线，能够减少经非开口部折射的光线穿过显示面板的概率，避免折射光线进入到前置摄像头中的接收点，提升每个接收点对应的拍摄画面的清晰度，进而使前置摄像头拍摄的整体画面更为清晰。
【附图说明】
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为现有技术中一种显示面板的截面示意图；
图2为本发明实施例中一种显示面板的结构示意图；
图3为图2中显示面板在第一显示区的一种局部放大示意图；
图4为图3中AA’向的一种截面示意图；
图5为图2中像素电路层在第一显示区的一种局部放大示意图；
图6为图3中AA’向的另一种截面示意图；
图7为图3中AA’向的另一种截面示意图；
图8为图3中AA’向的另一种截面示意图；
图9为图3中AA’向的另一种截面示意图；
图10为图3中AA’向的另一种截面示意图；
图11为图3中像素区处的一种截面示意图；
图12为图3中AA’向的另一种截面示意图；
图13为图3中AA’向的另一种截面示意图；
图14为本发明实施例中一种显示装置的结构示意图。
【具体实施方式】
为了更好的理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。
应当明确，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。
在对本发明实施例进行介绍之前，首先将发明人提出本发明实施例的过程进行介绍，发明人发现，如图1所示，图1为现有技术中一种显示面板的的截面示意图，其中，前置摄像头4’对应多个透光区1’进行设置。前置摄像头4’上包括多个阵列排列的接收点，如电荷耦合器件(Charge-coupled Device，以下简称CCD)。在前置摄像头4’的成像过程中，经所拍摄景物反射的光线透过透光区1’，以及包括有机层2’和无机层3’的显示面板照射到接收点上。但是基于图1所示的结构，每个接收点接收到的光线较为杂乱，导致每个接收点对应的拍摄画面存在模糊段，进而导致前置摄像头4’所拍摄的整体画面呈现出眩晕的视觉体验。基于上述原因，发明人提出本发明实施例的技术方案。
如图2、图3和图4所示，图2为本发明实施例中一种显示面板的结构示意图，图3为图2中显示面板在第一显示区的一种局部放大示意图，图4为图3中AA’向的一种截面示意图，本发明实施例提供了一种显示面板，显示面板包括第一显示区11和第二显示区12；其中，第一显示区11和第二显示区12均包括多个像素，第一显示区11的像素密度小于第二显示区12的像素密度。
第一显示区11包括多个透光区21和像素区22，透光区21与像素区22不交叠，第一显示区11可以被第二显示区12包围或半包围，透光区21为用于透光实现前置拍摄功能的区域，像素区22为用于实现显示功能的发光区域，第一显示区11中的像素位于像素区22。第一显示区11具有较低的分辨率以提供空间来设置透光区21，实现前置拍摄的功能。即第一显示区11为半透光区，可以实现显示画面和前置拍摄两个功能。第二显示区12具有更高的分辨率，用于正常显示画面。在本发明实施例中，前置摄像头C对应多个透光区21设置。图4中以前置摄像头C对应两个透光区21作为示意。
如图4所示，显示面板还包括：基底3、像素电路层4和遮光层5。像素电路层4位于基底3的一侧。像素电路层4包括开口部41和非开口部42。开口部41覆盖透光区21。非开口部42覆盖像素区22和第二显示区12。非开口部42包括底面421和侧面422。底面421平行于基底3所在平面。侧面422位于非开口部42靠近开口部41的一侧。且侧面422与底面421相交。侧面422与底面421之间的夹角α为锐角。即侧面422与基底3所在平面之间非平行，侧面422为倾斜平面。遮光层5包括第一遮光层51，第一遮光层51在基底3所在平面的正投影覆盖侧面422在基底3所在平面的正投影。
具体地，在图4所示的结构中，像素电路层4的非开口部42是指点状填充的部分，像素电路层4的开口部41是指去除材料层后的开口部分，为了进一步提高透光区21的光透过率，可以通过构图工艺去除像素电路层4中透光区21所对应的材料，使像素电路层4的开口部41覆盖透光区21，然而制作开口区41的工艺过程中，会导致非开口部42的侧面422形成倾斜面，当垂直于基底3所在平面方向的光穿过非开口部42的侧面422时，会产生折射，改变光线传输方向后继续传输，如果进入到显示面板背面的前置摄像头C，则会降低前置摄像头C的拍摄效果。
本发明实施例中的显示面板，通过设置第一遮光层51，并令第一遮光层51在基底3所在平面的正投影覆盖非开口部42的侧面422在基底3所在平面的正投影，如图4所示，沿方向z3传输的光线在射到第一遮光层51后，会被反射或吸收，从而能够遮挡照射至非开口部42侧面422的光线或者穿过非开口部42侧面422出射的光线，减少折射光线穿过显示面板的概率，避免折射光线进入到前置摄像头C中的接收点，提升每个接收点对应的拍摄画面的清晰度，进而使前置摄像头C拍摄的整体画面更为清晰。
可选的，在制备第一遮光层51时，可以选用反射率较高的材料，如选用金属材料，以对入射光进行反射。或者，也可以选用吸光率较高的材料，如黑色树脂等吸光材料，以通过对入射光的吸收，来减少折射光线的产生。
如图4所示，在本发明实施例中，可以将第一遮光层51的面积设计的较大，在使第一遮光层51不仅覆盖非开口部42的侧面422的基础上令第一遮光层51还包括如图4所示的与基底3接触的部分50。在形成第一遮光层51时，一般会采用沉积或者溅射的方式来形成，本发明实施例通过将第一遮光层51的面积设计的较大，能够保证第一遮光层51对照射至非开口部42的侧面的光线的遮挡效果，避免发生漏光。
可选地，像素电路层4包括层叠设置的至少一层有机层401和至少一层无机层402。其中，有机层401位于无机层402远离基底3的一侧，开口部41包括贯穿有机层401和无机层402的过孔400。第一遮光层51在基底3所在平面的正投影覆盖过孔400的侧壁在基底3所在平面的正投影。其中，过孔400的侧壁即为非开口部42的侧面422，有机层401和无机层402为透光的绝缘层，虽然有机层401和无机层402为透光材料，但是为了进一步提高透光区21的光透过率，在透光区21对应的位置设置贯穿有机层401和无机层402的过孔400，在该过孔400的图案化过程中，会产生倾斜的侧壁，即倾斜的侧面422，因此可以应用本发明实施例中的第一遮光层51对该倾斜的侧面422进行遮挡。另外，图4所示的结构中，仅仅示意出了像素电路层4所包括的有机层401和无机层402，但是在其他位置，例如在像素区22，像素电路层4中还设置有金属层，用于形成像素电路或信号走线等，以实现像素的驱动发光功能。可选的，在形成有机层401和无机层402时，可以将有机层401的厚度设计的较大，使有机层401的厚度大于无机层402的厚度。
可选地，如图2和图5所示，图5为图2中像素电路层在第一显示区的一种局部放大示意图，像素电路层包括多条第一信号线X1和第二信号线X2；多条第一信号线X1沿第一方向h1延伸，沿第二方向h2排列，第一方向h1与第二方向h2相交；多条第二信号线X2沿第一方向h1排列，沿第二方向h2延伸；第一信号线X1和第二信号线X2交叉限定出像素电路6的位置；像素电路6与对应的像素电连接；位于第一显示区11的像素电路6的密度小于位于第二显示区12的像素电路6的密度，像素电路6具体可以位于像素区22。
可选地，如图2至图5所示，第一显示区11还包括多个非透光区23。像素电路层4的非开口部42覆盖非透光区23。沿第一方向h1和第二方向h2，像素区22均位于相邻两个非透光区23之间，透光区21均位于相邻两个非透光区23之间。且，像素区22和透光区21沿第三方向h3排列。第三方向h3与第一方向h1和第二方向h2均相交。如图4所示，遮光层5还包括第二遮光层52。第二遮光层52在基底3所在平面的正投影位于非透光区23，且，第二遮光层52在像素电路层4所在平面的正投影覆盖位于非透光区23的第一信号线X1和/或第二信号线X2。
具体地，第一信号线X1和第二信号线X2用于传输信号，例如，第一方向h1为行方向，第二方向h2为列方向，沿第一方向h1延伸的第一信号线X1可以包括扫描控制信号线、发光控制信号线、横向的电源电压信号线和参考电压信号线，每一条第一信号线X1连接于对应的一行像素电路6。沿第二方向h2延伸的第二信号线X2可以包括数据线和纵向的电源电压信号线，每一条第二信号线X2连接于对应的一列像素电路6。其中，横向的电源电压信号线和纵向的电源电压信号线相互连接，组成网格状结构，用于为显示面板中不同位置处的像素电路6提供更加稳定的电源电压。由于第一信号线X1和第二信号线X2均为不透光结构，例如由金属材料制成的信号线，且多条信号线相互间隔设置，当光线穿过多条信号线所在的区域时，容易由于信号线的排布方式发生衍射现象，导致改变光的传播方向，如果衍射光线进入到显示面板背面的前置摄像头，则会降低前置摄像头的拍摄效果。本发明实施例中，通过第二遮光层52覆盖第一信号线X1和第二信号线X2，以实现在信号线所在位置处的遮光，降低由于信号线的排布方式而产生的衍射光线穿过显示面板的概率，从而进一步提高半透光区域对应的前置摄像头拍摄效果。
可选地，如图4所示，过孔400包括贯穿有机层401的第一过孔410，以及贯穿无机层402的第二过孔420。第一遮光层51包括第一子遮光层511和第二子遮光层512。第一子遮光层511和第二遮光层52与有机层401远离无机层402的表面接触，且，第一子遮光层511覆盖第一过孔410的侧壁；第二子遮光层512与无机层402远离基底3的表面接触，且，第二子遮光层512覆盖第二过孔420的侧壁。
具体地，在图4所示的结构中，遮光层51的第二遮光层52可以用于实现信号线等距离透光区21较远位置处的遮光，第一子遮光层511用于实现有机层401在透光区21边缘处倾斜侧面的遮光，第二子遮光层512用于实现无机层402在透光区21边缘处倾斜侧面的遮光。可以在有机层401和无机层402制作完成之后，在有机层401远离基底3的一侧制作遮光层51，该结构下，来自上方的光线无法照射至有机层401和无机层402的倾斜的侧面422，即避免了产生折射光线的问题。
可选地，如图6所示，图6为图3中AA’向的另一种截面示意图，第一遮光层51和/或第二遮光层52与无机层402靠近基底3的表面接触。
具体地，在图6所示的结构中，可以先在基底3上制作包括第一遮光层51和第二遮光层52的遮光层5，然后在遮光层5远离基底3的一侧制作无机层402和有机层401，在该结构中，来自上方的光线照射至有机层401或无机层402的倾斜侧面422，从而产生折射光线后，折射光线会向下继续传输，然后在遮光层5处被反射或吸收，从而避免折射光线进一步照射至显示面板背面。而且，本发明实施例通过将第一遮光层51和/或第二遮光层52设置为与无机层402靠近基底3的表面接触，在显示面板的制作过程中，可以将第一遮光层51和/或第二遮光层52的制备与显示面板中已有的膜层的制备分开，避免影响显示面板中已有膜层的制备。
可选地，如图7所示，图7为图3中AA’向的另一种截面示意图，第一遮光层51和/或第二遮光层52位于有机层401和无机层402之间。
具体地，在图7所示的结构中，可以先在基底3上制作无机层402，然后在无机层402远离基底3的一侧制作遮光层5，之后在遮光层5远离基底3的一侧制作有机层401。在该结构中，来自上方的光线照射至有机层401后产生的折射光线在遮光层5被反射或吸收，无法继续照射至显示面板背面，同时，防止来自上方的光线照射至无机层402而产生折射光线。
可选地，如图8所示，图8为图3中AA’向的另一种截面示意图，无机层402的数量为多层，第一遮光层51和/或第二遮光层52位于相邻两层无机层402之间。
可选地，如图9所示，图9为图3中AA’向的另一种截面示意图，有机层401的数量为多层，第一遮光层51和/或第二遮光层52位于相邻两层有机层401之间。
需要说明的是，图4、图6、图7、图8、图9中第一遮光层51和第二遮光层52同层设置仅为示意，实际上，还可以将第一遮光层和第二遮光层52设置在不同层，如图10所示，图10为图3中AA’向的另一种截面示意图，其中，第一遮光层51可以设置为与无机层402靠近基底3的表面接触，第二遮光层52可以设置为位于有机层401远离基底3的一侧。
可选的，如图10所示，在将第一遮光层51设置为与无机层402靠近基底3的表面接触，将第二遮光层52设置为位于有机层401远离基底3的一侧时，本发明实施例可以将第一遮光层51的面积设计的较大，使第一遮光层51和第二遮光层52在显示面板所在平面的正投影交叠，以保证光线在经第一过孔410的侧壁折射后能够被第一遮光层51所遮挡。
可选地，如图2、图3和图11所示，图11为图3中像素区处的一种截面示意图，显示面板还包括显示器件层7，显示器件层7位于像素电路层4远离基底3的一侧，显示器件层7包括多个第一显示器件和多个第二显示器件，第一显示器件在基底3所在平面的正投影位于像素区22，第二显示器件在基底3所在平面的正投影位于第二显示区12，第一显示器件和第二显示器件包括层叠设置的第一电极E1、发光层E2和第二电极E3，第一电极E1与像素电路电连接，相邻两个第一显示器件的第一电极E1之间的距离大于相邻两个第二显示器件的第一电极E1之间的距离。
具体地，例如，像素电路层4包括在沿垂直于显示面板所在平面方向上依次层叠设置有缓冲层81、有源层82、栅极绝缘层83、栅极金属层84、第一层间绝缘层85、电容金属层86、第二层间绝缘层87、源漏金属层88和平坦层89，像素电路包括信号线、薄膜晶体管M和电容C，其中电容C具有第一金属电极板C1和第二金属电极板C2，薄膜晶体管M具有金属的源极M1、漏极M2和栅极M3。另外，在图11中还示意出了位于平坦层89远离缓冲层81一侧的像素定义层80，像素定义层80上设置有与每个子像素对应的开口区，每个开口区中设置有上述第一显示器件或第二显示器件，对于每个显示器件，通过在第一电极E1和第二电极E3上分别施加电压，使得电子和空穴在发光层E2中复合发光，进而实现像素显示功能。相邻显示器件的第一电极E1之间的距离越大，则对应的像素密度越小，因此，相邻两个第一显示器件的第一电极E1之间的距离大于相邻两个第二显示器件的第一电极E1之间的距离，即表示第一显示区11的像素密度小于第二显示区12的像素密度。
示例性的，上述缓冲层81、栅极绝缘层83、第一层间绝缘层85、第二层间绝缘层87可以选由无机材料，如硅的氧化物或氮化物等来形成。即，缓冲层81、栅极绝缘层83、第一层间绝缘层85、第二层间绝缘层87可以对应图4、图6、图7、图8、图9和图10中的无机层402。上述平坦层89和像素定义层80可以选用有机材料，如苯并环丁烯，聚酰亚胺或聚丙烯酸等来形成。即，平坦层89和像素定义层80可以对应图4、图6、图7、图8、图9和图10中的有机层401。
具体的，结合图6和图11可以看出，在将第一遮光层51和/或第二遮光层52设置为与无机层402靠近基底3的表面接触时，可以将第一遮光层51和/或第二遮光层52设置在基底3和缓冲层81之间。
结合图7和图11可以看出，在将第一遮光层51和/或第二遮光层52设置于有机层401和无机层402之间时，可以将第一遮光层51和/或第二遮光层52设置在平坦层89和第二层间绝缘层87之间。
结合图8和图11可以看出，在将第一遮光层51和/或第二遮光层52设置在相邻两层无机层402之间时，可以将第一遮光层51和/或第二遮光层52设置在缓冲层81和栅极绝缘层83之间，或者也可以将第一遮光层51和/或第二遮光层52设置在栅极绝缘层83和第一层间绝缘层85之间，或者，也可以将第一遮光层51和/或第二遮光层52设置在第一层间绝缘层85和第二层间绝缘层87之间，本发明实施例对此不做限定。
结合图9和图11可以看出，在将第一遮光层51和/或第二遮光层52设置于相邻两层有机层401之间时，可以将第一遮光层51和/或第二遮光层52设置在平坦层89和像素定义层80之间。
示例性的，上述平坦层89和像素定义层80的厚度比缓冲层81、栅极绝缘层83、第一层间绝缘层85、第二层间绝缘层87的厚度大。且平坦层89和像素定义层80的厚度之和也比缓冲层81、栅极绝缘层83、第一层间绝缘层85、第二层间绝缘层87的厚度之和大。
可选地，如图4和图11所示，第一遮光层51和/或第二遮光层52与第一电极E1同层设置。由于显示器件中的第一电极E1为反射电极，因此可以起到遮光的作用，遮光层5和第一电极E1同层设置，可以使两者通过同一次构图工艺形成，从而简化了工艺制程。
可选地，如图11和图12所示，图12为图3中AA’向的另一种截面示意图，第二遮光层52靠近基底3的一侧的表面包括多个凸起部500。
具体地，来自遮光层5远离基底3一侧的光线虽然无法穿过遮光层5，但是可以从透光区21穿过，然后照射至显示面板下方的例如前置摄像头器件上，此时可能会使光线发生反射，反射至第二遮光层52的下表面，如果第二遮光层52的下表面为光滑平面，则容易通过镜面反射原理再次将光线反射至显示面板下方的前置摄像头上，从而可能对前置拍摄效果造成不良影响，而图12所示的结构中，由于第二遮光层52的下表面设置有多个凸起部500，使第二遮光层52的下表面呈粗糙状，使第二遮光层52的下表面更容易发生漫反射而非镜面反射，从而改善了由于遮光层下表面的镜面反射对拍摄效果的不良影响。
可选地，如图11和图12所示，第二遮光层52与有机层401的表面接触，有机层401靠近第二遮光层52的表面包括多个凹陷部，凸起部500嵌入凹陷部内。
具体地，可以选择具有半透区的掩膜板，利用半曝光技术在有机层401的表面形成凹陷部，然后在该有机层401的上表面制作第二遮光层52，即可使第二遮光层52的下表面和有机层401的上表面形成相对应的形状，从而简化了第二遮光层52表面上凸起部500的制作工艺。而且，由于有机层401的感光性较好，在曝光时无需涂覆光刻胶，因此，本发明实施例通过将第二遮光层52设置为与有机层401的表面接触，能够简化曝光工序。
可选地，如图13所示，图13为图3中AA’向的另一种截面示意图，非透光区23还包括吸光层9，吸光层9位于第二遮光层52靠近基底3的一侧，且，吸光层9在基底3所在平面的正投影覆盖第二遮光层52。
具体地，来自上方的光线虽然无法穿过遮光层5，但是可以从透光区21穿过，然后照射至显示面板下方的例如前置摄像头器件C上，此时可能会使光线发生反射，反射至第二遮光层52的下表面，如果第二遮光层52的下表面为光滑平面，则容易通过镜面反射原理再次将光线反射至显示面板下方的前置摄像头C上，从而可能对前置拍摄效果造成不良影响，而图13所示的结构中，在第二遮光层52的下方设置了吸光层9，对反射光线进行吸收，从而进一步改善了由于遮光层下表面的镜面反射对拍摄效果的不良影响。而且，如图13所示，本发明实施例通过将吸光层9设置在第二遮光层52靠近基底3的一侧，这样经前置摄像头C反射的光线，以及经第二遮光层52反射的光线均能够被吸光层9吸收。因此在光线在前置摄像头C和第二遮光层52之间传播时，吸光层9能够对部分光线经过多次吸收，从而能够进一步改善拍摄效果。
可选地，如图11和图13所示，像素电路包括多个薄膜晶体管M；吸光层9为半导体层。该半导体层与薄膜晶体管M的有源层82同层设置。
具体地，薄膜晶体管M的有源层82为半导体层，例如由多晶硅材料制成，多晶硅材料的半导体层透光但是偏黄色，对光线具有一定吸收作用，因此利用该半导体层来制作吸光层9，在降低工艺成本的同时实现吸光作用。
如图14所示，图14为本发明实施例中一种显示装置的结构示意图，本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述的显示面板100，以及成像元件(图中未示出)，成像元件位于上述基底3远离像素电路层4的一侧，成像元件在基底3所在平面的正投影位于第一显示区11内。
具体地，成像元件即可以为上述的前置摄像头，其中，显示面板100的具体结构已经在上述实施例中进行了详细说明，此处不再赘述。当然，图14所示的显示装置仅仅为示意说明，该显示装置可以是例如手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书或电视机等任何具有显示功能的电子设备。
本发明实施例中的显示装置，通过设置与像素电路层非开口部的侧面重叠的第一遮光层，来遮挡照射至非开口部侧面的光线或者穿过非开口部侧面出射的光线，能够减少经非开口部折射的光线穿过显示面板的概率，避免折射光线进入到前置摄像头中的接收点，提升每个接收点对应的拍摄画面的清晰度，进而使前置摄像头拍摄的整体画面更为清晰。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明保护的范围之内。
Claims (16)
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括第一显示区和第二显示区；其中，所述第一显示区和所述第二显示区均包括多个像素，所述第一显示区的像素密度小于所述第二显示区的像素密度，所述第一显示区包括多个透光区和像素区，所述透光区与所述像素区不交叠；
所述显示面板还包括：
基底；
像素电路层，位于所述基底的一侧，所述像素电路层包括开口部和非开口部，所述开口部覆盖所述透光区；所述非开口部覆盖所述像素区和所述第二显示区；所述非开口部包括底面和侧面，所述底面平行于所述基底所在平面，所述侧面位于所述非开口部靠近所述开口部的一侧，且，所述侧面与所述底面相交，所述侧面与所述底面之间的夹角为锐角；
遮光层，包括第一遮光层，所述第一遮光层在所述基底所在平面的正投影覆盖所述侧面在所述基底所在平面的正投影。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述像素电路层包括层叠设置的至少一层有机层和至少一层无机层；其中，所述有机层位于所述无机层远离所述基底的一侧，所述开口部包括贯穿所述有机层和所述无机层的过孔，所述第一遮光层在所述基底所在平面的正投影覆盖所述过孔的侧壁在所述基底所在平面的正投影。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述像素电路层包括多条第一信号线和第二信号线；多条所述第一信号线沿第一方向延伸，沿第二方向排列，所述第一方向与所述第二方向相交；多条所述第二信号线沿所述第一方向排列，沿所述第二方向延伸；所述第一信号线和所述第二信号线交叉限定出像素电路的位置；所述像素电路与所述像素电连接；位于所述第一显示区的所述像素电路的密度小于位于所述第二显示区的所述像素电路的密度。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，
所述第一显示区还包括多个非透光区；所述像素电路层的非开口部覆盖所述非透光区；
沿所述第一方向和所述第二方向，所述像素区均位于相邻两个所述非透光区之间；
沿所述第一方向和所述第二方向，所述透光区均位于相邻两个所述非透光区之间；
且，所述像素区和所述透光区沿第三方向排列，所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向均相交；
所述遮光层还包括第二遮光层，所述第二遮光层在所述基底所在平面的正投影位于所述非透光区，且，所述第二遮光层在所述像素电路层所在平面的正投影覆盖位于所述非透光区的所述第一信号线和/或所述第二信号线。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
所述过孔包括贯穿所述有机层的第一过孔，以及贯穿所述无机层的第二过孔；
所述第一遮光层包括第一子遮光层和第二子遮光层；
所述第一子遮光层和所述第二遮光层与所述有机层远离所述无机层的表面接触，且，所述第一子遮光层覆盖所述第一过孔的侧壁；所述第二子遮光层与所述无机层远离所述基底的表面接触，且，所述第二子遮光层覆盖所述第二过孔的侧壁。
6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
所述第一遮光层和/或所述第二遮光层与所述无机层靠近所述基底的表面接触。
7.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
所述第一遮光层和/或所述第二遮光层位于所述有机层和所述无机层之间。
8.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
所述无机层的数量为多层；所述第一遮光层和/或所述第二遮光层位于相邻两层所述无机层之间。
9.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
所述有机层的数量为多层，所述第一遮光层和/或所述第二遮光层位于相邻两层所述有机层之间。
10.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括显示器件层，所述显示器件层位于所述像素电路层远离所述基底的一侧，所述显示器件层包括多个第一显示器件和多个第二显示器件，所述第一显示器件在所述基底所在平面的正投影位于所述像素区，所述第二显示器件在所述基底所在平面的正投影位于所述第二显示区，所述第一显示器件和所述第二显示器件包括层叠设置的第一电极、发光层和第二电极，所述第一电极与所述像素电路电连接，相邻两个所述第一显示器件的所述第一电极之间的距离大于相邻两个所述第二显示器件的所述第一电极之间的距离。
11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，
所述第一遮光层和/或所述第二遮光层与所述第一电极同层设置。
12.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
所述第二遮光层靠近所述基底的一侧的表面包括多个凸起部。
13.根据权利要求12所述的显示面板，其特征在于，
所述第二遮光层与所述有机层的表面接触，所述有机层靠近所述第二遮光层的表面包括多个凹陷部，所述凸起部嵌入所述凹陷部内。
14.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
所述非透光区还包括吸光层，所述吸光层位于所述第二遮光层靠近所述基底的一侧，且，所述吸光层在所述基底所在平面的正投影覆盖所述第二遮光层。
15.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，
所述像素电路包括多个薄膜晶体管；
所述吸光层为半导体层；所述半导体层与所述薄膜晶体管的有源层同层设置。
16.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～15任一项所述的显示面板，以及成像元件，所述成像元件位于所述基底远离所述像素电路层的一侧，所述成像元件在所述基底所在平面的正投影位于所述第一显示区内。
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