CN110750034B - 光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法 - Google Patents

Abstract

提供一种光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法，提供在设置有调整光学元件的位置的调整机构时的该光学元件的振动的方面有利的技术。在具备调整光学元件的位置的调整机构的光学装置中，所述调整机构包括：第一引导部，在与所述光学元件的光轴垂直的面内的第一方向上引导所述光学元件的移动；第二引导部，在所述面内的与所述第一方向不同的第二方向上引导所述光学元件的移动；以及第三引导部，在与所述面以及所述光轴交叉的第三方向上引导所述光学元件的移动。

Description

光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法

技术领域

本发明涉及具备调整光学元件的位置的调整机构的光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。

背景技术

作为在液晶面板等显示元件、半导体器件等的制造工序(光刻工序)中使用的装置之一，存在一种曝光装置，该曝光装置将掩模的图案投影于基板上而曝光该基板。专利文献1公开了一种所谓反射镜型(镜投影型)的曝光装置，该曝光装置具有使用凸面镜、凹面镜等多个光学元件将掩模的图案像投影于基板上的投影光学系统。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-109741号公报

发明内容

发明所要解决的问题

在投影光学系统中，为了调整像散等成像性能，优选设置调整光学元件(例如凸面镜)的位置的调整机构。然而，由于设置了调整机构，当受到干扰影响时的光学元件的振动变大时，可能难以高精度地将掩模的图案像投影于基板上。

于是，本发明的目的在于提供一种在设置有调整光学元件的位置的调整机构时的该光学元件的振动的方面有利的技术。

用于解决问题的方案

为了达成上述目的，作为本发明的一个方面的光学装置具备调整光学元件的位置的调整机构，其特征在于，所述调整机构包括：第一引导部，在与所述光学元件的光轴垂直的面内的第一方向上引导所述光学元件的移动；第二引导部，在所述面内的与所述第一方向不同的第二方向上引导所述光学元件的移动；以及第三引导部，在与所述面以及所述光轴交叉的第三方向上引导所述光学元件的移动。

为了达成上述目的，作为本发明的一个方面的投影光学系统将掩模的图案像投影于基板上，其特征在于，所述投影光学系统包括：光学元件，具有光的反射面；以及光学装置，具备调整所述光学元件的位置的调整机构，所述调整机构包括：第一引导部，在与所述光学元件的光轴垂直的面内的第一方向上引导所述光学元件的移动；第二引导部，在所述面内的与所述第一方向不同的第二方向上引导所述光学元件的移动；以及第三引导部，在与所述面以及所述光轴交叉的第三方向上引导所述光学元件的移动。

为了达成上述目的，作为本发明的一个方面的曝光装置将基板曝光，其特征在于，所述曝光装置包括：照明光学系统，对掩模照明；以及投影光学系统，将所述掩模的图案像投影于所述基板上，所述投影光学系统包括：光学元件，具有光的反射面；以及光学装置，具备调整所述光学元件的位置的调整机构，所述调整机构包括：第一引导部，在与所述光学元件的光轴垂直的面内的第一方向上引导所述光学元件的移动；第二引导部，在所述面内的与所述第一方向不同的第二方向上引导所述光学元件的移动；以及第三引导部，在与所述面以及所述光轴交叉的第三方向上引导所述光学元件的移动。

为了达成上述目的，作为本发明的一个方面的物品的制造方法的特征在于，基于经过了使用曝光装置曝光基板的工序和使通过所述工序进行了曝光的所述基板显影的工序的所述基板来制造物品，所述曝光装置包括：照明光学系统，对掩模照明；以及投影光学系统，将所述掩模的图案像投影于所述基板上，所述投影光学系统包括：光学元件，具有光的反射面；以及光学装置，具备调整所述光学元件的位置的调整机构，所述调整机构包括：第一引导部，在与所述光学元件的光轴垂直的面内的第一方向上引导所述光学元件的移动；第二引导部，在所述面内的与所述第一方向不同的第二方向上引导所述光学元件的移动；以及第三引导部，在与所述面以及所述光轴交叉的第三方向上引导所述光学元件的移动。

以下，通过参照附图来说明的优选的实施方式，本发明的进一步的目的或者其他的方面将变得清楚。

发明的效果

根据本发明，能够提供一种例如在设置有调整光学元件的位置的调整机构时的该光学元件的振动的方面有利的技术。

附图说明

图1为曝光装置的概略图。

图2为示出调整机构的结构例的图。

图3为示出调整机构的结构例的图。

图4为示出第三调整部(第三引导部)的图。

图5为用于说明调整凸面镜的位置的方法的图。

图6为示出以往的调整机构与本实施方式的调整机构的比较的图。

(附图标记说明)

11：多面光学部件；12：凹面镜；13：凸面镜；14：光轴；16：支承部件；20：调整机构；21：第一引导部；22：第二引导部；23：第三引导部。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的优选实施方式进行说明。此外，在各图中，对相同部件或者要素附加相同的参照编号，并省略重复的说明。

<第一实施方式>

对本发明的第一实施方式进行说明。图1为本实施方式的包括投影光学系统PL的曝光装置10的概略图。本实施方式的曝光装置10一边使掩模M与基板S(例如玻璃基板)在Y方向上相对地移动，一边将形成于掩模M的图案的像投影于涂敷了光刻胶的基板S，而将基板S曝光。曝光装置10具有对掩模M照明的照明光学系统IL、将掩模M的图案投影于基板上的投影光学系统PL和控制部CNT。控制部CNT由例如包括CPU、存储器等的计算机构成，控制曝光装置10的各部分。

投影光学系统PL可以由反射来自掩模M的光的多个光学元件构成。具体而言，投影光学系统PL可以包括：多面光学部件11，具有第一反射面11a以及第二反射面11b；凹面镜12，具有第一凹反射面12a以及第二凹反射面12b；以及凸面镜13，具有反射面13a。多面光学部件11、凹面镜12以及凸面镜13构成将掩模M(物面)的图案在基板S(像面)上成像的成像光学系统。凹面镜12以及凸面镜13的光轴14为共通的，在图1中以单点划线示出。另外，投影光学系统PL具有容纳这些光学元件的镜筒15。

在此，在本实施方式中，将铅垂方向(例如与基板S的面垂直的方向)设为Z方向，将在水平面内(例如与基板S的面平行的面内)相互正交的2个方向设为X方向、Y方向。另外，本实施方式的Y方向被定义为与凸面镜13(凹面镜12)的光轴14平行的方向(光轴方向)。

多面光学部件11例如是YZ剖面为三角形状或者梯形形状的部件，由包括第一反射面11a、第二反射面11b以及面11c的多个平面构成。在多面光学部件11的第一反射面11a、第二反射面11b形成反射膜，具有使入射光反射而弯曲光路的功能。另外，在本实施方式的多面光学部件11设置有贯通孔11d，支承凸面镜13的支承部件16贯通该贯通孔11d。

从照明光学系统IL向-Z方向射出的光透过掩模M，在配置于掩模M的下方的多面光学部件11的第一反射面11a处向+Y方向弯曲。在多面光学部件11的第一反射面11a处被弯曲的光按照第一凹反射面12a、凸面镜13的反射面13a、第二凹反射面12b、第二反射面11b的顺序被反射，入射于基板S。即，在投影光学系统PL中，多面光学部件11、凹面镜12以及凸面镜13能够构成为使来自物面的光按照第一反射面11a、第一凹反射面12a、反射面13a、第二凹反射面12b、第二反射面11a的顺序被反射。

凸面镜13能够被支承部件16支承。支承部件16为沿着凸面镜13的光轴14的方向(Y方向)延伸的部件，一个端部连接于投影光学系统PL的镜筒15，另一个端部经由调整机构20连接于凸面镜13的反射面13a的相反侧的面。即，支承部件16形成为一个端部被镜筒15支承、另一个端部支承凸面镜13的悬臂构造。

[调整机构的结构]

在投影光学系统PL中，优选地，在调整像散等成像性能(光学性能)的光学装置中设置用于在3个轴向(X方向、Y方向、Z方向)上调整光学元件(例如凸面镜13)的位置的机构。在本实施方式中，用于调整凸面镜13的位置的调整机构20可以设置于凸面镜13与支承部件16之间。然而，由于设置了调整机构20，对凸面镜13的支承刚性降低，当受到干扰影响时的凸面镜13的振动变大时，可能难以将掩模M的图案像高精度地投影于基板上。于是，本实施方式的调整机构20构成为能够抑制对凸面镜13的支承刚性的降低。

图2以及图3为示出本实施方式的调整机构20的结构例的图。图2为从X方向观察调整机构20的图，图3为从Z方向观察调整机构20的图。本实施方式的调整机构20例如可以包括沿着凸面镜13的光轴方向(Y方向)串联地配置的第一调整部20a、第二调整部20b以及第三调整部20c。虽然在图2以及图3所示的调整机构20的结构例中，从凸面镜13侧按照第一调整部20a、第二调整部20b、第三调整部20c的顺序排列，但是各调整部20a～20c的排列顺序可以为任意的顺序。

第一调整部20a为用于在与凸面镜13的光轴14垂直的面内(在本实施方式中为XZ面内)的第一方向(在本实施方式中为Z方向)上调整凸面镜13的位置的机构。第一调整部20a包括第一引导部21，该第一引导部21一边维持凸面镜13的姿势，一边引导凸面镜13的沿着第一方向(Z方向)的并进移动。第一引导部21例如可以由线性引导件构成，该线性引导件包括在Z方向上延伸的导轨21a(固定部件)和能够沿着导轨21a移动的移动体21b(可动部件)。导轨21a可以被固定于安装于凸面镜13的基体板24，移动体21b可以被固定于基体板25。在此，如图3所示，在第一引导部21中，为了减少凸面镜13的姿势变动，可以在X方向上设置分离的多个(在本实施方式中为2个)线性引导件。第一引导部21除了能够应用使用线性引导件的结构以外，也能够应用使用轧辊引导件(cross roller guide)的结构、在V型槽配置球的结构、使用燕尾槽引导件的结构、使用无油引导件的结构等。

另外，第一调整部20a可以包括第一驱动部，该第一驱动部沿着第一引导部21在第一方向(Z方向)上驱动凸面镜13。第一驱动部包括例如步进电机、线性电机等致动器，通过在Z方向上相对地驱动第一引导部21的导轨21a和移动体21b，能够在Z方向上驱动凸面镜13。步进电机是通用致动器，所以比较便宜，另外，由于能够通过驱动脉冲数来控制位置，在容易进行位置调整控制的方面是优异的。线性电机是直线驱动致动器，因此不需要在使用如步进电机那样的旋转驱动致动器的情况下所必需的将旋转运动变换为直线运动的机构，在能够简化第一驱动部的结构的方面是优异的。本实施方式的第一驱动部例如可以由线性电机构成，该线性电机将第一引导部21的导轨21a作为定子并将移动体21b作为动子。

在此，当在组装时、维护时调整凸面镜13的位置的情况下，第一驱动部除了可以是致动器以外，也可以是通过推挽螺钉、推动螺钉和拉簧变更加压的机构等通过手动驱动凸面镜13的结构。在由上述的手动机构构成第一驱动部的情况下，能够简化第一驱动部的结构，并且能够廉价地制造。另外，由于没有致动器等发热源，也能够减少由发热导致的投影光学系统PL的成像性能的劣化。

此外，第一调整部20a也可以包括用于保持(维持)调整后的凸面镜13的位置的保持部。该保持部例如可以包括锁定(固定)第一引导部21的导轨21a与移动体21b的相对位置的锁定机构(固定机构)。作为锁定机构而使用例如气动夹持器等，在该情况下，能够远程锁定导轨21a与移动体21b的相对位置。另外，锁定机构也可以为通过螺钉紧固来锁定导轨21a与移动体21b的相对位置的机构。在该情况下，能够提高第一调整部20a对凸面镜13的支承刚性。

第二调整部20b为用于在与凸面镜13的光轴14垂直的面内(XZ面内)的与第一方向不同的第二方向(在本实施方式中为与第一方向(Z方向)垂直的X方向)上调整凸面镜13的位置的机构。第二调整部20b包括第二引导部22，该第二引导部22一边维持凸面镜13的姿势，一边沿着第二方向(X方向)引导凸面镜13的并进移动。第二引导部22例如由线性引导件构成，该线性引导件包括在X方向上延伸的导轨22a(固定部件)和能够沿着导轨22a移动的移动体22b(可动部件)。导轨22a可以被固定于固定有第一引导部21的移动体21b的基体板25，移动体22b可以被固定于基体板26。在此，如图2所示，在第二引导部22中，为了减少凸面镜13的姿势变动，可以在Z方向上设置分离的多个(在本实施方式中为2个)线性引导件。与第一引导部21同样地，第二引导部22能够应用使用线性引导件的结构以外的结构。

另外，第二调整部20b可以包括第二驱动部，该第二驱动部沿着第二引导部22在第二方向(X方向)上驱动凸面镜13。第二驱动部包括例如步进电机、线性电机等致动器，通过在X方向上相对地驱动第二引导部22的导轨22a和移动体22b，能够在X方向上驱动凸面镜13。与第一驱动部同样地，本实施方式的第二驱动部例如可以由线性电机构成，该线性电机将第二引导部22的导轨22a作为定子并将移动体22b作为动子，但是第二驱动部也可以由线性电机以外的致动器、上述的手动机构等构成。此外，第二调整部20b也可以包括用于保持(维持)调整后的凸面镜13的位置的保持部。与第一调整部20a同样地，该保持部可以包括锁定第二引导部22的导轨22a与移动体22b的相对位置的锁定机构。

第三调整部20c为用于在凸面镜13的光轴方向(在本实施方式中为Y方向)上调整凸面镜13的位置的机构。第三调整部20c包括第三引导部23，该第三引导部23一边维持凸面镜13的姿势，一边引导凸面镜沿着与和凸面镜13的光轴14垂直的面(XZ面)以及凸面镜13的光轴14交叉的第三方向(在本实施方式中为Y’方向)上并进移动。此外，以下将与凸面镜13的光轴14垂直的面称为“垂直面”。

在此，第三方向为相对于垂直面(XZ面)倾斜的方向，在本实施方式中，可以被定义为在包含第一方向(Z方向)与凸面镜13的光轴方向(Y方向)的面内(YZ面内)的一个方向(Y’方向)。然而，第三方向不限于YZ面内的一个方向，例如，只要为包含第二方向(X方向)与凸面镜13的光轴方向(Y方向)的面内(XY面内)的一个方向等的与垂直面(XZ面)交叉的方向即可。另外，根据通过实验、仿真得到的凸面镜13的支承刚性(抗振动性能)与凸面镜13向光轴方向的移动行程的关系，垂直面(XZ面)与第三方向(Y’方向)之间的角度θ可以在0.6度以上且30度以下的范围内。更加优选地，可以在2.5度以上且3.5度以下的范围内。

第三引导部23例如可以由线性引导件构成，该线性引导件包括在Y’方向上延伸的导轨23a(固定部件)和能够沿着导轨23a移动的移动体23b(可动部件)。导轨23a可以经由固定部件28被固定于固定有第二引导部22的移动体22b的基体板26，移动体23b可以经由固定部件29被固定于安装于支承部件16的基体板27。固定部件28构成为与基体板26的接触面和与导轨23a的接触面形成角度θ，同样地，固定部件29也构成为与基体板27的接触面和与移动体23b的接触面形成角度θ。据此，使导轨23a与移动体23b在Y’方向上相对地移动，从而能够引导凸面镜13向Y’方向并进移动。在此，如图3所示，在第三引导部23中，为了减少凸面镜13的姿势变动，可以在X方向上设置分离的多个(在本实施方式中为2个)线性引导件。与第一引导部21同样地，第三引导部23能够应用使用线性引导件的结构以外的结构。

另外，第三调整部20c可以包括第三驱动部，该第三驱动部沿着第三引导部23在第三方向(Y’方向)上驱动凸面镜13。第三驱动部包括例如步进电机、线性电机等致动器，能够在Y’方向上相对地驱动第三引导部23的导轨23a与移动体23b。与第一驱动部同样地，本实施方式的第三驱动部例如可以由线性电机构成，该线性电机将第三引导部23的导轨23a作为定子并将移动体23b作为动子，但是第三驱动部也可以由线性电机以外的致动器、上述的手动机构等构成。而且，第三调整部20c也可以包括用于保持(维持)调整后的凸面镜13的位置的保持部。与第一调整部20a同样地，该保持部可以包括锁定第三引导部23的导轨23a与移动体23b的相对位置的锁定机构。

[凸面镜的移动分量]

在如此构成的调整机构20中，当通过第三引导部23在第三方向(Y’方向)上引导凸面镜13的移动时，凸面镜13在向光轴方向(Y方向)的移动分量的基础上，还可能产生向第一方向(Z方向)的移动分量。因此，凸面镜13在3个轴向(X方向、Y方向、Z方向)上的位置的目标调整量不能原样用作各个调整部20a～20c的调整量(即导轨与移动体的相对移动量)。即，在使用本实施方式的调整机构20的情况下，需要基于凸面镜13的位置的目标调整量来决定各个调整部20a～20c的调整量。以下，一边参照图4一边对各个调整部20a～20c的调整量的决定处理进行说明。在此，也可以通过控制部CNT决定各个调整部20a～20c的调整量。在该情况下，控制部CNT能够基于决定的调整量来控制各个调整部20a～20c的驱动部。

图4为示出第三调整部20c(第三引导部23)的图。另外，将凸面镜13在各个方向上的目标调整量、各个调整部20a～20c的调整量、由第三调整部20c执行的位置调整所产生的凸面镜13的移动分量定义为如下。

Sz：凸面镜在Z方向上的目标调整量

Sx：凸面镜在X方向上的目标调整量

Sy：凸面镜在Y方向上的目标调整量

Tz：第一调整部的调整量

Tx：第二调整部的调整量

Ty’：第三调整部的调整量

Y’z：由第三调整部进行的位置调整所产生的凸面镜向Z方向的移动分量

Y’y：由第三调整部进行的位置调整所产生的凸面镜向Y方向的移动分量

θ：XZ面与Y’方向之间的角度

在该情况下，能够通过以下的式(1)来表示由第三调整部20c进行的位置调整所产生的凸面镜13向Z方向的移动分量Y’z以及凸面镜13向Y方向的移动分量Y’y。

Y’z＝-Ty’×cosθ

Y’y＝Ty’×sinθ

tanθ＝Y’y/Y’z ···(1)

另外，能够通过以下的式(2)来表示凸面镜13在各个方向上的目标调整量与各个调整部20a～20c的调整量的关系。

Sz＝Tz+Y’z

Sx＝Tx

Sy＝Y’y ···(2)

由此，根据上述的式(1)以及式(2)，能够基于以下的式(3)来决定各个调整部20a～20c的调整量。

Sz＝Tz-Ty’×cosθ

Sx＝Tx

Sy＝Ty’×sinθ ···(3)

[凸面镜的位置校正]

如上所述，当通过第三引导部23在第三方向(Y’方向)上引导凸面镜13的移动时，凸面镜13在产生向光轴方向(Y方向)的移动分量的基础上，还会产生向第一方向(Z方向)的移动分量。如此，能够通过由第一引导部21引导的凸面镜13的移动来校正如上那样由第三引导部23引导凸面镜13的移动时的向第一方向(Z方向)的移动分量。即，能够通过由第一调整部20a进行的调整来校正由第三调整部20c进行的调整所产生的向Z方向的移动分量。以下，参照图5对该校正方法进行说明。在此，也可以通过利用控制部CNT控制各个调整部20a～20c的驱动部来进行以下所示的校正方法。

图5为用于说明调整凸面镜13的位置的方法的图，示出将凸面镜13的位置在+Y方向上调整目标调整量Ya的示例。图5的(a)示出凸面镜13的坐标为(X，Y，Z)＝(0，0，0)的调整前的状态。另外，图5的(b)示出进行了由第三调整部20c进行的调整后的状态，图5的(c)示出进行了由第一调整部20a进行的校正后的状态。

在将凸面镜13的位置在+Y方向上调整目标调整量Ya的情况下，能够通过以下的式(4)来求出第三调整部20c的调整量Ty’a(即导轨23a与移动体23b在Y’方向上的相对移动量)。另外，可以通过以下的式(5)来求出在通过第三调整部20c进行调整时产生的凸面镜13向Z方向的移动分量Tza。由此，如图5的(b)所示，当通过第三调整部使凸面镜13在Y’方向上移动求出的调整量Ty’a时，凸面镜13的坐标变为(X，Y，Z)＝(0，Ya，-Tza)。

Ty’a＝Ya/sinθ ···(4)

Tza＝Ty’a×cosθ

＝Ya/sinθ×cosθ ···(5)

如此通过第三调整部20c将凸面镜13在+Y方向上调整目标调整量Ya时，产生凸面镜13向Z方向的移动分量Tza。因此，由第一调整部20a使凸面镜13在Z方向上移动，以校正该移动分量Tza。据此，如图5的(c)所示，能够使凸面镜13的坐标为(X，Y，Z)＝(0，Ya，0)。

在此，在第三方向不在YZ面内的情况下，当通过第三引导部23引导凸面镜13的移动时，存在产生向第二方向(X方向)的移动分量的情形。在该情况下，能够通过由第二引导部22引导的凸面镜13的移动来校正向第二方向的移动分量。即，能够使用第一调整部20a以及第二调整部20b来校正由第三调整部20c进行的调整所产生的向XZ方向的移动分量。

[效果]

接下来，对本实施方式的调整机构20的结构的效果进行说明。图6为示出以往的调整机构30与本实施方式的调整机构20的比较的图。图6的(a)为示出以往的调整机构30的结构的概略图，图6的(b)为示出本实施方式的调整机构20的结构的概略图。另外，图6的(c)为示出以往的调整机构30与本实施方式的调整机构20的固有频率的比较的图。

如图6的(a)所示，在以往的调整机构30中，针对3个轴向的各个方向设置了引导部。具体而言，设置了引导凸面镜13向Z方向移动的引导部31、引导凸面镜13向X方向移动的引导部32和引导凸面镜13向Y方向移动的引导部33。与此相对，如图6的(b)所示，在本实施方式的调整机构20中，设置引导凸面镜13向Y’方向(第三方向)移动的第三引导部23，代替引导凸面镜向Y方向移动的引导部。据此，如图6的(c)所示，在本实施方式的调整机构20中，如图6的(c)所示，将固有频率设定得相比以往的调整机构30大，能够提高对凸面镜13的支承刚性(例如ωx方向、ωz方向)。

<物品的制造方法的实施方式>

本发明的实施方式的物品的制造方法例如适用于制造半导体器件等微型器件、具有精细构造的元件等物品。本实施方式的物品的制造方法包括对涂敷于基板的感光剂使用上述的曝光装置形成潜像图案的工序(曝光基板的工序)和将通过该工序形成了潜像图案的基板显影(加工)的工序。而且，该制造方法包括其他公知的工序(氧化、成膜、蒸镀、掺杂、平坦化、蚀刻、抗蚀剂剥离、切割、粘接、封装等)。与以往的方法相比，本实施方式的物品的制造方法在物品的性能、品质、生产率、生产成本中的至少一方面是有利的。

以上，对本发明的优选的实施方式进行了说明，但是本发明不限于这些实施方式，这是不言而喻的，在其要旨的范围内能够进行各种变形以及变更。

Claims (12)

1.一种光学装置，具备调整光学元件的位置的调整机构，其特征在于，所述调整机构包括：

第一引导部，在与所述光学元件的光轴垂直的面内的第一方向上引导所述光学元件的移动；

第二引导部，在所述面内的与所述第一方向不同的第二方向上引导所述光学元件的移动；以及

第三引导部，在与所述面以及所述光轴交叉的第三方向上引导所述光学元件的移动。

2.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

还包括支承部件，所述支承部件支承所述光学元件，

所述调整机构被设置于所述支承部件与所述光学元件之间。

3.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述第一引导部、所述第二引导部以及所述第三引导部沿着所述光学元件的光轴方向串联地排列。

4.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述面与所述第三方向之间的角度在0.6度以上且30度以下的范围内。

5.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述第一引导部、所述第二引导部以及所述第三引导部分别构成为一边维持所述光学元件的姿势一边引导所述光学元件的并进移动。

6.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述调整机构构成为能够通过由所述第一引导部引导的所述光学元件的移动来校正由所述第三引导部引导所述光学元件的移动时的所述第一方向的移动分量。

7.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述调整机构构成为能够通过由所述第二引导部引导的所述光学元件的移动来校正由所述第三引导部引导所述光学元件的移动时的所述第二方向的移动分量。

8.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述调整机构包括：第一驱动部，沿着所述第一引导部驱动所述光学元件；第二驱动部，沿着所述第二引导部驱动所述光学元件；以及第三驱动部，沿着所述第三引导部驱动所述光学元件，

所述光学装置还包括控制部，所述控制部基于所述光学装置的位置的目标调整量来控制所述第一驱动部、所述第二驱动部以及所述第三驱动部。

9.一种投影光学系统，将掩模的图案像投影于基板上，其特征在于，所述投影光学系统包括：

光学元件，具有光的反射面；以及

光学装置，具备调整所述光学元件的位置的调整机构，

所述调整机构包括：

第一引导部，在与所述光学元件的光轴垂直的面内的第一方向上引导所述光学元件的移动；

第二引导部，在所述面内的与所述第一方向不同的第二方向上引导所述光学元件的移动；以及

第三引导部，在与所述面以及所述光轴交叉的第三方向上引导所述光学元件的移动。

10.根据权利要求9所述的投影光学系统，其特征在于，

所述投影光学系统包括凹面镜以及凸面镜，

所述调整机构调整作为所述光学元件的所述凸面镜的位置。

11.一种曝光装置，将基板曝光，其特征在于，所述曝光装置包括：

照明光学系统，对掩模照明；以及

投影光学系统，将所述掩模的图案像投影于所述基板上，

所述投影光学系统包括：光学元件，具有光的反射面；以及光学装置，具备调整所述光学元件的位置的调整机构，

所述调整机构包括：

第一引导部，在与所述光学元件的光轴垂直的面内的第一方向上引导所述光学元件的移动；

第二引导部，在所述面内的与所述第一方向不同的第二方向上引导所述光学元件的移动；以及

第三引导部，在与所述面以及所述光轴交叉的第三方向上引导所述光学元件的移动。

12.一种物品的制造方法，其特征在于，

基于经过了使用曝光装置曝光基板的工序和使通过所述工序进行了曝光的所述基板显影的工序的所述基板来制造物品，

所述曝光装置包括：照明光学系统，对掩模照明；以及投影光学系统，将所述掩模的图案像投影于所述基板上，

所述投影光学系统包括：光学元件，具有光的反射面；以及光学装置，具备调整所述光学元件的位置的调整机构，

所述调整机构包括：

第一引导部，在与所述光学元件的光轴垂直的面内的第一方向上引导所述光学元件的移动；

第二引导部，在所述面内的与所述第一方向不同的第二方向上引导所述光学元件的移动；以及

第三引导部，在与所述面以及所述光轴交叉的第三方向上引导所述光学元件的移动。

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