TWI726456B - 用於調整微影設備的第一元件朝向該微影設備的第二元件的方法 - Google Patents

用於調整微影設備的第一元件朝向該微影設備的第二元件的方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI726456B
TWI726456B TW108138240A TW108138240A TWI726456B TW I726456 B TWI726456 B TW I726456B TW 108138240 A TW108138240 A TW 108138240A TW 108138240 A TW108138240 A TW 108138240A TW I726456 B TWI726456 B TW I726456B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
spacer
adjustable spacer
item
displacement
height
Prior art date
Application number
TW108138240A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202020579A (zh
Inventor
米特勒 包茲 普尼尼
Original Assignee
德商卡爾蔡司Ｓｍｔ有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 德商卡爾蔡司Ｓｍｔ有限公司 filed Critical 德商卡爾蔡司Ｓｍｔ有限公司
Publication of TW202020579A publication Critical patent/TW202020579A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI726456B publication Critical patent/TWI726456B/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/0977—Reflective elements
    • G02B27/0983—Reflective elements being curved
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/023—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses permitting adjustment
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
    • G02B7/1822—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors comprising means for aligning the optical axis
    • G02B7/1824—Manual alignment
    • G02B7/1825—Manual alignment made by screws, e.g. for laser mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
    • G02B7/198—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors with means for adjusting the mirror relative to its support
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)

Abstract

本發明說明內容揭露一種方法，其用於調整一微影設備(100A、100B)的一第一元件(202)朝向該微影設備(100A、100B)的一第二元件(204)，該方法藉由佈置在第一元件(202)以及第二元件(204)之間的一可調節間隔件(300)進行調整，該方法包括以下步驟：a)確定(S1)第一元件(202)的一實際定位(IL)，b)確定(S2)第一元件(202)的一標稱定位(SL)，c)卸載(S3)可調節間隔件(300)，d)調整(S4)可調節間隔件(300)的一高度(h)，以帶動第一元件(202)從實際定位(IL)進入標稱定位(SL)，以及e)加載(S5)可調節間隔件(300)。

Description

用於調整微影設備的第一元件朝向該微影設備的第二 元件的方法
本發明涉及一種用於將一微影設備的一第一元件朝著微影設備的一第二元件調整的方法。
微影成像用於生產微結構組件，例如生產積體電路。微影成像製程使用一微影設備進行，微影設備具有一照明系統以及一投影系統。 一基板塗覆有一光敏層(光阻)且佈置在投影系統的像平面中，由照明系統照射的遮罩(標線片)影像，會這樣借助於投影系統投影到基板(例如矽晶圓)上，以將遮罩結構轉移到基板的光敏塗層上。
受到積體電路在生產上希望結構越來越小的驅使下，目前正在開發的是EUV微影設備，使用波長在0.1nm至30nm範圍內的光，特別是13.5nm。在這種EUV微影設備的情形下，由於大多數材料對該波長的光具有高吸收性，因此必須使用反射光學單元，即反射鏡，而不是像以前那樣使用折射光學單元，即透鏡元件。
啟動這種微影設備之前，通常需要進行元件的調整，例如調整上述光學單元。這樣的調整例如可以藉由間隔元件或間隔件來實現。為此，例如借助虛擬的安裝模型或借助短路測量，來先確定這種間隔件必要 的厚度或高度。為了避免加工時間太長，特別是因研磨間隔件所需的時間，提供了一模組化系統，包括高度或厚度相當不同的間隔件。為了達到所需的製程容差，此處的間隔件的研磨精度為±2μm。由於增加量只有很小的10μm，且通常需要達到0.5mm這樣大的調整範圍，因此就需要提供大量的間隔件。由於間隔件複雜的處理與邏輯，導致增加了成本。高精度間隔件的生產和清潔也非常複雜。
在這種背景技術下，本發明的一個目的是提供一種對微影設備的調整元件的改進方法。
對應地，本發明提供一種方法，用於調整一微影設備的一第一元件朝向該微影設備的一第二元件，該方法藉由佈置在第一元件以及第二元件之間的一可調節間隔件進行調整。該方法包括以下步驟：a)確定第一元件的一實際定位，b)確定第一元件的一標稱定位，c)卸載可調節間隔件，d)調整可調節間隔件的一高度，以帶動第一元件從實際定位進入標稱定位，以及e)加載可調節間隔件。
由於可調節間隔件的高度可以調整，因此可以在不使用多個不同高度的間隔件的情況下，將第一元件從實際定位帶入標稱定位。
第一元件可以是由第二元件承載或支撐的像是反射鏡的一光學元件。第一元件也可以是一透鏡。例如，第二元件可以是微影設備的一力架。在此上下文中，可調節間隔件佈置在第一元件和第二元件「之間」，這意味著可調節間隔件被夾在兩個元件之間。特別是，可調節間隔件固定到第一元件及/或第二元件。較佳地，不從元件移除可調節間隔件，以調整其高度。較佳地，第一元件、第二元件以及可調節間隔件是微影設備的一光學系統的一部分。光學系統較佳是微影設備的一投影系統。光學系統較佳地包括多個可調節間隔件。
特別是，第一元件具有一x方向、一y方向以及一z方向的坐標系統。這些方向彼此垂直佈置。x方向可以被命名為第一空間方向，z方向可以被命名為第二空間方向，y方向可以被命名為第三空間方向。第一元件特別具有六個自由度，即三個平移自由度，分別沿著x方向、y方向和z方向，以及三個旋轉自由度，分別繞x方向、y方向和z方向。換句話說，借助於六個自由度可以確定或描述第一元件的位置與定向。
第一元件的「位置」特別應理解為其相對於x方向、y方向以及z方向的坐標或設置在第一元件上的一測量點的坐標。第一元件的「定向」特別應理解為其相對於三個空間方向的傾斜。換句話說，第一元件可以繞x方向、y方向及/或z方向傾斜。這為第一元件的位置及/或定向提供了六個自由度。第一元件的「定位」包括它的位置及它的定向兩者。第一元件的定位可以借助於多個可調節間隔件來做調整。在本案中，「調整」可以理解為將第一元件從其實際定位帶到其標稱定位。
在本文中，「卸載」是指移除或抬起、至少部分地移除或抬起放置在可調節間隔件上的重量，例如微影設備的第一元件的一重量及/或微影設備的其他元件的重量，藉此就可以調整可調節間隔件的高度。在本文中，「負載」是指在調整其高度之後將重量放回到可調節間隔件上。特別地，高度是沿著z方向測量。較佳地，在步驟c)中，可調節間隔件卸載來自第一元件的重量，其中，在步驟e)中，再次向可調節間隔件上負載第一元件的重量。在本文中，「調整」高度是指根據需要增加或減小該高度以到達第一元件的標稱定位。
根據一具體實施例，在步驟d)裡，可調節間隔件的高度是無段調整的。
在本文中，「無段」是指不需要像習知那樣增加非可調節間隔件。
根據另一具體實施例，在步驟c)裡，第一元件由可調節間 隔件所抬升。
在本文中，「抬起」可以表示將第一元件從可調節間隔件上移除，使得可調節間隔件與第一元件之間存在間隙。然而，「抬起」還可以意味著第一元件仍與可調節間隔件接觸，但是配重沒有負載或至少部分沒有負載在可調節間隔件。
根據另一具體實施例，在步驟e)裡，第一元件由可調節間隔件所抬升。
「安放」是指第一元件與可調節間隔件接觸，並且其重量完全置於可調節間隔件上。
根據另一具體實施例，在步驟a)裡，第一元件的實際定位是測量或計算的。
這可以藉助虛擬組裝模型或借助短路測量來完成。在本案中，「短路測量」應理解為是指將包括兩個元件以及可調節間隔件的光學系統，配合標準或標稱的間隔件完全組裝在一起然後進行測量。
根據另一具體實施例，在步驟b)裡，計算第一元件的標稱定位。
標稱位置可以是計算出來的，舉例來說，特別是借助一校正配方來計算。
根據另一具體實施例，在步驟d)裡，可調節間隔件的高度是藉由一傳動結構所調整的，傳動結構為可調節間隔件的一部分。
特別是，傳動結構包括一位移元件的傾斜滑動面以及可調節間隔件的一外殼元件。
根據另一具體實施例，在步驟d)裡，可調節間隔件的高度是藉由可調節間隔件的一位移元件的一線性運動所調整，該線性運動是沿著一第一空間方向相對朝向可調節間隔件的一外殼元件所進行的。
較佳地，高度是定向成垂直於第一空間方向或x方向。
根據另一具體實施例，在步驟d)裡，傳動結構將位移元件沿第一空間方向的線性運動，轉換為位移元件沿著不同於第一空間方向的一第二空間方向的一線性運動。
特別是，第二空間方向是z方向。可調節間隔件的高度是沿著z方向所測量出的。
根據另一具體實施例，在步驟d)裡，在位移元件相對朝向外殼元件的線性運動期間，位移元件的一傾斜滑動面在外殼元件的一傾斜滑動面上滑動。
較佳地，位移元件以及外殼元件是楔形的。
根據另一具體實施例，在步驟d)裡，位移元件藉由一調整元件沿著第一空間方向朝外殼元件相對運動。
調整元件可以是一螺絲、一螺桿或相似物。
根據另一具體實施例，在步驟d)裡，可調節間隔件被從一非偏轉狀態帶動到一偏轉狀態，且其中在偏轉狀態下的高度大於在非偏轉狀態下的高度。
特別是，可調節間隔件可無段地從非偏轉狀態被帶動到偏轉狀態。這表示不需要固定地增加。
根據另一具體實施例，遍及步驟a)至e)，可調節間隔件保持在第一元件以及第二元件之間。
可替代地，可調節間隔件可以移除，以調整可調節間隔件的高度。然而，較佳的是，在調整高度的期間，讓可調節間隔件留在第一元件和第二元件之間。
根據另一具體實施例，在步驟c)裡，可調節間隔件無受力。
在本文中，「無受力」是指沒有力(例如第一元件的重量)沿高度或沿著z方向作用在可調節間隔件上。
根據另一具體實施例，步驟a)裡，第一元件的該實際定位 是相對第二元件所確定的。
第二元件也可以是可調整的。
此外，本發明提出了用於一光學系統或一微影設備的一可調節間隔件。可調節間隔件包括一外殼元件、一位移元件以及一傳動結構，該位移元件可相對於外殼元件線性移動，該傳動結構設計成將位移元件相對於外殼元件在一第一空間方向上的一線性運動，轉換為外殼元件沿著不同於該第一空間方向的一第二空間方向的一線性運動，以使可調節間隔件從非偏轉狀態到偏轉狀態無段地移動，反之亦然。
基於可將可調節間隔件從非偏轉狀態無段地帶入偏轉狀態及反之亦然的事實，可調節間隔件的高度或厚度的調整精度不是透過高精度所以昂貴的生產來實現，而是藉助於傳動結構形式的一非靈敏的調整機構來實現。特別地，可調節間隔件的高度或厚度的調整精度，是透過位移元件和及/或外殼元件具有淺的傾斜角或楔形角的事實所實現。在此，「淺的」尤其應理解為小於10°的傾斜角或楔形角。不必為了調整其高度就更換可調節間隔件。借助於可調節間隔件，可以實現至少與已知的模組化概念相同的調整精度，即，高度的刻度。
可調節間隔件也可以被稱為一可調整間隔元件。可調節間隔件也可以被稱為一間隔元件。借助於傳動結構，特別能調整可調節間隔件的一高度或厚度，特別是在第二空間方向上進行調整。特別是，在偏轉狀態下的高度或厚度大於非偏轉狀態下的高度或厚度。較佳地，將可調節間隔件指配至一坐標系統，此坐標系統具有一x方向、定向為垂直於x方向的一y方向，以及定向為垂直於x方向且垂直於y方向的一z方向。此坐標系統可以與上述第一元件的坐標系統相同。方向也可以被指定為空間方向。上述第一空間方向特別為x方向。上述第二空間方向可以是z方向。第二空間方向也可以被定義為可調節間隔件的一垂直方向、高度方向或厚度方向。
在本文中，「線性運動」應理解為沿著及/或平行於相應空間方向的運動。非偏轉狀態也可以指定為非偏轉位置、收回狀態或收回位置。偏轉狀態也可以指定為偏轉位置、展開狀態或展開位置。非偏轉狀態和偏轉狀態可以表示可調節間隔件的終端狀態或終端位置。能將可調節間隔件從非偏轉狀態「無段地」帶到偏轉狀態及反之亦然的事實，特別應理解為，可以在非偏轉狀態與偏段狀態之間提供任何期望數量的可調整中間位置或中間狀態。因此，可調節間隔件的高度或厚度可以特別地在非偏轉狀態和偏轉狀態之間無段地調整。
位移元件可以至少部分地容納在外殼元件內。在位移元件相對於外殼元件線性運動的期間，位移元件特別是在外殼元件上滑動。特別地，外殼元件在第二空間方向上相對於位移元件線性地移動。
根據一個具體實施例，傳動結構具有設置在外殼元件上的一滑動表面以及設置在位移元件上的一滑動表面，其中當可調節間隔件從非偏轉狀態變為偏轉狀態與反之亦然時，滑動表面相對彼此滑動。
滑動表面也可以被稱為滑動平面。特別地，滑動表面是傾斜平面。也就是說，滑動表面是傾斜的。位移元件可以包括一個滑動表面，或者也可以具有兩個滑動表面，然後相對於位移元件的對稱平面而鏡面對稱地佈置。在位移元件包括兩個滑動表面的情況下，可以設置兩個外殼元件，每個外殼元件具有一滑動表面。也就是說，位移元件的每個滑動表面較佳地指配一個外殼元件。
根據另一個具體實施例，滑動表面各自以一傾斜角傾斜，其中傾斜角小於10°，較佳地在5°至8°之間。
所有的傾斜角較佳地具有相同的尺寸。傾斜角度越小，可調節間隔件的高度或厚度的調整精度越高。傾斜角也可以稱為楔形角。
根據另一具體實施例，可調節間隔件還包括一彈簧元件，其中彈簧元件在非偏轉狀態的方向預拉可調節間隔件。
彈簧元件特別是相對於外殼元件預拉位移元件。也就是說，彈簧元件特別定位在位移元件和外殼元件之間。特別地，彈簧元件在非偏轉狀態下放鬆或未壓縮，而在偏轉狀態下被拉伸或壓縮。彈簧元件可以是圓柱彈簧，特別是壓縮彈簧。然而，彈簧元件也可以是由塑料製成的結構零件，例如由彈性體製成。
根據另一具體實施例，外殼元件和位移元件各具有容納區，其中，彈簧元件容納在容納區中。
外殼元件的容納區可以是半圓柱形的。特別地，容納區設置在外殼元件的滑動表面中或滑動表面上。位移元件的容納區可以配置為延伸穿過一個或多個滑動表面的凹部。舉例來說，位移元件的容納區可以是矩形的。
根據另一具體實施例，可調節間隔件還包括一第一外殼元件以及一第二外殼元件，其中位移元件佈置在這些外殼元件之間。
第一外殼元件特別是指配有一第一滑動面。相應地，第二外殼元件特別是指配有一第二滑動表面。隨著可調節間隔件從非偏轉狀態進入偏轉狀態及反之亦然，第一外殼元件的第一滑動表面在位移元件的一第一滑動表面上滑動，且第二外殼元件的第二滑動表面在位移元件的一第二滑動表面上滑動。
根據另一具體實施例，位移元件是楔形的，其中位移元件設置為相對於對稱平面而鏡面對稱。
位移元件也可以被定義為楔形元件。相對於對稱平面，兩個滑動表面以鏡面對稱定位。
根據另一具體實施例，第一外殼元件和第二外殼元件相對於對稱平面而鏡面對稱地佈置。
第一外殼元件及第二外殼元件較佳地具有相同的結構設置。這減少了生產可調節間隔件的成本。
根據另一具體實施例，當可調節間隔件從非偏轉狀態變為偏轉狀態時，第一外殼元件和第二外殼元件在第二空間方向上彼此遠離，其中當可調節間隔件從偏轉狀態變為非偏轉狀態時，第一外殼元件及第二外殼元件在第二空間方向上朝向彼此移動。
特別地，當可調節間隔件從非偏轉狀態進入偏轉狀態時，外殼元件執行同步運動，且反之亦然。
根據另一具體實施例，第一外殼元件和第二外殼元件借助於導軌彼此線性地導引。
導軌也可以指定為導引面或導引壁。特別地，第一外殼元件和第二外殼元件借助於導軌沿第二空間方向彼此線性地導引。藉此，避免了外殼元件相對於彼此扭曲。
根據另一具體實施例，可調節間隔件還包括調整元件，調整元件設計成使位移元件相對於外殼元件在第一空間方向上線性地平移。
調整元件特別是傳動結構的一部分。調整元件特別是側向地設置在可調節間隔件上。因此，調整元件的一側向操作，足以將可調節間隔件從非偏轉狀態帶到偏轉狀態，反之亦然。調整元件特別是一螺絲。調整元件設計成以主動閉鎖(positive locking)而嚙合於位移元件中。為此，位移元件可包括一螺紋孔，讓調整元件鎖入此螺紋孔。在使用調整元件與螺紋孔的情況下，主動閉鎖是透過至少兩個連接零件接合進入或位於背後而發生。外殼元件較佳地包括具有一穿孔的一後壁，調整元件被導引穿過此穿孔。因此，調整元件可旋轉地安裝在後壁上。借助於調整元件，位移元件可以逆著彈簧元件的彈力相對於外殼元件線性地平移。較佳提供了兩個調整元件。調整元件可以在y方向上彼此間隔開地定位。為了使可調節間隔件從未偏轉狀態進入到偏轉狀態，調整元件可以交替地致動，特別是鎖緊。
根據另一具體實施例，位移元件在第一空間方向上的一位移 路徑大於可調節間隔件在第二空間方向上的一高度變化，其中位移路徑為高度變化的3倍至15倍，較佳為6倍至12倍，更佳為10倍。
藉此，可以以非常高的精度來改變高度。滑動表面的傾斜角度越小，位移路徑與高度變化的比率就越大。高度變化也可以被稱為厚度變化。高度變化特別可以計算如下：△h=2tanβ1△x。在此，△h是高度變化、β1是傾斜角度，而△x是位移路徑。
根據另一具體實施例，可調節間隔件包括一穿孔，其中穿孔在第二空間方向上完全穿透可調節間隔件，以便收納一固定件，特別是螺絲。
也就是說，固定件導引通過可調整間隔件。由於固定件導引通過可調整間隔件，因此相較於將固定件側向導引越過可調節間隔件的佈置，可以防止借助於可調節間隔件調整的一元件的撓性負載。
此外，本發明提出了一種用於微影設備的光學系統。光學系統包括一元件，特別是一光學元件，以及一個這樣的可調節間隔件，其中借助於將可調節間隔件從非偏轉狀態帶動至偏轉狀態，此可以將元件從一實際位置帶動至一期望位置。
此元件可以是例如反射鏡、透鏡元件、擋塊和端部擋塊、力架等。光學系統較佳是一微影設備的一投影系統。光學系統較佳地包括多個可調節間隔件。
此外，本發明更提出了一種具有這樣的可調節間隔件及/或具有這樣的光學系統的一微影設備。
微影設備可以包括多個可調節間隔件及/或多個光學系統。微影設備可以是EUV微影設備。EUV代表「極紫外光」，表示工作光的波長在0.1nm至30nm之間。微影設備也可以是DUV微影設備，DUV代表「深紫外光」，並且表示工作光的波長在30nm至250nm之間。
在本案下，「一個」不應被理解為僅限於一個元件。相反地， 也可以設置多個元件，例如兩個、三個或更多。在此使用的任何其他數量不應理解為必須要以該對應數量的元件的限制才能實現。相反地，向上和向下的數值偏差是可能的。
對於該方法所描述的具體實施例和特徵，相應地適用於可調節間隔件、光學系統及/或微影設備，反之亦然。
本發明的其他可能的實施方式，還包括未在上文或下文中，對於說明性具體實施例描述的特徵或具體實施例所提到的組合。在這種情況下，本領域具有通常知識者也將增加對本發明的各個基本形式的改進或補充的不同態樣。
100A:EUV微影設備
100B:DUV微影設備
102:光束整形及照明系統
104:投影系統
106A:EUV光源
106B:DUV光源
108A:EUV輻射
108B:DUV輻射
110:反射鏡
112:反射鏡
114:反射鏡
116:反射鏡
118:反射鏡
120:光罩
122:反射鏡
124:晶圓
126:光軸
128:透鏡元件
130:反射鏡
132:介質
200:光學系統
202:元件
202':元件
204:元件
206:介面
208:表面
210:表面
212:固定件
300:間隔件
302:外殼元件
304:外殼元件
306:對稱平面
308:滑動面
310:外表面
312:滑動面
314:外表面
316:位移元件
318:滑動面
320:滑動面
322:傳動結構
324:箭頭
326:彈簧元件
328:固定軸承
330:穿孔
332:調整元件
334:調整元件
336:穿孔
338:溝槽
349:溝槽
342:容納區
344:後壁
346:穿孔
348:導軌
350:導軌
352:穿孔
354:容納部分
356:容納部分
358:容納區
F:彈力
G:重量
h:高度
h':高度
IL:實際定位
M1:反射鏡
M2:反射鏡
M3:反射鏡
M4:反射鏡
M5:反射鏡
M6:反射鏡
SL:標稱定位
S1:步驟
S2:步驟
S3:步驟
S4:步驟
S5:步驟
x:空間方向
y:空間方向
z:空間方向
Z1:狀態
Z2:狀態
Z10:狀態
Z20:狀態
α1:傾斜角
α2:傾斜角
β1:傾斜角
β2:傾斜角
△h:高度變化
△x:位移路徑
本發明的其他有利的設置與態樣為以下描述的附屬項的標的，也是本發明的說明性具體實施例的標的。在下文中，基於較佳具體實施例並參考附圖更詳細地解釋了本發明。
圖1A示出一EUV微影設備的一具體實施例的示意圖；圖1B示出一DUV微影設備的一具體實施例的示意圖；圖2示出用於圖1A的EUV微影設備或圖1B的DUV微影設備的一光學系統的一具體實施例的示意圖；圖3示出用於圖2的光學系統的一可調節間隔件的一具體實施例的示意圖；圖4示出圖3的可調節間隔件的另一示意圖；圖5示出圖3的可調節間隔件的另一示意圖；圖6示出圖3的可調節間隔件的示意立體圖；圖7示出用於圖3的可調節間隔件的一外殼元件的一具體實施例的示意立體圖；圖8示出用於圖3的可調節間隔件的一位移元件的一具體實 施例的示意立體圖；圖9示出圖3的可調節間隔件的示意局部立體圖；以及圖10示出一方法的具體實施例之示意方塊圖，該方法用於調整圖1A的EUV微影設備的一第一元件或圖1B的DUV微影設備的第一元件朝向微影設備的一第二元件。
除非指示到不同的元件，否則在附圖中相同的元件或具有相同功能的元件具有相同的附圖標記。還應當注意的是，附圖中的繪製不一定是按真實比例的。
圖1A示出了EUV微影設備100A的示意圖，微影設備100A包括一光束整形與照明系統102以及一投影系統104。在這種情況下，EUV代表「極紫外光」，並且表示工作光的波長介於0.1nm到30nm之間。光束整形與照明系統102和投影系統104分別設置在一真空外殼(未示出)中，每個真空外殼借助於抽空裝置(未示出)而抽成真空。真空外殼由一機房(未示出)所包圍，在機房中設有驅動裝置，用於機械地移動或設置光學元件。此外，還可以在該機房中設置電子控制器等。
EUV微影設備100A包括一EUV光源106A。例如，可以提供等離子源(或同步加速器)作為EUV光源106A，它發出EUV範圍(極紫外光範圍)的輻射108A，即例如波長為5nm至20nm範圍的輻射。在光束整形與照明系統102中，EUV輻射108A聚焦並且從EUV輻射108A中濾出期望的工作波長。由於EUV光源106A產生的EUV輻射108A具有相對較低的空氣透射率，因此將光束整形與照明系統102及投影系統104中的光束導引空間抽成真空。
圖1A中示出的光束整形與照明系統102具有五個反射鏡110、112、114、116、118。在通過光束整形與照明系統102之後，EUV輻 射108A被導引到光罩120(稱為一標線片)上。光罩120同樣實施為反射光學元件，並且可以佈置在系統102、104的外部。此外，EUV輻射108A可以透過反射鏡122導引到光罩120上。光罩120具有一結構，此結構透過投影系統104以一減小的方式成像在晶圓124或相似物上。
投影系統104(也稱為投影透鏡)具有六個反射鏡M1至M6，用於將光罩120成像在晶圓124上。在這種情況下，投影系統104的各個反射鏡M1至M6可以相對於該投影系統104的一光軸126對稱地佈置。應當注意的是，EUV微影設備100A的反射鏡M1至M6的數量不限於所示出的數量。也可以提供更多或更少數量的反射鏡M1至M6。此外，反射鏡M1至M6通常在其前表面彎曲以用於光束整形。
圖1B示出了DUV微影設備100B的示意圖，DUV微影設備100B包括一光束整形和照明系統102以及一投影系統104。在這種情況下，DUV代表「深紫外光」，並且表示DUV的工作光的波長在30nm至250nm之間。如已參照圖1A所描述的，光束整形與照明系統102以及投影系統104可以佈置在真空外殼中及/或由具有相應驅動裝置的機房圍繞。
DUV微影設備100B具有一DUV光源106B。舉例來說，可以提供ArF準分子雷射作為DUV光源106B，此ArF準分子雷射例如在193nm的DUV範圍內發射輻射108B。
圖1B所示的光束整形與照明系統102將DUV輻射108B導引到光罩120上。光罩120實現為透射光學元件，並且可以佈置在系統102、104的外部。光罩120具有一結構，此結構借助於投影系統104以一減小的方式將其成像在晶圓124或相似物上。
投影系統104具有多個透鏡元件128及/或反射鏡130，用於將光罩120成像到晶圓124上。在這種情況下，投影系統104的各個透鏡元件128及/或反射鏡130可以相對於投影系統104的光軸126對稱地佈置在其中。應當注意的是，DUV微影設備100B的透鏡元件128及反射鏡130 的數量不限於所表示的數量。也可以提供更多或更少數量的透鏡元件128及/或反射鏡130。此外，反射鏡130通常在其前表面彎曲，以用於光束整形。
最後一個透鏡元件128和晶圓124之間的一氣隙可以由折射率大於1的一液體介質132代替。例如，液體介質132可以是高純水。這種構造也被稱為浸沒微影，並且具有提高的一微影解析度。介質132也可以被稱為浸沒液體。
圖2示出了一光學系統200。光學系統200可以是一EUV微影設備100A或一DUV微影設備100B的一部分。例如，光學系統200可以是一投影系統102的一部分，或者可以是一投影系統102，例如是用於一EUV微影設備100A的投影系統102。在下文中，僅參考EUV微影設備100A來解釋光學系統200。然而，光學系統200也可以用在DUV微影設備100B中。
光學系統200包括一第一元件202。第一元件202可以是例如光學元件，特別是反射鏡110、112、114、116、118、122、130，M1至M6中的一個、透鏡元件128中的一個或一擋塊。然而，第一元件202也可以是力架、用於對準一光學元件的一調整元件或致動元件、一光學元件的一端部擋塊、主動振動隔離系統(active vibration isolation system，AVIS)的一部分，特別是用於一傳感器框架的一懸架系統或相似物。
光學系統200還包括一第二元件204。第二元件204可以是光學系統200的一基座。此基座也可以指定為光學系統200的固定環境。舉例來說，第二元件204也可以是光學系統200或EUV微影設備100A的一上述力架。在這種情況下，第一元件202例如可以是前述的一光學元件，並由第二元件204所承載或支撐。
第一元件202特別具有相對於第二元件204的六個自由度，即分別沿一x方向x、一y方向y以及一z方向z的三個平移自由度，以及 分別繞x方向x、y方向y以及z方向z的三個旋轉自由度。換句話說，借助於六個自由度可以確定或描述第一元件202的位置以及定向。方向x，y，z也可以指定為空間方向。
特別地，第一元件202的「位置」應當理解為其相對於x方向x、y方向y以及z方向z的坐標，或設置在第一元件202上的測量點的坐標。第一元件202的「定向」特別應理解為相對於三個空間方向x、y、z的傾斜。換句話說，第一元件202可以繞x方向x、y方向y及/或z方向z傾斜。這給出了第一元件202的位置及/或定向的六個自由度。第一元件202的「定位」包括其位置以及定向。
一介面206，提供於第一元件202與第二元件204之間。第一元件202在介面206處耦合到第二元件204。第一元件202的一表面208和第二元件204的一表面210是指配給介面206。表面208、210彼此面對。
在光學系統200啟動之前，例如在曝光操作之前，有必要調整第一元件202的位置及/或定向。為此，例如，第一元件202可以調整或定向於由空間方向x、y、z所確定的一坐標系統中，或者第一元件202可相對於第二元件204調整或定向。
在本案中，「調整」可以理解為使第一元件202從實際定位IL(在圖2中以實線表示並用附圖標記202標記)到達標稱定位SL(在圖2中以虛線表示並用附圖標記202'標記)。實際定位IL可以例如是測量的，而標稱定位SL可以例如特別是借助於一校正配方所計算的。
第一元件202的調整例如可以借助間隔件來實現。為此，首先例如借助虛擬組裝模型或借助短路測量來確定這種間隔元件必要的厚度或高度。在本案中，「短路測量」應理解為是指光學系統200與標準或標稱間隔件完全組裝在一起，然後進行測量。
為了避免長的加工時間，特別是由於間隔件的所需研磨時間，可使用高度或厚度非常不同的間隔件的一模組化系統。為了獲得所需的製 程容差，在此以±2μm的精度研磨間隔件。多個間隔件可以組合在一起，以形成一間隔件堆疊。由於增加量只有很小的10μm，而通常的要求是調整範圍最大可達0.5mm，因此有必要提供大量的間隔件。例如，對於上述類型的投影系統104，必須保留超過1000個間隔件。間隔件的複雜處理和邏輯增加了成本。而且，可預期需要較長的處理時間。高精度間隔件的生產與清潔也非常複雜。
為了使相對於已知空間的調整更容易，在介面206處提供了一可調節間隔件300。利用圖2所示的間隔件300，可以調整第一元件202在z方向上的位置。可以提供大量的這種間隔件300，使得可以尤其相對於第二元件204調整第一元件202的位置及/或定向。一固定件212，例如螺絲，可以導引穿過間隔件300。間隔件300較佳地指配到由三個空間方向x、y、z構成的坐標系統。也就是說，將空間方向x、y、z指配給間隔件300。第一元件202的重量G支撐在間隔件300上。如此一來，第一元件202便以重量G負載到間隔件300上。
圖3和圖4示出了間隔件300的具體實施例。間隔件300包括一第一外殼元件302以及一第二外殼元件304。外殼元件302、304可以具有相同的構造。外殼元件302、304可以相對於對稱平面306而鏡面對稱地定位。
第一外殼元件302包括一第一滑動平面或第一滑動表面308，其相對於第一外殼元件302的外表面310以一第一傾斜角α1傾斜。傾斜角α1較佳小於10°，例如5°至8°。對應的，第二外殼元件304具有一第二滑動平面或第二滑動表面312，其相對於第二外殼元件304的外表面314以一第二傾斜角α2傾斜。傾斜角α1，α2較佳為相同的大小。可替代地，傾斜角α1、α2也可以具有不同的大小。外表面310、314承靠在元件202、204的表面208、210上。傾斜角α1、α2也可以被指定為楔形角。
此外，間隔件300還包括一位移元件316，佈置在外殼元件 302、304之間並且相對於後者可線性移動。位移元件316是楔形的。因此，位移元件316也可以被稱為楔形元件。較佳地，位移元件316設置為相對於對稱平面306具有鏡面對稱性。
位移元件316包括一第一滑動平面或第一滑動表面318，第一滑動平面或第一滑動表面318承靠且可以在第一外殼元件302的第一滑動表面308上滑動。位移元件316還包括一第二滑動平面或第二滑動表面320，該第二滑動平面或第二滑動表面320承靠且可以在第二外殼元件304的第二滑動表面312上滑動。滑動表面318、320相對於對稱平面306而鏡面對稱地定位。
第一滑動表面318相對於對稱平面306以一第一傾斜角β1傾斜，第一傾斜角β1較佳等於第一傾斜角α1。第二滑動表面320以一第二傾斜角β2相對於對稱平面306傾斜，第二傾斜角β2較佳等於第二傾斜角α2。在傾斜角度α1、α2大小不同的情況下，傾斜角度β1、β2也為不同的大小，但第一傾斜角度α1、β1和第二傾斜角度α2、β2分別存在大小相同的情況。例如，第一傾斜角α1、β1或第二傾斜角α2、β2也可以等於0°，使得相應的滑動表面308、318或312、320平行於對稱平面306定位。傾斜角β1、β2也可以指定為楔形角。
滑動表面308、312、318、320是間隔件300的一傳動結構322的一部分。傳動結構322設計為轉換位移元件316在空間方向上的一線性運動，例如轉換位移元件316在x方向x上的線性運動，並轉換成外殼元件302、304中的至少一個的一線性運動，其中外殼元件302、304中至少一個的線性運動的空間方向與位移元件316線性運動平移的空間方向不同，例如是在z方向z上的線性運動。也就是說，在圖3中的定向中，在z方向z上觀察，滑動表面308、312、318、320在位移元件316沿x方向x上的線性平移期間彼此滑動，其結果是外殼元件302、304相對彼此遠離。藉此，可以調整間隔件300的一高度h，高度h在圖3的方向中定向為平行 於z方向z。高度h也可以被指定為厚度。借助於箭頭324在圖3以及圖4中示出了位移元件316相對於外殼元件302、304的線性運動。
此外，間隔件300還可以包括一選擇性的彈簧元件326。彈簧元件326可以是圓柱彈簧，特別是壓縮彈簧。彈簧元件326位於位移元件316以及一固定軸承328之間。特別地，彈簧元件326將位移元件316耦合於固定軸承328。固定軸承328例如可以是間隔件300的外殼元件302、304的一部分。
間隔件300可以從圖3所示的非偏轉狀態Z1帶動進入圖4所示的偏轉狀態Z2，反之亦然。在偏轉狀態Z2下的高度h大於在非偏轉狀態Z1下的高度。在狀態Z1，Z2之間，間隔件300可以無段地帶動進入任何期望數量的中間狀態。當帶動間隔件300從非偏轉狀態Z1進入偏轉狀態Z2時，反之亦然，滑動表面308在滑動表面318上滑動，並且滑動表面312在滑動表面320上滑動。在非偏轉狀態Z1下，高度標記有附圖標記h，並且在偏轉狀態，高度標記有附圖標記h'，其中，高度h'大於高度h。
隨著間隔件300從非偏轉狀態Z1進入偏轉狀態Z2，彈簧元件326從未壓縮或未拉伸狀態Z10可逆地進入壓縮或拉伸狀態Z20。在拉伸狀態Z20中，彈簧元件326在位移元件316上施加彈簧力F，特別是壓縮力，使得位移元件316在未偏轉狀態Z1的方向上被預拉。
圖5示出了間隔件300的另一示意圖，其中僅示出了位移元件316的一半，而完全沒有示出第二外殼元件304。為了更清楚區分位移元件316，第一外殼元件302以剖面線表示。如前所述，位移元件316相對於外殼元件302、304線性運動以調整高度h。借助於傳動結構322，位移元件316沿空間方向(例如以沿x方向x的一位移路徑△x)的線性運動，可以轉換為外殼元件302、304在另一個空間方向(例如沿z方向z)上的一線性運動，也就是轉換為高度變化△h。
在圖5所示的幾何形狀中，tanβ1=(△h/2)/△x或 tanα1=(△h/2)/△x。例如，位移元件316沿x方向x的一位移路徑△x為1mm，且假設一傾斜角β1為5°，當位移元件316具有兩個滑動表面318、320的情況下，這給出了高度變化△h=2tanβ1△x=175μm。傾斜角α1、α2、β1、β2越小，對於恆定位移路徑△x的高度變化△h越小。在位移元件316僅具有一個滑動表面318、320的情況下，對於相同的位移路徑△x，高度變化△h減半。傾斜角α1、α2、β1、β2越小，所實現的調整增量越小。
較淺的傾斜角α1、α2、β1、β2也增加了位移元件316與外殼元件302、304之間的靜摩擦。因此，間隔件300是自鎖的。也就是說，透過向外殼元件302、304的外表面310、314施加力，不會將間隔件300從偏轉狀態Z2帶到非偏轉狀態Z1。因此，與不可調整的間隔件相比，間隔件300的剛性高，並且穩定性也較高。
圖6以示意立體圖示出了間隔件300的具體設計。圖9示出了間隔件300的示意局部立體圖。間隔件300包括一穿孔330，穿透兩個外殼元件302、304以及位移元件316。穿孔330可以具有細長的幾何形狀，該細長的幾何形狀可以在x方向x上延伸。也就是說，穿孔330沿x方向x的尺寸大於其沿y方向y的尺寸。固定件212可導引穿過穿孔330。以這種方式，固定件212不需要佈置在間隔件300旁邊，也不會導致第一元件202的彎曲應力。穿孔330實質上設置在間隔件300的中央。
間隔件300包括兩個調整元件332、334。調整元件332、334可以是螺絲，特別是有頭螺絲。提供了一第一調整元件332和一第二調整元件334。調整元件332、334可以是傳動結構322的一部分。借助於調整元件332、334，位移元件316可以沿位移路徑△x逆著彈簧元件326的彈簧力F線性運動。為了帶動間隔件300從非偏轉狀態Z1進入偏轉狀態Z2。在調整元件332，334可以交替地致動。
為了帶動間隔件300從偏轉狀態Z2進入非偏轉狀態Z1，再次釋放調整元件332、334，其結果是彈簧元件326再次將間隔件300從偏 轉狀態Z2自動帶到非偏轉狀態Z1。
在間隔件300不具有彈簧元件326的情況下，也可以透過對鬆開的調整元件332、334進行敲擊來帶動間隔件300從偏轉狀態Z2進入非偏轉狀態Z1。此外，間隔件300也可以可選地僅包括一個調整元件332、334。
在圖7中以示意立體圖示出的第一外殼元件302具有與第二外殼元件304相同的構造。第一滑動表面308以及第一外殼元件302的外表面310被穿孔336穿透。穿孔336是穿孔330的一部分。用於調整元件332、334的凹槽338、340設置在第一滑動表面308中，且位於穿孔336兩側。此外，用於彈簧元件326的一容納區342提供在第一滑動表面308上。容納區342可以是半圓柱形。第一外殼元件302可以由金屬材料製成，例如由鋼合金或鋁合金製成。
此外，第一外殼元件302還包括具有一穿孔346的一後壁344，第二調整元件334被導引穿過穿孔346。彈簧元件326的上述固定軸承328可以是後壁344的一部分。第一外殼元件302具有一第一導軌348以及一第二導軌350，第二導軌350佈置於平行且相距第一導軌348一距離處。導軌348、350也可以被指定為導引表面或導引壁。如圖6所示，第一外殼元件302的第二導軌350在第二外殼元件304的第一導軌348的內部導引。相應地，第二外殼元件304的第二導軌350在第一外殼元件302的第一導軌348的內部導引。藉此，外殼元件302、304不會相對彼此扭轉。
在圖8的示意立體圖中示出的位移元件316同樣包括一穿孔352，穿孔352穿過滑動表面318、320，且穿孔352屬於穿孔330的一部分。此外，位移元件316具有一第一容納部分354以及一第二容納部分356，第一容納部分354用於容納第一調整元件332，第二容納部分356用於容納第二調整元件334。容納部分354、356可以部分地穿過滑動表面318、320。
每個容納部分354、356具有一螺紋孔(未示出)，相應的調 整元件332、334可旋入該螺紋孔。形成為穿孔的一容納區358用於容納彈簧元件326。位移元件316可以由金屬材料製成，例如由鋼合金或鋁合金製成。
間隔件300具有優於已知間隔件的許多優點。高度h的調整精度不是透過高精度而昂貴的生產來實現，而是借助於傳動結構322形式的非靈敏的調整機構來實現。不需要為了調整高度h更換間隔件300。而是，調整元件332、334的側向操作就足以調節高度h。利用間隔件300可以實現至少相同的調整精度，也就是說，如上述模組化概念可獲得高度h的刻度。間隔件300提供的剛性和穩定性不比已知間隔件堆疊的剛性和穩定性差。
圖10示出用於調整第一元件202朝向第二元件204的方法的一具體實施例的示意方塊圖。
在步驟S1中，確定第一元件的實際定位IL。之後，在步驟S2中確定第一元件202的標稱定位SL。在步驟S3中，將間隔件300卸載。這可以透過從間隔件300上抬起第一元件202來完成。於是，在步驟S4中調整間隔件300的高度h，以便使第一元件202從實際定位IL進入標稱定位SL。較佳地，這是在間隔件300被夾在兩個元件202、204之間的情形下進行的。最後，在步驟S5中再次加載間隔件300。例如，間隔件300被第一元件202以重量G負載。
雖然已經在示例性的具體實施例的基礎上描述了本發明，但可以用不同的方式修改本發明。
S1:步驟
S2:步驟
S3:步驟
S4:步驟
S5:步驟

Claims (15)

  1. 一種用於調整一微影設備(100A、100B)的一第一元件(202)朝向該微影設備(100A、100B)的一第二元件(204)的方法，該方法藉由佈置在該第一元件(202)以及該第二元件(204)之間的一可調節間隔件(300)進行調整，該方法包括以下步驟：a)確定(S1)該第一元件(202)的一實際定位(IL)，b)確定(S2)該第一元件(202)的一標稱定位(SL)，c)卸載(S3)該可調節間隔件(300)，d)調整(S4)該可調節間隔件(300)的一高度(h)，以帶動該第一元件(202)從該實際定位(IL)進入該標稱定位(SL)，以及e)加載(S5)該可調節間隔件(300)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中在步驟d)裡，該可調節間隔件(300)的該高度(h)是無段調整的。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之方法，其中在步驟c)裡，該第一元件(202)由該可調節間隔件(300)所抬升。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中在步驟e)裡，該第一元件(202)安放在該可調節間隔件(300)上。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中在步驟a)裡，該第一元件(202)的該實際定位(IL)是經測量或計算的。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中在步驟b)裡，該 第一元件(202)的該標稱定位(SL)是經計算的。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中在步驟d)裡，該可調節間隔件(300)的該高度(h)是藉由一傳動結構(322)所調整的，該傳動結構(322)為該可調節間隔件(300)的一部分。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之方法，其中在步驟d)裡，該可調節間隔件(300)的該高度(h)是藉由該可調節間隔件(300)的一位移元件(316)的一線性運動所調整，該線性運動是沿著一第一空間方向(x)相對朝向該可調節間隔件(300)的一外殼元件(302、304)所進行的。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之方法，其中在步驟d)裡，該傳動結構(322)將該位移元件(316)沿該第一空間方向(x)的該線性運動，轉換為該位移元件(316)沿著不同於該第一空間方向(x)的一第二空間方向(z)的一線性運動。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之方法，其中在步驟d)裡，在該位移元件(316)相對朝向該外殼元件(302、304)的該線性運動期間，該位移元件(316)的一傾斜滑動面(318、320)在該外殼元件(302、304)的一傾斜滑動面(308、312)上滑動。
  11. 如申請專利範圍第8項所述之方法，其中在步驟d)裡，該位移元件(316)藉由一調整元件(332、334)沿著該第一空間方向(x)朝該外殼元件(302、304)相對運動。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中在步驟d)裡，該可調節間隔件(300)被從一非偏轉狀態(Z1)帶動到一偏轉狀態(Z2)，且其中在該偏轉狀態(Z2)下的該高度(h)大於在該非偏轉狀態(Z1)下。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中遍及步驟a)至e)，該可調節間隔件(300)保持在該第一元件(202)以及該第二元件(204)之間。
  14. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中在步驟c)裡，該可調節間隔件(300)無受力。
  15. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中在步驟a)裡，該第一元件(202)的該實際定位(IL)是相對該第二元件(204)所確定的。
TW108138240A 2018-10-23 2019-10-23 用於調整微影設備的第一元件朝向該微影設備的第二元件的方法 TWI726456B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102018218110.1 2018-10-23
DE102018218110.1A DE102018218110A1 (de) 2018-10-23 2018-10-23 Abstandshalter, optisches system und lithographieanlage

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202020579A TW202020579A (zh) 2020-06-01
TWI726456B true TWI726456B (zh) 2021-05-01

Family

ID=68392963

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108138240A TWI726456B (zh) 2018-10-23 2019-10-23 用於調整微影設備的第一元件朝向該微影設備的第二元件的方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11460780B2 (zh)
JP (1) JP2022505506A (zh)
KR (1) KR20210078525A (zh)
CN (1) CN113168105B (zh)
DE (1) DE102018218110A1 (zh)
TW (1) TWI726456B (zh)
WO (1) WO2020083914A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102021205278B4 (de) 2021-05-21 2023-05-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Einstellbarer Abstandshalter, Optisches System, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW446829B (en) * 1998-09-25 2001-07-21 Nippon Kogaku Kk Image formation position adjusting device, exposure system, image formation adjusting method and exposure method
US20100128237A1 (en) * 2008-11-21 2010-05-27 Canon Kabushiki Kaisha Driving apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
CN107290933A (zh) * 2016-03-30 2017-10-24 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种光刻机投影物镜的调平装置及调平方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE8429460U1 (de) * 1984-10-06 1985-01-31 Dr.-Ing. Rudolf Hell Gmbh, 2300 Kiel Vorrichtung zum justieren optischer bauelemente
CH672009A5 (zh) * 1986-10-24 1989-10-13 Schrepfer Rudolf Ag
JP2881363B2 (ja) * 1993-02-02 1999-04-12 キヤノン株式会社 平行移動装置およびレンズ移動装置
JP3427428B2 (ja) * 1993-07-21 2003-07-14 株式会社ニコン 光学素子の位置調整装置及び投影露光装置
JP3590508B2 (ja) * 1997-09-29 2004-11-17 三菱電機株式会社 光学系の組立調整装置及び組立調整方法
JP2003337272A (ja) * 2002-03-12 2003-11-28 Nikon Corp 光学系の保持装置、光学素子の位置調整方法、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
US7675695B2 (en) * 2007-02-28 2010-03-09 Canon Kabushiki Kaisha Optical element holding apparatus
JP2010102055A (ja) * 2008-10-23 2010-05-06 Sony Corp パターン評価方法、露光用マスク、露光方法、露光用マスクの製造方法および半導体装置の製造方法
DE102010007970A1 (de) * 2010-02-15 2011-08-18 Suss MicroTec Lithography GmbH, 85748 Verfahren und Vorrichtung zum aktiven Keilfehlerausgleich zwischen zwei im wesentlichen zueinander parallel positionierbaren Gegenständen
DE102011114123A1 (de) * 2010-09-29 2012-04-05 Carl Zeiss Smt Gmbh System zur Ausrichtung eines optischen Elements und Verfahren hierfür
JP2013161992A (ja) * 2012-02-06 2013-08-19 Nikon Corp 変形可能な反射光学素子、光学系、及び露光装置
DE102014225199A1 (de) * 2014-12-09 2016-06-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Verbindungsanordnung für eine Lithographieanlage
DE102016212853B3 (de) * 2016-07-14 2017-11-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Justieren einer optischen Einrichtung

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW446829B (en) * 1998-09-25 2001-07-21 Nippon Kogaku Kk Image formation position adjusting device, exposure system, image formation adjusting method and exposure method
US20100128237A1 (en) * 2008-11-21 2010-05-27 Canon Kabushiki Kaisha Driving apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
CN107290933A (zh) * 2016-03-30 2017-10-24 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种光刻机投影物镜的调平装置及调平方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE102018218110A1 (de) 2020-04-23
WO2020083914A1 (en) 2020-04-30
KR20210078525A (ko) 2021-06-28
JP2022505506A (ja) 2022-01-14
CN113168105A (zh) 2021-07-23
US20210232051A1 (en) 2021-07-29
US11460780B2 (en) 2022-10-04
CN113168105B (zh) 2024-09-03
TW202020579A (zh) 2020-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7864293B2 (en) Exposure apparatus, exposure method, and producing method of microdevice
US20040042094A1 (en) Projection optical system and production method therefor, exposure system and production method therefor, and production method for microdevice
KR20020006601A (ko) 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법, 및 그것에 의해제조된 디바이스
TW202041980A (zh) 基板處理系統及基板處理方法、以及元件製造方法
US20200124988A1 (en) Movable body apparatus, exposure apparatus, manufacturing method of flat panel display, and device manufacturing method
TWI772329B (zh) 移動體裝置、移動方法、曝光裝置、曝光方法、平板顯示器之製造方法、以及元件製造方法
JP2011060823A (ja) 基板保持装置、露光装置、デバイス製造方法、及び基板保持装置の調整方法
US9529282B2 (en) Position-measurement systems
KR101602367B1 (ko) 리소그래피 장치용 전단-층 척
TWI726456B (zh) 用於調整微影設備的第一元件朝向該微影設備的第二元件的方法
JP2003227986A (ja) 光学要素の位置決め方法及び装置、投影光学系、並びに露光装置
JP4378938B2 (ja) 露光装置、及びデバイス製造方法
US9632429B2 (en) Real-time reticle curvature sensing
US20040145751A1 (en) Square wafer chuck with mirror
CN110750034B (zh) 光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法
JP5201915B2 (ja) 駆動装置
US7525637B2 (en) Assembly
JP2022517912A (ja) 弾性ガイドデバイス、位置決めデバイス、ブレード及びリソグラフィ装置
TW202134794A (zh) 載置台裝置、載置台裝置的調整方法、曝光裝置、以及物品製造方法
JP2007266511A (ja) 光学系、露光装置、及び光学特性の調整方法
TW202036073A (zh) 光學裝置、曝光裝置以及物品製造方法
JP2022191012A (ja) 異物検査装置の調整方法、露光装置、および物品製造方法
NL2022091A (en) Positioning device, lithographic apparatus, method for compensating a balance mass torque and device manufacturing method