JP2013046044A - リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ステージに保持された基板の上の複数の計測点の高さを計測する計測部と、基板を保持して前記光学系の光軸に平行な方向に第1ストロークで移動する微動ステージと、微動ステージを保持して光学系の光軸に平行な方向に第1ストロークより大きい第2ストロークで移動する調整ステージと、調整ステージが移動しないように機械的に調整ステージを固定する固定機構と、を含み、制御部は、基板に前記パターンを転写する前に、計測部で計測された複数の計測点の高さで代表される基板の仮想平面が水平になるように、且つ、仮想平面が光学系の最も基板側の面と基板との間であって第1ストロークから決まる初期位置に位置するように調整ステージを移動させ、仮想平面を初期位置に位置させた後に固定機構によって調整ステージを固定するリソグラフィ装置。
【選択図】図1
Description
Claims (7)
- 基板にパターンを転写するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持して移動するステージと、
前記パターンを転写するためのエネルギーを前記ステージに保持された前記基板に投影する光学系と、
前記ステージに保持された前記基板の上の複数の計測点の高さを計測する計測部と、
前記ステージを制御する制御部と、
を有し、
前記ステージは、
前記基板を保持して前記光学系の光軸に平行な方向に第1ストロークで移動する微動ステージと、
前記微動ステージを保持して前記光学系の光軸に平行な方向に前記第1ストロークより大きい第2ストロークで移動する調整ステージと、
前記調整ステージが移動しないように機械的に前記調整ステージを固定する固定機構と、
を含み、
前記制御部は、前記基板に前記パターンを転写する前に、前記計測部で計測された前記複数の計測点の高さで代表される前記基板の仮想平面が水平になるように、且つ、前記仮想平面が前記光学系の最も基板側の面と前記基板との間であって前記第1ストロークから決まる初期位置に位置するように前記調整ステージを移動させ、前記仮想平面を前記初期位置に位置させた後に前記固定機構によって前記調整ステージを固定することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記第1ストロークは、前記光学系の最も基板側の面と前記仮想平面を前記初期位置に位置させた基板の表面との間の間隔より小さいことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記基板の表面が前記光学系の像面に位置するように前記微動ステージを移動させながら前記基板に前記パターンを転写することを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ステージは、前記調整ステージを保持して移動する粗動ステージを更に有し、
前記制御部により、前記微動ステージは6軸に駆動され、前記調整ステージは前記光軸又は前記光軸に平行な軸回りの駆動以外の5軸に駆動され、前記粗動ステージは前記光軸と交わる平面内の2軸に駆動されることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記光学系は、前記パターンを転写するためのエネルギーとして、前記パターンを反映する電子線を前記基板に投影することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学系は、前記パターンを転写するためのエネルギーとして、前記パターンを有する原版を通過した光を前記基板に投影することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを転写するステップと、
前記パターンが転写された基板を加工するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
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JP2011185253A JP2013046044A (ja) | 2011-08-26 | 2011-08-26 | リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法 |
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2011
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