CN110739216A - 一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法 - Google Patents

一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法，包括：在切割设备上预先输入晶圆的厚度，设定第一次切割晶圆的深度和低速移动切割速度；设定第二次切割晶圆的深度和快速移动切割速度；按设定对晶圆进行第一次切割；按设定对晶圆进行第二次切割，以使晶圆被切割分离成若干芯片颗粒。本发明改善了单轴切割情况下晶圆颗粒的切割品质，使芯片颗粒在应用时的功能品质更加稳定，能够更好地满足需求。

Description

一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法
技术领域
本发明涉及晶圆切割技术领域，更具体地说是指一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法。
背景技术
目前在单轴切割机上的封装切割产品中，一般采用直接1次切穿，但是，会遇到以下问题：1、按照晶圆厚度直接1次切穿，切割刀片及晶圆表面均受力大，容易引起晶圆切割道正面保护层或TEG的离起，从而引起品质问题；2、按照晶圆厚度直接1次切穿，晶圆背面和侧面在切割刀旋转切割中因受力容易引起不达标的背崩和侧崩，从而引起产品稳定性功能品质问题；3、对于一些厚度较大的晶圆，直接切穿，在高旋转下受力也会引起刀片变形。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法。
为实现上述目的，本发明采用于下技术方案：
一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法，包括以下步骤：
在切割设备上预先输入晶圆的厚度，设定第一次切割晶圆的深度和低速移动切割速度；
设定第二次切割晶圆的深度和快速移动切割速度；
按设定对晶圆进行第一次切割；
按设定对晶圆进行第二次切割，以使晶圆被切割分离成若干芯片颗粒。
其进一步技术方案为：所述晶圆的厚度为50μm-200μm。
其进一步技术方案为：第一次切割晶圆的深度为晶圆厚度的2/3，低速移动切割速度为10-20毫米/秒。
其进一步技术方案为：第二次切割晶圆的深度为晶圆厚度的1/3，快速移动切割速度为20-40毫米/秒。
其进一步技术方案为：所述“按设定对晶圆进行第一次切割”步骤中，完成第一次切割后，切割设备将切割刀片抬起，进行移动切割速度调节，将切割刀片由低速移动切割速度调节至快速移动切割速度。
其进一步技术方案为：所述切割刀片为金刚石刀片。
本发明与现有技术相比的有益效果是：改善了单轴切割情况下晶圆颗粒的切割品质，使芯片颗粒在应用时的功能品质更加稳定，能够更好地满足需求。
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步描述。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的单轴分步切割晶圆的加工工艺方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
应当理解，当在本说明书和所附权利要求书中使用时，术语“包括”和“包含”指示所描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在，但并不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或其集合的存在或添加。
还应当理解，在此本发明说明书中所使用的术语仅仅是出于描述特定实施例的目的而并不意在限制本发明。如在本发明说明书和所附权利要求书中所使用的那样，除非上下文清楚地指明其它情况，否则单数形式的“一”、“一个”及“该”意在包括复数形式。
还应当进一步理解，在本发明说明书和所附权利要求书中使用的术语“和/或”是指相关联列出的项中的一个或多个的任何组合以及所有可能组合，并且包括这些组合。
请参阅图1所示的具体实施例，本发明公开了一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法，包括以下步骤：
S1，在切割设备上预先输入晶圆的厚度，设定第一次切割晶圆的深度和低速移动切割速度；
S2，设定第二次切割晶圆的深度和快速移动切割速度；
S3，按设定对晶圆进行第一次切割；
S4，按设定对晶圆进行第二次切割，以使晶圆被切割分离成若干芯片颗粒。
其中，在本实施例中，所述晶圆的厚度为50μm-200μm。
其中，第一次切割晶圆的深度为晶圆厚度的2/3，低速移动切割速度为10-20毫米/秒，减轻了晶圆的正面受力，降低保护层或TEG离起风险，避免晶圆正面品质出现问题。
进一步地，在第一次切割过程中，晶圆切割道的保护层材质黏贴切割刀片会在第一次切割过程中自动研磨掉，使得在切割第二次时不会影响背崩。
其中，第二次切割晶圆的深度为晶圆厚度的1/3(为晶圆第一次切割后的剩余厚度)，快速移动切割速度为20-40毫米/秒，使得第二次切割过程中晶圆背部受力减少，侧/背崩就控制在晶圆的1/3厚度以内，达到标准控制。
其中，在本实施例中，切割设备为单轴切割机。
其中，所述“按设定对晶圆进行第一次切割”步骤中，完成第一次切割后，切割设备将切割刀片抬起，进行移动切割速度调节，将切割刀片由低速移动切割速度调节至快速移动切割速度，再将切割刀片放下，准备进行第二次切割。
其中，在本实施例中，所述切割刀片为金刚石刀片，快速高效，且不易变形。
本发明主要用于单轴切割机及提高改善侧崩和背崩的切割工艺中，不仅提供了晶圆封装单轴切割工艺，且提高了单轴设备的切割良率，优化改善单轴切割情况下的晶圆颗粒的切割品质，以不同的切割晶圆厚度和速度，优化切割晶圆正面崩、侧面崩、背面崩，以达到控制标准内，使芯片颗粒在应用时的功能品质更加稳定，能够更好地满足需求。
上述仅以实施例来进一步说明本发明的技术内容，以便于读者更容易理解，但不代表本发明的实施方式仅限于此，任何依本发明所做的技术延伸或再创造，均受本发明的保护。本发明的保护范围以权利要求书为准。

Claims (6)

1.一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法，其特征在于，包括以下步骤：
在切割设备上预先输入晶圆的厚度，设定第一次切割晶圆的深度和低速移动切割速度；
设定第二次切割晶圆的深度和快速移动切割速度；
按设定对晶圆进行第一次切割；
按设定对晶圆进行第二次切割，以使晶圆被切割分离成若干芯片颗粒。
2.根据权利要求1所述的一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法，其特征在于，所述晶圆的厚度为50μm-200μm。
3.根据权利要求2所述的一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法，其特征在于，第一次切割晶圆的深度为晶圆厚度的2/3，低速移动切割速度为10-20毫米/秒。
4.根据权利要求3所述的一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法，其特征在于，第二次切割晶圆的深度为晶圆厚度的1/3，快速移动切割速度为20-40毫米/秒。
5.根据权利要求1所述的一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法，其特征在于，所述“按设定对晶圆进行第一次切割”步骤中，完成第一次切割后，切割设备将切割刀片抬起，进行移动切割速度调节，将切割刀片由低速移动切割速度调节至快速移动切割速度。
6.根据权利要求5所述的一种单轴分步切割晶圆的加工工艺方法，其特征在于，所述切割刀片为金刚石刀片。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111883424A (zh) * 2020-07-16 2020-11-03 安徽大衍半导体科技有限公司 一种硅片晶圆划片工艺
CN111900082A (zh) * 2020-06-30 2020-11-06 联立(徐州)半导体有限公司 一种适用于晶圆切割的切割方法
CN114178711A (zh) * 2021-11-18 2022-03-15 成都晶华光电科技股份有限公司 一种光学玻璃碎裂成质量均匀小块的方法

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5266528A (en) * 1991-09-17 1993-11-30 Fujitsu Limited Method of dicing semiconductor wafer with diamond and resin blades
CN1652305A (zh) * 2004-02-02 2005-08-10 株式会社迪斯科 具有一对切削装置的切削设备
CN102039638A (zh) * 2009-10-26 2011-05-04 英利能源（中国）有限公司 一种利用切割线切割基片的切割方法
CN102709171A (zh) * 2012-05-31 2012-10-03 东莞洲磊电子有限公司 GaAs基板超小尺寸LED芯片的切割方法
WO2013015470A1 (ko) * 2011-07-26 2013-01-31 한미반도체주식회사 Led 자재용 절삭장치 및 led 자재의 절삭방법
CN103192459A (zh) * 2012-01-10 2013-07-10 三星电子株式会社 晶片切割方法及采用该方法制造发光器件芯片的方法
CN103302753A (zh) * 2012-03-06 2013-09-18 深圳赛意法微电子有限公司 玻璃晶圆切割方法
JP2015103567A (ja) * 2013-11-21 2015-06-04 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
US20150325480A1 (en) * 2014-05-07 2015-11-12 Disco Corporation Wafer processing method
CN207736544U (zh) * 2017-11-01 2018-08-17 天津环鑫科技发展有限公司 一种自动测试切割一体机
CN108908762A (zh) * 2018-06-15 2018-11-30 西安碳星半导体科技有限公司 Cvd生长宝石级厚单晶金刚石切割方法
CN109049370A (zh) * 2018-08-06 2018-12-21 甬矽电子(宁波)股份有限公司 晶圆切割方法
CN109256332A (zh) * 2017-07-14 2019-01-22 株式会社迪思科 晶片的加工方法
CN109786310A (zh) * 2019-01-14 2019-05-21 东莞记忆存储科技有限公司 粘晶胶纸随晶粒分离的方法
EP3509096A1 (en) * 2018-01-07 2019-07-10 Infineon Technologies AG Separation of workpiece with three material removal stages
CN110098115A (zh) * 2018-01-31 2019-08-06 东莞新科技术研究开发有限公司 晶圆的切割方法
CN110126104A (zh) * 2019-03-25 2019-08-16 苏州芯海半导体科技有限公司 一种砷化镓晶片切割方法

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5266528A (en) * 1991-09-17 1993-11-30 Fujitsu Limited Method of dicing semiconductor wafer with diamond and resin blades
CN1652305A (zh) * 2004-02-02 2005-08-10 株式会社迪斯科 具有一对切削装置的切削设备
CN102039638A (zh) * 2009-10-26 2011-05-04 英利能源（中国）有限公司 一种利用切割线切割基片的切割方法
WO2013015470A1 (ko) * 2011-07-26 2013-01-31 한미반도체주식회사 Led 자재용 절삭장치 및 led 자재의 절삭방법
CN103192459A (zh) * 2012-01-10 2013-07-10 三星电子株式会社 晶片切割方法及采用该方法制造发光器件芯片的方法
CN103302753A (zh) * 2012-03-06 2013-09-18 深圳赛意法微电子有限公司 玻璃晶圆切割方法
CN102709171A (zh) * 2012-05-31 2012-10-03 东莞洲磊电子有限公司 GaAs基板超小尺寸LED芯片的切割方法
JP2015103567A (ja) * 2013-11-21 2015-06-04 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
US20150325480A1 (en) * 2014-05-07 2015-11-12 Disco Corporation Wafer processing method
CN109256332A (zh) * 2017-07-14 2019-01-22 株式会社迪思科 晶片的加工方法
CN207736544U (zh) * 2017-11-01 2018-08-17 天津环鑫科技发展有限公司 一种自动测试切割一体机
EP3509096A1 (en) * 2018-01-07 2019-07-10 Infineon Technologies AG Separation of workpiece with three material removal stages
CN110098115A (zh) * 2018-01-31 2019-08-06 东莞新科技术研究开发有限公司 晶圆的切割方法
CN108908762A (zh) * 2018-06-15 2018-11-30 西安碳星半导体科技有限公司 Cvd生长宝石级厚单晶金刚石切割方法
CN109049370A (zh) * 2018-08-06 2018-12-21 甬矽电子(宁波)股份有限公司 晶圆切割方法
CN109786310A (zh) * 2019-01-14 2019-05-21 东莞记忆存储科技有限公司 粘晶胶纸随晶粒分离的方法
CN110126104A (zh) * 2019-03-25 2019-08-16 苏州芯海半导体科技有限公司 一种砷化镓晶片切割方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
张承龙等: "旋转超声钻削的切削力数学模型及试验研究 ", 《机械工程学报》 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111900082A (zh) * 2020-06-30 2020-11-06 联立(徐州)半导体有限公司 一种适用于晶圆切割的切割方法
CN111883424A (zh) * 2020-07-16 2020-11-03 安徽大衍半导体科技有限公司 一种硅片晶圆划片工艺
CN114178711A (zh) * 2021-11-18 2022-03-15 成都晶华光电科技股份有限公司 一种光学玻璃碎裂成质量均匀小块的方法
CN114178711B (zh) * 2021-11-18 2023-10-27 成都晶华光电科技股份有限公司 一种光学玻璃碎裂成质量均匀小块的方法

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