CN110716248B - 一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺 - Google Patents
一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110716248B CN110716248B CN201810760383.0A CN201810760383A CN110716248B CN 110716248 B CN110716248 B CN 110716248B CN 201810760383 A CN201810760383 A CN 201810760383A CN 110716248 B CN110716248 B CN 110716248B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- blocks
- flat plate
- processing
- parallel flat
- parallel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00663—Production of light guides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/0074—Production of other optical elements not provided for in B29D11/00009- B29D11/0073
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B30/00—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images
- G02B30/20—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes
- G02B30/26—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes of the autostereoscopic type
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/12—Reflex reflectors
- G02B5/136—Reflex reflectors plural reflecting elements forming part of a unitary body
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/002—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of materials engineered to provide properties not available in nature, e.g. metamaterials
- G02B1/007—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of materials engineered to provide properties not available in nature, e.g. metamaterials made of negative effective refractive index materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B30/00—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images
- G02B30/50—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images the image being built up from image elements distributed over a 3D volume, e.g. voxels
- G02B30/56—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images the image being built up from image elements distributed over a 3D volume, e.g. voxels by projecting aerial or floating images
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
本发明提供一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺,包括:将光学材料加工成前后表面相互平行的平行平板;取平行平板前后表面之一作为光刻表面,对该光刻表面依次进行涂胶、掩膜、曝光处理;将平行平板上未曝光区块的胶去除后加工成深度在0.1~2mm的矩形凹槽;将曝光区块表面和矩形凹槽所有面均涂上保护层,然后在矩形凹槽侧面镀上反射膜;将曝光区块表面和矩形凹槽底面的保护层去除后将凹槽用充填材料填满,对平行平板的前后表面进一步处理使其前后表面的平行度偏差<1’;在该新平行平板的前后表面添加保护窗片既得。本发明可大大减小传统加工条形光波导之间存在的个体差异,实现拼接阵列清晰三维成像的目的。
Description
技术领域
本发明属于光学制造领域,具体涉及一种用于实现空气成像的多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺。
背景技术
随着成像显示技术的发展,对成像的特性要求不断提高。一方面要求有较高的解像,保证观察画面清晰度的同时,还需要满足小畸变要求。另一方面要求有三维立体显示特性的同时,具有裸眼三维全息显示要求。现有的成像技术一方面,主要采用透镜成像,主要受视场和孔径的限制,其存在球差、彗差、像散、场曲、畸变、色差等光学像差,其在大视场、大孔径成像显示领域受限较大。另一方面,现有的裸眼三维显示技术大多数是基于调节左右眼视差来实现三维感官,而非实际三维显示技术。而全息成像技术,制作成本高。
为了追求更好的显示效果和产品体验,本发明提供针对一种可实现三维立体成像显示的等效负折射率平板透镜的加工工艺,为实现裸眼三维显示的一种等效负折射率平板透镜提供工艺支撑。传统光波导加工工艺制造的条形光波导,其各波导之间存在较大的个体差异:各表面平行度偏差不一致,导致切割后,拼接的一种用于三维成像的多列多排等效负折射率平板透镜各行各列排布不规则,使得各方形波导对光线偏折方向不一致,导致图像各区域发生剪切;难以实现清晰的三维成像。
发明内容
针对现有技术存在的问题,本发明提供一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺,该工艺可大大减小传统加工条形光波导之间存在的个体差异,实现拼接阵列清晰三维成像的目的。本发明的技术方案为:
一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺,包括:
(1)将光学材料加工成矩形体块料,将矩形体块料切割成方形平板,并将方形平板加工成前后表面相互平行的平行平板;
(2)取平行平板前后表面之一作为光刻表面,对该光刻表面依次进行涂胶、掩膜、曝光处理,其中曝光处理的曝光区块与未曝光区块均为矩形,所有矩形的对角边分别平行所述平行平板的棱边,且曝光区块与未曝光区块以斜向交叉间隔排布;
(3)将平行平板上未曝光区块的胶去除后加工成深度在0.1~2mm的矩形凹槽;
(4)将曝光区块表面和矩形凹槽所有面均涂上保护层,然后在矩形凹槽侧面镀上反射膜;
(5)将曝光区块表面和矩形凹槽底面的保护层去除后将凹槽用充填材料填满,对平行平板的前后表面进一步处理使其前后表面的平行度偏差<1’,得到新平行平板;
(6)在该新平行平板的前后表面添加保护窗片既得。
进一步地,所述步骤(2)中曝光区块与未曝光区块的尺寸为:0.01mm<长/宽<2mm。
进一步地,所述步骤(4)中保护层为树脂或者光刻胶。
进一步地,所述步骤(4)中反射膜为铝膜。
进一步地,所述步骤(5)的充填材料为树脂或者光学玻璃。
进一步地,所述步骤(6)中新平行平板和保护窗片之间采用光敏胶或者热敏胶胶合。
图1提供了采用本发明得到的多列多排等效负折射率平板透镜的一种结构示意图,该平板透镜包括分别具有两个光学面的一对玻璃窗口(1,3),以及位于两个玻璃窗口之间的光波导组件(2),该光波导组件包括多排多列且呈45°斜向布置的矩形光波导阵列,以及置于矩形光波导阵列外围一圈的边缘光波导,该矩形光波导阵列的每一列和/或每一排的单个矩形光波导尺寸相同。这种平板透镜可以使二维或者三维光源直接在空气中成实像且实现真正的全息影像,在实现大视场、大孔径、高解像、无畸变、无色散的同时实现裸眼三维立体显示特性。
本发明的有益效果在于:本发明可大幅减小传统加工条形光波导之间存在的个体差异,采用了光刻的方式对其进行加工,使得各单元尺寸加工均匀,误差小,避免了系统的装配误差。对平板透镜的各成像单元的加工尺寸上,可以减小至微米量级,可大大提高平板透镜的成像分辨率。同时由于系统加工误差极小,实现成像畸变极小、三维立体显示特性和裸眼三维全息显示要求,真正实现了拼接阵列清晰三维成像目的。
附图说明
图1是采用本发明得到的多列多排等效负折射率平板透镜的结构示意图,其中1-第一玻璃窗片,2-光波导组件,3-第二玻璃窗片。
图2是本发明实施例1中方形平板的结构示意图,其中4-平板厚度,5-平板宽度,6-平板长度,7-前表面,8-后表面。
图3是本发明实施例1中平行平板光刻表面涂胶后的结构示意图,其中3-1为正视图,3-2为立体图。
图4是本发明实施例1中平行平板光刻表面掩膜、曝光后的结构示意图,其中4-1为侧视图,4-2为俯视图,9-曝光区块和未曝光区块的尺寸。
图5是本发明实施例1中平行平板表面凹槽的结构示意图,其中5-1为平行平板上未曝光区块的胶去除后的立体图,5-2为平行平板上加工出矩形凹槽的正视图,10-凹槽侧面。
图6是本发明实施例1中平行平板涂上保护层以及镀上反射膜后的结构示意图,其中11-曝光区块表面,12-凹槽底面。
图7是本发明实施例1中平行平板去除保护层后的结构示意图。
图8是本发明实施例1中平行平板凹槽填满后的结构示意图。
图9是本发明实施例1中新平行平板的结构示意图。
图10是光线在光波导内部反射、聚焦成像原理图,其中A为物方,B为像方。
图11是物方光线经过单个微透镜内部反射传播到像面的原理图,其中11-1为光线传播侧视图,11-2为光线传播左视图。
注:以上图片中的五角星代表一幅简单图像。
具体实施方式
下面结合附图和具体的实施例对本发明做进一步详细说明,所述是对本发明的解释而不是限定。
实施例1
本实施例提供一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺,包括:
(1)将光学材料加工成矩形体块料,将矩形体块料切割成方形平板,其结构如图2所示,尺寸为:10mm<长(6)<100mm,10mm<宽(5)<100mm,1mm<厚(4)<6mm;并将方形平板前表面8和后表面9进行研磨、抛光处理,使其相互平行;
(2)取平行平板前后表面之一作为光刻表面,对该光刻表面依次进行涂光刻胶(如图3所示)、掩膜、曝光处理,其中曝光处理的曝光区块与未曝光区块均为矩形,且曝光区块与未曝光区块以纵列和横列方式交叉间隔排布(如图4所示),且尺寸9满足:0.01mm<长<2mm,0.01mm<宽<2mm;
(3)将平行平板上未曝光区块的胶去除后加工成深度在0.1~2mm的矩形凹槽(如图5所示);
(4)将曝光区块表面和矩形凹槽所有面均涂上树脂保护层,然后在矩形凹槽侧面镀上铝反射膜代替全反射表面(如图6所示);
(5)将曝光区块表面和矩形凹槽底面的树脂保护层去除(如图7所示)后将凹槽通过注塑方式用光学玻璃填满(如图8所示),对平行平板的前后表面进一步处理使其前后表面的平行度偏差<1’,得到新平行平板,其结构如图9所示;
(6)在该新平行平板的前后表面添加保护窗片既得如图1所示的多列多排等效负折射率平板透镜,其中保护窗片与平板透镜之间采用光敏胶或热敏胶胶合。
该多列多排等效负折射率平板透镜由申请号为201711305662X的中国专利公开。
实施例2
对实施例1获得的多列多排等效负折射率平板透镜成像原理进行说明,如下:
本发明涉及核心成像元件为图9所示的多列多排等效负折射率光波导阵列平板,其可实现物像方点对点无像差成像。具体原理如图10所示,A侧物方光线经等效负折射率平板透镜光波导内部反射,存在一次或多次反射,其将光束传导至B侧像方的同时,将其调制成镜像光线,重新会聚成像。如图11所示,物方光线经过平板透镜单个微透镜内部反射调制到达像面的原理图,其调制原理是光线经过单个微透镜时,光线在直角平面内的分量将旋转180°,垂直直角平面的分量将按照反射镜反射方向传播,其中X\Y面为直角平面,X\Z平面为垂直直角平面。该成像原理最终的成像效果与负折射率材料制成的平板透镜一致(参考图9)。
综上,本发明可大幅减小传统加工条形光波导之间存在的个体差异,采用了光刻的方式对其进行加工,使得各单元尺寸加工均匀,误差小,避免了系统的装配误差。对平板透镜的各成像单元的加工尺寸上,可以减小至微米量级,可大大提高平板透镜的成像分辨率。同时由于系统加工误差极小,实现成像畸变极小、三维立体显示特性和裸眼三维全息显示要求,真正实现了拼接阵列清晰三维成像目的。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (6)
1.一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺,其特征在于,包括:
(1)将光学材料加工成矩形体块料,将矩形体块料切割成方形平板,并将方形平板加工成前后表面相互平行的平行平板;
(2)取平行平板前后表面之一作为光刻表面,对该光刻表面依次进行涂胶、掩膜、曝光处理,其中曝光处理的曝光区块与未曝光区块均为矩形,所有矩形的对角边分别平行所述平行平板的棱边,且曝光区块与未曝光区块以斜向交叉间隔排布;
(3)将平行平板上未曝光区块的胶去除后加工成深度在0.1~2mm的矩形凹槽;
(4)将曝光区块表面和矩形凹槽所有面均涂上保护层,然后在矩形凹槽侧面镀上反射膜;
(5)将曝光区块表面和矩形凹槽底面的保护层去除后将凹槽用充填材料填满,对平行平板的前后表面进一步处理使其前后表面的平行度偏差<1’;
(6)在平行平板的前后表面添加保护窗片。
2.根据权利要求1所述的一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺,其特征在于,所述步骤(2)中曝光区块与未曝光区块的尺寸为:0.01mm<长<2mm、0.01mm<宽<2mm。
3.根据权利要求1所述的一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺,其特征在于,所述步骤(4)中保护层为树脂或者光刻胶。
4.根据权利要求1所述的一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺,其特征在于,所述步骤(4)中反射膜为铝膜。
5.根据权利要求1所述的一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺,其特征在于,所述步骤(5)的充填材料为树脂或者光学玻璃。
6.根据权利要求1所述的一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺,其特征在于,所述步骤(6)中新平行平板和保护窗片之间采用光敏胶或者热敏胶胶合。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810760383.0A CN110716248B (zh) | 2018-07-12 | 2018-07-12 | 一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺 |
EP18925794.2A EP3805815B1 (en) | 2018-07-12 | 2018-07-17 | Processing method for multi-row, multi-column flat lens with equivalent negative refractive index |
JP2021500934A JP7097501B2 (ja) | 2018-07-12 | 2018-07-17 | 複数列複数行等価負屈折率平板レンズの加工技術 |
PCT/CN2018/095949 WO2020010641A1 (zh) | 2018-07-12 | 2018-07-17 | 一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺 |
US17/142,584 US11092888B2 (en) | 2018-07-12 | 2021-01-06 | Processing method for multi-row, multi-column flat lens with equivalent negative refractive index |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810760383.0A CN110716248B (zh) | 2018-07-12 | 2018-07-12 | 一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110716248A CN110716248A (zh) | 2020-01-21 |
CN110716248B true CN110716248B (zh) | 2021-03-09 |
Family
ID=69142081
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810760383.0A Active CN110716248B (zh) | 2018-07-12 | 2018-07-12 | 一种多列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11092888B2 (zh) |
EP (1) | EP3805815B1 (zh) |
JP (1) | JP7097501B2 (zh) |
CN (1) | CN110716248B (zh) |
WO (1) | WO2020010641A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112213804B (zh) * | 2020-09-03 | 2022-03-11 | 核桃智能科技(常州)有限公司 | 一种复合型光波导透镜 |
CN112462457B (zh) * | 2020-12-17 | 2023-07-25 | 无锡太空力量科技有限公司 | 一种可实现光场复制变换操作的微透镜集合 |
CN114660918B (zh) | 2020-12-24 | 2023-05-23 | 腾讯科技(深圳)有限公司 | 全息立体影像的显示设备、方法、装置及介质 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015138362A1 (en) * | 2014-03-10 | 2015-09-17 | D2S, Inc. | Method and system for forming a pattern on a surface using multi-beam charged particle beam lithography |
CN107850701A (zh) * | 2015-07-27 | 2018-03-27 | 索尼公司 | 光学器件及显示单元 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6940654B1 (en) * | 2004-03-09 | 2005-09-06 | Yin S. Tang | Lens array and method of making same |
JP4734652B2 (ja) * | 2006-12-21 | 2011-07-27 | 独立行政法人情報通信研究機構 | 光学システム |
US20090040132A1 (en) * | 2007-07-24 | 2009-02-12 | Northeastern University | Anisotropic metal-dielectric metamaterials for broadband all-angle negative refraction and superlens imaging |
US7646551B2 (en) * | 2007-12-05 | 2010-01-12 | Aptina Imaging Corporation | Microlenses with patterned holes to produce a desired focus location |
TW201024800A (en) * | 2008-12-30 | 2010-07-01 | Ind Tech Res Inst | Negative refraction photonic crystal lens |
JP2012045871A (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | Stanley Electric Co Ltd | 2面コーナーリフレクタアレイ光学素子およびその製造方法並びに2面コーナーリフレクタアレイ光学素子を用いた表示装置 |
KR20120081658A (ko) * | 2010-12-16 | 2012-07-20 | 삼성전자주식회사 | 수퍼 렌즈를 포함하는 포토마스크 및 그 제조 방법 |
JP2014081617A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-05-08 | Nlt Technologies Ltd | 空間結像素子及びその製造方法、表示装置および端末機 |
CN203013727U (zh) * | 2012-12-28 | 2013-06-19 | 格科微电子(上海)有限公司 | 晶圆级镜头模组阵列及阵列组合 |
JP6676238B2 (ja) * | 2016-02-29 | 2020-04-08 | 国立大学法人東京農工大学 | シート型メタマテリアルおよびシート型レンズ |
JP2017161790A (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 結像光学素子及び空中表示装置並びに結像光学素子の製造方法 |
TWI583999B (zh) * | 2016-03-24 | 2017-05-21 | 台達電子工業股份有限公司 | 立體顯示屏幕與使用其的立體顯示裝置 |
JP2018074051A (ja) * | 2016-11-01 | 2018-05-10 | 太陽誘電株式会社 | 電子部品およびその製造方法 |
CN106597583B (zh) * | 2016-12-30 | 2019-01-18 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 一种形成光学分光透镜的结构和方法 |
WO2019109240A1 (zh) * | 2017-12-05 | 2019-06-13 | 深圳市汇顶科技股份有限公司 | 微透镜的制造方法和微透镜 |
CN207502759U (zh) * | 2017-12-09 | 2018-06-15 | 安徽省东超科技有限公司 | 多排多列等效负折射率平板透镜 |
CN107831558A (zh) * | 2017-12-09 | 2018-03-23 | 安徽省东超科技有限公司 | 多排多列等效负折射率平板透镜 |
CN110687621A (zh) * | 2018-07-04 | 2020-01-14 | 安徽省东超科技有限公司 | 一种单列多排等效负折射率平板透镜的加工工艺 |
-
2018
- 2018-07-12 CN CN201810760383.0A patent/CN110716248B/zh active Active
- 2018-07-17 WO PCT/CN2018/095949 patent/WO2020010641A1/zh unknown
- 2018-07-17 EP EP18925794.2A patent/EP3805815B1/en active Active
- 2018-07-17 JP JP2021500934A patent/JP7097501B2/ja active Active
-
2021
- 2021-01-06 US US17/142,584 patent/US11092888B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015138362A1 (en) * | 2014-03-10 | 2015-09-17 | D2S, Inc. | Method and system for forming a pattern on a surface using multi-beam charged particle beam lithography |
CN107850701A (zh) * | 2015-07-27 | 2018-03-27 | 索尼公司 | 光学器件及显示单元 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7097501B2 (ja) | 2022-07-07 |
JP2021532399A (ja) | 2021-11-25 |
EP3805815B1 (en) | 2024-03-06 |
US11092888B2 (en) | 2021-08-17 |
EP3805815A1 (en) | 2021-04-14 |
WO2020010641A1 (zh) | 2020-01-16 |
US20210157231A1 (en) | 2021-05-27 |
EP3805815C0 (en) | 2024-03-06 |
EP3805815A4 (en) | 2021-09-01 |
CN110716248A (zh) | 2020-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11927768B2 (en) | Display system and light guide | |
KR102570108B1 (ko) | 반사 출력 커플링 구조체를 포함하는, 헤드-업 디스플레이용 도파관 | |
KR102326147B1 (ko) | 도광 광학 요소 및 그 제조 방법 | |
US11092888B2 (en) | Processing method for multi-row, multi-column flat lens with equivalent negative refractive index | |
US10871657B2 (en) | Floating image display | |
CN108780165B (zh) | 基于阵列的相机透镜系统 | |
US10007122B2 (en) | Three-dimensional display substrate, its Manufacturing method and three-dimensional display device | |
WO2019109585A1 (zh) | 多排多列等效负折射率平板透镜 | |
WO2017219433A1 (zh) | 波导式的头戴显示器的光学装置 | |
US11977242B2 (en) | Processing technology for single-column and multi-row equivalent negative refractive index plate lens | |
CN108027459A (zh) | 光学系统 | |
CN108139591B (zh) | 三维显示面板、包括其的三维显示设备、及其制造方法 | |
CN102445762A (zh) | 一种裸眼3d投影屏幕及裸眼3d投影系统 | |
US20220035094A1 (en) | Optical waveguide unit, array, and flat lens | |
CN216622747U (zh) | 一种用于空中成像的光波导阵列结构 | |
CN112213804A (zh) | 一种复合型光波导透镜 | |
CN114815010B (zh) | 一种用于3d悬浮成像的透镜阵列及其装置 | |
TWI824355B (zh) | 一種光學系統及混合實境設備 | |
CN114513644A (zh) | 一种空中成像装置及空中成像装置的制造方法 | |
CN114660685A (zh) | 一种光波导平板透镜的加工工艺 | |
CN114513643A (zh) | 一种空中成像装置及空中成像装置的制造方法 | |
CN114252941A (zh) | 一种光波导透镜 | |
CN118330903A (zh) | 一种空中成像显示系统 | |
CN117075250A (zh) | 一种新型反射型二维光波导器件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |