CN110709479A - 制备防污涂料组合物的方法和由所述方法制备的涂料 - Google Patents
制备防污涂料组合物的方法和由所述方法制备的涂料 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110709479A CN110709479A CN201880038005.XA CN201880038005A CN110709479A CN 110709479 A CN110709479 A CN 110709479A CN 201880038005 A CN201880038005 A CN 201880038005A CN 110709479 A CN110709479 A CN 110709479A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coating
- compound
- core
- shell
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 154
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims abstract description 104
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 title claims abstract description 65
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title description 90
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title description 81
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 147
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 112
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 107
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 93
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 87
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 83
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 75
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 71
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 69
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 claims description 67
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 62
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 57
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 50
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 46
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 38
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 35
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims description 26
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 25
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 claims description 24
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 22
- FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenylthiourea Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 18
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 17
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 claims description 13
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 9
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000007764 o/w emulsion Substances 0.000 claims description 8
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 50
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 48
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 41
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 36
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 33
- -1 methyl-vinyl groups Chemical group 0.000 description 31
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 29
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 26
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 26
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 25
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 17
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 17
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 15
- 229920003118 cationic copolymer Polymers 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 13
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 13
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 13
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 12
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 10
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 9
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 9
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 8
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 8
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 8
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 7
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- NDJKXXJCMXVBJW-UHFFFAOYSA-N heptadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC NDJKXXJCMXVBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N tetraisopropyl titanate Substances CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012901 Milli-Q water Substances 0.000 description 5
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 5
- 210000002945 adventitial reticular cell Anatomy 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 5
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 4
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 4
- 150000003512 tertiary amines Chemical group 0.000 description 4
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 4
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000006702 (C1-C18) alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 3
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 238000007764 slot die coating Methods 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXCPAUWIRBMTET-SOFGYWHQSA-N (6e)-8-methyl-5-propan-2-ylnona-6,8-dien-2-ol Chemical compound CC(O)CCC(C(C)C)\C=C\C(C)=C KXCPAUWIRBMTET-SOFGYWHQSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSOOIVBINKDISP-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(CCC)OC(=O)C(C)=C HSOOIVBINKDISP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNFTZDOKVXKIBK-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methoxyethoxy)benzohydrazide Chemical compound COCCOC1=CC=CC(C(=O)NN)=C1 GNFTZDOKVXKIBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGDQQLAVJWUYSF-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-phenyl-1,3-thiazole-5-sulfonyl chloride Chemical compound S1C(S(Cl)(=O)=O)=C(C)N=C1C1=CC=CC=C1 NGDQQLAVJWUYSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJSSICCENMLTKO-HRCBOCMUSA-N [(1r,2s,4r,5r)-3-hydroxy-4-(4-methylphenyl)sulfonyloxy-6,8-dioxabicyclo[3.2.1]octan-2-yl] 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)O[C@H]1C(O)[C@@H](OS(=O)(=O)C=2C=CC(C)=CC=2)[C@@H]2OC[C@H]1O2 NJSSICCENMLTKO-HRCBOCMUSA-N 0.000 description 2
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 2
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 239000000872 buffer Chemical class 0.000 description 2
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000003361 porogen Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 2
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZNHKBFIBYXPDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[3-(2-methylprop-2-enoylamino)propyl]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC(=C)C(=O)NCCC[N+](C)(C)C UZNHKBFIBYXPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSDMVRFSCLVCOF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutan-2-amine Chemical compound CCC(N)COC=C VSDMVRFSCLVCOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXVJQEGYAYABRY-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4,5-dihydroimidazole Chemical class C=CN1CCN=C1 HXVJQEGYAYABRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical class C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCSKFKICHQAKEZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylindole Chemical class C1=CC=C2N(C=C)C=CC2=C1 RCSKFKICHQAKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEWNYOKWUAYXPI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpiperidine Chemical class C=CN1CCCCC1 LEWNYOKWUAYXPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWHSSMRWECHZEP-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrazole Chemical class C=CN1C=CC=N1 NWHSSMRWECHZEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLFPDWWJLXNKV-UHFFFAOYSA-N 10-ethenoxydecan-1-amine Chemical compound NCCCCCCCCCCOC=C OHLFPDWWJLXNKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LABXBOIPJOUEHG-UHFFFAOYSA-N 2-(carbamoylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound NC(=O)NCCOC(=O)C=C LABXBOIPJOUEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEWCNXNIQCLWHP-UHFFFAOYSA-N 2-(tert-butylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCNC(C)(C)C BEWCNXNIQCLWHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVIVBSSIPORDLF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-ethenoxyethyl(methyl)amino]ethanol Chemical compound OCCN(C)CCOC=C QVIVBSSIPORDLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWCDUUFOAZFFMX-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n,n-dimethylethanamine Chemical compound CN(C)CCOC=C JWCDUUFOAZFFMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDEFKPTUGHCBCD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n-methylethanamine Chemical compound CNCCOC=C HDEFKPTUGHCBCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEYHHQSTMVVZQP-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanamine Chemical compound NCCOC=C CEYHHQSTMVVZQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWJCRUKUIQRCGP-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCCOC(=O)C(C)=C WWJCRUKUIQRCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPVNTYZOJCDQBK-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxypropan-1-amine Chemical compound NCCCOC=C JPVNTYZOJCDQBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylaniline Chemical compound NC1=CC=C(C=C)C=C1 LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSCJJSJTGIJRRX-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-amine Chemical compound NCCCCOC=C NSCJJSJTGIJRRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRTHDIYBNJQCTF-UHFFFAOYSA-N 5-ethenoxypentan-1-amine Chemical compound NCCCCCOC=C HRTHDIYBNJQCTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXKOVHRCCOTHHL-UHFFFAOYSA-N 6-ethenoxy-n,n-diethylhexan-1-amine Chemical compound CCN(CC)CCCCCCOC=C MXKOVHRCCOTHHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010001513 AIDS related complex Diseases 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KREKXTCKJNLYBS-UHFFFAOYSA-N C=CC(=O)OCCNC(=S)N Chemical compound C=CC(=O)OCCNC(=S)N KREKXTCKJNLYBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000003421 catalytic decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 125000003636 chemical group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011538 cleaning material Substances 0.000 description 1
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical compound NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N ethenyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC=C GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005670 ethenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical class F* 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009878 intermolecular interaction Effects 0.000 description 1
- 230000008863 intramolecular interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002356 laser light scattering Methods 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- WTZRKXMQMQBYDE-UHFFFAOYSA-N n-(2-ethenoxyethyl)-2,4,4-trimethylpentan-2-amine Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)NCCOC=C WTZRKXMQMQBYDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOAVGGXQQIGUNC-UHFFFAOYSA-N n-(2-ethenoxyethyl)-2-methylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)(C)NCCOC=C OOAVGGXQQIGUNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBXGVMCABVKMME-UHFFFAOYSA-N n-(2-ethenoxyethyl)-3,5-diethyl-5-methylheptan-1-amine Chemical compound CCC(C)(CC)CC(CC)CCNCCOC=C WBXGVMCABVKMME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPOVTZIQXUMXON-UHFFFAOYSA-N n-(2-ethenoxyethyl)-n-ethylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CC)CCOC=C KPOVTZIQXUMXON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHVSEVQRQJMLGP-UHFFFAOYSA-N n-(2-ethenoxyethyl)cyclohexanamine Chemical compound C=COCCNC1CCCCC1 OHVSEVQRQJMLGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVWUEIUNONATML-UHFFFAOYSA-N n-benzylethenamine Chemical compound C=CNCC1=CC=CC=C1 BVWUEIUNONATML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZUGJLOCXUNFLM-UHFFFAOYSA-N n-ethenylaniline Chemical compound C=CNC1=CC=CC=C1 PZUGJLOCXUNFLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000001782 photodegradation Methods 0.000 description 1
- 239000006069 physical mixture Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001338 self-assembly Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 1
- 238000000235 small-angle X-ray scattering Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 238000000371 solid-state nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid group Chemical group S(O)(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/10—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by other chemical means
- B05D3/107—Post-treatment of applied coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
- C03C17/256—Coating containing TiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09D133/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09D133/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
- C09D133/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D151/00—Coating compositions based on graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D151/10—Coating compositions based on graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Coating compositions based on derivatives of such polymers grafted on to inorganic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02167—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
- H01L31/02168—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells the coatings being antireflective or having enhancing optical properties for the solar cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/425—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a porous layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/45—Inorganic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/111—Deposition methods from solutions or suspensions by dipping, immersion
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
本公开涉及提供具有改善的防污性能的基材的方法。本发明还涉及防污涂料组合物，以及制备防污涂料组合物的方法。所述涂料组合物用于改善基材的防污性能的用途。
Description
本公开涉及提供具有改善的防污性能的基材的方法。本公开进一步涉及制备防污(AS)涂料组合物的方法，该方法包括以下步骤：制备有机-无机核-壳纳米颗粒的水性分散体，以及任选地添加无机或有机聚合化合物或可聚合化合物作为粘合剂。本发明还涉及防污涂层。本发明还涉及具有抗反射性能的防污涂层。
本公开还涉及通过所述方法获得的AS涂料组合物(ASC组合物)，并涉及使用所述组合物在基材上涂覆防污涂层(ASC)的方法，以及所得的经涂布的基材。本发明还涉及包含防污涂层的基材。本公开的另在一个方面包括本文所述的涂料配制物用于改善基材例如太阳能模块的盖玻璃的防污性能的用途。本公开的另在一个方面包括本文所述的涂料配制物用于改善基材的防污性能的用途。在另在一个方面，本文所述的涂料配制物的使用还向基材提供抗反射性能，即，与参照物相比，提供增加的经涂布基材的透射率。在一个方面，参照物是未涂布的玻璃。
经涂布的基材(例如太阳能模块的经涂布的盖玻璃)通常需要在某个时间点进行清洁。在世界干旱地区尤为如此。清洁涉及时间和成本等，并且会产生废物清洁材料。因此，需要降低经涂布基材的清洁频率。本发明通过改善经涂布基材的防污性能解决了减少清洁的问题。本发明提供了具有改善的防污性能的经涂布基材。本发明提供了一种涂料组合物，将这种组合物涂覆到基材上并将干燥的涂料组合物转化成经涂布的基材之后，所述涂料组合物表现出改善的防污性能。经涂布的基材的涂层在本文中被称为防污涂层(ASC)，其提供了一种涂料组合物，将这种组合物涂覆到基材上并将干燥的涂料组合物转化成经涂布的基材之后，所述涂料组合物表现出改善的防污性能，在本文中被称为防污涂料组合物(ASC组合物)。
本发明方法的实践可提供展示出改善的防污性能的太阳能模块。涂料组合物在本文中也可以称为涂料配制物。
改善的防污性能可以通过清洗频率降低(例如与未涂布的基材相比)，同时在一段时间(例如3个月)内具有相同的功率输出来证明。改善的防污性能可以通过在一段时间(例如3个月)内，例如与未涂布的基材相比，在相同清洗频率下改善的功率输出来证明。
防污涂层(ASC)可以是多孔涂层。在一个方面，ASC是进一步提供AR性能的多孔涂层。提供AR性能的涂层(抗反射涂层，也称为ARC)的一个典型的例子是多孔无机氧化物薄层，例如具有小于0.2μm厚度的层，其基本上由无机氧化物(例如二氧化硅)组成并具有一定的孔隙率。这种涂层可以被涂覆于透明基材以减少从其表面(即从空气-基材界面)反射的光的量，从而增加透过基材的光的量。这种涂层可以单层或以多层涂层(或涂层叠层)的一部分的形式被应用。典型的基于薄多孔二氧化硅层的单层ARC已被描述于例如EP0597490、US4830879、US5858462、EP1181256、W02007/093339、WO2008/028640、EP1674891、WO2009/030703、WO2009/140482、US2009/0220774和WO2008/143429中。
为了有效降低被反射的光的量，透明基材上的单层ARC通常具有介于基材的折射率和空气的折射率之间的折射率。例如，在折射率为1.5的玻璃的情况下，AR层通常具有约1.2-1.3的折射率，并且理想地为约1.22。如果层厚度约为光波长的1/4，则具有足够高孔隙率的多孔二氧化硅(或其他无机氧化物层)可以提供如此低的折射率并起AR涂层的作用；这意味着，在300-800nm的相关波长范围内，厚度优选地在70-200nm范围内。
在ARC中最佳的孔隙率和孔尺寸不仅取决于涂布层厚度，而且取决于其他所期望性能特征。例如，孔尺寸不应当太大以致于无法使光散射最小并使透明度最佳。另在一个方面，如果层包含非常小的孔，这可能导致(在环境使用条件下)经由毛细凝聚而不可逆地摄入水分；从而影响折射率并使涂布层更易于沾污。对于所谓的介孔二氧化硅、尤其具有1-20nm范围内的孔的二氧化硅，已经报道了这种毛细凝聚效应。需要孔隙率来降低折射率，但过高的孔隙率水平可损害涂层的机械强度，例如降低(铅笔)硬度和耐磨性。
本文中“无机氧化物前体”指的是包含金属且能被转化成金属氧化物的化合物，例如通过水解反应和缩合反应。
多孔涂层可以由包含无机或有机粘合剂材料和成孔剂的溶剂型涂料组合物制成。在无机粘合剂情况下，例如基于无机氧化物前体，通常使用溶胶-凝胶方法来制备(多孔)无机氧化物层，其中溶液或胶体(或溶胶)形式的前体化合物被形成离散颗粒或网络聚合物的整合网络(或凝胶)。在这种方法中，溶胶逐渐发展成包含液相和固相的凝胶状双相体系。通常通过收缩和致密化来完成剩余液体的去除，并且剩余液体的去除影响最终的微观结构和孔隙率。此外，还经常施加暴露于高温来进一步增强缩合反应并确保机械稳定性和结构稳定性。所使用的典型的无机氧化物前体是金属醇盐和金属盐，其能够进行各种形式的水解反应和缩合反应。在本说明书的上下文中，金属被理解为包括硅。
这种溶剂型涂料组合物包含来自有机-金属无机氧化物前体的有机配体和溶剂，这些化合物本身会诱使无机氧化物层具有一定孔隙率；但通常具有小于10nm的孔。在涂料组合物中进一步存在成孔剂会帮助在最终层中产生合适的孔隙率水平和孔尺寸，以提供期望的折射率，并因此提供抗反射性能。合适的成孔剂也被称为致孔剂，在现有技术出版物中是已知的，其包括有机化合物例如高沸点溶剂、表面活性剂、有机聚合物和具有亚微米级粒径的无机颗粒，包括多孔颗粒和有机-无机核-壳纳米颗粒。
在粘合剂或基质材料中使用多孔或中空的纳米颗粒为控制多孔涂布层中的孔隙率水平和孔尺寸提出了一种简洁的方式。如例如Adv.Mater.2008，20，3987-4019中所描述，可以区别用于制备中空无机颗粒的各种不同的合成策略。典型的方法在溶剂体系中使用微米或纳米尺寸的有机结构作为形成无机氧化物外层(也被称为具有无机氧化物的涂层)的模板或支架，导致混杂的有机-无机核-壳(或涂布的)纳米颗粒作为中间产物。包含二氧化硅的壳层通常采用基于所谓
法的溶胶-凝胶方法来制备，其中在含氨的水/醇混合物中使烷氧基硅烷水解并缩合。
在工业中仍然需要基于有机-无机核-壳纳米颗粒的防污涂料组合物，该组合物能够在相对低的温度下被制成ASC，例如在热敏性基材上。
本发明提供了一种提供具有改善的防污性能的基材的方法。本发明还提供了提供具有改善的防污性能的基材的方法、AS涂料组合物和制备所述组合物的方法。
本发明提供了一种提供具有改善的防污性能的基材的方法，所述方法包括以下步骤：
a)提供具有表面的基材；
b)提供涂料组合物，所述涂料组合物包含：
i.有机-无机核壳纳米颗粒，其具有包含乳液稳定剂C的核和包含无机氧化物的壳；
ii.基于所述涂料组合物的总重量，至少5重量％的水；
iii.至少一种水溶性溶剂；和
iv.有机化合物A；
c)在所述表面上涂覆所述组合物的层以获得经涂布的基材；以及
d)干燥所涂覆的层以获得干燥的经涂布的基材。
可以通过视觉评估来确定改善的防污性能。在这种评估中可包括：
a)提供具有待测试表面的基材；
b)清洁待测试表面以获得清洁的表面；
c)用粉尘污染待测试表面以获得沾染粉尘的(dusted)污染(soiled)表面；
d)使具有沾染粉尘的表面的基材振动；
e)从沾染粉尘的表面去除过量的粉尘，以获得污染的表面；和
f)视觉评估污染的表面。
在污染测试的步骤d)中，振动可以以每分钟100个循环的速度进行300个循环。一个循环被定义为圆形驱动盘的完整旋转：Taber振动台的托盘的一个完整往返移动。
在污染测试的步骤e)中，可以通过手动轻轻敲击坚硬表面(例如桌面)上的基材的薄边缘(玻璃板的侧面)来完成去除过量的粉尘。
去除过量的粉尘后，通过用软布轻轻擦拭后侧表面来清洁污染表面的未污染侧。
在一个方面，清洁包括：用去离子水和软布清洁，用实验室级乙醇冲洗，和干燥过夜。
优选地，清洁在低于40％的相对湿度下进行。
“soil test”和“soiling test”在本文中都被称为污染测试。
在步骤f)中，可以使用从0到3的范围内的值进行视觉评估，其中0为无污染至轻度污染，1为低度污染，2为可接受的污染，3为高度污染。
在步骤f)中，可以通过将待测试表面与也暴露于步骤a)至e)的参照表面进行视觉比较来进行视觉评估，并在步骤f)中确定在相同照明条件下哪个表面包含较少的粉尘颗粒。
较少的颗粒指示改善的防污性能，特别是与参照表面相比改善的防污性能。参照表面可以是与经涂布基材的基材具有相同材料的未涂布基材。在相同条件下确定待测试表面和参照表面。例如，通过评估光源在表面上的反射。例如，通过将参照基材和待测试的经涂布基材彼此相邻放置，使要比较的两个表面都朝向光源。以相同角度倾斜参照基材和待测试的经涂布基材，使得顶灯将其光反射到表面上并比较光泽度。如果待测试的经涂布基材的表面显示出比参照基材的表面更具光泽度，则待测试的经涂布基材的表面显示出改善的防污性。
在一个方面，污染测试，特别是上面的步骤c)和d)，是使用Taber振动磨损测试仪(例如6160型)，在20℃，40％相对湿度下使用Arizona粗砂进行的。
可以通过使用分光光度计进行透射率(transmission)测量来测量透明基材上涂层的透过率(transmittance)，从而确定防污性能。分光光度计可以是适用于分析经涂布的基材的任何分光光度计。合适的分光光度计包括Shimadzu UV2600分光光度计。另一种合适的分光光度计包括Optosol Transpec VIS-NIR分光光度计或Perkin Elmer 1050 UV/VIS分光光度计。
污染测试可包括：
a)提供具有待测试表面的基材；
b)清洁待测试表面以获得清洁的表面；
c)测量清洁表面在400-1200nm的透过率，然后污染，并确定400-1200nm范围内的平均透过率(T0)；
d)用粉尘污染待测试表面以获得沾染粉尘的污染表面；
e)使具有沾染粉尘的表面的基材振动；
f)从沾染粉尘的表面去除过量的粉尘，以获得污染的表面；和
g)在污染后测量污染表面在400-1200nm的透过率(污染后的透过率)，并确定400-1200nm范围内的平均透过率(T污染)；
这样，可以获得以下值：
-在步骤c)中，T基材，0：污染测试前未涂布的玻璃表面(无涂层的基材)在400-1200nm的平均透过率；
-在步骤g)中，T基材，污染：污染测试后未涂布的玻璃表面在400-1200nm的平均透过率；
-在步骤c)中，T涂层，0：污染测试前经涂布的玻璃表面(带有双面涂布的涂层)在400-1200nm的平均透过率；
-在步骤g)中，T涂层，污染：污染测试后经涂布的玻璃表面在400-1200nm的平均透过率。
在污染测试的步骤d)中，振动可以以每分钟100个循环的速度进行300个循环；一个循环被定义为圆形驱动盘的完整旋转：Taber振动台的托盘的一个完整往返移动。
在污染测试的步骤f)中，可以通过手动轻轻敲击坚硬表面(例如桌面)上的基材的薄边缘(玻璃板的侧面)来完成去除过量的粉尘。
去除过量的粉尘后，可通过用软布轻轻擦拭后侧表面来清洁污染玻璃板的后侧(前侧是待接收分光光度计中入射光的表面)。
在一个方面，清洁包括：用去离子水和软布清洁，用实验室级乙醇冲洗，和干燥过夜。
优选地，清洁在低于40％的相对湿度下进行。
“soil test”和“soiling test”在本文中都被称为污染测试。
在本文中，在400-1200nm的平均透过率是指400-1200nm波长范围内的平均透过率值。
在一个方面，使用Perkin Elmer 1050 UV/VIS分光光度计测量透过率。
在一个方面，使用Taber振动磨损测试仪(例如6160型)进行污染测试，特别是上面的步骤d)和e)。
改善的防污性能可以通过本文定义的增加的防污率(ASR)来证明。改善的防污性能可以通过与参照经涂布基材相比提高的基材-涂层防污率ASR来证明。在一个方面，改善的防污性能可以通过至少50％的基材-涂层防污率ASR来证明。在一个方面，ASR为至少75％，在一个方面，ASR为至少80％，在一个方面为至少85％，在一个方面ASR为至少90％。
改善的防污性能可以通过增加的防污率(ASR)来证明，ASR被定义为：
其中“T”是用分光光度计测得的在400-1200nm的平均透过率，“基材”是指没有涂层的基材，“涂层”是指具有双面涂层的基材。“0”是指在污染测试之前测得的透过率，“污染”是指在污染测试之后测得的透过率。400-1200nm是指从400nm到1200nm，包括1200nm。在一个方面，经涂布的基材表现出至少50％的ASR。在一个方面，经涂布的基材表现出至少75％的ASR。在一个方面，经涂布的基材表现出至少80％的ASR。在一个方面，经涂布的基材表现出至少90％的ASR。
在一个方面，改善的防污性能可以通过增加的基材-涂层抗反射作用ARE来证明，ARE在本文中被定义为
ARE＝T涂层，0-T基材，0
其中T是在400-1200nm的平均透过率，“基材”是指没有涂层的基材，“涂层”是指具有双面涂层的基材，“0”是指在污染测试之前。
改善的防污性能可以通过与参照经涂布基材相比提高的ARE来证明。在一个方面，ARE是至少2％，在一个方面，ARE是至少3％，在一个方面，ARE是至少4％，在一个方面，ARE是至少5％。在一个方面，ARE为至少6％。
可以通过提供使用本文所述的涂料组合物部分涂布的基材(即部分涂布的基材)来确定涂层的污染程度，所述组合物包含
-如本文所述的有机-无机核壳纳米颗粒，其具有包含如本文所述的乳液稳定剂C的核和包含如本文所述的无机氧化物的壳；
-基于总涂料组合物的重量，至少5重量％的水；
-至少一种本文所述的水溶性溶剂；和
-本文所述的有机化合物A。
然后在视觉上比较部分涂布的基材的未涂布部分与部分涂布的基材的涂布部分。如果涂布部分比未涂布部分显示出更高的光泽度，则证明改善的防污性能。
在一个方面，防污涂层也表现出抗反射(AR)性能。
在一个方面，防污涂层表现出至少97.5％的T最大(TMax)。
在一个方面，防污涂层表现出至少96％的T平均。
在一个方面，防污涂层表现出至少96％的T最大。
在一个方面，防污涂层表现出至少95％的T平均。
其中，T最大是在400-1200nm测得的最高透射率％的值。
其中T平均是在400-1200nm的平均透过率。
本发明提供了一种制备防污涂料组合物的方法，所述方法包括以下步骤：
1)通过将下述物质以0.1至2的质量比C/A混合来制备水包油乳液，以产生1-50质量％(基于乳液)的粒径为30-300nm的乳化液滴；
·非极性有机化合物A；
·作为乳液稳定剂的阳离子加成共聚物C；和
·pH 2-6的水性介质；
2)通过向在步骤1)中获得的乳液中添加至少一种无机氧化物前体，向所述乳化液滴提供无机氧化物壳层，以产生核/壳质量比为0.2至25的有机/无机核-壳纳米颗粒；
3)任选地将如此获得的核-壳纳米颗粒与水和/或水溶性溶剂组合；
4)任选地调节pH；和
5)任选地加入有机或无机聚合物粘合剂或可聚合粘合剂。
在步骤2)结束时，核典型地包含至少一种水溶性溶剂，例如源自水解的无机氧化物前体的甲醇或乙醇或其混合物。
利用本发明的制备防污涂料组合物的方法，发现可以制备包含基于乳化液滴的核-壳颗粒的涂料组合物，该乳化液滴包含液体非极性有机化合物并且具有30至300nm范围内的粒径。该粒径可以通过有机化合物的类型和阳离子加成共聚物的单体组成和/或通过选择条件诸如温度、pH、水性介质组成以及较低程度的搅拌速率来加以控制。本发明方法的另一个优点是所获得的核-壳纳米颗粒的分散体在不同条件下是稳定的；提高了其保存期限或贮存时间，并允许例如改变其浓度和溶剂体系，以及添加不同的粘合剂和辅助组分。采用根据本发明的方法获得的涂料组合物可以有利地被用于在宽范围温度下在不同基材(包括具有低耐温性的热塑性基材)上制备ASC，特别是多孔ASC；因为有机化合物可以通过在相对低的温度下溶剂提取或蒸发容易地从核-壳颗粒中去除，并且可以使用可低温固化粘合剂。在一个方面，多孔ASC表现出抗反射性能。
在一个方面，制备ASC组合物的方法包括步骤1)，其中非极性有机化合物A；阳离子加成共聚物C；一定量的pH 2-6的水性介质以0.1至2的质量比C/A混合，来制备水包油乳液。为了制备水包油乳液，本文中使用的“非极性有机化合物A”在高于0℃、优选地高于10或20℃的温度下通常是液体。化合物A优选地在制备乳液的条件下且在随后的工艺以及贮存步骤中保留液体特征。在另一方面，有利的是在由组合物制备ARC时、尤其在干燥步骤中，可以通过蒸发容易地从涂层去除化合物A，以产生孔隙率。因此，化合物A优选地具有至少30、40、60、80或100℃且至多350、300、250、200或150℃的沸点。
本文中使用的化合物A具有非极性(或疏水性)特征，这意味着其在室温下具有至多5kg/m3的水中溶解度，并且能够形成与水分离的相。化合物A优选地为在下文所描述的共聚物C的存在下能够分散于水中的化合物。优选地，化合物A在室温下具有至多4、3、2或1kg/m3的水中溶解度
非常优选地，化合物A是非聚合的。本文中“非聚合的”被理解为，A不是由超过2个重复单体单元构建的，因为业已发现尤其对于高温干燥是不可接受的应用来说，当化合物A是聚合物时可能需要较长的时间来从核-壳纳米颗粒提取或蒸发化合物A。
化合物A优选地对于本发明的方法或组合物中所使用的其他组分来说是惰性的。如果化合物A是酯，则可以将化合物A从分散的核-壳颗粒中部分地提取到还包含粘合剂的最终涂料组合物的介质中。
非极性化合物A的示例包括烃化合物、脂肪酸、醇、酯、醚、乙烯基化合物等。合适的示例包括环己烷、癸烷、甲苯、三甲基苯、乙酸异戊酯、C8-C22醇、苯乙烯、(甲基)丙烯酸烷基酯、丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯等等。
在本文中，可以使用一种化合物作为化合物A，但也可以使用如上所限定的化合物的混合物。也可以使用这样的化合物A，其中溶解了少量(例如小于4或2质量％)的不满足上述限定的疏水性化合物，该疏水性化合物可以辅助化合物A的分散。合适的混合物的实例是包含1质量％十七烷的环己烷。
在根据本发明的制备防污涂料组合物的方法的步骤1)中，由化合物A和阳离子加成共聚物C制备水包油乳液。阳离子加成共聚物C、乳液稳定剂C、阳离子共聚物C和共聚物C在本文可互换使用。共聚物C获自至少一种具有阳离子电荷的单体单元和至少一种中性或非离子性单体，优选地其相应的均聚物表现出有限的水中溶解度或无水中溶解度的非极性单体。
在一个方面，阳离子共聚物具有正zeta电势。优选地，阳离子共聚物C不易溶于水，但倾向于形成胶束聚集体，这增强其作为乳液稳定剂的功能。共聚物可以是无规的，但也可以是嵌段共聚物，其可以包含苯乙烯类、丙烯酸类、甲基丙烯酸类、烯烃类和/或乙烯基共聚单体。在本申请的上下文中，所有这些单体被统称为烯属不饱和单体或乙烯基单体；这包括含甲基-乙烯基基团的甲基丙烯酸酯等等。在本领域中，丙烯酸类化合物和甲基丙烯酸类化合物通常被统称为(甲基)丙烯酸类单体。加成共聚物可以有利地使用本领域技术人员已知的各种聚合技术由大量合适的乙烯基单体来制备；这提供各种各样的共聚物组成。合适的实例包括使用自由基引发剂的本体聚合、溶液聚合和乳液聚合。共聚物优选地被提供为在水性介质中的分散体，其可以由所选择的单体的乳液聚合来获得，也可以由如下来获得：在有机溶剂中聚合，然后将所获得的共聚物分散于pH 2-6的水性介质中；这是本领域中已知的。
共聚物C优选地为由如下获得的共聚物
·至少一种阳离子或碱性单体(M1)，包括具有能够与质子结合以形成阳离子基团的侧基的化合物，如具有叔胺基团的单体；
·至少一种中性或非离子性单体(M2)；优选地其相应的均聚物不易溶于水性介质的非极性单体；和
·任选地至少一种极性、阴离子性或酸性单体(M3)。
由所述单体获得的共聚物是指通过使包含所述单体的组合物聚合而形成的共聚物。
例如，共聚物C优选是通过使包含以下单体的组合物聚合而形成的共聚物：
·至少一种中性或非离子性单体(M2)；优选地其相应的均聚物不易溶于水性介质的非极性单体；和
·任选地至少一种极性、阴离子性或酸性单体(M3)。
过高的M2量可导致共聚物在水性介质中不溶和/或沉淀。因此，优选地选择共聚单体的类型和量，以使共聚物能够分散于水性介质中形成胶体状颗粒或聚集体。本发明的一个优点是这种单体的无规共聚物已经能够在水性介质中起到乳液稳定剂的作用；从而不需要使用制备嵌段共聚物的较复杂合成路线。根据待被乳化的化合物A和水性介质的组成，本领域技术人员也将能够选择合适的共聚物组成。
在一个实施方式中，本文的共聚物C是由以下单体获得的共聚物：
·1-25摩尔％的至少一种单体M1；
·50-99摩尔％的至少一种单体M2；和
·0-25摩尔％的至少一种单体M3(其中M1、M2和M3之和总计为100％)。
如果共聚单体M3、尤其是阴离子M3被用于制备共聚物，则以得到具有净正电荷的离子共聚物的用量使用单体M1，例如以相对于M3摩尔过量的用量使用单体M1。
在一个实施方式中，本文所用的共聚物是由以下单体获得的阳离子共聚物：
·5-15摩尔％的至少一种单体M1；
·75-95摩尔摩尔％的至少一种单体M2；和
·0-10摩尔％的至少一种单体M3。
在进一步优选的实施方式中，本文所用的共聚物是由如下获得的阳离子共聚物：至少5、6、7、8、9或10摩尔％且至多25、20、15、12或10摩尔％的至少一种单体M1；和至少一种单体M2，单体M2的量使得M1和M2的总和为100摩尔％。
能够适合用于经由加成聚合形成根据本发明的方法中所使用的共聚物C的阳离子单体M1包括具有氨官能侧基的乙烯基单体；其可以是能够在形成共聚物时或形成共聚物后被中和的非离子性单体，已经具有被中和的氨官能基团的单体或者具有永久季铵基团的乙烯基单体。
携带非离子性氨官能基团的乙烯基单体的实例包括(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基己酯、(甲基)丙烯酸N，N-二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N-甲基-N-丁基-氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基丙酯、(甲基)丙烯酸2-(1，1，3，3-四甲基丁基氨基)乙酯、(甲基)丙烯酸β-吗啉代乙酯、4-(β-丙烯酰氧乙基)吡啶、乙烯基苄基胺、乙烯基苯基胺、2-乙烯基吡啶或4-乙烯基吡啶、对-氨基苯乙烯、二烷基氨基苯乙烯(诸如N，N-二氨基甲基苯乙烯)、取代的二烯丙基胺、N-乙烯基哌啶、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基咪唑啉、N-乙烯基吡唑、N-乙烯基吲哚、N-取代的(甲基)丙烯酰胺(如2-(二甲基氨基)乙基(甲基)丙烯酰胺、2-(叔丁基氨基)乙基(甲基)丙烯酰胺、3-(二甲基氨基)丙基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰胺、N-氨基烷基(甲基)丙烯酰胺)、乙烯基醚(诸如10-氨基癸基乙烯基醚、9-氨基辛基乙烯基醚、6-(二乙基氨基)己基乙烯基醚、5-氨基戊基乙烯基醚、3-氨基丙基乙烯基醚、2-氨基乙基乙烯基醚、2-氨基丁基乙烯基醚、4-氨基丁基乙烯基醚、2-二甲基氨基乙基乙烯基醚、N-(3，5，5-三乙基己基)氨基乙基乙烯基醚、N-环己基氨基乙基乙烯基醚、N-叔丁基氨基乙基乙烯基醚、N-甲基氨基乙基乙烯基醚、N-2-乙基己基氨基乙基乙烯基醚、N-叔辛基氨基乙基乙烯基醚、β-吡咯烷酮乙基乙烯基醚(beta-pyrrolidinoethyl vinyl ether)或(N-β-羟乙基-N-甲基)氨基乙基乙烯基醚)。还可以使用含有环状脲基或硫脲的烯属不饱和单体，诸如(甲基)丙烯酰氧乙基亚乙基脲、(甲基)丙烯酰氧乙基亚乙基硫脲、(甲基)丙烯酰胺亚乙基脲、(甲基)丙烯酰胺亚乙基硫脲等等。优选的单体是氨基官能的(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酰胺；尤其是(甲基)丙烯酸N，N，-二烷基氨基烷基酯，更具体地甲基丙烯酸叔丁基氨基乙酯、甲基丙烯酸二甲基氨基丙酯、甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯(DMAEMA)或甲基丙烯酸二乙基氨基乙酯(DEAEMA)，更优选为DMAEMA和DEAEMA。
上文给出的合适的和优选的M1单体的例子还可以通过在聚合之前用例如酸、优选用有机酸如羧酸等进行处理而以其离子化形式使用。
带有永久季铵基团的M1单体的合适例子包括甲基丙烯酰氨基丙基三甲基氯化铵(MAPTAC)、二烯丙基二甲基氯化铵(DADMAC)、2-三甲基乙基甲基丙烯酸氯化铵(TMAEMC)以及取代(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酰胺的季铵盐单体。
可在通过加成聚合形成根据本发明的方法中所使用的共聚物中适当使用的中性或非离子性单体M2包括各种烯属不饱和或乙烯基单体，包括各种苯乙烯类、(甲基)丙烯酸类、烯烃类和/或乙烯基共聚单体。至少一种单体M1优选地是疏水的。优选地，阳离子共聚物包含一定量的非水溶性或疏水性共聚单体，其将促进共聚物(并非非充分水溶)在水性介质中自组装成胶体状颗粒或聚集体。基于本说明书和实验中公开的信息(可能需要一些进一步实验的辅助)，并根据共聚物组成(例如M1和M2的类型和量)、条件(例如溶剂组成、温度、pH)和化合物A的类型，技术人员将能够选择合适的单体组合和它们的含量。
合适的苯乙烯类单体M2包括苯乙烯、α-甲基苯乙烯和其它取代的苯乙烯。合适的(甲基)丙烯酸类单体M2包括(甲基)丙烯酸烷基酯或(甲基)丙烯酸环烷基酯，优选的是(甲基)丙烯酸C1-C18烷基酯或(甲基)丙烯酸C1-C8烷基酯，例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯(所有异构体)、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸丙酯(所有异构体)或(甲基)丙烯酸异冰片酯。最优选的(甲基)丙烯酸类单体包括甲基丙烯酸甲酯(MMA)、甲基丙烯酸乙酯(EMA)、甲基丙烯酸正丁酯(BMA)。类似地，N-烷基(甲基)丙烯酰胺可被用作单体M2。能够与M1共聚的其它单体也可被用作单体M2，包括丁二烯；乙烯基单体，例如氯乙烯、月桂酸乙烯酯、乙烯基烷基醚等。
也可以使用能够与M1和M2共聚的各种化合物作为单体M3，包括丙烯腈、甲基丙烯腈；乙烯基单体，例如乙烯基吡咯烷酮、乙烯基酯(例如乙酸乙烯酯或丙酸乙烯酯等)。也可以使用阴离子性或酸性单体M3来制备根据本发明的方法中所使用的共聚物，如带有悬挂的磷酸、硫酸或羧酸基团的单体。合适的单体包括带有羧酸基的乙烯基单体，实例为烯属不饱和一元羧酸和/或二羧酸(例如富马酸、衣康酸、马来酸)，特别是带有羧酸基的(甲基)丙烯酸类单体(例如丙烯酸(AA)、甲基丙烯酸(MAA)和β-羧基乙基丙烯酸酯(β-carboxyethylacrylate))。含有阴离子基团和阳离子基团的共聚物可被称为聚两性电解质(polyampholyte)。离子基团之间的分子内和分子间相互作用可增强其在本发明的方法中作为乳液稳定剂C的作用。
在一个方面，乳液稳定剂C是阳离子加成共聚物，其包含至少一种具有阳离子电荷的单体单元和至少一种为中性或非离子性且具有整体正zeta电势的单体单元。
在本发明的一个实施方式中，阳离子共聚物可由如下获得的：5-15摩尔％的至少一种单体M1，其选自由氨官能的(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酰胺组成的组；和85-95摩尔％的至少一种单体M2，其选自(甲基)丙烯酸C1-C18烷基酯的组。
在本发明的另外的实施方式中，采用包含如下的阳离子共聚物：5-10摩尔％的甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯(DMAEMA)作为单体M1和90-95摩尔％的MMA作为单体M2；或者由如下制备的共聚物：5-12摩尔％的DMAEMA和88-95摩尔％的丙烯酸异冰片酯(IBOA)。
共聚物C的摩尔质量可以在宽范围内变化。典型地，共聚物具有1-500kDa(kg/mol)的重均分子量(Mw)，优选地Mw为至少2、5、10、15或甚至20kDa但至多250、200、150、100、50或甚至40kDa，以使作为乳液稳定剂的活性最佳。共聚物的摩尔质量可以通过凝胶渗透色谱(GPC)使用已知摩尔质量的聚甲基丙烯酸甲酯作为标准物并使用THF或六氟异丙醇作为洗脱溶剂来确定。
在根据制备ASC组合物的方法的步骤1)中，水包油乳液是通过在pH 2-6的水性介质中混合化合物A和共聚物C来制备的，水性介质由存在的有机酸和/或无机酸或缓冲化合物获得。在该pH范围内，共聚物C将是带阳离子电荷的，而且如果M1单体具有(经中和的)叔胺悬挂基团。混合的温度不是关键的，但是通常为环境温度到约50℃。
本文中“水性介质”是指含水的液体。水性介质除了水外还可以包含至少一种水溶性溶剂，例如醇、酮、酯或醚。实例包括1，4-二氧杂环己烷、丙酮、乙酸乙酯、丙醇、乙醇、甲醇、丁醇、甲基乙基甲酮、甲基丙基甲酮和四氢呋喃以及它们的化合物。优选地，水性介质包含水和低级(C1-C8)脂肪醇，例如甲醇、乙醇、异丙醇或1-甲氧基丙烷-2-醇或其混合物；更优选地乙醇或异丙醇或其混合物。如果存在水溶性溶剂，则选择其用量以使化合物A和共聚物C不溶解，从而确保形成化合物A和共聚物C的乳化液滴。优选地水溶性溶剂的量为至多10质量％、更优选地至多8、6或4质量％(基于总组合物)。优选地，水性介质的溶剂组成也适用于形成壳层的随后步骤2)。
在制备ASC组合物的方法中，组分A和C的添加方式和顺序以及与水性介质混合的方式和顺序不是特别关键的。例如，化合物A和共聚物C可以同时添加或顺次添加，任选地在搅拌下。可以通过搅拌来促进乳化液滴的形成，例如以相对低的速度用搅拌棒、用高速混合器、用高压均质器或用超声法。实际的搅拌速率(或者当使用上文所举例的替换性混合装置时的类似设置)可以改变，并且如本领域普通技术人员通过常规实验所确定的，对该速率进行选择以实现水包油乳液。
在通过在水性介质中混合有机化合物A和共聚物C来制备水包油乳液的步骤1)中，C与A的质量比为0.1至2。需要一定的最小量的阳离子共聚物来使乳液稳定，而且需要其来提供具有一定电荷水平的乳化液滴，所述一定电荷水平与在随后步骤2)中形成至少部分反应的无机氧化物前体的壳层相关。共聚物的量过高(即相对低量的化合物A)会降低由所获得的组合物得到的涂布层中能够形成的潜在的孔隙率水平。因此，质量比C/A优选地为至少0.15、0.2、0.3或0.4，并且至多1.5、1.2、1.0、0.9、0.8、0.7、0.6或0.5。
如果期望的话，在制备ASC组合物的方法中，可以在步骤1)中添加低摩尔质量的其他常规表面活性剂，以辅助形成分散的液滴并进一步稳定所获得的乳液。所使用的表面活性剂可以是非离子的、阳离子的或阴离子的或其组合。优选地，不使用表面活性剂或仅使用少量表面活性剂，如0.1-3质量％、更优选地0.2-1.5质量％。
制备ASC组合物的方法在步骤1)得到具有1-50质量％的乳化液滴的分散体(基于总乳液)。根据随后的步骤和用途，可以制备具有宽范围乳化颗粒浓度的乳液。一般来说，相对高的浓度在步骤1)中是优选的，这使得在随后的步骤中可以根据需要进一步用水或其他溶剂稀释。优选地，在步骤1)中制备的分散体包含至少2、4、6、8或10质量％且至多40、30、25或20质量％的乳化液滴。基于上文所提供的信息，本领域技术人员能够确定化合物A、共聚物C、水性介质和任选地在本方法中使用的其他化合物的相对用量。
本发明的方法在步骤1)中得到的分散体具有粒径为20-300nm的乳化液滴。可以通过各种技术来监测乳化液滴的形成和尺寸；例如通过动态激光散射(DLS)。考虑到使用根据本发明的方法获得的组合物来制备AR涂层，选择上文中描述的方法的变量，以使粒径优选地为至少25、30、35、40、45或50nm且至多250、200、175、150或125nm(用DLS测得)。
制备ASC组合物的方法包括向乳化液滴提供无机氧化物壳层的步骤2)，其通过如下来实现：向步骤1)中所获得的乳液添加至少一种无机氧化物前体，导致核/壳质量为0.2至25的有机/无机核-壳纳米颗粒。文本中，核是化合物A和乳液稳定剂C的总和，壳是无机氧化前体的SiO2等同物。本文中“无机氧化物前体的金属氧化物等同物”是指通过完全转化成金属氧化物使前体转化得到的氧化物的质量，例如TMOS和TEOS均算作一个SiO2，四异丙醇钛算作一个TiO2，并且硝酸铝算作半个Al2O3。在根据本发明的方法的步骤2)中，乳化液滴起模板的作用，由部分反应的前体的溶胶颗粒在该模板上形成壳层。这种通过溶胶-凝胶方法形成无机壳层已经被描述于许多出版物中，包括本申请中所引用的文献，以及这些文献中所参考的出版物。合适的无机氧化物前体包括金属盐、金属螯合物和有机金属化合物(优选地金属醇盐)，以及它们的组合。这种化合物能够在水性介质中进行各种水解和/或缩合反应，以最终形成相应的氧化物或混合氧化物。在本申请的范围内，硅(Si)被认为是金属。合适的金属包括Si、Al、Bi、B、In、Ge、Hf、La和镧系元素、Sb、Sn、Ti、Ta、Nb、Y、Zn和Zr及其混合物。优选地，金属是Si、Al、Ti和Zr的至少一种。优选的前体包括烷氧基硅烷，优选地四烷氧基硅烷或三烷氧基硅烷，例如四甲氧基硅烷(TMOS)、四乙氧基硅烷(TEOS)、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、四异丙醇钛、硝酸铝、丁醇铝、硝酸钇和丁醇锆。这种前体化合物可以被部分地预反应或预水解，以形成低聚物种，典型地以约1-20、1-10或甚至1-5nm的纳米尺寸颗粒(也被称为溶胶颗粒)形式。
在本发明的一个实施方式中，至少一种无机前体包含烷氧基硅烷、更优选地TMOS和/或TEOS。优选地，所形成的壳层基本上由作为无机氧化物的二氧化硅(前体)组成；壳例如包含至少80、85或90摩尔％的Si作为无机氧化物中的金属，更优选地至少95摩尔％的Si。
在制备ASC组合物的方法中，用于获得核-壳纳米颗粒的在模板上由前体形成壳层的步骤通常是在温和条件下进行的。如上文所提到，水性介质可以包含水溶性溶剂，如醇、酮、酯或醚；优选地醇，例如甲醇、乙醇或异丙醇。水充当组合物的溶剂的作用或稀释剂的作用，但也会与无机氧化物前体反应；例如与烷氧基硅烷反应。因此，组合物中存在的水的量至少为用于这种所期望的反应、例如诸如四乙氧基硅烷的(部分)水解所需要的量。在想要获得TEOS完全水解的情况下，组合物应当以至少4∶1的与Si的摩尔比包含水。
在制备ASC组合物的方法的该步骤中，温度不是非常关键的，并且温度可以宽范围变化，只要乳液不被破坏即可。温度可以为至多100℃，但通常为环境温度，即从约15至40℃。因此所述水解反应是放热的，所以可能需要使用冷却来控制该步骤中的温度。pH在2-6、优选地3-5或3-4.5的范围内。采用这些条件的一个优点是纳米颗粒由通常具有负电荷的前体形成并且会至少部分沉积在具有相反电荷的乳化液滴的外部。以这种方式，根据反应条件，可在乳液颗粒周围形成开放或“蓬松”(fluffy)或者甚至更压缩的无机氧化物(前体)层。
在制备ASC组合物的方法中，在模板液滴上由前体形成壳层的过程是在如下条件下进行的：无机氧化物前体与有机模板的质量比使得有机/无机核-壳纳米颗粒具有0.2至25的核/壳质量比。优选的是，核/壳质量比为0.2至5并具体地0.2至2。更优选地，该方法导致核/壳质量比0.3-2、更优选地0.4-1.8的核-壳纳米颗粒。当在根据本发明的方法中不包含单独的粘合剂添加步骤5)时，高的核/壳质量比(例如2至25、具体地4-23)是尤其有利的。在这种情况下，步骤2)中添加的氧化物前体也起到整合的粘合剂的作用，就此意义而言，一些氧化物前体会形成核-壳纳米颗粒的壳，并且一些氧化物前体会保持未结合的或仅仅非常松散地与纳米颗粒结合并且在ASC制备中会起到粘合剂的作用。
在模板上由前体形成壳层的过程可以例如通过DLS通过测量乳化液滴的尺寸变化来进行监测。尽管DLS技术具有其缺点，例如主要检测较大颗粒并且粒径也可能因为从前体释放的化合物(例如醇，其能被吸附于核中)而改变，但是DLS技术是观察壳形成的一种简单方便的方法。当乳化的核颗粒的净电荷由于具有与共聚物相反的电荷的无机氧化物(前体)而降低时，壳形成可能延缓或停止。可保持一定的电荷水平以使颗粒保持分散。由于壳形成被认为是由无机纳米颗粒与包含阳离子共聚物的乳化液滴的外层复合而形成的，所以在水性介质中期望形成开放或蓬松的结构而非(如在干燥的颗粒中那样)致密的壳。
在制备ASC组合物的方法的实施方式中，所形成的壳的结构(例如其密度或表面性质)可通过如下来进一步优化：延长反应时间、与偶联剂反应或本领域已知的其他处理方法。由此所形成的壳层的厚度通常在1-20nm、2-10nm范围内。可以采用诸如TEM(具体地超低温-TEM)、SAXS或SANS的技术在颗粒上评估核-壳纳米颗粒的壳厚度及其形态。考虑到相对薄的壳层，核-壳颗粒的粒径在与乳化液滴的粒径相似的范围内。
采用制备ASC组合物的方法，获得分散的核-壳纳米颗粒，发现其组成表现出显著地好的贮存稳定性和处理稳定性，这意味着与其他基于溶胶-凝胶方法的分散体相比，该组合物极不易于改变粘度或凝胶。还发现，通过蒸发或用水或水溶性溶剂(例如醇)稀释，可以调节分散体的固体含量；其会大大提高调节组合物以匹配涂料应用需要的可能性。
本文所述的水溶性溶剂的实例包括1，4-二氧杂环己烷、丙酮、乙酸乙酯、丙醇、乙醇、甲醇、丁醇、异丙醇、甲基乙基甲酮、甲基丙基甲酮、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺和四氢呋喃及其混合物。优选地，水溶性溶剂选自低级(C1-C8)脂族醇，例如甲醇、乙醇、异丙醇或1-甲氧基丙烷-2-醇或其混合物；更优选选自乙醇或异丙醇或其混合物。
制备ASC组合物的方法可以包括另外的步骤5)：添加2-70质量％的至少一种聚合化合物或可聚合化合物作为粘合剂(质量％基于核-壳颗粒和粘合剂的总和)。优选使用2至20质量％之间的量的至少一种聚合化合物或可聚合化合物作为粘合剂。原则上，在步骤2、3或4之后获得的组合物可用于在基材上形成ASC，其在干燥后表现出对基材表面一定的粘附水平，这是由于无机氧化物前体的进一步反应造成，无机氧化物前体在制备壳层时通常不会完全反应。优选地，在步骤5)中向AS涂料组合物中添加粘合剂，该粘合剂可以是至少一种无机或有机聚合化合物或可聚合化合物。在由组合物形成ASC时，粘合剂起到成膜剂的作用，并使核-壳纳米颗粒保持在一起，导致所形成的涂层具有改善的机械性质并导致在干燥后对基材的粘附性更好。添加粘合剂会降低由组合物制备的涂层的孔隙率水平。因此，在本发明方法的步骤5)中，优选地添加至少2、5、10、15、20或25质量％的粘合剂；但使用至多65、55、50、40或30质量％(基于核-壳颗粒和粘合剂的固体SiO2含量之和)。使用过多的粘合剂可能会降低AS涂层的防污特性。
在制备ASC组合物的方法中合适的有机粘合剂包括本领域技术人员已知的各种不同的聚合物和可热固化或可辐射(例如UV)固化单体。有机粘合剂、尤其可辐射固化粘合剂通常具有如下优点：它们能够在暴露于UV光或与例如热塑性基材相兼容的高温(优选地低于250℃)下固化，并且在此温度下还可以从纳米颗粒蒸发有机化合物A以原位形成中空颗粒。无机粘合剂的使用可能是优选的，导致改善的机械性质和耐久性。如果期望，可以在ASC的干燥步骤之后用UV光固化有机粘合剂。
本发明的一个优点是，本发明方法允许本领域技术人员选择并使用会提供某些涂料应用所期望性质的粘合剂。
可以采用的合适的有机粘合剂的实例包括可自由基固化(过氧化物或光引发的)组合物，其包含乙烯基单体和具有不饱和基团的乙烯基聚合物，例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、马来酸酯/乙烯基醚等，或者在苯乙烯和/或(甲基)丙烯酸酯中的可自由基固化的不饱和聚酯或聚氨酯。
在制备本发明的AS涂料组合物的方法中，合适的无机粘合剂包括无机氧化物前体，如金属醇盐、金属螯合物、金属盐及其混合物。合适的金属包括选自Si、Al、Be、Bi、B、Fe、Mg、Na、K、In、Ge、Hf、La和镧系、Sb、Sn、Ti、Ta、Nb、Y、Zn和Zr的至少一种元素；优选地金属是选自Si、Al、Ti和Zr的至少一种元素。合适的无机氧化物前体包括本领域公知的能够经由水解和/或缩合反应来反应形成相应的氧化物的那些化合物。无机氧化物前体(其在本发明的上下文中被认为通过例如水解和/或缩合是可聚合的、或者在玻璃、溶胶-凝胶或结晶阶段中被聚合)可以是金属盐或有机金属化合物，如烷氧基化合物、芳氧基化合物、卤化物化合物、硝酸盐化合物或硫酸盐化合物及其组合物。优选的前体包括烷氧基硅烷(包括卤代衍生物、尤其氟代衍生物)，例如四甲氧基硅烷(TMOS)、四乙氧基硅烷(TEOS)、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、氟代烷氧基硅烷(诸如三氟丙基三甲氧基硅烷)、四异丙醇钛、硝酸铝、丁醇铝、硝酸钇和丁醇锆。更优选地，前体包含TMOS和/或TEOS。
无机氧化物前体可以是无机氧化物前体化合物和相应无机氧化物的混合物。在制备组合物时前体化合物在水性介质中部分地预反应或预水解以形成低聚物种(通常以纳米尺寸的颗粒形式)的情形下，这种混合物可以例如产生；这在溶胶-凝胶技术中是公知的过程。优选的聚合物无机粘合剂的例子包括预低聚的TEOS、预低聚的TMOS及其组合。
在另一个优选的实施方式中，在制备ASC组合物的方法中使用的粘合剂包含不同无机氧化物前体的混合物，在这种情况下通常形成混合的无机氧化物，其对例如不同的玻璃来说是已知的。在这种混合的氧化物中，各种元素通过氧原子连接到一起以形成离子网络或共价网络的一部分，而不是以不同氧化物的物理混合物形式存在。在本公开的上下文中，混合的无机氧化物指的是这种定义。混合的氧化物的形成可以例如通过评估从不同组合物形成的氧化物(例如以薄膜层形式)的等电点的变化，或者通过分析技术(例如IR和固体NMR)而被确定。尽管如此，本领域习惯于通过存在的每种金属的无机氧化物的理论量来定义这种混合的无机氧化物的组成；例如由Si-氧化物前体和Al-氧化物前体制成的铝硅酸盐的组成通常以二氧化硅和氧化铝的含量形式表达。在混合的氧化物作为粘合剂的情况下，优选地，主要的金属元素选自Si、Al、Ti和Zr，第二元素选自Si、Al、Be、Bi、B、Fe、Mg、Na、K、In、Ge、Hf、La和镧系元素、Sb、Sn、Ti、Ta、Nb、Y、Zn和Zr，其中主要元素和第二元素的摩尔比为约75∶25至99∶1。
优选地，方法的步骤5)中所使用的粘合剂包含二氧化硅前体和氧化铝或氧化钇的前体的混合物，因为所形成的混合的氧化物展示出高耐室外性或耐久性。
氧化铝前体可包括
-Al(III)络合物，例如AlX3形式的Al(III)的卤素基盐，其中X可以是F、Cl、Br、I及其水合物形式；
-Al(III)无机盐，例如硝酸Al(III)、亚硝酸Al(III)、亚硫酸Al(III)、硫酸Al(III)、磷酸Al(III)、氯酸Al(III)、高氯酸Al(III)、碳酸盐及其水合物形式；
-带有可水解的氧或氮供体基配体(例如醇盐或酰胺)的Al(III)络合物；和
-它们的组合。
氧化铝前体可包括三异丙醇铝、三仲丁醇铝、Al(NO3)3、AlCl3或其组合中的任何一个。
在一个方面，涂料组合物包含0.1至30重量％氧化铝当量的含铝化合物。这可以(进一步)改善防污性能。
在一个方面，涂料组合物包含0.5至30重量％氧化铝当量的含铝化合物。
在一个方面，涂料组合物包含1至15重量％氧化铝当量的含铝化合物。
在本发明的一个方面，抗反射涂层包含至少0.1重量％，至少0.5重量％，至少1重量％，至少2重量％，至少3重量％，至少5重量％，至少7重量％，至少10重量％，至少12重量％的氧化铝当量的含铝化合物。
在本发明的一个方面，抗反射涂层包含30重量％或更少，25重量％或更少，20重量％或更少，15重量％或更少，10重量％或更少的氧化铝当量的含铝化合物。
在一个方面，含铝化合物的氧化铝当量是基于在600℃下在空气中燃烧2分钟后的总灰分余量。铝可以例如以金属氧化物粉末的形式提供，但更优选以有机或无机盐的形式任选地以溶液或悬浮液形式提供。在一个优选的实施方式中，涂料配制物包含1.0至25重量％氧化铝当量的含铝化合物。
在本文中，无机物的氧化物当量是指包括氧化硅在内的金属氧化物，而与无机物质所存在于的实际化合物无关，因此，例如，四乙氧基硅烷将算作SiO2，而无论存在的物质是四乙氧基硅烷、部分水解的四乙氧基硅烷还是SiO2。即，无机物的氧化物当量指可以由所使用的无机氧化物前体或实际化合物形成的包括氧化硅的金属氧化物的当量量。因此，例如，一定量的四乙氧基硅烷将表示为SiO2当量，而无论存在的物质是四乙氧基硅烷、部分水解的四乙氧基硅烷还是SiO2。与氧化铝类似，计算可形成的纯Al2O3的量。基于添加到配制物中的氧化铝前体，将氧化铝当量计算回理论Al2O3量。
氧化铝前体可包括三异丙醇铝、三仲丁醇铝、Al(NO3)3、AlCl3或其组合中的任何。
二氧化硅前体可包括TEOS(四乙氧基硅烷)，TMOS(四甲氧基硅烷)，烷基硅烷，例如(R)x)Si(OCH3)4-x，其中R＝CH3；C2H5；OCH3或OC2H5，或其组合。
例如对于二氧化硅，从烷氧基硅烷开始。当提及氧化物当量时，假设仅形成纯SiO2。与氧化铝类似，如果从Al(NO3)3开始，则计算可形成的纯Al2O3的量。
例如，对于10克原硅酸四乙酯(TEOS)，无机氧化物当量的量计算如下：
即eq.SiO2＝无机物的氧化物当量＝10/208,33＊60,08＝2,88g。
或者，可以对其进行测量。因此，在一个方面，无机氧化物当量基于在600℃下在空气中燃烧2分钟后的总灰分余量。如本领域技术人员所知，在600℃下在空气中燃烧2分钟后的总灰分余量是在600℃下在空气中燃烧2分钟后的总残余固体材料。
在一个方面，改善的防污性能可通过增加的防污增益(gain)ASG来证明，ASG如本文所定义。改善的防污性能可通过与参照经涂布基材相比增加的ASG来证明。
改善的防污性能可通过增加的防污增益(ASG)来证明，其中ASG＝
其中，T为400-1200的平均透过率，含Al的经涂布基材是指具有包含氧化铝的涂层的双面涂布基材，不含铝的经涂布基材是指具有相同涂层(其中不包含氧化铝)的双面涂布基材，0是指污染测试前，污染是指污染测试后。
制备ASC组合物的方法还可以包括添加无机粘合剂和有机粘合剂的组合，从而例如进一步改善所得到的涂层的性质，如防污性能，或增强对基材的粘附性。这些粘合剂本身可以形成聚合物或网络，但也可以共反应。
在一个实施方式中，粘合剂包含至少一种无机氧化物前体。在另外的实施方式中，粘合剂由至少一种无机氧化物前体组成。
制备ASC组合物的方法可以任选地包括添加至少一种辅助组分的步骤，辅助组分通常是非挥发性或固体组分。优选地，基于核-壳颗粒和粘合剂的总和，添加小于20质量％的量、更优选地小于10或5质量％的量的辅助组分。这些组分可以被添加来辅助处理涂料组合物或影响由组合物形成的涂层的其他功能。辅助组分的实例包括酸、缓冲剂、催化剂、偶联剂、表面活性剂、消泡剂、螯合剂、滑爽剂、增稠剂和流平剂。
制备ASC组合物的方法任选地包括通过去除或添加水和/或水溶性溶剂来调节涂料组合物的固含量的进一步步骤。采用本发明的方法制备的AS涂料组合物通常具有小于约20、15、10、5或甚至3质量％的固含量，并且最小固含量约为0.1质量％、优选地至少0.2、0.5或1.0质量％。在本发明的上下文中，固含量指除化合物A、水和水溶性溶剂之外添加的组分的总和，即共聚物C、无机氧化物前体、粘合剂和辅助组分的总和。固含量可以如本领域技术人员已知的那样通过在130℃下干燥直至获得干燥后的恒定重量来确定(例如通过使用红外水分分析仪/天平；Ohaus MB45)。固含量＝(初始重量-干燥后的恒定重量)除以初始重量x 100。
用制备ASC组合物的方法制备的组合物包含上文中所定义的水溶性溶剂和水，水和水溶性溶剂一起也被称为溶剂。采用本发明的方法获得的涂料组合物的溶剂是液体组分，其包含以溶解态、分散态或胶体态的其他涂料组分，因此也可被称为稀释剂。可改变溶剂的量以获得涂料组合物的期望粘度，所述粘度可相对较低以允许易于以薄膜的形式涂覆至基材上(例如作为AS涂层使用)。典型地，涂料组合物的粘度为至少约0.6mPa.s，优选地为至少1.0或2.0mPa.s。根据所应用的沉积技术，粘度可高至1000mPa.s。优选地，对于制造厚度均一的薄膜层，粘度为至多500mPa.s、300mPa.s或200mPa.s。可利用已知的方法测量粘度，例如利用特别适用于低粘度范围的Ubbelohde PSL ASTM IP no 1(27042类型)或利用Brookfield粘度计。可以通过去除溶剂例如蒸发或通过添加溶剂来调节固含量。
在制备ASC组合物的方法的一个进一步优选方面中，改变所获得的涂料组合物的pH至无机氧化物和/或其前体(存在于核-壳颗粒中和/或作为粘合剂存在)不反应(包括至少仅非常慢地反应)的水平，以防止核-壳颗粒的结块；在二氧化硅前体的情况下，优选地改变pH至约2-3或甚至小于2(采用标准pH电极在水性或含醇的分散体上测得)。以这种方式，本发明方法得到具有良好的贮存性质和延长的保存期限的组合物。为了调节pH，可以添加无机或有机酸，例如硝酸溶液。
在低于室温、更优选地低于15或10℃但高于冻结温度的温度下贮存也会提高所获得的涂料组合物的保存期限。
根据本发明的方法的上述步骤通常在环境压强下进行，但本领域技术人员会认识到也可以施加高压(或低压)。
本发明还涉及采用上文中所描述的制备ASC组合物的方法获得的AS涂料组合物，包括所指示步骤、组分、特征和实施方式的所有组合和小变化。
在另一方面，本发明还涉及在基材上制备ASC的方法，其包括如下步骤：
·将根据本发明的本文所述的AS涂料组合物或采用制备ASC组合物的方法获得的AS涂料组合物涂覆于基材；并且
·干燥所涂覆的涂布层。
根据本发明的涂料组合物能够涂覆在其上的基材可广泛变化，其可以是有机的或无机的，并且可以具有多种几何形状。在一个方面，基材是透明基材。优选地，基材至少对可见光是透明的。在一个方面，透明是指使用分光光度计测量时，在200-2000nm范围内，在一个方面400-1200nm范围内至少80％的透射率。合适的基材包括无机玻璃(例如硼硅酸盐玻璃、钠钙玻璃(soda lime glass)、玻璃陶瓷、铝硅酸盐玻璃)和塑料(例如PET、PC、TAC、PMMA、PE、PP、PEN、PVC和PS)或者复合材料(例如层压制品)。优选地，基材是玻璃，例如硼硅酸盐玻璃；优选的是平板玻璃，例如具有光滑或图案化表面的浮法玻璃。
基材可以是浮法玻璃或纹理玻璃(例如SM或MM玻璃)。基材可以是木材或金属。基材可以是柔性的。
本文的ASC涂料组合物不仅能够被直接涂覆在基材上，而且能够被涂覆在已存在于基材上的另一种涂层上，例如碱离子阻挡层、粘附促进层、硬涂布层或者具有更高(比基材高)折射率的层。
本发明提供了一种提供具有改善的防污性能的基材的方法，该方法包括以下步骤
a)提供具有表面的基材；
b)提供涂料组合物，所述涂料组合物包含
i.有机-无机核壳纳米颗粒，其具有包含乳液稳定剂C的核和包含无机氧化物的壳；和
ii.水溶性溶剂
iii.有机化合物A；
c)在表面上涂覆所述组合物的层以获得经涂布的基材；
d)干燥所涂覆的层以获得干燥的经涂布的基材。
提供具有改善的防污性能的基材的方法可以包括涂覆多于一个涂层，优选地在涂覆每个涂层之后进行中间干燥。在一些实施方式中，在涂覆一些或所有涂层之后进行中间干燥。
在提供具有改善的防污性能的基材的方法中，可使用技术人员已知的多种沉积技术将AS涂料组合物涂覆在基材上以制造薄的均质涂层。合适的方法包括旋涂、浸涂、喷涂、滚涂和夹缝模涂布(slot die-coating)、气溶胶涂布等。优选的方法是浸涂、滚涂和喷涂。待涂覆的湿涂布层的厚度取决于涂料组合物中的固体成膜组分的量，以及随后的干燥之后的期望层厚度。技术人员将能够根据情况选择恰当的方法和条件。
在一个方面，干燥的所涂覆的AS涂层的厚度为至少50nm且至多1mm，如使用横截面SEM(扫描电子显微镜)所确定的。
在一个方面，干燥的所涂覆的AS涂层的厚度为至少50nm且至多500nm，如使用横截面SEM所确定的。
在AS涂层还用于提供AR性能的情况下，优选以这样的湿厚度将涂料组合物涂覆到基材上，所述湿厚度将在涂覆单层之后导致干燥后的厚度为约20nm或更大，优选所涂覆的干燥涂层具有至少约50或70nm且至多约200、180、160或140nm的层厚度。在多层涂层的情况下，技术人员可以选择不同的层厚度。
在根据本发明的涂布方法中，干燥所涂覆的涂料组合物层的步骤将包括：干燥至蒸发至少部分水溶性溶剂和其它挥发性组分，包括化合物A和/或水。可以采用进一步暴露于高温下以使粘合剂完全反应成为例如无机氧化物，并除去残留的挥发物和任选的不挥发性有机组分(例如乳液稳定剂C)；取决于干燥温度。
优选地，在环境条件(例如15-30℃)下进行干燥，但也可以利用高温(例如高达约250℃，更优选地高达100、50或40℃)来缩短总干燥时间，或实现挥发性较低的组分的完全或部分挥发。可通过应用惰性气流或降低压强来促进干燥。基于待被蒸发的组分，本领域的技术人员可以决定具体的干燥条件。
因此，在根据本发明的方法的一个方面，在步骤d)中，将所涂覆的层暴露于至少5摄氏度的温度，持续至少一小时的时间。
可以在例如650摄氏度的回火步骤之前涂覆ASC组合物，并且在短时间(例如1至10分钟)暴露于这种温度之后仍然获得防污效果。
因此，在根据本发明的方法的一个方面，在步骤d)中，可以将所涂覆的层暴露于至多700摄氏度的温度下，持续至多10分钟的时间。
在一个方面，在根据本发明的方法的一个方面，在步骤d)中，将所涂覆的层暴露于至多250摄氏度的温度下，持续至多10分钟的时间。
在一个方面，在根据本发明的方法的一个方面，在步骤d)中，将所涂覆的层暴露于15至80摄氏度的温度下，持续至少1小时的时间。
在干燥过程中，在分散的核-壳颗粒中所包含的化合物A和水以及水溶性溶剂可被至少部分除去，从而导致多孔或中空的颗粒，其产生直径大于20nm的空隙。本发明的一个特定优点是，可以在相对低的温度下制备AS涂层，使得可以使用具有有限的耐热性的基材(如塑料基材)。对这种方式进行本发明的方法，也可以在与基材相兼容的温度下进行干燥步骤。干燥后，由此得到了具有多孔涂层并显示出AR性质的基材。
可以使用多种技术进行干燥，包括热干燥，快速加热，UV辅助干燥，激光诱导的干燥，等离子体处理，微波干燥或其组合。干燥条件取决于涂料组合物和基材的类型。技术人员能够选择合适的技术和条件。对于无机氧化物前体作为粘合剂而言，在例如高于250℃的温度下热干燥涂层是优选的，这导致例如更好的机械性质。这种条件对于在烘箱中干燥塑料基材而言常常是不可行的；并且对于生成本发明的AR涂料组合物所具有期望孔隙率水平来说是不需要的。如果高温干燥是期望的，则可以有利地采用表面加热技术诸如快速加热，以使基材暴露于高温的时间最小化，如例如WO2012037234中所述。
在操作本发明的方法的一个优选方式中，干燥是在至多300℃、更优选地至多250或200℃的温度下进行的。干燥涂层后，可以任选地通过已知的方法进一步去除包括共聚物C的残余有机物；例如通过将涂层暴露于溶剂并从涂层提取有机化合物。
或者，尤其在无机粘合剂和玻璃基材的情况下，可以通过在从约250℃到700℃、优选地高于300、400、450、500、550或600℃的温度下加热持续至少1分钟，来进行干燥。这种加热将导致孔隙率，并促进无机氧化物前体形成氧化物，尤其是当氧气存在时；从而通过煅烧导致干燥和去除有机物。在无机玻璃基材的情况下，可以在相对高的温度下进行干燥；其至高达玻璃的软化温度。优选地，在空气存在时进行这种通过加热的干燥，其在例如玻璃工业中经常被称为烧制。如果期望的话，空气可包含增量的水(蒸气)以进一步增强干燥和无机氧化物涂层的形成。典型地，通过这种方法得到的产物是完全无机多孔涂料。
在本发明的涂布方法的另一个优选的实施方式中，将这种干燥步骤与玻璃回火步骤组合，即在几分钟内将经涂布的玻璃基材加热至约600-700℃，随后淬火，以产生涂布AR的钢化玻璃或安全玻璃。
本发明还涉及通过根据本发明的方法能够得到或得到的AS涂布的透明基材，如上文所述，所述方法包括指示特征和实施方式的所有组合和小变化。
抗反射(AR)涂层或减少光反射涂层是这样一种涂层，其能够减少在400nm和1200nm之间的一种或多种波长处的光从基材表面的反射，如在5℃入射角下所测量的。对被涂布和未被涂布的基材进行测量。优选地，反射减少约30％或者更多，更优选地约50％或者更多，更优选地约70％或者更多，甚至更优选地约85％或者更多。以百分比表达的反射减少＝100×(未被涂布的基材的反射-被涂布的基材的反射)/(未被涂布的基材的反射)。
通过本发明的方法能够得到的AS涂布基材还可显示出非常好的AR性质。在一个方面，组合了良好的机械性能，例如通过EN1096-2中所限定的毡测试(felt test)的耐磨性。AR性质可通过以下来证明：经涂布基材在一定波长下的最低反射为2％或更少，优选地为约1％或更少，更优选地为至多约1.4、1.2、1.0、0.8或0.6％(对于双面涂布基材)。对于双面涂布的基材而言，在425-675nm波长范围内的平均反射优选地为约3％或者更少，更优选地至多约2.5、2、1.8、1.7、1.6或1.5％。
根据本发明的AS涂布基材可被用于许多不同的应用和终端用途，例如窗户玻璃、太阳能电池组件(包括热太阳能系统和光伏太阳能系统)的保护玻璃或者电视屏幕和显示器的保护玻璃。因此，本发明还涉及包含利用根据本发明的方法得到的AS涂布基材的制品。这种制品的实例包括太阳能板(例如热太阳能板或光伏组件)、监视器、移动电话的触屏显示器、平板电脑或一体化个人电脑和电视机。
有机核可包含化合物A、至少一种水溶性溶剂、共聚物C和水。任选地，核可以包含其他表面活性剂。此核可以通过如下来被至少部分地去除：蒸发挥发性组分；和/或溶剂提取或蚀刻、热降解、催化分解、光降解、电子束或激光照射及其组合；任选地随后蒸发降解产物。可以(部分地或几乎完全)去除核材料，而纳米颗粒仍然处于分散形式，而且在从分散体分离颗粒用于随后应用时或者从分散体分离颗粒用于随后应用后亦是如此。
本文所述的纳米颗粒通常具有至多300nm、更优选地至多250、200、150或100nm的粒径。优选地粒径为优选地至少25、30、35、40、45或50nm。对于根据本发明的涂料组合物的纳米颗粒来说，单个核-壳纳米颗粒的尺寸和形状可以差别很大。因此，要强调的是：如上文所讨论，本文中粒径指的是通过动态光散射(DLS)用Malvcrn Nano ZS在分散体上测量得到的Z平均流体动力学直径。
贯穿本申请文件的说明书和权利要求，措词“包含”和“含有”以及其变体(例如包括)表示“包括但不限于”，并且不意图(且不)排除其它片段、添加剂、组分、整数或步骤。
贯穿本申请文件的说明书、实施方式和权利要求，除非上下文另有要求，单数涵盖了复数。特别地，除非上下文另有要求，使用不定冠词之处文件应被理解为考虑复数和单数。
除非另有声明或明显与此矛盾，所描述的特点、整数、特征、化合物、化学片段或化学基团连同本发明的特别或优选方面、实施方式或实施例应被理解为可应用于本文中描述的任何其它方面、实施方式或实施例。
将通过下述实施例和对比实验进一步阐释本发明，但本发明并不局限于此。
本发明包括以下实施方式。
1.一种提供具有改善的防污性能的基材的方法，所述方法包括以下步骤：
a)提供具有表面的基材；
b)提供涂料组合物，所述涂料组合物包含：
i.有机-无机核壳纳米颗粒，其具有包含乳液稳定剂C的核和包含无机氧化物的壳；
ii.基于所述涂料组合物的总重量，至少5重量％的水；
iii.至少一种水溶性溶剂；和
iv.有机化合物A；
c)在所述表面上涂覆所述组合物的层以获得经涂布的基材；以及
d)干燥所涂覆的层以获得干燥的经涂布的基材。
2.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中在步骤d)中，将所涂覆的层暴露于20-40℃的温度下，持续至少10分钟、优选30分钟、最优选至少1小时的时间。
3.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中在步骤d)中，将所涂覆的层暴露于至少5摄氏度的温度下，持续至少1小时的时间。
4.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中在步骤d)中，将所涂覆的层暴露于至多700摄氏度的温度下，持续至多10分钟的时间。
5.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中在步骤d)中，将所涂覆的层暴露于至多250摄氏度的温度下，持续至多10分钟的时间。
6.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中在步骤d)中，将所涂覆的层暴露于15至80摄氏度的温度下，持续至少1小时的时间。
7.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中干燥的涂覆层具有至少50nm且至多1mm的使用SEM确定的厚度。
8.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中所述基材选自玻璃、聚合物、木材和金属。
9.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中所述基材是透明基材。
10.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中所述涂料组合物是抗反射涂料组合物。
11.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中所述组合物包含粘合剂，优选所述粘合剂包含无机氧化物粘合剂，优选所述无机氧化物粘合剂包含无机氧化物前体，所述无机氧化物前体选自金属醇盐、金属螯合物、金属盐以及它们的混合物，优选地，所述无机氧化物粘合剂包括烷氧基硅烷。
12.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中基于重量，有机-无机核壳纳米颗粒：粘合剂的比例在100∶0至20：，优选99∶1至50∶50的范围内。
13.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中所述组合物包含2-70质量％的至少一种聚合化合物或可聚合化合物作为粘合剂，其中质量％基于核-壳颗粒和粘合剂的总和，优选5-50质量％的至少一种化合物作为粘合剂。
14.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中所述组合物包含0至30重量％、优选0.1至30重量％、优选1至15氧化铝当量的含铝化合物，优选地所述涂料配制物包含0.5至30重量％氧化铝当量的含铝化合物。
15.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中在步骤a)中，所述基材的表面未被涂布、被至少部分地涂布或完全涂布。
16.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中所述有机-无机核壳纳米颗粒的粒径在25至300nm、优选25至150nm的范围内，所述粒径是使用DLS测量的。
17.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中化合物A为非聚合化合物。
18.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中化合物A的沸点为至少10℃且至多300℃，优选化合物A的沸点为至少30℃且至多200℃。
19.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中化合物A在室温下在水中的溶解度为至多3kg/m3。
20.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中化合物A包含溶剂。
21.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中化合物A选自烃化合物、脂肪酸、醇、酯、醚和乙烯基化合物及其混合物，优选选自环己烷、癸烷、甲苯、三甲基苯、乙酸异戊酯，C8-C22醇、苯乙烯、(甲基)丙烯酸烷基酯、丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯及其混合物。
22.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中乳液稳定剂C是在pH＜6下为阳离子的阳离子加成共聚物。
23.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中共聚物C包括：
ο1-25摩尔％的至少一种阳离子或碱性单体M1，如具有叔胺基的乙烯基单体；
ο50-99摩尔％的至少一种非离子非极性单体M2；和
ο0-25摩尔％的至少一种极性、阴离子或酸性单体M3；其中M1、M2和M3之和总计为100％。
24.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中共聚物C包含
ο5-15摩尔％的至少一种单体M1；
ο75-95摩尔％的至少一种单体M2；和
ο0-10摩尔％的至少一种单体M3；其中M1、M2和M3之和总计为100％。
25.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中共聚物C包含5-15摩尔％的至少一种选自氨基官能(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酰胺的单体M1；和85-95摩尔％的至少一种选自(甲基)丙烯酸C1-C18烷基酯的单体M2。
26.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中质量比C/A为0.15-1.0。
27.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中所述组合物是包含粒径为35-300nm的有机-无机核-壳纳米颗粒的涂料组合物，其中所述粒径为通过DLS测量的Z-平均流体力学直径，有机-无机核-壳纳米颗粒具有0.2至25的核/壳质量比，其中核是质量比C/A为0.1至2的有机化合物A和乳液稳定剂C之和，壳为无机氧化物前体的金属氧化物当量，其中化合物A为在水中的溶解度为至多5kg/m3的非极性有机化合物，乳液稳定剂C为由至少一种具有阳离子电荷的单体单元和至少一种为中性或非离子性且具有整体正zeta电势的单体单元获得的阳离子加成共聚物，其中化合物A是非聚合化合物，并且其中至少一种无机前体包括选自金属盐、金属螯合物和有机金属化合物(优选金属醇盐)及其组合的前体。
28.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中所述金属包括至少一种选自Si、Al、Be、Bi、B、Fe、Mg、Na、K、In、Ge、Hf、La和镧系元素、Sb、Sn、Ti、Ta、Nb、Y、Zn和Zr的元素。
29.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中通过旋涂、浸涂、喷涂、滚涂和夹缝模涂布或气溶胶涂布进行涂覆。
30.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中干燥在室外进行。
31.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中防污涂层显示出至少97.5％的T最大。
32.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中防污涂层显示出至少96％的T平均。
33.通过根据前述实施方式中任一项所述的方法获得的经涂布的基材。
34.前述实施方式中任一项所限定的组合物用于改善基材的防污性能的用途。
35.涂料组合物用于改善基材的防污性能的用途，其中所述组合物包含粒径为35-300nm的有机-无机核-壳纳米颗粒，其中所述粒径为通过DLS测量的Z-平均流体力学直径，有机-无机核-壳纳米颗粒具有0.2至25的核/壳质量比，其中核是质量比C/A为0.1至2的有机化合物A和乳液稳定剂C之和，壳为无机氧化物前体的金属氧化物当量，其中化合物A为在水中的溶解度为至多5kg/m3的非极性有机化合物，乳液稳定剂C为由至少一种具有阳离子电荷的单体单元和至少一种为中性或非离子性且具有整体正zeta电势的单体单元获得的阳离子加成共聚物，其中化合物A是非聚合化合物，并且其中至少一种无机前体包括选自金属盐、金属螯合物和有机金属化合物(优选金属醇盐)及其组合的前体。
36.一种防污涂料组合物，所述防污涂料组合物包含
i.本文所限定的有机-无机核壳纳米颗粒，其具有包含本文所限定的乳液稳定剂C的核；
和包含本文所限定的无机氧化物的壳；
ii.本文所限定的有机化合物A；
iii.基于所述涂料组合物的总重量，至少5重量％的水；
iv.至少一种本文所限定的水溶性溶剂；和
v.任选地本文所限定的粘合剂。
37.根据前述实施方式中任一项所述的组合物，其中所述组合物包含0至30重量％、优选0.1至30重量％、优选1至15氧化铝当量的含铝化合物，优选所述涂料该配制物包含0.5至30重量％氧化铝当量的含铝化合物。
38.一种制备防污涂料组合物的方法，所述方法包括以下步骤：
1)通过将有机化合物A；乳液稳定剂C；和pH 2-6的水性介质以0.1至2的质量比C/A混合来制备水包油乳液，以产生1-50质量％(基于乳液)的粒径为30-300nm的乳化液滴，其中所述粒径为通过DLS测量的Z-平均流体力学直径；
2)通过向在步骤1)中获得的乳液中添加至少一种无机氧化物前体，向所述乳化液滴提供无机氧化物壳层，以产生核/壳质量比为0.2至25的有机/无机核-壳纳米颗粒，其中所述核是化合物A和乳液稳定剂C的总和，所述壳是金属氧化物当量的无机氧化物前体，
其中化合物A为在水中的溶解度为至多5kg/m3的非极性有机化合物，乳液稳定剂C为由至少一种具有阳离子电荷的单体单元和至少一种为中性或非离子性的单体单元获得的阳离子加成共聚物。
39.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中化合物A是非聚合化合物。
40.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中化合物A的沸点为至少10℃且至多300℃。
41.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中化合物A在室温下在水中的溶解度为至多3kg/m3。
42.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中共聚物C由以下单体获得：
ο1-25摩尔％的至少一种阳离子或碱性单体M1，如具有叔胺基团的乙烯基单体；
ο50-99摩尔％的至少一种非离子非极性单体M2；和
ο0-25摩尔％的至少一种极性、阴离子或酸性单体M3；其中M1、M2和M3之和总计为100％。
43.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中共聚物C由以下单体获得：
a)5-15摩尔％的至少一种单体M1；
b)75-95摩尔摩尔％的至少一种单体M2；和
c)0-10摩尔％的至少一种单体M3；其中M1、M2和M3之和总计为100％。
44.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中共聚物C由以下单体获得：5-15摩尔％的至少一种选自氨基官能(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酰胺的单体M1；和85-95摩尔％的至少一种选自(甲基)丙烯酸C1-C18烷基酯的单体M2。
45.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中质量比C/A为0.15-1.0。
46.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中所述乳化液滴的平均粒径为35-200nm。
47.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中所述至少一种无机前体包含烷氧基硅烷。
48.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其包括另外的步骤3)：添加2-70质量％的至少一种聚合化合物或可聚合化合物作为粘合剂，其中所述质量％基于核-壳颗粒和粘合剂之和。
49.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其包括添加5-50质量％的至少一种化合物作为粘合剂。
50.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中所述粘合剂是至少一种无机氧化物前体。
51.通过前述实施方式中任一项所述的方法获得的防污涂料组合物。
52.一种在透明基材上制备防污涂层的方法，所述方法包括以下步骤：将通过根据前述实施方式中任一项所述的方法获得的涂料组合物涂覆到基材上；干燥所涂覆的涂布层。
53.根据前述实施方式中任一项所述的方法，其中干燥在至多250℃的温度下进行。
54.通过前述实施方式中任一项所述的方法获得的防污的经涂布的透明基材。
实验
有机化合物
表1给出了在实验中用作有机核或模板的化合物A的相关数据。
表1
阳离子共聚物
表2展示了大量阳离子共聚物C的单体组成，其是按照EP2178927的实验部分中描述的程序所得到的，该文献通过引用并入本文。共聚物以水性分散体形式应用，其浓度为约20质量％，pH为约4(用甲酸酸化)。共聚物的Mw在25-40kDa(GPC)的范围内。
表2
DLS测量
在25℃下，将1滴分散体加入10ml KCl水溶液(1mmol/L)中，使用Malvem Nano ZS动态光散射仪以背散射模式测量分散颗粒的粒径。本文中粒径指测量为Z-平均流体动力学直径的平均粒径。
对于在异丙醇中制备的配制物(实施例10)，DLS测量在作为稀释溶剂的异丙醇中进行。对于这些测量，将10滴配制物添加到10ml异丙醇中。
毡测试
通过根据EN1096-2的毡测试，评价所涂覆涂布层的耐擦伤性。
光学性质
使用Shimadzu UV-2450分光光度计评价被涂布透明基材的反射和透射。使用反射附件，在5℃入射角下测量相对镜面反射率。为了测量透射，将积分球形附件安装在样品室中，入射角为0℃(垂直于样品表面)。计算针对425-675nm波长范围的平均反射值。在双面涂布板上进行测量。实施例10中的透射率测量是在Schimadzu 2600或Perkin Elmer 1050分光光度计上进行的。计算针对400-1200nm波长范围的平均透射率值。
实施例1
使用Ultra-turrax unit T25，将20克包含1质量％十七烷的环己烷(p.a.)分散于如下的混合物中：14克Milli-Q水、1克2-丙醇和15克含21.5质量％的阳离子共聚物C1(Mw约30kDa)的分散体。使用高压均化器(DeBee，在30kPsi压强下操作，使用金刚石孔并采用水冷却)将所得到的粗乳液进一步分散，进行9个循环，每个循环约15击(strokes)，并在每个循环后使温度降低至40℃。这样得到稳定乳液，其具有粒径(DLS Z-平均流体动力学直径)为265nm(多分散系数，PDI 0.28)的乳液液滴。向该乳液中，添加2克共聚物C1，使液滴具有净正电荷，通过zeta电势＞+11mV(pH 4)表示。然后通过如下进行硅化：在用磁力搅拌棒稳固搅拌下，通过注样器泵向35g所得到的乳液和80g Milli-Q水的混合物中逐渐添加(90分钟)41.5g的四甲氧基硅烷(TMOS)。添加完全后，继续进行搅拌额外的90分钟。将100g混合物用100g的Milli-Q水稀释，并用6滴浓HNO3酸化。最终产品的DLS尺寸为255nm(PDI0.20)，并且TEM分析表明球形二氧化硅颗粒的粒径在60-120nm范围内。(参见图1)。
可以通过旋转蒸发处理去除环己烷，同时逐渐提高水浴的水温从30到40℃并降低压强从300到100mbar。最终分散体包含6.4质量％的中空二氧化硅颗粒，所述颗粒具有219nm(PDI0.35)的DLS尺寸和12mV(pH＝4)的zeta电势；已经证实了其经过一段时间之后是稳定的。
实施例2
重复实施例1，但使用20.7g的TMOS。蒸发环己烷后，TEM分析表明中空二氧化硅球具有实施例1中相似的尺寸，但颗粒表现出部分倒塌；可能由于在TEM分析的样品制备时二氧化硅壳的强度有限。
对比实验3
重复实施例1，但使用共聚物C2。看似不可能获得环己烷的稳定乳液；看上去，聚合物C2太过亲水而不能起到乳液稳定剂的作用。
实施例4
重复实施例1，但使用共聚物C3。蒸发环己烷后，TEM分析表明中空二氧化硅颗粒具有实施例1中相似的尺寸，但颗粒表现出不太规则的形状。
实施例5
使用Ultra-turrax unit T25，将21克包含1质量％十七烷的环己烷分散于51.3g含17.4质量％阳离子共聚物C4(Mw约31kDa)的分散体中。这得到了稳定的乳液(＞1周)，其具有DLS尺寸202nm(PDI0.02)的乳液液滴。通过如下进行硅化：在用磁力搅拌棒稳固搅拌的同时，通过向35g所得到的乳液和80g Milli-Q水的混合物中逐渐添加(90分钟)41.5g的TMOS。添加完全后，继续搅拌分散体额外的90分钟。将135g混合物用750g的Milli-Q水稀释，并用15滴浓HNO3酸化。2.2质量％的最终分散体显示出200nm的DLS尺寸(PDI 0.06)、在pH4.0下+19mV的zeta电势，并且在超过一周的时间上是稳定的。样品制备后在所得到的分散体上的TEM显微照片表明，球形中空二氧化硅颗粒为约100-150nm，壳厚度为约10nm；还示出一些颗粒倒塌。
在130-150℃的蒸发温度下以270mL/h的流速并结合640normal L/h的空气流，通过喷雾干燥(Büchi Mini喷雾干燥B-191)从分散体去除环己烷。在所获得的白色粉末上进行的TEM表明具有多个中空结构的聚集颗粒。当在黑相纸上用作简单漆料配方时，产品示出了遮光(增白)能力。
实施例6
使用Dispermat混合单元，将23.3g甲苯与52.6g共聚物C5的分散体(19质量％在水中，pH 3.9，通过DLS测得粒径为44nm(PDI 0.06))混合，然后用180克水稀释；得到约13质量％在水中的乳化液滴。在2小时内在环境温度下搅拌下，向100g的这种乳液逐滴添加52g的TMOS。所得到的颗粒的粒径为约82nm(根据DLS)。所获得的分散体用50％的硝酸酸化到1.8的pH；其随时间表现出稳定性。TEM显微照片表明球形颗粒示出了核-壳结构，粒径在30-80nm范围内(参见图3)。
实施例7
使用Dispermat混合单元，将50g的乙酸异戊酯与113g的共聚物C5的分散体(19质量％在水中，pH 3.9，通过DLS测得粒径为44nm(PDI 0.06))混合，然后用385克水稀释；得到约13质量％在水中的乳化液滴。在2小时内在环境温度下搅拌下，向180g的这种乳液逐滴添加70g的TMOS。所得到的颗粒的粒径为约100nm(根据DLS)。所获得的分散体用50％的硝酸酸化到1.9的pH；其随时间表现出稳定性。此外，分散体可以用水、乙醇或异丙醇稀释，并保持稳定(未观察到絮凝或沉淀)。
超低温TEM显微照片表明球形颗粒示出了核-壳结构，并且粒径在30-70nm范围内(参见图4)。
一些涂层由所获得的分散体通过用异丙醇稀释并添加不同量的由四乙氧基硅烷(TEOS)制成的溶胶作为粘合剂来制备。
通过在搅拌的同时向TEOS在异丙醇中的溶液中添加摩尔过量的水，来制备TEOS的溶胶，以使硅烷化合物预水解。冷却回到室温后，添加冰醋酸，并且在环境条件下搅拌24小时后，添加更多的异丙醇和硝酸(65％)。所得到的分散体包含约4质量％的尺寸为约3-5nm的二氧化硅颗粒。
通过如下制备组合物7-1：用5倍量的酸化的异丙醇稀释核-壳颗粒分散体，然后通过添加硝酸(50％)调节最终分散体的pH至1.5。
通过如下制备组合物7-2、7-3、7-4和7-5：将一定量的上文制备核-壳颗粒分散体与不同量的作为粘合剂的TEOS溶胶和异丙醇混合，之后通过添加硝酸(50％)来调节pH至约1.5。粘合剂的量被计算为，相对于粘合剂和核-壳颗粒的总和，由TEOS得到的SiO2的质量。
通过在无尘室内浸涂，使用所获得的涂料组合物来给玻璃板提供涂布层。用水和家用清洁剂清洁2mm厚的Pilkington Optiwhite S玻璃板，然后用水和去矿物水漂洗，然后通过浸渍在含涂料组合物的容器中来浸涂；涂料浴被保持在室温下(在约21℃下)和50％相对湿度下。然后以约2.5mm/s的速度将板从浴中垂直上拉。随后将经涂布的板在环境条件下干燥至少5分钟。
涂覆后，将经涂布的玻璃在空气循环烘箱中在125℃下干燥15分钟，或者在650℃下干燥2.5分钟。所有样品均通过了毡测试。在650℃下干燥的样品的最小反射率为0.5至1％。作为一个例子，图2中示出了样品7-1所测量的反射曲线。在经涂布的板在125℃下干燥的情况下，平均反射率为1.7至3.2％。这种反射率的差异可以归因于不同的孔隙率水平，这是由于在650℃下被热解(或解聚)并蒸发的核-壳颗粒中存在共聚物(乳液稳定剂C)造成的；但在低的干燥温度下不会如此，在125℃下干燥会导致核-壳颗粒分散体中包含的有机化合物蒸发，因此得到一定的孔隙率。表3中总结了反射数据。
对比实验8
将52.6g的共聚物C5的分散体(19质量％在水中，pH 3.9，通过DLS测得粒径为44nm(PDI 0.06))与173.3g的水(在水中～5％乳液稳定剂)混合，随后在2小时内在环境温度下逐滴添加20g的TMOS。观察到粒径提高到约84nm(根据DLS)。将所获得的分散体用50％硝酸酸化至1.8的pH；其随着时间表现出稳定性。超低温-TEM显微图片表明球形但一定程度上聚集的颗粒具有核-壳结构，粒径在25-90nm范围内(参见图5)。
与实施例7类似，通过将所获得的分散体与不同量的TEOS溶胶和异丙醇组合来制备涂料组合物；并且将其用于制备经涂布的玻璃样品。对于所获得的产品来说，当在650℃下干燥时平均反射率为约1％，但当在125℃下干燥时大于约5.8％。这种差异表明，在低温下几乎没有获得任何孔隙，而在高温下由涂层中有机共聚物的煅烧可以得到孔隙率；这证实了，当在低温下(在低温下乳液稳定剂没有被热解或蒸发)干燥来制备时，在例如实施例7中所制备的根据本发明的涂料组合物具有优点。表3中总结了结果。
表3
湿度敏感性：对于对比涂料组合物，其中仅存在乳液稳定剂而不存在组分A，当在650℃下干燥时最小反射率小于1％，但在90％相对湿度下提高到大于3％。可以推测(但不限制于此)，这可能是由于涂层的中孔率引起的。当涂料组合物(其中纳米颗粒中存在组分A)在650℃下干燥时，最小反射率停留在小于1.5％，甚至在90％相对湿度下也是如此。
室外耐久性：在加速的室外耐久性测试(在85％相对湿度和85℃下1000小时)后，涂层是灰白色的，这可能是由于钠盐或钙盐从玻璃板扩散出造成的，但在用水和乙醇洗涤后，保留了AR性质。
机械性质：涂料组合物13.1-13.4以及对比涂料组合物的耐擦伤性通过根据EN1096-2的毡测试，透射率变化小于0.5％。
实施例9
通过如下制备一些涂料配制物：将实施例6的核-壳颗粒分散体(具有甲苯作为组分A)与异丙醇和不同量的粘合剂混合，粘合剂是以实施例7中所描述的制备的TEOS溶胶形式。
涂料配制物9.1：(无粘合剂)：向500克异丙醇中，添加6.5克的1∶1 65％硝酸/水，随后添加90克实施例6的核-壳颗粒分散体。配制物的最终pH是1.6，根据DLS的粒径是87nm。室温下6周后，DLS值的增加小于10nm，这表明颗粒具有良好的贮存稳定性。配制物包含1.27％的等同SiO2含量。
对比涂料配制物9.2：(100％粘合剂)：用异丙醇稀释包含4％等同二氧化硅量的实施例7中所描述制备的TEOS溶胶形式的粘合剂，至1.27％的SiO2相对含量。
涂料配制物9.3：(35％粘合剂)：向200克的实施例6的核-壳颗粒分散体中，添加107.8克实施例7中所描述制备的TEOS溶胶形式的粘合剂，从而获得35/65的SiO2等同量比。
涂料配制物9.4：(65％粘合剂)：向100克的实施例6的核-壳颗粒分散体中，添加185.9克实施例7中所描述制备的TEOS溶胶形式的粘合剂，从而获得65/35的SiO2等同量比。
涂料配制物9.5：(90％粘合剂)：向100克的实施例6的核-壳颗粒分散体中，添加900.7克实施例7中所描述制备的TEOS溶胶形式的粘合剂，从而获得90/10的SiO2等同量比。
配制物的pH保持在1.5+/-0.2，如果需要的话用硝酸调节。
浸涂涂料配制物9.1-9.5，相对于玻璃(Pilkington Optiwhite S型，350至850nm的平均透射率为91.4％)经由光学透射率测量评估光学性质。经由截面SEM分析测定涂层(仅在室温下干燥)的形态。为了获得完全干燥和硬度，在1周后测量透射率。
表4
在图11中，绘制了作为二氧化硅来源的函数的平均透射率增益。用数字指明每个样品组成。令人惊奇的是，观察到高度非线性的性能，其中透射率增益在甚至非常低粘合剂含量时保持非常高，仅当超过90％的二氧化来硅源于粘合剂时，透射率增益才出现实质性的降低。
使用根据NEN-EN 1096-2进行的磨损测试，来评价机械性能。对于大于＞50％POT的所有配制物来说，在测试后仅观察到透射率增益的少量变化(＜0.5％)。因此，即使在磨损测试后，仍然获得良好的光学性质，这对于商业应用(例如在太阳能电池防护玻璃罩市场中)来说是非常有益的。
实施例10
一些涂料配制物通过将实施例6的核-壳颗粒分散体(以甲苯作为组分A)[以下称为CSP-EX6]与异丙醇和不同量的如实施例7中所述制备的TEOS溶胶形式的粘合剂混合来制备。
一些涂料配制物通过将实施例7的核-壳颗粒分散体(以乙酸异戊酯作为组分A)[以下称为CSP-EX7]与不同量的如实施例7中所述制备的TEOS溶胶形式的粘合剂[以下称为粘合剂-EX7]混合来制备。
10-1：涂料配制物100％CSP：100％核-壳颗粒分散体CSP EX6
将41.6g CSP-EX6用280.0g IPA稀释，并用65％硝酸酸化至pH＜2。[SiO2]为1.7重量％。
10-2：涂料配制物50％CSP：50重量％核-壳颗粒分散体和50重量％粘合剂
将25.0g CSP-EX6用143.3g IPA稀释至2.0重量％的[SiO2]。然后，添加168.3g粘合剂(这是在异丙醇(、1∶1)中稀释至2.0重量％的[SiO2]的粘合剂EX7)。搅拌该配制物以获得良好的混合。pH＝1.6。
10-3：涂料配制物30％CSP：30重量％核-壳颗粒分散体70重量％粘合剂
将13.4g CSP-EX6用76.7g IPA稀释至2.0重量％的[SiO2]。然后，添加210.0g的粘合剂(在异丙醇中以1∶1稀释至2.0重量％的[SiO2]的EX7)，并搅拌该配制物。pH＝1.5。
10-4：涂料配制物70％CSP：70重量％核-壳颗粒分散体和30重量％粘合剂
将31.3g CSP-EX6用178.9g IPA稀释至2.0重量％的[SiO2]。然后，将其与89.9g的粘合剂(在异丙醇中以1∶1稀释至2.0重量％的[SiO2]的EX7)混合。pH＝1.7。
10-5：涂料配制物100％CSP：100％核-壳颗粒分散体CSP EX7
将54.5g CSP-EX7用245.5g IPA稀释至2.0重量％的[SiO2]。用硝酸将pH调节至＜2.0。DLS＝93nm。
10-6：50％涂料配制物50％CSP：50重量％核-壳颗粒分散体和50重量％粘合剂
将27.3g CSP-EX7用122.8g IPA稀释至2.0重量％的[SiO2]。将其与150.0g粘合剂(在异丙醇中以1∶1稀释至2.0重量％的[SiO2]的EX7)混合。pH＝1.8。
DLS＝95nm。
10-7：涂料配制物100％粘合剂
将粘合剂-EX7用IPA以1∶1稀释至[SiO2]为2.0重量％。
使用如上所述的涂料配制物10-1至10-7在具有3.2mm厚度和10×10cm尺寸的Pilkington Optiwhite S浮法玻璃上进行浸涂实验。
浸涂是在无尘室中进行的。将3.2mm厚的Pilkington Optiwhite S玻璃板用水和家用清洁剂清洁，然后用水和去矿物水冲洗，然后浸入含有涂料组合物的容器中进行浸涂；将涂料浴保持在室温(约21℃)和40％相对湿度下。然后将板以一定速率(如下表5-7所示)从浴中垂直提起。随后将经涂布的板在环境条件下干燥至少5分钟。如下表所示干燥后，进行如下所述的污染测量。
污染测量的方法
污染程序：采用Taber振动磨损测试仪(6160型)，使用可从KSL StaubtechnikGMBH商购的来自石英A4粗粉(coarse)(尺寸从1到200μm不等)的市售Arizona测试粉尘作为污染介质，来测试涂层的防污性能。首先将待检测的10x10cm玻璃板用去离子水和软布清洁，然后用实验室级乙醇冲洗，然后干燥过夜。然后将经涂布的样品放置在Taber振动台的托盘中，以使玻璃板的上表面与托盘内的样品支架的高度相同。接下来，使用刷子将20gArizona测试粉尘轻轻分散在整个玻璃板上。进行污染程序(300个循环，速度为每分钟100次循环；一个循环被定义为圆形驱动盘的完整旋转：托盘的一个完整往返移动)。然后从托盘中取出测试样品并轻轻敲击以去除其表面上过量的沙子。测试环境中的相对湿度为40％RH，温度为20℃。
污染评估：污染评分-视觉评估(表5-8)：使用以下污染标度通过视觉评估被污染的基材来确定涂层的污染程度：
3：高度污染
2：可接受的污染
1：低度污染
0：无污染至轻度污染。
污染评估-确定AS损失/ARE/ASR的透射率测量(表9)涂层的污染程度由污染后透过率的相对损失确定，用Optosol Transpec VIS-NIR分光光度计测量。为此，在人工污染之前和之后，通过Taber振动磨损测试仪记录了透过滤谱。随后，由透过滤谱确定在400-1200nm范围内的透过率平均值。基于所获得的在透过滤谱中记录的在400-1200nm范围内的平均透过率的前后值之间的差异，能够得出有关污染水平和因此防污涂层的有效性的结论。
表5
表6
表7
表8
*AS损失是同一板上污染之后的透射率损失，污染之前的T减去污染之后的T，基于平均T％400-1200nm。
图12示出了用如上所述的涂料配制物10-1：100％CSP EX6涂布的玻璃板的照片(污染评分为0-1)，顶部有未涂布的边缘(污染评分为3)。
Claims (15)
1.一种提供具有改善的防污性能的基材的方法，所述方法包括以下步骤：
a)提供具有表面的基材；
b)提供涂料组合物，所述涂料组合物包含：
i.有机-无机核壳纳米颗粒，其具有包含乳液稳定剂C的核和包含无机氧化物的壳；和
ii.至少一种水溶性溶剂；
iii.基于所述涂料组合物的总重量，至少5重量％的水；和
iv.有机化合物A；
c)在所述表面上涂覆所述组合物的层以获得经涂布的基材；以及
d)干燥所涂覆的层以获得经涂布的基材。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，在步骤d)中，将所涂覆的层暴露于至少5摄氏度的温度，持续至少一小时的时间。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述组合物包含粘合剂，优选地所述粘合剂包含无机氧化物粘合剂，优选地所述无机氧化物粘合剂包含无机氧化物前体，所述无机氧化物前体选自金属醇盐、金属螯合物、金属盐以及它们的混合物，优选地所述无机氧化物粘合剂包含烷氧基硅烷。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述组合物包含0至30重量％，优选地0.1至30重量％，优选地1至15氧化铝当量的含铝化合物，优选地，涂料配制物包含0.5至30重量％氧化铝当量的含铝化合物。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中使用DLS测量时，所述有机-无机核壳纳米颗粒的粒径在20-300nm的范围内。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中化合物A是非聚合化合物。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法，其中化合物A的沸点为至少10℃且至多300℃，优选地化合物A的沸点为至少30℃且至多200℃。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中化合物A在室温下在水中的溶解度为至多3kg/m3。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中共聚物C由以下单体获得：
ο1-25摩尔％的至少一种阳离子或碱性单体M1，如具有叔胺基团的乙烯基单体；
ο50-99摩尔％的至少一种非离子非极性单体M2；和
ο0-25摩尔％的至少一种极性、阴离子或酸性单体M3；其中M1、M2和M3之和总计为100％。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中质量比C/A为0.15-1.0。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的方法，其中所述金属包括至少一种选自Si、Al、Be、Bi、B、Fe、Mg、Na、K、In、Ge、Hf、La和镧系元素、Sb、Sn、Ti、Ta、Nb、Y、Zn和Zr的元素。
12.通过权利要求1-11中任一项所述的方法获得的经涂布的基材。
13.如权利要求1至11中任一项所限定的涂料组合物用于改善基材的防污性能的用途。
14.一种防污涂料组合物，所述防污涂料组合物包含
i.有机-无机核壳纳米颗粒，其具有包含乳液稳定剂C的核和包含无机氧化物的壳；
ii.基于所述涂料组合物的总重量，至少5重量％的水；
iii.至少一种水溶性溶剂；和
iv.有机化合物A。
15.一种制备防污涂料组合物的方法，所述方法包括以下步骤：
1)通过将下述物质以0.1至2的质量比C/A混合来制备水包油乳液，以产生1-50质量％(基于乳液)的粒径为30-300nm的乳化液滴；
·非极性有机化合物A；
·作为乳液稳定剂的阳离子加成共聚物C；和
·pH 2-6的水性介质；
2)通过向在步骤1)中获得的乳液中添加至少一种无机氧化物前体，向所述乳化液滴提供无机氧化物壳层，以产生核/壳质量比为0.2至25的有机/无机核-壳纳米颗粒；
3)任选地将如此获得的核-壳纳米颗粒与水和/或水溶性溶剂组合；
4)任选地调节pH；和
5)任选地加入有机或无机聚合粘合剂或可聚合粘合剂。
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP17166912 | 2017-04-18 | ||
| EP17166912.0 | 2017-04-18 | ||
| EP17180733.2 | 2017-07-11 | ||
| EP17180733 | 2017-07-11 | ||
| EP17192491.3 | 2017-09-21 | ||
| EP17192491 | 2017-09-21 | ||
| PCT/EP2018/059747 WO2018192910A2 (en) | 2017-04-18 | 2018-04-17 | Process for making an anti-soiling coating composition and a coating made therefrom |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN110709479A true CN110709479A (zh) | 2020-01-17 |
Family
ID=61952732
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201880038005.XA Pending CN110709479A (zh) | 2017-04-18 | 2018-04-17 | 制备防污涂料组合物的方法和由所述方法制备的涂料 |
| CN201880025392.3A Active CN110520484B (zh) | 2017-04-18 | 2018-04-17 | 涂料和涂料配方 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201880025392.3A Active CN110520484B (zh) | 2017-04-18 | 2018-04-17 | 涂料和涂料配方 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US11578215B2 (zh) |
| EP (2) | EP3612602A2 (zh) |
| JP (2) | JP2020516450A (zh) |
| CN (2) | CN110709479A (zh) |
| MY (1) | MY195436A (zh) |
| TW (1) | TWI753154B (zh) |
| WO (2) | WO2018192908A2 (zh) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2959939T3 (es) * | 2013-11-22 | 2024-02-29 | Covestro Netherlands Bv | Procedimiento de fabricación de una composición de recubrimiento antirreflectante y de un recubrimiento poroso fabricado a partir de la misma |
| WO2016051750A1 (ja) * | 2014-09-30 | 2016-04-07 | 日本板硝子株式会社 | 低反射コーティング、ガラス板、ガラス基板、及び光電変換装置 |
| TWI753154B (zh) * | 2017-04-18 | 2022-01-21 | 荷蘭商科思創荷蘭有限公司 | 塗層及塗料調配物 |
| EP3867318A1 (en) * | 2018-10-16 | 2021-08-25 | Covestro (Netherlands) B.V. | Coating and coating formulation |
| EP3640303A1 (en) * | 2018-10-16 | 2020-04-22 | DSM IP Assets B.V. | Coating and coating formulation |
| WO2020078951A1 (en) | 2018-10-16 | 2020-04-23 | Dsm Ip Assets B.V. | Coating and coating formulation |
| KR102623556B1 (ko) * | 2018-12-13 | 2024-01-09 | 삼성전자주식회사 | 광학 부재, 이의 제조방법 및 상기 광학 부재를 포함하는 표시 장치 |
| IL303390A (en) | 2020-12-03 | 2023-08-01 | Battelle Memorial Institute | Compositions of polymer nanoparticles and DNA nanostructures and methods for non-viral transport |
| AU2022253899A1 (en) | 2021-04-07 | 2023-10-26 | Battelle Memorial Institute | Rapid design, build, test, and learn technologies for identifying and using non-viral carriers |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63304062A (ja) * | 1987-06-04 | 1988-12-12 | Daicel Chem Ind Ltd | 金属様光沢塗料組成物 |
| CN105745284A (zh) * | 2013-11-22 | 2016-07-06 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 制备抗反射涂料组合物的方法和由其制备的多孔涂层 |
Family Cites Families (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4830879A (en) | 1986-09-25 | 1989-05-16 | Battelle Memorial Institute | Broadband antireflective coating composition and method |
| JP2716330B2 (ja) | 1992-11-13 | 1998-02-18 | セントラル硝子株式会社 | 低反射ガラスおよびその製法 |
| WO1997006896A1 (en) | 1995-08-14 | 1997-02-27 | Central Glass Company Limited | Porous metal-oxide thin film and method of forming same on glass substrate |
| DE19918811A1 (de) | 1999-04-26 | 2000-11-02 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorgespanntes, mit einer wischfesten, porösen SiO¶2¶-Antireflex-Schicht versehenes Sicherheitsglas u. Verfahren z. d. Herstellung |
| US7645397B2 (en) * | 2004-01-15 | 2010-01-12 | Nanosys, Inc. | Nanocrystal doped matrixes |
| EP1674891A1 (en) | 2004-12-23 | 2006-06-28 | DSM IP Assets B.V. | Antireflection coating, process for its preparation and articles comprising same |
| EP1818694A1 (en) | 2006-02-14 | 2007-08-15 | DSMIP Assets B.V. | Picture frame with an anti reflective glass plate |
| GB0617480D0 (en) | 2006-09-06 | 2006-10-18 | Univ Sheffield | Novel nanoparticles |
| KR100907357B1 (ko) | 2007-05-23 | 2009-07-10 | 한화엘앤씨 주식회사 | 반사방지 코팅용 코팅제, 제조방법 및 반사방지필름 |
| PL2178927T3 (pl) | 2007-07-12 | 2011-05-31 | Dsm Ip Assets Bv | Proces tworzenia mieszaniny zawierającej kationowy oligomer winylu |
| US20100249297A1 (en) | 2007-09-05 | 2010-09-30 | Thies Jens Christoph | Novel nanoparticles |
| TW200936706A (en) * | 2008-02-19 | 2009-09-01 | Univ Nat Central | Coating composition for low-refractive index anti-reflection film |
| CN101959822A (zh) | 2008-02-29 | 2011-01-26 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 含有涂层的制品 |
| JP5437662B2 (ja) | 2008-03-03 | 2014-03-12 | 学校法人慶應義塾 | 反射防止膜及びその形成方法 |
| CN101579672A (zh) | 2008-05-16 | 2009-11-18 | 3M创新有限公司 | 用于提高亲水性/透射率的二氧化硅涂层 |
| BRPI0920234A2 (pt) * | 2008-10-14 | 2015-12-29 | Dsm Ip Assets Bv | partículas resistentes a mancha |
| US9605156B2 (en) * | 2010-06-18 | 2017-03-28 | Dsm Ip Assets B.V. | Inorganic oxide coating |
| WO2012028626A2 (fr) * | 2010-09-01 | 2012-03-08 | Agc Glass Europe | Substrat verrier revêtu d'une couche anti-réfléchissante |
| KR20130110166A (ko) | 2010-09-14 | 2013-10-08 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | 광전지에서의 유리-코팅된 가요성 중합체 기판 |
| JP5875318B2 (ja) * | 2010-11-30 | 2016-03-02 | 日東電工株式会社 | 表面保護シート |
| CN103370286A (zh) * | 2011-02-11 | 2013-10-23 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 在基材上沉积抗反射层的方法 |
| US20130183489A1 (en) | 2012-01-13 | 2013-07-18 | Melissa Danielle Cremer | Reflection-resistant glass articles and methods for making and using same |
| KR101653894B1 (ko) * | 2012-01-23 | 2016-09-02 | 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 | 코팅 조성물 및 반사 방지막 |
| US20130194668A1 (en) | 2012-01-30 | 2013-08-01 | Guardian Industries Corp. | Method of making coated article including anti-reflection coating with double coating layers including mesoporous materials, and products containing the same |
| JP6223434B2 (ja) * | 2012-05-22 | 2017-11-01 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． | 有機無機ハイブリッドナノ粒子 |
| US20140009834A1 (en) | 2012-07-05 | 2014-01-09 | Intermolecular, Inc. | Novel antireflective coatings with graded refractive index |
| US9341751B2 (en) * | 2012-12-13 | 2016-05-17 | Intermolecular, Inc. | Antireflective coatings with gradation and methods for forming the same |
| EP2752386B1 (en) | 2012-12-13 | 2019-08-28 | Guardian Glass, LLC | Method of making coated article including anti-reflection coating with porosity differences in two layers, and products containing the same |
| US20140186613A1 (en) * | 2012-12-27 | 2014-07-03 | Guardian Industries Corp. | Anti-reflection coatings with self-cleaning properties, substrates including such coatings, and related methods |
| US9359249B2 (en) | 2013-05-29 | 2016-06-07 | Guardian Industries Corp. | Anti-corrosion anti-reflection glass and related methods |
| JP6454954B2 (ja) | 2013-07-17 | 2019-01-23 | 東レ株式会社 | 組成物、これを用いた反射防止層およびその形成方法、ならびにそれを有するガラスおよび太陽電池モジュール |
| JP2016204165A (ja) * | 2013-09-30 | 2016-12-08 | 旭硝子株式会社 | 多孔質膜付き基板の製造方法 |
| JP2015075707A (ja) * | 2013-10-10 | 2015-04-20 | 旭硝子株式会社 | 透明基材と防汚性反射防止膜とを備える物品およびその製造方法 |
| JP6437243B2 (ja) * | 2014-08-25 | 2018-12-12 | 旭化成株式会社 | 光学塗膜、光学塗膜の製造方法、及び反射防止膜 |
| WO2016051750A1 (ja) * | 2014-09-30 | 2016-04-07 | 日本板硝子株式会社 | 低反射コーティング、ガラス板、ガラス基板、及び光電変換装置 |
| EP3153550A1 (en) * | 2015-10-05 | 2017-04-12 | 3M Innovative Properties Company | Room temperature curing highly durable anti-reflective coating containing nanoparticles |
| TWI753154B (zh) * | 2017-04-18 | 2022-01-21 | 荷蘭商科思創荷蘭有限公司 | 塗層及塗料調配物 |
-
2018
- 2018-04-17 TW TW107113061A patent/TWI753154B/zh active
- 2018-04-17 JP JP2019555572A patent/JP2020516450A/ja active Pending
- 2018-04-17 US US16/604,327 patent/US11578215B2/en active Active
- 2018-04-17 JP JP2019555681A patent/JP7276775B2/ja active Active
- 2018-04-17 EP EP18717073.3A patent/EP3612602A2/en not_active Withdrawn
- 2018-04-17 CN CN201880038005.XA patent/CN110709479A/zh active Pending
- 2018-04-17 WO PCT/EP2018/059744 patent/WO2018192908A2/en unknown
- 2018-04-17 CN CN201880025392.3A patent/CN110520484B/zh active Active
- 2018-04-17 MY MYPI2019005965A patent/MY195436A/en unknown
- 2018-04-17 EP EP18717072.5A patent/EP3612601A2/en active Pending
- 2018-04-17 WO PCT/EP2018/059747 patent/WO2018192910A2/en unknown
- 2018-04-17 US US16/604,347 patent/US20200165460A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63304062A (ja) * | 1987-06-04 | 1988-12-12 | Daicel Chem Ind Ltd | 金属様光沢塗料組成物 |
| CN105745284A (zh) * | 2013-11-22 | 2016-07-06 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 制备抗反射涂料组合物的方法和由其制备的多孔涂层 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN110520484B (zh) | 2023-01-31 |
| JP2020518684A (ja) | 2020-06-25 |
| MY195436A (en) | 2023-01-20 |
| US20200165460A1 (en) | 2020-05-28 |
| WO2018192908A2 (en) | 2018-10-25 |
| TW201843124A (zh) | 2018-12-16 |
| CN110520484A (zh) | 2019-11-29 |
| US20200123391A1 (en) | 2020-04-23 |
| EP3612601A2 (en) | 2020-02-26 |
| JP2020516450A (ja) | 2020-06-11 |
| TWI753154B (zh) | 2022-01-21 |
| WO2018192910A3 (en) | 2019-06-20 |
| WO2018192908A3 (en) | 2019-01-31 |
| WO2018192910A2 (en) | 2018-10-25 |
| US11578215B2 (en) | 2023-02-14 |
| EP3612602A2 (en) | 2020-02-26 |
| JP7276775B2 (ja) | 2023-05-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN110709479A (zh) | 制备防污涂料组合物的方法和由所述方法制备的涂料 | |
| JP6840923B2 (ja) | 多孔質無機酸化物被膜を製造するための組成物および方法 | |
| CN109852105B (zh) | 制备抗反射涂料组合物的方法和由其制备的多孔涂层 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: Newhagen, the Netherlands Applicant after: Kostron (Netherlands) Co.,Ltd. Address before: Newhagen, the Netherlands Applicant before: MS Holdings Ltd. |
|
| CB02 | Change of applicant information | ||
| TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20211206 Address after: Newhagen, the Netherlands Applicant after: MS Holdings Ltd. Address before: Holland Heerlen Applicant before: DSM IP ASSETS B.V. |
|
| TA01 | Transfer of patent application right | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: Geleen Applicant after: Kostron (Netherlands) Co.,Ltd. Address before: Newhagen, the Netherlands Applicant before: Kostron (Netherlands) Co.,Ltd. |
|
| CB02 | Change of applicant information |