CN110665761B - 一种光刻机用晶圆片涂胶系统 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光刻机用晶圆片涂胶系统，其结构包括电机、支架、主转轴、调节杆、吸盘、水平调节装置、支撑圆盘，支架下方设有电机，电机与主转轴底部相连接，主转轴顶部贯穿支架并通过调节杆与吸盘相连接，支撑圆盘设在支架上方并与之相平行，支撑圆盘与主转轴垂直焊接在一起，吸盘底部设有水平调节装置，本发明的有益效果是：通过移动杆能够使液位传感器和内磁铁位于吸盘直径的两端，便于找到最低处，且通过磁吸作用能够移动伸缩杆位于最低处正下方，由于伸缩杆能够根据最低处进行移动，便于调节吸盘任意角度发生的倾斜，使用性更强，能够直接通过最低点与最高点确定一条直线直接进行调节，调节更加方便。
Description
技术领域
本发明涉及晶圆加工设备领域，具体地说是一种光刻机用晶圆片涂胶系统。
背景技术
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片匀胶时通常都是采用电机带动吸附在真空吸盘上的晶片旋转，从而在离心力的作用下使胶均匀分布在晶圆片上，胶膜涂敷厚度可根据电机旋转轴的速度来进行控制。
现有技术申请号为CN201810491451.5的一种光刻机用晶圆片涂胶系统，包括吸盘，安装座、转动盘、一号电机，转动盘位于安装座中，一号电机用于带动转动盘转动；还包括储液槽、液位传感器、调节模块和控制器；液位传感器通过与储液槽配合用于检测吸盘的倾斜度；调节模块用于对吸盘进行水平调节，且调节模块通过固定杆固定安装在转动盘顶；液位传感器通过对储液槽中的液位进行检测，来判断吸盘是否处于水平位置；当吸盘处于倾斜时，控制器通过与调节模块和液位传感器配合来将吸盘调节至水平位置。本发明主要用于晶圆光刻工艺中，能够对吸盘的水平度进行自动调节；能够避免吸盘发生晃动；提高了晶圆的涂胶效率。但该发明使用固定的气压杆调整吸盘，由于吸盘的倾斜角度是随机的，360度角都有可以成为倾斜的最低点，而气压杆固定，在调节时较为费力，无法直接通过最低点与最高点确定一条直线直接进行调节。
发明内容
本发明的主要目的在于克服现有技术的不足，提供一种光刻机用晶圆片涂胶系统。
本发明采用如下技术方案来实现：一种光刻机用晶圆片涂胶系统，其结构包括电机、支架、主转轴、调节杆、吸盘、水平调节装置、支撑圆盘，所述支架下方设有电机，所述电机与主转轴底部相连接，所述主转轴顶部贯穿支架并通过调节杆与吸盘相连接，所述支撑圆盘设在支架上方并与之相平行，所述支撑圆盘与主转轴垂直焊接在一起，所述吸盘底部设有水平调节装置。
作为优化，所述水平调节装置包括伸缩杆、外磁铁、滑轨、水平检测盒，所述水平检测盒顶部与吸盘底部贴合并连接在一起，所述水平检测盒为圆形，所述水平检测盒的外侧设有滑轨，所述滑轨内设有外磁铁，所述外磁铁侧面与伸缩杆顶部相配合，所述伸缩杆底部与支撑圆盘相连接。
作为优化，所述外磁铁外侧面设有凹槽，所述伸缩杆顶部设在凹槽内。
作为优化，所述支撑圆盘上设有圆形滑槽，所述圆形滑槽内设有滑块，所述滑块与伸缩杆底部相连接。
作为优化，所述水平检测盒包括内磁铁、盒体、微电机、移动杆、液位传感器、中心轴，所述盒体内顶部安装有微电机，所述微电机与设在下方的中心轴相连接，所述中心轴与移动杆垂直连接，所述移动杆的两端分别连接有内磁铁、液位传感器，所述内磁铁与盒体内壁相贴合。
作为优化，所述水平检测盒内填充有水。
作为优化，所述主转轴顶部设有球形槽。
作为优化，所述调节杆底部设有球体，所述球体设在球形槽内部。
作为优化，所述球形槽内壁为金属材质。
作为优化，所述球体为强力磁铁。
作为优化，所述外磁铁设在内磁铁侧面，两者磁吸在一起。
有益效果
本发明在使用时，通过微电机带动中心轴旋转，使移动杆两端的内磁铁、液位传感器绕着盒体内壁旋转，液位传感器能够检测内部水位的高度，当高度一致时，表示吸盘处于水平状态，当水位高度不一时，将液位传感器旋转到水位最高处，这时内磁铁便位于水位最低处，代表位于内磁铁位置的吸盘偏低，当内磁铁旋转时，由于内磁铁与外磁铁两者磁吸在一起，外磁铁会跟着内磁铁移动，而外磁铁的凹槽内卡着伸缩杆，能够带动伸缩杆随之移动，因此当内磁铁停在吸盘最低处时，伸缩杆刚好位于吸盘最低处的正下发，通过伸长伸缩杆将吸盘向上顶，配合液位传感器检测水位，使吸盘调整到水平位置，因为吸盘通过球体磁吸在球形槽内，因此既能进行固定，又能便于吸盘进行360度任意位置的高度调节。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：通过移动杆能够使液位传感器和内磁铁位于吸盘直径的两端，便于找到最低处，且通过磁吸作用能够移动伸缩杆位于最低处正下方，由于伸缩杆能够根据最低处进行移动，便于调节吸盘任意角度发生的倾斜，使用性更强，能够直接通过最低点与最高点确定一条直线直接进行调节，调节更加方便。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本发明一种光刻机用晶圆片涂胶系统的结构示意图。
图2为本发明水平调节装置的结构示意图。
图3为本发明水平检测盒的内部结构示意图。
图4为本发明支撑圆盘的结构示意图。
图5为本发明外磁铁的俯视图。
图6为本发明调节杆与主转轴的连接结构示意图。
图中：电机1、支架2、主转轴3、调节杆4、吸盘5、水平调节装置6、支撑圆盘7、圆形滑槽71、滑块72、伸缩杆8、外磁铁9、凹槽90、滑轨10、水平检测盒11、内磁铁12、盒体13、微电机14、移动杆15、液位传感器16、中心轴17、球形槽30、球体40。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-6，本发明提供一种光刻机用晶圆片涂胶系统技术方案：其结构包括电机1、支架2、主转轴3、调节杆4、吸盘5、水平调节装置6、支撑圆盘7，所述支架2下方设有电机1，所述电机1与主转轴3底部相连接，所述主转轴3顶部贯穿支架2并通过调节杆4与吸盘5相连接，所述支撑圆盘7设在支架2上方并与之相平行，所述支撑圆盘7与主转轴3垂直焊接在一起，所述吸盘5底部设有水平调节装置6。
作为优化，所述水平调节装置6包括伸缩杆8、外磁铁9、滑轨10、水平检测盒11，所述水平检测盒11顶部与吸盘5底部贴合并连接在一起，所述水平检测盒11为圆形，所述水平检测盒11的外侧设有滑轨10，所述滑轨10内设有外磁铁9，所述外磁铁9侧面与伸缩杆8顶部相配合，所述伸缩杆8底部与支撑圆盘7相连接。
作为优化，所述外磁铁9外侧面设有凹槽90，所述伸缩杆8顶部设在凹槽90内，便于两者同时进行移动。
作为优化，所述支撑圆盘7上设有圆形滑槽71，所述圆形滑槽71内设有滑块72，所述滑块72与伸缩杆8底部相连接，便于对伸缩杆8进行支撑的同时使伸缩杆8能够进行移动。
作为优化，所述水平检测盒11包括内磁铁12、盒体13、微电机14、移动杆15、液位传感器16、中心轴17，所述盒体13内顶部安装有微电机14，所述微电机14与设在下方的中心轴17相连接，所述中心轴17与移动杆15垂直连接，所述移动杆15的两端分别连接有内磁铁12、液位传感器16，所述内磁铁12与盒体13内壁相贴合。
作为优化，所述水平检测盒11内填充有水，通过水位能够检测吸盘5是否保持水平。
作为优化，所述主转轴3顶部设有球形槽30。
作为优化，所述调节杆4底部设有球体40，所述球体40设在球形槽30内部，球形槽30既能防止球体40脱离能够使球体40具有旋转的空间。
作为优化，所述球形槽30内壁为金属材质。
作为优化，所述球体40为强力磁铁，能够牢牢吸附在金属材质的球形槽30中，起到固定的效果，且便于进行调节。
作为优化，所述外磁铁9设在内磁铁12侧面，两者磁吸在一起，便于两者在内外同时进行移动。
本发明在使用时，通过微电机14带动中心轴17旋转，使移动杆15两端的内磁铁12、液位传感器16绕着盒体13内壁旋转，液位传感器16能够检测内部水位的高度，当高度一致时，表示吸盘5处于水平状态，当水位高度不一时，将液位传感器16旋转到水位最高处，这时内磁铁12便位于水位最低处，代表位于内磁铁12位置的吸盘5偏低，当内磁铁12旋转时，由于内磁铁12与外磁铁9两者磁吸在一起，外磁铁9会跟着内磁铁12移动，而外磁铁9的凹槽90内卡着伸缩杆8，能够带动伸缩杆8随之移动，因此当内磁铁12停在吸盘5最低处时，伸缩杆8刚好位于吸盘5最低处的正下发，通过伸长伸缩杆8将吸盘5向上顶，配合液位传感器16检测水位，使吸盘5调整到水平位置，因为吸盘5通过球体40磁吸在球形槽30内，因此既能进行固定，又能便于吸盘5进行360度任意位置的高度调节。
本发明相对现有技术获得的技术进步是：通过移动杆能够使液位传感器和内磁铁位于吸盘直径的两端，便于找到最低处，且通过磁吸作用能够移动伸缩杆位于最低处正下方，由于伸缩杆能够根据最低处进行移动，便于调节吸盘任意角度发生的倾斜，使用性更强，能够直接通过最低点与最高点确定一条直线直接进行调节，调节更加方便。
尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (1)
1.一种光刻机用晶圆片涂胶系统，其结构包括电机(1)、支架(2)、主转轴(3)、调节杆(4)、吸盘(5)、水平调节装置(6)、支撑圆盘(7)，其特征在于：所述支架(2)下方设有电机(1)，所述电机(1)与主转轴(3)底部相连接，所述主转轴(3)顶部贯穿支架(2)并通过调节杆(4)与吸盘(5)相连接，所述支撑圆盘(7)设在支架(2)上方并与之相平行，所述支撑圆盘(7)与主转轴(3)垂直焊接在一起，所述吸盘(5)底部设有水平调节装置(6)；
所述水平调节装置(6)包括伸缩杆(8)、外磁铁(9)、滑轨(10)、水平检测盒(11)，所述水平检测盒(11)顶部与吸盘(5)底部贴合并连接在一起，所述水平检测盒(11)为圆形，所述水平检测盒(11)的外侧设有滑轨(10)，所述滑轨(10)内设有外磁铁(9)，所述外磁铁(9)侧面与伸缩杆(8)顶部相配合，所述伸缩杆(8)底部与支撑圆盘(7)相连接，所述外磁铁(9)外侧面设有凹槽(90)，所述伸缩杆(8)顶部设在凹槽(90)内，所述支撑圆盘(7)上设有圆形滑槽(71)，所述圆形滑槽(71)内设有滑块(72)，所述滑块(72)与伸缩杆(8)底部相连接；
所述水平检测盒(11)包括内磁铁(12)、盒体(13)、微电机(14)、移动杆(15)、液位传感器(16)、中心轴(17)，所述盒体(13)内顶部安装有微电机(14)，所述微电机(14)与设在下方的中心轴(17)相连接，所述中心轴(17)与移动杆(15)垂直连接，所述移动杆(15)的两端分别连接有内磁铁(12)、液位传感器(16)，所述内磁铁(12)与盒体(13)内壁相贴合，所述水平检测盒(11)内填充有水，所述主转轴(3)顶部设有球形槽(30)，所述调节杆(4)底部设有球体(40)，所述球体(40)设在球形槽(30)内部。
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