CN110576342A - 提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法、玻璃镜面、摄像头和电子设备 - Google Patents

提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法、玻璃镜面、摄像头和电子设备 Download PDF

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CN110576342A CN201810786560.2A CN201810786560A CN110576342A CN 110576342 A CN110576342 A CN 110576342A CN 201810786560 A CN201810786560 A CN 201810786560A CN 110576342 A CN110576342 A CN 110576342A
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Abstract

本发明公开了一种修提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法、玻璃镜面、摄像头和电子设备，涉及玻璃抛光技术领域。抛光方法包括采用抛光革配合纳米二氧化硅抛光液对仿形工序加工外形后的玻璃镜面进行双面研磨抛光，得到抛光后的玻璃镜面；其中，抛光革粗糙度在10μm以下，邵氏硬度为60‑80度；纳米二氧化硅抛光液中硅溶胶的粒径为60‑100nm。本发明通过控制抛光革的粗糙度和硬度以及选择特定粒径硅溶胶的纳米二氧化硅抛光液，通过抛光革和抛光液相互配合，抛光后的玻璃镜面面形精度好，PV值和RMS值均≤0.25λ且非常稳定，良率达100％，缓解了采用传统普通抛光材料抛光后的镜面面形精度不合格，达不到客户检测要求的问题。

Description

提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法、玻璃镜面、摄像头和 电子设备
技术领域
本发明涉及玻璃抛光技术领域，具体而言，涉及一种提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法、玻璃镜面、摄像头和电子设备。
背景技术
2D、2.5D摄像头玻璃镜面的加工生产过程需要进行抛光工序，抛光时将若干个光学玻璃放在固定的承载板上用研磨抛光机对其一起进行抛光。普通的抛光方法是采用红磨皮和氧化铈抛光液作为抛光材料。
面形精度是评价面形质量的重要指标，是采用精密抛光表面与理想平面的偏差量来表征的数据，随着人们对抛光镜面加工精度的要求越来越高，采用现有普通的抛光方法得到的玻璃镜面的面形精度已不能满足要求。例如目前客户的检测要求抛光后的玻璃镜面PV值≤0.25λ(λ表示波长)，但使用目前的抛光材料抛光后的镜面PV值100％达不到客户检测要求。
有鉴于此，特提出本发明。
发明内容
本发明的目的之一在于提供一种提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，抛光后的玻璃镜面面形精度好，PV值≤0.25λ，良率达100％，解决了产品镜面PV值不达标的问题。
本发明的目的之二在于提供一种玻璃镜面，采用上述提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法抛光得到，抛光后的玻璃镜面PV值≤0.25λ。
本发明的目的之三在于提供一种摄像头，包括上述玻璃镜面。
本发明的目的之四在于提供一种电子设备，包括上述摄像头。
为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：
第一方面，本发明提供了一种提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，包括以下步骤：
采用抛光革配合纳米二氧化硅抛光液对仿形工序加工外形后的玻璃镜面进行双面研磨抛光，得到抛光后的玻璃镜面；
其中，抛光革的抛光表面的粗糙度在10μm以下，抛光革的邵氏硬度为60-80度；
纳米二氧化硅抛光液中硅溶胶的粒径为60-100nm。
优选地，在本发明提供的技术方案的基础上，所述抛光革的抛光表面的粗糙度在8μm以下；
优选地，所述抛光革的邵氏硬度为60-70度，优选为65度。
优选地，在本发明提供的技术方案的基础上，所述纳米二氧化硅抛光液中硅溶胶的粒径为70-90nm，优选为80nm；
优选地，所述纳米二氧化硅抛光液的浓度为40-60％(v/v)，优选50-60％(v/v)，进一步优选为50％(v/v)。
优选地，在本发明提供的技术方案的基础上，提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，包括以下步骤：
(a)提供抛光机，其中，抛光机台的上盘和下盘独立地固定所述抛光革，固定所述抛光革的所述抛光机台的下盘上设置有若干个具有通孔的承载板；
(b)将仿形工序加工外形后的玻璃镜面置于承载板的通孔中，合闭抛光机台上盘，加入所述纳米二氧化硅抛光液，进行双面研磨抛光，得到抛光后的玻璃镜面。
优选地，在本发明提供的技术方案的基础上，步骤(b)中所述承载板为纤维板，优选为纤维牙板；
优选地，所述承载板呈圆形；
优选地，所述承载板的通孔的形状与玻璃镜面的外形匹配；
优选地，所述承载板的厚度小于玻璃镜面厚度的0.1-0.15mm；
优选地，抛光机台下盘上均匀摆放有4-8个承载板。
优选地，在本发明提供的技术方案的基础上，步骤(c)中纳米二氧化硅抛光液的流量为700±50mL/min。
优选地，在本发明提供的技术方案的基础上，步骤(c)中抛光加工工艺参数包括：抛光机台转速为25±5rpm；加工时间为2000±500s；
优选地，抛光完成后按10-20％比例检测玻璃镜面面形精度PV值和RMS值。
第二方面，提供了一种玻璃镜面，采用上述提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法抛光得到。
第三方面，提供了一种摄像头，包括上述玻璃镜面。
第四方面，提供了一种电子设备，包括上述摄像头。
与已有技术相比，本发明具有如下有益效果：
(1)本发明提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法采用粗糙度在10μm以下、邵氏硬度60-80度的抛光革配合60-100nm硅溶胶的纳米二氧化硅抛光液对仿形工序加工外形后的玻璃镜面进行双面研磨抛光，通过控制抛光革的粗糙度和硬度以及选择特定粒径硅溶胶的纳米二氧化硅抛光液，通过抛光革和抛光液相互配合，抛光后的玻璃镜面面形精度好，PV值和RMS值均≤0.25λ且非常稳定，良率达100％，采用本发明抛光方法得到的玻璃镜面PV值较小且稳定，镜面平整，不会导致折射或反射光线有偏移，使用该面形精度的玻璃镜面成像质量更好，成像不发生扭曲，拍摄物体更加清晰，能够满足人们对更佳拍照质量的要求。
(2)本发明提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法工艺简单，可靠性较高，易于推广，具有较大应用价值，是一种提高生产过程中产品玻璃镜面稳定性的一种抛光方法。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式的技术方案，下面将对具体实施方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一种实施方式的承载板结构示意图；
图2为本发明一种实施方式的双面研磨机台实物图。
具体实施方式
下面将结合实施例对本发明的实施方案进行详细描述，但是本领域技术人员将会理解，下列实施例仅用于说明本发明，而不应视为限制本发明的范围。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。
根据本发明的第一个方面，提供了一种提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，包括以下步骤：
采用抛光革配合纳米二氧化硅抛光液对仿形工序加工外形后的玻璃镜面进行双面研磨抛光，得到抛光后的玻璃镜面；
其中，抛光革的抛光表面的粗糙度在10μm以下，抛光革的邵氏硬度为60-80度；纳米二氧化硅抛光液中硅溶胶的粒径为60-100nm。
玻璃镜面典型但非限制性的例如为手机等电子设备的2D或2.5D摄像头镜面。
对抛光革的材质、颜色、形状、尺寸等不作限定，只要抛光革表面的粗糙度在≤10μm，硬度在60-80度即可。
粗糙度指抛光革的抛光表面上具有的较小间距和峰谷所组成的微观几何形状特性，抛光革的粗糙度典型但非限制性的例如为10μm、8μm、5μm、2μm或1μm等。
硬度指邵氏硬度，抛光革的硬度典型但非限制性的例如为60度、65度、70度、75度或80度。
优选地，一种典型但非限制性的抛光革为白色抛光革(软)，规格为900(长)×3.0(厚)mm，硬度为65度。
通过控制抛光革的粗糙度和硬度，保证同磨产品去除量差异小，提升镜面面形精度。
对抛光革的材质不作限定，典型的包括由聚氨酯、纤维等材料制成的抛光革。
纳米二氧化硅抛光液主要成分为硅溶胶，硅溶胶的粒径在60-100nm，例如60-70nm、70-80nm、80-90nm或90-100nm等。
硅溶胶的粒径过小，抛光效果不好，粒径过大，抛光后镜面有细微划痕，影响镜面面形精度不佳。
目前所采用的普通抛光材料红磨皮表面粗糙，抛光时同磨产品去除量差异大于3C(C＝0.01mm)，超出厚度标准2C内；采用的氧化铈抛光液粒径(D50＝1～2μm)粗糙，抛光后产品镜面划伤明显，导致镜面面形精度PV值不达标。
本发明通过选择粗糙度在10μm以下、邵氏硬度60-80度的抛光革以及含粒径60-100nm硅溶胶的纳米二氧化硅抛光液作为抛光材料，通过特定粗糙度、硬度的抛光革以及特定粒径二氧化硅抛光液的相互配合，进行双面研磨抛光后的玻璃镜面面形精度好，PV值和RMS值均≤0.25λ且非常稳定，良率达100％，缓解了采用传统普通抛光材料抛光后的玻璃镜面面形精度不合格，达不到客户检测要求的问题。
在一种优选的实施方式中，抛光革的抛光表面的粗糙度在8μm以下；
在一种优选的实施方式中，抛光革的邵氏硬度为60-70度，优选为65度。
通过进一步优选抛光革表面的粗糙度和硬度，能够获得面形精度更好的玻璃镜面。
在一种优选的实施方式中，纳米二氧化硅抛光液中硅溶胶的粒径为70-90nm，优选为80nm。
通过进一步优选纳米二氧化硅抛光液的硅溶胶粒径，配合抛光革能够进一步提升玻璃镜面的面形精度。
在一种优选的实施方式中，纳米二氧化硅抛光液的浓度为40-60％(v/v)，优选50-60％(v/v)，进一步优选为50％(v/v)。
纳米二氧化硅抛光液的浓度指的是纳米二氧化硅抛光液在水中的体积浓度，为纳米二氧化硅抛光液的体积与溶液(抛光液和水)体积之比。
纳米二氧化硅抛光液的浓度典型但非限制性的例如为40％、50％或60％等。
抛光液浓度对抛光效果具有影响，抛光液浓度过低，颗粒分布稀少，玻璃镜面和研磨盘抛光革之间得不到很好的摩擦，无法很好地进行抛光。抛光液浓度过高，颗粒分布密集，短时间内产生过高的热量，容易对镜面摩擦过强烈使得镜面表面出现划痕等现象，不能使抛光后的镜面面形精度达到最佳水平。
在一种优选的实施方式中，提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，包括以下步骤：
(a)提供抛光机，其中，抛光机台的上盘和下盘独立地固定所述抛光革，固定所述抛光革的所述抛光机台的下盘上设置有若干个具有通孔的承载板；
(b)将仿形工序加工外形后的玻璃镜面置于承载板的通孔中，合闭抛光机台上盘，加入所述纳米二氧化硅抛光液，进行双面研磨抛光，得到抛光后的玻璃镜面。
优选的实施步骤例如包括：
(a)在抛光机台的上盘和下盘独立地粘贴抛光革；将若干具有通孔的承载板均匀摆放在粘贴有抛光革的抛光机台的下盘上；
(b)将仿形工序加工外形后的玻璃镜面放于承载板的通孔中，合闭抛光机台上盘，注入纳米二氧化硅抛光液，进行双面研磨抛光，得到抛光后的玻璃镜面。
抛光机台典型但非限制性的例如为双面研磨抛光机。
对步骤(a)、步骤(b)的抛光革的描述与上文中抛光革的描述相同。
优选地，采用粘结剂(例如A881粘胶)在抛光机台的上盘和下盘独立地粘贴抛光革。
优选地，承载板用于放置在粘贴有抛光革的抛光机台下盘，优选地，承载板的大小和抛光机台下盘匹配，使得承载板边缘正好卡在抛光机台下盘中央与抛光机台下盘边缘之间，从而在抛光时使承载板相对于机台下盘没有相对移动。
优选地，多件承载板沿下盘中心均匀排布，个数优选为4-8件，包括但不限于4件、5件、6件或8件。
优选地，承载板为纤维牙板，即边缘呈锯齿形的纤维板，优选制作成圆形。圆形可为正圆形，也可为近圆形，优选圆形的最长直径为最短直径长度的0.9-1.1倍。
边缘锯齿有助于承载板正好卡在抛光机台下盘中央以及边缘之间，防止抛光时相互移动。
承载板上开有若干通孔，通孔与抛光机台下盘抛光革围成放置腔，放置待抛光玻璃镜面。
优选地，承载板上的通孔排布可以任意，优选以承载板的圆心为中心对称均匀排布。对通孔的大小和形状不作限定，可以根据不同产品外型进行匹配，不同产品外型需匹配不同放置腔的承载板，防止待抛光玻璃镜面在放置腔内晃动。
承载板厚度可以根据待抛光玻璃镜面的厚度进行调整，优选承载板的厚度小于玻璃镜面厚度的0.1-0.15mm，例如0.1mm、0.12mm、0.14mm或0.15mm。
在承载板的通孔中摆放好玻璃镜面后，合闭抛光机台上盘，注入纳米二氧化硅抛光液开始抛光，通过上、下盘的相对转动实现抛光。
优选地，纳米二氧化硅抛光液的流量为700±50mL/min，例如650mL/min、700mL/min或750mL/min。
通过控制抛光液的流量，保证良好的抛光效果。
为了进一步保证抛光效果，优选控制抛光加工工艺参数：抛光机台转速为25±5rpm，例如为20rpm、25rpm或30rpm；加工时间为2000±500s，例如为1500s、2000s或2500s。
优选地，抛光机台正反压气压为上盘自重；
通过设定机台转速、加工时间、工作压力等，调整抛光效果。
优选地，抛光完成后按10-20％比例检测玻璃镜面面形精度PV值和RMS值。
优选地，一种典型的提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，包括以下步骤：
(1)将抛光革用粘胶粘贴在双面研磨抛光机上下磨盘上，用百分表检测下磨盘圆周跳动；
抛光革的抛光表面的粗糙度在10μm以下，抛光革的邵氏硬度为60-80度；
(2)选择纤维牙板厚度应低于产品厚度的0.1-0.15mm，按玻璃镜面外型制作纤维牙板通孔(型腔)，制作后去除通孔(型腔)内毛刺；
(3)将纤维牙板均匀摆放在贴有抛光革的机台下盘，将玻璃镜面放置图1的纤维牙板通孔内，确认产品放平后合闭上盘加工，如图2所示；
(4)纳米二氧化硅抛光液按抛光液：水体积比2/3-3/2调配抛光液浓度，抛光液中硅溶胶的粒径为60-100nm，按标准的作业指导书调整机台气压为上盘自重、转速为25±5rpm、抛光液流量为700±50mL/min，设置加工时间为2000±500s，最后按下启动按钮开始加工；抛光完成后按10-20％比例检测玻璃镜面面形精度PV值和RMS值。
该典型的提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法将需要研磨的产品放置纤维牙板型腔内，不同产品外型需匹配不同型腔的纤维牙板，双面研磨抛光机上下磨盘必须粘贴粗糙度10μm以下、硬度60-80度的抛光革，配合一定浓度、粒径60-100nm的二氧化硅抛光液，在一定加工条件下进行抛光，降低同磨产品去除量差异，防止抛光过程中对镜面的划伤，提升镜面面形精度，PV值≤0.25λ，RMS值≤0.25λ，良率可稳定在100％。该工艺简单，可同时大批量进行玻璃镜面的抛光，可靠性较高、工艺稳定，易于推广，具有较大应用价值。
根据本发明的第二个方面，提供了一种玻璃镜面，采用上述提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法抛光得到。
采用上述提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法抛光得到的玻璃镜面面形精度好，PV值和RMS值均≤0.25λ，良率100％且稳定。
根据本发明的第三个方面，提供了一种摄像头，包括上述玻璃镜面。
摄像头由于具有面形精度优异的玻璃镜面，因此具有与上述玻璃镜面相同的优势，表面质量优异。
根据本发明的第四个方面，提供了一种电子设备，包括上述摄像头。
典型但非限制性的电子设备可以为手机、电子手表、平板电脑、笔记本电脑或数码相机等。
为了进一步了解本发明，下面结合具体实施例和对比例对本发明效果做进一步详细的说明。本发明涉及的各原料均可通过商购获取。
机台设备：13B或15B双面研磨抛光机。
实施例1
一种提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，包括以下步骤：
(1)将白色抛光革(软)900×3.0mm(硬度65度，表面粗糙度5μm)用A881粘胶粘贴在双面研磨抛光机上下磨盘上，用百分表检测下磨盘圆周跳动；
(2)选择纤维牙板厚度应低于玻璃镜面厚度的0.1mm，按玻璃镜面外型制作纤维牙板型腔(通孔)，制作后去除型腔(通孔)内毛刺；
(3)将5pcs纤维牙板均匀摆放在贴有抛光革的机台下盘，将100pcs待抛光玻璃镜面放置纤维牙板通孔内，每pcs纤维牙板上放20pcs玻璃镜面，放平后合闭上盘加工；
(4)纳米二氧化硅抛光液按抛光液:水体积比1:1调配抛光液浓度，抛光液中硅溶胶的粒径为60-80nm，按标准的作业指导书调整机台气压为上盘自重、转速为25rpm、抛光液流量为700mL/min，设置加工时间为2000s，最后按下启动按钮开始加工；抛光完成后抽取12pcs玻璃镜面检测其面形精度PV值和RMS值，检测方法参考GB/T 2831-2009，结果记录在表1，并计算PV值≤0.25λ和RMS值≤0.25λ的良率。
表1
实施例2
一种提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，包括以下步骤：
(1)将白色抛光革(软)900×3.0mm(硬度60度，表面粗糙度10μm)用A881粘胶粘贴在双面研磨抛光机上下磨盘上，用百分表检测下磨盘圆周跳动；
(2)选择纤维牙板厚度应低于玻璃镜面厚度的0.15mm，按玻璃镜面外型制作纤维牙板型腔(通孔)，制作后去除型腔(通孔)内毛刺；
(3)将2pcs纤维牙板均匀摆放在贴有抛光革的机台下盘，将100pcs待抛光玻璃镜面放置纤维牙板通孔内，每pcs纤维牙板上放50pcs玻璃镜面，放平后合闭上盘加工；
(4)纳米二氧化硅抛光液按抛光液:水体积比1:1调配抛光液浓度，抛光液中硅溶胶的粒径为80-100nm，按标准的作业指导书调整机台气压为上盘自重、转速为20rpm、抛光液流量为650mL/min，设置加工时间为1500s，最后按下启动按钮开始加工；抛光完成后抽取10pcs玻璃镜面检测面形精度PV值和RMS值，检测方法参考GB/T 2831-2009，结果记录在表2，并计算PV值≤0.25λ和RMS值≤0.25λ的良率。
表2
实施例3
一种提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，包括以下步骤：
(1)将白色抛光革(软)900×3.0mm(硬度80度，表面粗糙度2μm)用A881粘胶粘贴在双面研磨抛光机上下磨盘上，用百分表检测下磨盘圆周跳动；
(2)选择纤维牙板厚度应低于玻璃镜面厚度的0.12mm，按玻璃镜面外型制作纤维牙板型腔(通孔)，制作后去除型腔(通孔)内毛刺；
(3)将5pcs纤维牙板均匀摆放在贴有抛光革的机台下盘，将100pcs待抛光玻璃镜面放置纤维牙板通孔内，每pcs纤维牙板上放20pcs玻璃镜面，放平后合闭上盘加工；
(4)纳米二氧化硅抛光液按抛光液:水体积比1:1调配抛光液浓度，抛光液中硅溶胶的粒径为80-90nm，按标准的作业指导书调整机台气压为上盘自重、转速为25±5rpm、抛光液流量为700±50mL/min，设置加工时间为2000±500s，最后按下启动按钮开始加工；抛光完成后抽取10pcs玻璃镜面检测面形精度PV值和RMS值，检测方法参考GB/T 2831-2009，结果记录在表3，并计算PV值≤0.25λ和RMS值≤0.25λ的良率。
表3
实施例4
一种提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，包括以下步骤：
(1)将白色抛光革(软)900×3.0mm(硬度70度，表面粗糙度1μm)用A881粘胶粘贴在双面研磨抛光机上下磨盘上，用百分表检测下磨盘圆周跳动；
(2)选择纤维牙板厚度应低于玻璃镜面厚度的0.13mm，按玻璃镜面外型制作纤维牙板型腔(通孔)，制作后去除型腔(通孔)内毛刺；
(3)将2pcs纤维牙板均匀摆放在贴有抛光革的机台下盘，将100pcs待抛光玻璃镜面放置纤维牙板通孔内，每pcs纤维牙板上放50pcs玻璃镜面，放平后合闭上盘加工；
(4)纳米二氧化硅抛光液按抛光液:水体积比1:1调配抛光液浓度，抛光液中硅溶胶的粒径为70-80nm，按标准的作业指导书调整机台气压为上盘自重、转速为25±5rpm、抛光液流量为700±50mL/min，设置加工时间为2000±500s，最后按下启动按钮开始加工；抛光完成后抽取10pcs玻璃镜面检测面形精度PV值和RMS值，检测方法参考GB/T 2831-2009，结果记录在表4，并计算PV值≤0.25λ和RMS值≤0.25λ的良率。
表4
实施例5
本实施例与实施例1的区别在于，步骤(4)使用纳米二氧化硅抛光液原液不进行稀释。采用相同的测试方法测试镜面面形精度PV值和RMS值，结果如表5所示。
表5
序号 PV值≤0.25λ RMS≤0.25λ
1 0.183λ 0.041λ
2 0.205λ 0.039λ
3 0.156λ 0.028λ
4 0.182λ 0.028λ
5 0.172λ 0.034λ
6 0.146λ 0.027λ
7 0.154λ 0.027λ
8 0.158λ 0.024λ
9 0.189λ 0.034λ
10 0.215λ 0.043λ
11 0.142λ 0.028λ
12 0.176λ 0.035λ
良率 100％ 100％
实施例6
本实施例与实施例1的区别在于，步骤(4)中抛光液流量为300mL/min，转速为50rpm。采用相同的测试方法测试镜面面形精度PV值和RMS值，结果如表6所示。
表6
序号 PV值≤0.25λ RMS≤0.25λ
1 0.156λ 0.035λ
2 0.19λ 0.037λ
3 0.186λ 0.033λ
4 0.178λ 0.028λ
5 0.171λ 0.034λ
6 0.164λ 0.035λ
7 0.152λ 0.027λ
8 0.165λ 0.028λ
9 0.189λ 0.034λ
10 0.2λ 0.04λ
11 0.18λ 0.036λ
12 0.17λ 0.033λ
良率 100％ 100％
对比例1
本对比例与实施例2的区别在于，将白色抛光革替换为红磨皮1200×600×3.0mm(硬度78邵A，表面粗糙度20μm)。采用相同的测试方法测试镜面面形精度PV值和RMS值，结果如表7所示。
表7
序号 PV值≤0.25λ RMS≤0.25λ
1 0.754λ 0.154λ
2 1.375λ 0.197λ
3 1.658λ 0.228λ
4 0.976λ 0.101λ
5 0.865λ 0.150λ
6 1.454λ 0.182λ
7 0.876λ 0.105λ
8 1.165λ 0.202λ
9 1.287λ 0.283λ
10 1.675λ 0.296λ
良率 0 80％
对比例2
本对比例与实施例2的区别在于，将纳米二氧化硅抛光液替换为氧化铈抛光液(D50＝1-2μm)。采用相同的测试方法测试镜面面形精度PV值和RMS值，结果如表8所示。
表8
序号 PV值≤0.25λ RMS≤0.25λ
1 1.202λ 0.245λ
2 2.042λ 0.293λ
3 1.532λ 0.210λ
4 0.784λ 0.081λ
5 0.856λ 0.148λ
6 1.053λ 0.131λ
7 0.964λ 0.115λ
8 1.243λ 0.216λ
9 1.205λ 0.265λ
10 0.974λ 0.172λ
良率 0 80％
对比例3
本对比例与实施例2的区别在于，将白色抛光革替换为红磨皮1200×600×3.0mm(硬度78邵A，表面粗糙度20μm)且将纳米二氧化硅抛光液替换为氧化铈抛光液(D50＝1-2μm)。采用相同的测试方法测试镜面面形精度PV值和RMS值，结果如表9所示。
表9
对比例4
本对比例与实施例2的区别在于，使用的纳米二氧化硅抛光液硅溶胶的粒径为150-200nm。采用相同的测试方法测试镜面面形精度PV值和RMS值，结果如表10所示。
表10
序号 PV值≤0.25λ RMS≤0.25λ
1 0.754λ 0.154λ
2 1.964λ 0.281λ
3 1.784λ 0.245λ
4 0.832λ 0.086λ
5 0.634λ 0.110λ
6 0.821λ 0.102λ
7 0.642λ 0.077λ
8 0.523λ 0.091λ
9 1.058λ 0.233λ
10 0.732λ 0.130λ
良率 0 90％
由表1-表10可以看出，经采用本发明抛光后的玻璃镜面面形精度好，PV值≤0.25λ，RMS值≤0.25λ，且工艺非常稳定，良率达100％。
实施例5与实施例1相比，改变了抛光液的使用浓度，实施例6与实施例1相比，改变了抛光工艺参数，抛光后的玻璃镜面面形精度PV值和RMS值差别不大，仍能够满足PV值≤0.25λ、RMS值≤0.25λ的需求，良率稳定在100％。
对比例3采用相同厚度的红磨皮加D50＝1-2μm氧化铈抛光液的传统方式对玻璃镜面进行抛光，抛光后的镜面的面形精度不达标。对比例1、对比例2分别替换其中的抛光革和抛光液，抛光后的玻璃镜面PV值≤0.25λ的良率也较低，对比例4采用的抛光液中二氧化硅粒径较大，镜面表面也容易造成细微划伤，导致镜面PV值≤0.25λ的良率不高。由此可见，本发明采用粗糙度在10μm以下、邵氏硬度60-80度的抛光革配合60-100nm粒径的硅溶胶的纳米二氧化硅抛光液对玻璃镜面进行双面研磨抛光，通过控制抛光革的粗糙度和硬度以及选择特定粒径硅溶胶的纳米二氧化硅抛光液，两者相互配合才能保证PV值和RMS值均≤0.25λ，良率保持在100％。
尽管已用具体实施例来说明和描述了本发明，然而应意识到，在不背离本发明的精神和范围的情况下可作出许多其它的更改和修改。因此，这意味着在所附权利要求中包括属于本发明范围内的所有这些变化和修改。

Claims (10)

1.一种提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：
采用抛光革配合纳米二氧化硅抛光液对仿形工序加工外形后的玻璃镜面进行双面研磨抛光，得到抛光后的玻璃镜面；
其中，抛光革的抛光表面的粗糙度在10μm以下，抛光革的邵氏硬度为60-80度；
纳米二氧化硅抛光液中硅溶胶的粒径为60-100nm。
2.按照权利要求1所述的提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，其特征在于，所述抛光革的抛光表面的粗糙度在8μm以下；
优选地，所述抛光革的邵氏硬度为60-70度，优选为65度。
3.按照权利要求1所述的提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，其特征在于，所述纳米二氧化硅抛光液中硅溶胶的粒径为70-90nm，优选为80nm；
优选地，所述纳米二氧化硅抛光液的浓度为40-60％(v/v)，优选50-60％(v/v)，进一步优选为50％(v/v)。
4.按照权利要求1-3任一项所述的提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：
(a)提供抛光机，其中，抛光机台的上盘和下盘独立地固定所述抛光革，固定所述抛光革的所述抛光机台的下盘上设置有若干个具有通孔的承载板；
(b)将仿形工序加工外形后的玻璃镜面置于承载板的通孔中，合闭抛光机台上盘，加入所述纳米二氧化硅抛光液，进行双面研磨抛光，得到抛光后的玻璃镜面。
5.按照权利要求4所述的提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，其特征在于，步骤(b)中所述承载板为纤维板，优选为纤维牙板；
优选地，所述承载板呈圆形；
优选地，所述承载板的通孔的形状与玻璃镜面的外形匹配；
优选地，所述承载板的厚度小于玻璃镜面厚度的0.1-0.15mm；
优选地，抛光机台下盘上均匀摆放有4-8个承载板。
6.按照权利要求4所述的提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，其特征在于，步骤(c)中纳米二氧化硅抛光液的流量为700±50mL/min。
7.按照权利要求4所述的提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法，其特征在于，步骤(c)中抛光加工工艺参数包括：抛光机台转速为25±5rpm；加工时间为2000±500s。
8.一种玻璃镜面，其特征在于，采用权利要求1-7任一项所述的提高玻璃镜面面形精度良率的抛光方法抛光得到。
9.一种摄像头，其特征在于，包括权利要求8所述的玻璃镜面。
10.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求9所述的摄像头；
优选地，所述电子设备为手机。
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