CN110573865B - 无机和有机质谱系统及其使用方法 - Google Patents

无机和有机质谱系统及其使用方法 Download PDF

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Abstract

描述了可以检测样品中的无机离子和有机离子的系统和方法的某些配置。在一些配置中，系统可以包括一个、两个、三个或更多个质谱仪内核。在一些实例中，质谱仪内核可以利用共用部件，诸如气体控制器、处理器、电源和真空泵。在某些配置中，系统可以设计成对无机分析物和有机分析物进行检测，这些分析物包括约三个原子质量单位、四个原子质量单位或五个原子质量单位的质量，直到约两千个原子质量单位的质量。

Description

无机和有机质谱系统及其使用方法
技术领域
本申请涉及无机和有机质谱(IOMS)系统及其使用方法。更具体地，本文所描述的某些配置涉及质谱仪，该质谱仪包括一个或多个电离内核、和一个或多个可以过滤无机离子和有机离子两者的质谱仪内核。
背景技术
质谱系统通常设计用于分析无机物质或有机物质(但并非同时对两者进行分析)。根据待分析的特定样品，可能需要多种不同的仪器为样品中的无机分析物和有机分析物两者提供分析。
发明内容
某些说明性配置涉及可以使用单个仪器分析样品中的无机分析物和有机分析物两者的方法和系统，例如，以检测样品中原子质量单位(amu)低至3amu直到2000amu或以上的分析物种类。如本文更详细地指出，系统可以包括一个、两个、三个或更多个样品操作内核，一个、两个或更多个电离源，以及一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)，以便同时为样品中的无机分析物和有机分析物两者提供分析。
在一个方面，一种系统包括：电离内核，其配置成接收样品并使用所接收的样品提供无机离子和有机离子两者；和质量分析仪，其与电离内核流体耦合，其中，质量分析仪包括至少一个质谱仪内核，该质谱仪内核配置成(i)从自电离内核接收的无机离子中选择离子，以及(ii)从自电离内核接收的有机离子中选择离子，其中，质量分析仪配置成选择质量低至三个原子质量单位直到高至两千个原子质量单位的无机离子和有机离子。
在某些示例中，质量分析仪包括第一单核质谱仪和第二单核质谱仪，其中，第一单核质谱仪配置成从自电离内核接收的无机离子中选择离子，并且第二单核质谱仪配置成从自电离内核接收的有机离子中选择离子。在其他示例中，质量分析仪包括双核质谱仪。在其他实施例中，双核质谱仪配置成使用第一频率从自电离内核接收的无机离子中选择离子，并且配置成使用与第一频率不同的第二频率从自电离内核接收的有机离子中选择离子。在其他示例中，双核质谱仪配置成在第一频率和第二频率之间交替，以便按顺序选择无机离子和有机离子。
在一些实例中，该系统包括：检测器，其与质量分析仪流体耦合，其中，检测器配置成检测选自无机离子的离子并且检测选自有机离子的离子，其中，检测器包括电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、飞行时间装置或成像检测器。在某些示例中，电离内核配置成按顺序或同时向质量分析仪提供无机离子和有机离子。在其他示例中，电离内核包括第一电离源和不同于第一电离源的第二电离源。在一些实施例中，第一电离源配置成向质量分析仪提供有机离子。
在其他实施例中，第一电离源包括以下一种或多种：电喷雾电离源、化学电离源、大气压电离源、大气压化学电离源、解吸电喷雾电离源、基质辅助激光解吸电离源、热喷雾电离源、热解吸电离源、电子碰撞电离源、场电离源、二次离子源、等离子体解吸源、热电离源、电流体动力学电离源、硅上直接电离电离源、实时直接分析电离源或快原子轰击源。
在某些配置中，第二电离源配置成向质量分析仪提供无机离子。在其他示例中，第二电离源选自由以下各项组成的群组：电感耦合等离子体、电容耦合等离子体、微波等离子体、火焰、电弧和火花。
在一些实例中，该系统包括：接口，其位于第一电离源和质量分析仪之间以及第二电离源和质量分析仪之间，其中，接口配置成在接口的第一状态下从第一电离源向质量分析仪提供有机离子，以及配置成在接口的第二状态下从第二电离源向质量分析仪提供无机离子。在一些实例中，电离内核包括第一电离源和第二电离源，其中，第一电离源通过将第一电离源定位在第一位置而与质量分析仪流体耦合，并且通过将第一电离源定位在与第一位置不同的第二位置而与质量分析仪流体解耦。在其他示例中，当第一电离源定位在第二位置时，第二电离源与质量分析仪流体耦合。在一些示例中，一个质谱仪内核包括第一单核质谱仪，该第一单核质谱仪包括第一四极。在一些示例中，第一单核质谱仪进一步包括第二四极，该第二四极与第一四极流体耦合。在一些示例中，第一单核质谱仪包括飞行时间检测器，该飞行时间检测器与第二四极流体耦合。在其他示例中，第一单核质谱仪包括离子阱，该离子阱与第二四极流体耦合。在一些实例中，第一单核质谱仪包括第三四极，该第三四极与第二四极流体耦合。
在其他示例中，该系统包括检测器，该检测器与第三四极流体耦合。在一些实例中，检测器包括电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、飞行时间装置或成像检测器。在其他示例中，质谱仪内核进一步包括第二单核质谱仪，该第二单核质谱仪包括第一四极。在一些示例中，第二单核质谱仪进一步包括第二四极，该第二四极与第一四极流体耦合。在其他示例中，第二单核质谱仪包括飞行时间检测器，该飞行时间检测器与第二四极流体耦合。在一些实施例中，第二单核质谱仪包括离子阱，该离子阱与第二四极流体耦合。在其他实施例中，第二单核质谱仪包括第三四极，该第三四极与第二四极流体耦合。在某些实例中，该系统包括：检测器，其与第三四极流体耦合，其中，检测器包括电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、飞行时间装置或成像检测器。
在一些示例中，该系统包括：变频发生器，其配置成向质谱仪内核提供射频。在其他示例中，该系统包括由第一单核质谱仪和第二单核质谱仪使用的共用处理器、共用电源、以及至少一个共用真空泵。
在另一个方面，一种系统包括：样品操作内核，其配置成接收样品并且对该样品进行至少一项样品操作，以分离该样品中的两种或更多种分析物；电离内核，其与样品操作内核流体耦合并且配置成从样品操作内核中接收所分离的两种或更多种分析物，该电离内核配置成使用所接收的样品提供无机离子和有机离子两者；和质量分析仪，其与电离内核流体耦合，其中，该质量分析仪包括至少一个质谱仪内核，该质谱仪内核配置成(i)从自电离内核接收的无机离子中选择离子，以及(ii)从自电离内核接收的有机离子中选择离子，其中，质量分析仪配置成选择质量低至三个原子质量单位直到高至两千个原子质量单位的无机离子和有机离子。
在某些配置中，电离内核配置成按顺序或同时向质量分析仪提供无机离子和有机离子。在一些示例中，质量分析仪包括第一单核质谱仪和第二单核质谱仪。在其他示例中，电离内核配置成向第一单核质谱仪提供无机离子，并且配置成向第二单核质谱仪提供有机离子。在一些实施例中，电离内核配置成向第一单核质谱仪提供无机离子，并且其中，在向第一单核质谱仪提供无机离子时，第二单核质谱仪处于非活动状态。在其他实施例中，电离内核配置成向第二单核质谱仪提供有机离子，并且其中，在向第二单核质谱仪提供有机离子时，第一单核质谱仪处于非活动状态。
在进一步的示例中，该系统包括：电离接口，其位于样品操作内核和电离内核之间，其中，接口配置成将样品提供给电离内核的第一电离源和电离内核的第二电离源。在其他示例中，第一电离源包括无机电离源，并且第二电离源包括有机电离源。在一些示例中，无机离子源包括以下一种或多种：电感耦合等离子体、电容耦合等离子体、微波等离子体、火焰、电弧和火花。在一些实施例中，有机离子源包括以下一种或多种：电喷雾电离源、化学电离源、大气压电离源、大气压化学电离源、解吸电喷雾电离源、基质辅助激光解吸电离源、热喷雾电离源、热解吸电离源、电子碰撞电离源、场电离源、二次离子源、等离子体解吸源、热电离源、电流体动力学电离源、硅上直接电离电离源、实时直接分析电离源或快原子轰击源。
在某些实例中，该系统包括：过滤接口，其位于电离内核和质量分析仪之间，其中，接口配置成将离子从电离内核的第一电离源提供给质量分析仪，并且配置成将离子从电离内核的第二电离源提供给质量分析仪。在其他示例中，过滤接口配置成按顺序或同时将离子从第一电离源提供给质量分析仪并且将离子从第二电离源提供给质量分析仪。在一些实例中，第一电离源包括无机电离源，并且第二电离源包括有机电离源。
在其他实施例中，无机离子源包括以下一种或多种：电感耦合等离子体、电容耦合等离子体、微波等离子体、火焰、电弧和火花。在一些示例中，有机离子源包括以下一种或多种：电喷雾电离源、化学电离源、大气压电离源、大气压化学电离源、解吸电喷雾电离源、基质辅助激光解吸电离源、热喷雾电离源、热解吸电离源、电子碰撞电离源、场电离源、二次离子源、等离子体解吸源、热电离源、电流体动力学电离源、硅上直接电离电离源、实时直接分析电离源或快原子轰击源。
在一些示例中，该系统包括：第一单核质谱仪，其与第一电离源流体耦合；和第二单核质谱仪，其与第二电离源流体耦合。在一些示例中，第一单核质谱仪和第二单核质谱仪中的至少一个包括多极杆组件。在其他示例中，第一单核质谱仪和第二单核质谱仪中的每一个包括多极杆组件。
在一些实施例中，该系统包括：第一检测器，其中，第一检测器可以和第一单核质谱仪和第二单核质谱仪中的一个或两个流体耦合。在其他示例中，该系统包括：检测器接口，其位于第一和第二单核质谱仪与第一检测器之间。在其他实例中，检测器接口配置成从第一单核质谱仪和第二单核质谱仪中的每一个按顺序向第一检测器提供离子。在一些示例中，检测器接口配置成当从第一电离源向第一单核光谱仪提供无机离子时，将离子从第一单核质谱仪提供给第一检测器。在其他示例中，检测器接口配置成当从第二电离源向第二单核光谱仪提供有机离子时，将离子从第二单核质谱仪提供给第一检测器。
在一些配置中，第一检测器包括以下一种或多种：电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、飞行时间装置或成像检测器。在其他配置中，该系统包括：第二检测器，其中，第一检测器配置成与第一单核质谱仪流体耦合，并且第二检测器配置成与第二单核质谱仪流体耦合。在某些实例中，第一检测器和第二检测器包括不同的检测器。
在其他示例中，质量分析仪包括双核质谱仪，该双核质谱仪配置成按顺序选择无机离子和有机离子。在一些示例中，双核质谱仪包括多极组件，该多极组件配置成使用第一频率选择无机离子，并且配置成使用第二频率选择有机离子。在某些实施例中，双核质谱仪与检测器流体耦合，其中，检测器包括以下一种或多种：电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、飞行时间装置或成像检测器。
在其他示例中，样品操作内核包括以下一种或多种：色谱装置、电泳装置、电极、气相色谱装置、液相色谱装置、直接样品分析装置、毛细管电泳装置、电化学装置、细胞分选装置或微流体装置。
在另一个方面，一种系统包括：第一样品操作内核，其配置成接收样品并且对样品执行至少一项样品操作，以分离样品中的两种或更多种分析物。该系统还可以包括：第二样品操作内核，其配置成接收样品并且对样品执行至少一项样品操作，以分离样品中的两种或更多种分析物，其中，第一样品操作内核与第二样品操作内核不同。该系统还可以包括：电离内核，其与第一样品操作内核和第二样品操作内核流体耦合，并且配置成从第一样品操作内核和第二样品操作内核中的每一个接收所分离的两种或更多种分析物，电离内核配置成使用所接收的样品提供无机离子和有机离子。该系统还可以包括：质量分析仪，其与电离内核流体耦合，其中，质量分析仪包括至少一个质谱仪内核，质谱仪内核配置成(i)从自电离内核接收的无机离子中选择离子，以及(ii)从自电离内核接收的有机离子中选择离子，其中，质量分析仪配置成选择质量低至三个原子质量单位直到高至两千个原子质量单位的无机离子和有机离子。
在某些实施例中，电离内核配置成按顺序或同时向质量分析仪提供无机离子和有机离子。在其他实施例中，质量分析仪包括第一单核质谱仪和第二单核质谱仪。在一些示例中，电离内核配置成向第一单核质谱仪提供无机离子，并且配置成向第二单核质谱仪提供有机离子。在附加实施例中，电离内核配置成向第一单核质谱仪提供无机离子，并且其中，在向第一单核质谱仪提供无机离子时，第二单核质谱仪处于非活动状态。在其他实例中，电离内核配置成向第二单核质谱仪提供有机离子，并且其中，在向第二单核质谱仪提供有机离子时，第一单核质谱仪处于非活动状态。
在一些示例中，该系统包括：电离接口，其位于第一样品操作内核和电离内核之间以及第二样品操作内核和电离内核之间，其中，电离接口配置成在第一样品周期期间，从第一样品操作内核向电离内核的第一电离源和电离内核的第二电离源提供样品，并且配置成在第二样品周期期间，从第二样品操作内核向电离内核的第一电离源和电离内核的第二电离源提供样品。在一些实施例中，第一电离源包括无机电离源，并且第二电离源包括有机电离源。
在其他实施例中，无机离子源包括以下一种或多种：电感耦合等离子体、电容耦合等离子体、微波等离子体、火焰、电弧和火花。在一些示例中，有机离子源包括以下一种或多种：电喷雾电离源、化学电离源、大气压电离源、大气压化学电离源、解吸电喷雾电离源、基质辅助激光解吸电离源、热喷雾电离源、热解吸电离源、电子碰撞电离源、场电离源、二次离子源、等离子体解吸源、热电离源、电流体动力学电离源、硅上直接电离电离源、实时直接分析电离源或快原子轰击源。
在一些实例中，该系统包括：过滤接口，其位于电离内核和质量分析仪之间，其中，接口配置成将离子从电离内核的第一电离源提供给质量分析仪，并且配置成将离子从电离内核的第二电离源提供给质量分析仪。在其他示例中，过滤接口配置成按顺序或同时将离子从第一电离源提供给质量分析仪并且将离子从第二电离源提供给质量分析仪。在一些实施例中，第一电离源包括无机电离源，并且第二电离源包括有机电离源。在其他实施例中，无机离子源包括以下一种或多种：电感耦合等离子体、电容耦合等离子体、微波等离子体、火焰、电弧和火花。在一些示例中，有机离子源包括以下一种或多种：电喷雾电离源、化学电离源、大气压电离源、大气压化学电离源、解吸电喷雾电离源、基质辅助激光解吸电离源、热喷雾电离源、热解吸电离源、电子碰撞电离源、场电离源、二次离子源、等离子体解吸源、热电离源、电流体动力学电离源、硅上直接电离电离源、实时直接分析电离源或快原子轰击源。
在一些示例中，该系统包括：第一单核质谱仪，其与第一电离源流体耦合；和第二单核质谱仪，其与第二电离源流体耦合。在一些示例中，第一单核质谱仪和第二单核质谱仪中的至少一个包括多极杆组件。在其他示例中，第一单核质谱仪和第二单核质谱仪中的每一个包括多极杆组件。
在一些实施例中，该系统包括：第一检测器，其中，第一检测器可以和第一单核质谱仪和第二单核质谱仪中的一个或两个流体耦合。
在其他示例中，该系统包括：检测器接口，其位于第一和第二单核质谱仪与第一检测器之间。在一些示例中，检测器接口配置成从第一单核质谱仪和第二单核质谱仪中的每一个按顺序向第一检测器提供离子。在其他示例中，检测器接口配置成当从第一电离源向第一单核光谱仪提供无机离子时，将离子从第一单核质谱仪提供给第一检测器。在附加示例中，检测器接口配置成当从第二电离源向第二单核光谱仪提供有机离子时，将离子从第二单核质谱仪提供给第一检测器。
在其他示例中，第一检测器包括以下一种或多种：电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、飞行时间装置或成像检测器。在一些实施例中，该系统包括：第二检测器，其中，第一检测器配置成与第一单核质谱仪流体耦合，并且第二检测器配置成与第二单核质谱仪流体耦合。在一些实例中，第一检测器和第二检测器包括不同的检测器。
在一些示例中，质量分析仪包括双核质谱仪，该双核质谱仪配置成按顺序选择无机离子和有机离子。在一些实施例中，双核质谱仪包括多极组件，该多极组件配置成使用第一频率选择无机离子，并且配置成使用第二频率选择有机离子。在其他实施例中，双核质谱仪与检测器流体耦合，其中，检测器包括以下一种或多种：电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、飞行时间装置或成像检测器。
在一些实例中，第一样品操作内核和第二样品操作内核中的每一个单独包括以下一种或多种：色谱装置、电泳装置、电极、气相色谱装置、液相色谱装置、直接样品分析装置、毛细管电泳装置、电化学装置、细胞分选装置或微流体装置。
在另一个方面，一种系统包括：样品操作内核，其配置成接收样品并且对样品执行至少一项样品操作，以分离样品中的两种或更多种分析物。该系统还可以包括：电离内核，其与样品操作内核流体耦合并且配置成从样品操作内核接收所分离的两种或更多种分析物，电离内核包括无机电离源，无机电离源配置成从所分离的分析物提供无机离子，电离内核进一步包括有机电离源，有机电离源配置成从所分离的分析物中提供有机离子。该系统还可以包括：质量分析仪，其与电离内核流体耦合，其中，质量分析仪包括至少一个质谱仪内核，质谱仪内核配置成(i)从由无机电离源提供的无机离子中选择离子，以及(ii)从由有机电离源提供的有机离子中选择离子，其中，质量分析仪包括共用处理器、共用电源和共用真空泵，共用真空泵耦合到质量分析仪的质谱仪内核。该系统还可以包括：检测器，其配置成从质量分析仪接收离子并且对来自质量分析仪的所接收的离子进行检测。
在某些示例中，质量分析仪包括第一单核质谱仪和第二单核质谱仪，其中，第一单核质谱仪和第二单核质谱仪中的每一个包括多极杆组件。在其他示例中，第一单核质谱仪的多极杆组件配置成使用第一射频选择从无机电离源接收的无机离子。在一些实施例中，第二单核质谱仪的多极杆组件配置成使用与第一射频不同的第二射频，选择从有机电离源接收的有机离子。
在其他实施例中，第一单核质谱仪包括三重四极杆组件，三重四极杆组件与检测器流体耦合，其中，检测器包括以下一种或多种：电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、飞行时间装置或成像检测器。
在一些示例中，第二单核质谱仪包括三重四极杆组件，三重四极杆组件与检测器流体耦合，其中，检测器包括以下一种或多种：电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、成像检测器或飞行时间装置。
在一些实例中，第二单核质谱仪包括双四极杆组件，双四极杆组件与飞行时间装置流体耦合，并且其中，检测器与第一单核质谱仪流体耦合，其中检测器包括以下一种或多种：电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、成像检测器或飞行时间装置。
在一些实施例中，质量分析仪包括双核质谱仪，其中，双核质谱仪配置成使用第一频率从由无机电离源提供的无机离子中选择离子，并且将所选择的无机离子提供给检测器，并且其中，双核质谱仪进一步配置成使用第二频率从由有机电离源提供的有机离子中选择离子，并且将所选择的有机离子提供给检测器。
在其他示例中，检测器包括以下一种或多种：电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、成像检测器或飞行时间装置。
在一些示例中，样品操作内核包括以下一种或多种：色谱装置、电泳装置、电极、气相色谱装置、液相色谱装置、直接样品分析装置、毛细管电泳装置、电化学装置、细胞分选装置或微流体装置。
在另一个方面，一种使用与电离内核流体耦合的质量分析仪按顺序检测无机离子和有机离子的方法，其包括：按顺序(i)从自电离内核接收的无机离子中选择离子，以及(ii)从自电离内核接收的有机离子中选择离子，其中，质量分析仪包括第一单核质谱仪和第二单核质谱仪，每个均配置成使用共用处理器、共用电源和至少一个共用真空泵，其中，第一单核质谱仪配置成从自电离内核接收的无机离子中选择离子，并且第二单核质谱仪配置成从自电离内核接收的有机离子中选择离子。
在一些示例中，该方法包括：在第一分析周期期间，将所选择的无机离子从第一单核质谱仪提供给第一检测器。在其他示例中，该方法包括：在不同于第一分析周期的第二分析周期期间，将所选择的有机离子从第二单核质谱仪提供给第一检测器。在其他实例中，该方法包括：在第一分析周期期间，将所选择的无机离子从第一单核质谱仪提供给第一检测器，以及在第一分析周期期间，将所选择的有机离子从第二单核质谱仪提供给第二检测器。在一些示例中，该方法包括：在第一分析周期期间向第一单核质谱仪提供离子，同时在第一分析周期期间防止离子流到第二单核质谱仪。在附加示例中，该方法包括：在第二分析周期期间向第二单核质谱仪提供离子，同时在第二分析周期期间防止离子流到第一单核质谱仪。
在某些实例中，该方法包括：使电离内核配置有无机离子源和有机离子源，有机离子源与无机离子源分隔开。在一些示例中，该方法包括：在第一分析周期期间，从无机离子源向第一单核质谱仪提供离子，同时在第一分析周期期间，防止离子从有机离子源流到第二单核质谱仪。在一些实例中，该方法包括：在第二分析周期期间，从有机离子源向第二单核质谱仪提供离子，同时在第二分析周期期间，防止离子从无机离子源流到第一单核质谱仪。
在一些示例中，该方法包括：使质量分析仪配置有接口，接口配制成在第一分析周期期间，仅从第一单核质谱仪和第二单核质谱仪中的一个向检测器提供离子。
在另一个方面，一种使用与电离内核流体耦合的质量分析仪按顺序检测无机离子和有机离子的方法，其包括：按顺序(i)从自电离内核接收的无机离子中选择离子，以及(ii)从自电离内核接收的有机离子中选择离子，其中，质量分析仪包括双核质谱仪，双核质谱仪配置成选择无机离子和有机离子。
在某些实施例中，该方法包括：在第一分析周期期间，将所选择的无机离子从双核质谱仪提供给第一检测器。在一些示例中，该方法包括：在不同于第一分析周期的第二分析周期期间，将所选择的有机离子从双核质谱仪提供给第一检测器。在其他示例中，该方法包括：在第一分析周期期间，将所选择的无机离子从双核质谱仪提供给第一检测器，以及在第二分析周期期间，将所选择的有机离子从双核质谱仪提供给第二检测器。
在一些实例中，该方法包括：在第一分析周期期间向双核质谱仪提供无机离子，同时在第一分析周期期间防止有机离子流到双核质谱仪。在其他示例中，该方法包括：在第二分析周期期间向双核质谱仪提供有机离子，同时在第二分析周期期间防止无机离子流到双核质谱仪。在一些示例中，该方法包括：使电离内核配置有无机离子源和有机离子源，有机离子源与无机离子源分隔开。在其他示例中，该方法包括：将双核质谱仪co配置成包括双重四极组件。
在某些示例中，该方法包括：将双核质谱仪配置成包括双重四极组件，双重四极组件通过接口与第一检测器流体耦合，并且通过接口和四极组件与第二检测器流体耦合。在一些示例中，该方法包括：将接口配置成包括非共面接口。
在另一个方面，一种系统包括：非共面接口，非共面接口配置成使电离内核与质量分析仪流体耦合，质量分析仪包括至少一个质谱仪内核，该质谱分析仪内核配置成(i)从自电离内核接收的无机离子中选择离子和(ii)从自电离内核接收的有机离子中选择离子，其中，非共面接口配置成从第一平面接收来自电离内核的无机离子，并且将无机离子提供给质量分析仪，并且其中，非共面接口配置成从不同于第一平面的第二平面接收来自电离内核的有机离子，并且将所接收的有机离子提供给质量分析仪。
在某些实施例中，非共面接口包括第一多极组件，第一多极组件与第二多极组件流体耦合，其中，第一多极组件和第二多极组件位于不同的平面中。在其他实施例中，非共面接口配置成从位于第一平面中的电离内核的无机离子源接收无机离子。在一些示例中，非共面接口配置成从位于第二平面中的电离内核的有机离子源接收有机离子。在其他示例中，非共面接口配置成按顺序向质量分析仪提供所接收的无机离子和所接收的有机离子。在附加示例中，非共面接口配置成同时向质量分析仪提供所接收的无机离子和所接收的有机离子。
在一些示例中，该系统包括：偏转器，其配置成将所接收的有机离子提供给质量分析仪中存在的第一单核质谱仪。在其他示例中，偏转器配置成将所接收的无机离子提供给质量分析仪中存在的第二单核质谱仪。
在某些实例中，该系统包括：偏转器，其配置成将所接收的有机离子和所接收的无机离子提供给质量分析仪中的双核质谱仪。在一些示例中，偏转器配置成在将第一射频施加到双核质谱仪期间，将所接收的无机离子提供给双核质谱仪，并且在将与第一射频不同的第二射频施加到双核质谱仪期间，将所接收的有机离子提供给双核质谱仪。
在另一个方面，质谱仪包括质量分析仪，该质量分析仪包括至少一个质谱仪内核，该质谱仪内核配置成(i)从自电离内核接收的无机离子中选择离子，以及(ii)从自电离内核接收的有机离子中选择离子。该质谱仪还可以包括：非共面接口，其配置成使电离内核与质量分析仪流体耦合，其中，非共面接口配置成从第一平面接收来自电离内核的无机离子，并且将无机离子提供给质量分析仪，并且其中，非共面接口配置成从不同于第一平面的第二平面接收来自电离内核的有机离子，并且将所接收的有机离子提供给质量分析仪。
在某些示例中，非共面接口包括第一多极组件，第一多极组件与第二多极组件流体耦合，其中，第一多极组件和第二多极组件位于不同的平面中。在一些示例中，非共面接口配置成从位于第一平面中的电离内核的无机离子源接收无机离子。在其他示例中，非共面接口配置成从位于第二平面中的电离内核的有机离子源接收有机离子。在一些实施例中，非共面接口配置成按顺序向质量分析仪提供所接收的无机离子和所接收的有机离子。
在一些实例中，非共面接口配置成同时向质量分析仪提供所接收的无机离子和所接收的有机离子。
在其他示例中，该系统包括：偏转器，其配置成将所接收的有机离子提供给质量分析仪中存在的第一单核质谱仪。在一些示例中，偏转器配置成将所接收的无机离子提供给质量分析仪中存在的第二单核质谱仪。
在某些示例中，该系统包括：偏转器，其配置成将所接收的有机离子和所接收的无机离子提供给质量分析仪中的双核质谱仪。在其他示例中，偏转器配置成在将第一射频施加到双核质谱仪期间，将所接收的无机离子提供给双核质谱仪，并且在将与第一射频不同的第二射频施加到双核质谱仪期间，将所接收的有机离子提供给双核质谱仪。
在另一个方面，该双核质谱仪配置成按顺序从无机电离源和有机电离源接收离子，该双核质谱仪包括多极组件，多极组件配置成使用第一频率从所接收的无机离子中选择离子，并且配置成使用不同于第一频率的第二频率从所接收的有机离子中选择离子。
在某些示例中，该系统包括：非共面接口，其与双核质谱仪流体耦合，非共面接口包括第一多极组件，第一多极组件与第二多极组件流体耦合，其中，第一多极组件和第二多极组件组件位于不同的平面中。在其他示例中，非共面接口配置成从位于第一平面中的无机离子源向双核质谱仪提供无机离子。在一些示例中，非共面接口配置成从位于第二平面中的有机离子源向双核质谱仪提供有机离子。在一些示例中，非共面接口配置成按顺序向双核质谱仪提供所接收的无机离子和所接收的有机离子。在其他示例中，非共面接口配置成同时向质量分析仪提供所接收的无机离子和所接收的有机离子。在一些实施例中，非共面接口包括八极组件，八极组件配置成向双核质谱仪提供所接收的有机离子，而不是将任何接收的无机离子提供给双核质谱仪。在其他示例中，八极组件配置成向双核质谱仪提供所接收的无机离子，而不是将任何所接收的有机离子提供给双核质谱仪。在一些示例中，八极组件配置成将所接收的有机离子和所接收的无机离子提供给双核质谱仪。在其他示例中，八极组件配置成在将第一射频施加到双核质谱仪期间，将所接收的无机离子提供给双核质谱仪，并且在将与第一射频不同的第二射频施加到双核质谱仪期间，将所接收的有机离子提供给双核质谱仪。
在另一个方面，一种使用双核质谱仪选择从包括两个不同电离源的电离内核提供的离子的方法包括：从包括无机电离源和有机电离源的电离内核中按顺序将离子提供给双核质谱仪；使用提供给双核质谱仪的第一频率，从来自无机电离源的所提供的离子中选择离子；以及使用提供给双核质谱仪的第二频率，从来自有机电离源的所提供的离子中选择离子，其中，第一频率不同于第二频率。
在某些示例中，该方法包括：将双核质谱仪配置成在选择周期之后在第一频率和第二频率之间进行切换。在其他示例中，该方法包括：将选择周期配置成1毫秒或以下。在一些实施例中，该方法包括：在无机电离源和双核质谱仪之间以及在有机电离源和双核质谱仪之间提供接口，其中，接口配置成当向双核质谱仪提供第一频率时，从无机电离源向双核质谱仪提供离子，并且配置成当向双核质谱仪提供第二频率时，从有机电离源向双核质谱仪提供离子。
在一些实例中，该方法包括：将检测器配置成当向双核质谱仪提供第一频率时，检测所选择的无机离子。在其他实例中，该方法包括：将检测器配置成当向双核质谱仪提供第二频率时，检测所选择的有机离子。在一些示例中，该方法包括：将双核质谱仪配置成具有多极组件。在一些示例中，该方法包括：将多极组件配置成包括双重四极组件或三重四极组件。在一些示例中，该方法包括：将检测器配置成包括以下至少一种或多种：电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、成像检测器或飞行时间装置。
在另一个方面，一种质谱仪包括：电离内核，其至少包括第一电离源和第二电离源，其中，第一电离源和第二电离源是非共面电离源；质量分析仪，其配置成选择从非共面电离源接收的离子；以及接口，其配置成按顺序在第一周期期间从第一电离内核向质量分析仪提供离子并且在第二周期期间从第二电离内核向质量分析仪提供离子。
在某些实施例中，该质谱仪包括质量分析仪，该质量分析仪与接口流体耦合。在一些示例中，质量分析仪包括第一单核质谱仪和第二单核质谱仪，其中，第一单核质谱仪配置成从第一电离源中选择离子，并且第二单核质谱仪配置成从第二电离源中选择离子。在其他示例中，质量分析仪包括双核质谱仪。在一些示例中，双核质谱仪配置成使用第一频率从第一电离源中选择离子，并且配置成使用与第一频率不同的第二频率，从第二电离源中选择离子。
在一些示例中，该质谱仪包括：检测器，其与质量分析仪流体耦合，其中，该检测器配置成检测选自无机离子的离子并且检测选自有机离子的离子，其中，检测器包括电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、飞行时间装置或成像检测器。在一些实例中，第一电离源包括以下一种或多种：电感耦合等离子体、电容耦合等离子体、微波等离子体、火焰、电弧和火花。在其他实例中，第二电离源包括以下一种或多种：电喷雾电离源、化学电离源、大气压电离源、大气压化学电离源、解吸电喷雾电离源、基质辅助激光解吸电离源、热喷雾电离源、热解吸电离源、电子碰撞电离源、场电离源、二次离子源、等离子体解吸源、热电离源、电流体动力学电离源、硅上直接电离电离源、实时直接分析电离源或快原子轰击源。
在一些示例中，双核质谱仪包括四极杆组件或三重四极杆组件。
在另一个方面，提供了一种飞行时间(TOF)质谱仪，其配置成按顺序从第一电离源和不与第一电离源共面的第二电离源中接收离子，其中，飞行时间质谱仪配置成对来自第一电离源和第二电离源的所接收离子进行检测。
在某些示例中，TOF质谱仪包括双核质谱仪，该双核质谱仪与飞行时间装置流体耦合。在其他示例中，双核质谱仪包括多极组件，多极组件配置成在第一周期期间从第一电离源选择无机离子，并且配置成在第二周期期间从第二电离源选择有机离子。
在一些实施例中，TOF质谱仪包括第一单核质谱仪和第二单核质谱仪。在某些实例中，第一单核质谱仪与飞行时间装置流体耦合，并且第二单核质量检测器与检测器流体耦合，检测器包括以下一种或多种：电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器和成像检测器。
在一些示例中，TOF质谱仪配置成在第一周期期间，从第一电离源向第一单核质谱仪提供无机离子，并且在第一周期期间，从第二电离源向第二单核质谱仪提供有机离子，其中，质谱仪配置成在第一周期期间，对所选择的无机离子或所选择的有机离子进行检测。
在其他示例中，TOF质谱仪配置成在第一周期期间，从第一电离源向第一单核质谱仪提供无机离子，并且在第二周期期间，从第二电离源向第二单核质谱仪提供有机离子。
在一些示例中，TOF质谱仪包括：接口，其配置成从第一电离源和第二电离源接收离子，其中，接口配置成在第一周期期间，从第一电离源向第一单核质谱仪提供无机离子。在一些实施例中，接口配置成在第二周期期间，从第二电离源向第二单核质谱仪提供有机离子。在一些示例中，接口包括堆叠式多极组件。
在另一个方面，一种飞行时间质谱仪配置成同时从包括两个非共面电离源的电离内核中接收离子，并对来自电离内核的所接收离子进行检测。
在某些示例中，质谱仪包括双核质谱仪，该双核质谱仪与飞行时间装置流体耦合。在一些示例中，双核质谱仪包括多极组件，该多极组件配置成在第一周期期间从电离内核中选择无机离子，并且配置成在第一周期期间从电离内核中选择有机离子。在其他示例中，飞行时间质谱仪包括第一单核质谱仪和第二单核质谱仪。在一些实施例中，第一单核质谱仪与飞行时间装置流体耦合，并且第二单核质量检测器与检测器流体耦合，检测器包括以下一种或多种：电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器和成像检测器。在其他实施例中，第一质谱仪中的每一个配置成在第一周期期间，从电离内核向第一单核质谱仪提供无机离子，并且在第一周期期间，从电离内核向第二单核质谱仪提供有机离子。在某些示例中，第一单核质谱仪和第二单核质谱仪中的每一个包括多极组件。
在一些实例中，TOF质谱仪包括：接口，其配置成从第一电离源和第二电离源接收离子，其中，接口配置成在第一周期期间，从第一电离源向第一单核质谱仪提供无机离子。在一些实施例中，接口配置成在第一周期期间，从第二电离源向第二单核质谱仪提供有机离子。在其他实施例中，接口包括堆叠式多极组件。
在另一个方面，一种飞行时间质谱仪配置成按顺序从电离内核接收离子，该电离内核包括位于第一平面中的无机电离源和位于第二平面中的有机电离源，其中，第一平面不与第二平面共面。该飞行时间质谱仪可以配置成在第一周期期间从无机电离源接收和选择离子，以及在第二周期期间从有机电离源接收和选择离子。
在另一个方面，一种系统包括：电离内核，其配置成接收样品并且使用所接收的样品提供无机离子和有机离子两者；和质量分析仪，其与电离内核流体耦合，其中，质量分析仪包括至少两个质谱仪内核，该质谱仪内核配置成使用共用真空泵和处理器以(i)从自电离内核接收的无机离子中选择离子，以及(ii)从自电离内核接收的有机离子中选择离子。
以下更详细地描述了其他方面、特征、示例和实施例。
附图说明
下面参照附图描述了用于重复利用用来维持质谱仪中的电感耦合等离子体的氩的系统和方法的某些配置，其中，
图1A是根据某些示例的系统的框图，该系统包括电离内核和包括MS内核的质量分析仪；
图1B是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个电离内核和包括MS内核的质量分析仪；
图1C是根据某些示例的系统的框图，该系统包括电离内核和包括两个MS内核的质量分析仪；
图1D是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个电离内核和包括两个MS内核的质量分析仪；
图2A是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括样品操作内核、电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图2B是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括样品操作内核、两个电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图3是根据某些配置的系统的框图，该系统包括样品操作内核、两个电离内核、以及包括两个MS内核的质量分析仪；
图4是根据某些配置的系统的框图，该系统包括样品操作内核、两个电离内核、接口、以及包括两个MS内核的质量分析仪；
图5是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、接口、电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图6是根据某些配置的系统的框图，该系统包括两个串联布置的样品操作内核、电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图7是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、两个电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图8是根据某些配置的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、接口、两个电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图9是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、接口、两个电离内核、以及包括两个MS内核的质量分析仪；
图10是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、接口、两个电离内核、另一个接口、以及包括两个MS内核的质量分析仪；
图11是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个串联布置的电离内核和包括MS内核的质量分析仪；
图12是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括样品操作内核、两个串联布置的电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图13是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括样品操作内核、电离内核、以及包括两个串联布置的MS内核的质量分析仪；
图14是根据某些示例的气相色谱系统的图示；
图15A是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括GC、电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图15B是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括GC、两个电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图15C是根据某些配置的系统的框图，该系统包括GC、两个电离内核、以及包括两个MS内核的质量分析仪；
图15D是根据某些配置的系统的框图，该系统包括GC、两个电离内核、接口、以及包括两个MS内核的质量分析仪；
图15E是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个GC、接口、电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图15F是根据某些配置的系统的框图，该系统包括两个串联布置的GC、电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图15G是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个GC、两个电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图15H是根据某些配置的系统的框图，该系统包括两个GC、接口、两个电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图15I是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个GC、接口、两个电离内核、以及包括两个MS内核的质量分析仪；
图15J是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个GC、接口、两个电离内核、另一个接口、以及包括两个MS内核的质量分析仪；
图15K是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括GC、两个串联布置的电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图15L是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括GC、电离内核、以及包括两个串联布置的MS内核的质量分析仪；
图16是根据某些配置的液相色谱系统的图示；
图17是根据某些配置的超临界流体色谱系统的图示；
图18A是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括LC、电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图18B是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括LC、两个电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图18C是根据某些配置的系统的框图，该系统包括LC、两个电离内核、以及包括两个MS内核的质量分析仪；
图18D是根据某些配置的系统的框图，该系统包括LC、两个电离内核、接口、以及包括两个MS内核的质量分析仪；
图18E是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个LC、接口、电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图18F是根据某些配置的系统的框图，该系统包括两个串联布置的LC、电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图18G是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个LC、两个电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图18H是根据某些配置的系统的框图，该系统包括两个LC、接口、两个电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图18I是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个LC、接口、两个电离内核、以及包括两个MS内核的质量分析仪；
图18J是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个LC、接口、两个电离内核、另一个接口、以及包括两个MS内核的质量分析仪；
图18K是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括LC、两个串联布置的电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图18L是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括LC、电离内核、以及包括两个串联布置的MS内核的质量分析仪；
图19是根据某些示例的系统的框图，该系统包括DSA装置、电离内核、以及包括MS内核的质量分析仪；
图20是根据某些配置的电离内核的图示，该电离内核包括使用感应线圈维持的电感耦合等离子体；
图21是根据某些配置的电离内核的图示，该电离内核包括使用感应板维持的电感耦合等离子体；
图22A和图22B是示出了根据某些配置包括径向感应装置的电离内核的图示，该径向感应装置可以用来维持感应板；
图23是根据某些示例包括电容耦合等离子体的电离内核的图示；
图24是根据一些示例包括耐火尖端的炬管的图示；
图25A和图25B是根据某些配置包括增强装置的电离内核的图示；
图26A是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括样品操作内核、包括ICP的电离内核、以及MS内核；
图26B是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括样品操作内核、两个电离内核、以及MS内核，其中一个电离内核包括ICP；
图26C是根据某些配置的系统的框图，该系统包括样品操作内核、两个电离内核、以及两个MS内核，其中一个电离内核包括ICP；
图26D是根据某些配置的系统的框图，该系统包括样品操作内核、两个电离内核、接口、以及两个MS内核，其中一个电离内核包括ICP；
图26E是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、接口、包括ICP的电离内核、以及MS内核；
图26F是根据某些配置的系统的框图，该系统包括两个串联布置的样品操作内核、包括ICP的电离内核、以及MS内核；
图26G是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、两个电离内核、以及MS内核，其中一个电离内核包括ICP；
图26H是根据某些配置的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、接口、两个电离内核、以及MS内核，其中一个电离内核包括ICP；
图26I是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、接口、两个电离内核、以及两个MS内核，其中一个电离内核包括ICP；
图26J是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、接口、两个电离内核、另一个接口、以及两个MS内核，其中一个电离内核包括ICP；
图26K是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括样品操作内核、两个串联布置的电离内核、以及MS内核，其中一个电离内核包括ICP；
图26L是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括样品操作内核、包括ICP的电离内核、以及两个串联布置的MS内核；
图27是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括样品操作内核、包括有机离子源的电离内核、以及MS内核；
图28是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括样品操作内核、两个电离内核、以及MS内核，其中一个电离内核包括有机离子源；
图29是根据某些配置的系统的框图，该系统包括样品操作内核、两个电离内核、以及两个MS内核，其中一个电离内核包括有机离子源；
图30是根据某些配置的系统的框图，该系统包括样品操作内核、两个电离内核、接口、以及两个MS内核，其中一个电离内核包括有机离子源；
图31是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、接口、包括有机离子源的电离内核、以及MS内核；
图32是根据某些配置的系统的框图，该系统包括两个串联布置的样品操作内核、包括有机离子源的电离内核、以及MS内核；
图33是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、两个电离内核、以及MS内核，其中一个电离内核包括有机离子源；
图34是根据某些配置的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、接口、两个电离内核、以及MS内核，其中一个电离内核包括有机离子源；
图35是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、接口、两个电离内核、以及两个MS内核，其中一个电离内核包括有机离子源；
图36是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个样品操作内核、接口、两个电离内核、另一个接口、以及两个MS内核，其中一个电离内核包括有机离子源；
图37是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括样品操作内核、两个串联布置的电离内核、以及MS内核，其中一个电离内核包括有机离子源；
图38是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括样品操作内核、包括有机离子源的电离内核、以及两个串联布置的MS内核。
图39是根据某些示例的系统的框图，该系统包括三个电离内核；
图40是根据某些示例的系统的框图，该系统包括两个有机离子源；
图41是根据某些示例的系统的框图，该系统包括三台质量分析仪；
图42是根据某些实施例的系统的框图，该系统包括三个或更多个光谱仪内核；
图43A和图43B是根据某些示例的MS内核的框图，该MS内核包括两个单核质谱仪；
图44A和图44B是根据某些示例的MS内核的框图，该MS内核包括两个单核质谱仪和可以移动的检测器；
图45A和图45B是根据某些实施例的MS内核的框图，该MS内核包括两个可以移动的单核质谱仪；
图46A和图46B是根据某些实施例的MS内核的框图，该MS内核包括两个单核质谱仪、接口、以及单个检测器；
图47是根据某些配置的四极杆组件的图示；
图48A是根据某些示例的两个流体耦合的四极杆组件的图示；
图48B是根据某些示例的三个流体耦合的四极杆组件的图示；
图48C是根据某些示例的两个单核MS的图示，每个MS包括两个四极杆组件；
图48D是根据某些示例的两个单核MS的图示，其中一个SMSC包括两个四极杆组件，另一个SMSC包括两个四极杆组件；
图48E是根据某些示例的两个单核MS的图示，每个MS包括三个四极杆组件；
图49A和图49B是根据某些示例的双核质谱仪的图示，该双核质谱仪可以向检测器提供离子；
图50是根据某些示例的电子倍增器的图示；
图51是根据某些实施例的法拉第笼的图示；
图52A、52B、52C、52D和52E是根据某些示例的与一个或多个检测器一起使用的单核MS的图示；
图53A和53B是根据某些实施例的与两个检测器一起使用的双核MS的图示；
图54A至54D是根据某些示例包括飞行时间装置的质量分析仪/检测器的图示；
图55是根据某些实施例的系统的图示，该系统包括位于样品操作内核和两个电离内核之间的接口；
图56是根据某些实施例的系统的另一个图示，该系统包括位于样品操作内核两个电离内核之间的接口；
图57是根据某些实施例的系统的图示，该系统包括与两个样品操作内核流体耦合的接口；
图58A和图58B是根据某些实施例的系统的图示，该系统包括可以流体耦合至两个电离内核的接口；
图59A和图59B是根据某些实施例的系统的图示，该系统包括可以流体耦合至两个样品操作内核的接口；
图60是根据某些示例的接口的图示，该接口可以向仪器内的不同高度处的两个电离内核提供样品；
图61A、61B、61C和61D是根据某些配置的系统的图示，该系统包括具有一个或多个电离内核的可旋转台；
图62A、62B、62C和62D是根据某些配置的系统的图示，该系统包括具有一个或多个样品操作内核的可旋转台；
图63是根据某些实施例的系统的图示，该系统包括位于电离内核和两个单核、双核或多核质谱仪之间的接口；
图64是根据某些实施例的系统的另一个图示，该系统包括位于电离内核和两个单核、双核或多核质谱仪之间的接口；
图65是根据某些实施例的系统的图示，该系统包括流体耦合至两个电离内核的接口；
图66A和图66B是根据某些实施例的系统的图示，该系统包括可以流体耦合至两个单核、双核或多核质谱仪的接口；
图67A和图67B是根据某些实施例的系统的图示，该系统包括可以流体耦合至两个电离内核的接口；
图68是根据某些示例的接口的图示，该接口可以向仪器内的不同高度处的两个单核、双核或多核质谱仪提供样品；
图69A、69B、69C和69D是根据某些配置的系统的图示，该系统包括具有一个或多个单核、双核或多核质谱仪的可旋转台；
图70A、70B、70C和70D是根据某些配置的系统的图示，该系统包括具有一个或多个接口的可旋转台；
图71A、71B、71C和71D是根据某些配置的系统的图示，该系统包括具有一个或多个电离内核的可旋转台；
图72A、72B、72C和72D是根据某些配置的另一个系统的图示，该系统包括具有一个或多个电离内核的可旋转台；
图73A和图73B是根据某些示例的包括偏转器的接口的图示；
图74A和图74B是根据某些实施例的包括接口的系统的图示，该接口包括非共面偏转器；
图75A是根据某些示例包括接口的系统的另一个图示，该接口包括非共面偏转器；
图75B是根据某些配置的与一个或多个内核耦合的多维接口的图示；
图76是根据某些实施例的一些常见MS组件的图示，这些组件可以由IOMS系统的不同质量分析仪使用；
图77是根据某些示例的IOMS系统的框图，该IOMS系统包括两个单核质谱仪，每个单核质谱仪包括相应的检测器；
图78是根据某些示例的IOMS系统的框图，该IOMS系统包括两个单核质谱仪，每个单核质谱仪包括相应的不同的检测器；
图79是根据某些示例的IOMS系统的框图，该IOMS系统包括双核质谱仪；
图80是根据某些示例的IOMS系统的框图，该IOMS系统包括双核质谱仪和两个检测器；以及
图81是根据某些示例的另一个IOMS系统的框图，该IOMS系统包括双核质谱仪和两个检测器。
具体实施方式
下面结合质谱仪对各个组件进行描述，该质谱仪使用一个、两个、三个或更多个电离内核与一个、两个、三个或更多个质谱仪内核相配合，以允许对样品中基本上所有的分析物物质进行分析，这些分析物物质的质量范围例如从大约三、四或五个原子质量单位(amu)到大约两千个amu或以上。在一些示例中，质谱仪内核可以利用诸如处理器、泵、检测器之类的共用部件，以便简化系统的整体构造，同时仍然提高样品分析的灵活性。内核部件可以一起使用来提供无机有机质谱仪(IOMS)，该无机有机质谱仪配置成对样品中存在的无机分析物和有机分析物进行检测。
本文所描述的某些配置是指存在于系统或质量分析仪中的质谱仪内核(MSC)，该系统或质量分析仪是一个较大系统的一部分。MSC可以描述为：单一MS内核(SMSC)，其设计用于过滤/提供单一类型的离子，例如，无机离子或有机离子；或者描述为双核MS(DCMS)，其可以过滤/提供超过单一类型的离子，例如，可以提供无机离子和有机离子(按顺序或同时)，具体取决于DCMS的特定配置。在一些示例中，MSC可以包括子内核，例如，单独的多极组件，其可以组装在一起以形成SMSC或DCMS，具体取决于系统的整体配置。如果需要，通过重新布置或改变系统中存在的各个子内核部件和/或其他部件的电耦合(和/或流体耦合)，可以将SMSC转换成DCMS；并且，通过重新布置或改变系统中存在的各个子内核部件和/或其他部件的电耦合(和/或流体耦合)，可以将DCMS转换为SMSC。虽然在某些情况下使用术语“双核”，但是双核MS可以包括单组的组装后的共用硬件，该共用硬件可以用在不同的配置中以提供不同类型的离子，例如，以提供或输出两种或更多类型的离子，诸如无机离子和有机离子，具体取决于双核MS的特定配置。
在某些实施例中，参照图1A，示出了系统的一些内核部件的简化框图。系统100包括至少一个电离内核110，该电离内核110与至少一个质量分析仪流体耦合，该质量分析仪可以包括一个或多个质谱仪内核120。电离内核110可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核110中，以便在将元素离子提供给MS内核120之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核110中，以便在将分子离子提供给内核120之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统100可以配置成在将离子提供给内核120之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核120可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，内核120可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是MS内核120通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、真空泵或甚至共用检测器。系统100可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统100中，在内核110和120中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。进一步地，质量分析仪可以分隔成两个或更多个单独的内核，如以下更详细指出的。
在一些实例中，如图1B所示，系统130可以包括两个电离内核140、142，其与包括MS内核150的质量分析仪耦合。尽管未示出，但是在电离内核140、142和MS内核150之间，可以存在接口、阀或其他装置(未示出)，以便在系统130使用期间，从电离内核140、142中的一个向MS内核150提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从电离内核140、142同时向MS内核150提供物质。在一些示例中，电离内核140、142可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核140中，以便在将元素离子提供给MS内核150之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核142中，以便在将分子离子提供给MS内核150之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统130可以配置成在将离子提供给MS内核150之前，使用电离内核140、142对无机物质和有机物质进行电离处理。包括MS内核150的质量分析仪可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核150可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统130可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统130中，在内核140、142和150中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。进一步地，质量分析仪可以分隔成两个或更多个单独的内核，如以下更详细指出的。
在某些实施例中，参照图1C，系统160可以包括至少一个电离内核162，该电离内核162与包括至少两个MS内核170、172的质量分析仪165流体耦合。电离内核162可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核162中，以便在将元素离子提供给MS内核170、172之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核162中，以便在将分子离子提供给MS内核170、172之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统160可以配置成在将离子提供给MS内核170、172之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。尽管未示出，但是接口可以存在于内核162和MS内核170、172之间，以便向MS内核170、172中的任一个或两个提供离子。MS内核170、172可以单独配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核170、172可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是质量分析仪165通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪165中。例如，质量分析仪165中存在的不同MS内核可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统160可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统160中，在内核162、170和172中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在一些示例中，如图1D所示，系统180可以包括两个电离内核180、182，每一个电离内核与质量分析仪190中存在的相应的MS内核192、194流体耦合。尽管未示出，但是在系统180使用期间，如果需要从电离内核182、184中的一个向两个MS内核192、194提供离子，在电离内核182、184之间可以存在接口、阀或其他装置(未示出)。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从电离内核182、184中的一个同时向MS内核192、194中的一个提供物质。在一些示例中，电离内核182、184可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在某些实例中，电离源可以存在于电离内核182中，以便在将元素离子提供给MS内核192之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核184中，以便在将分子离子提供给MS内核194之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统180可以配置成在将离子提供给MS内核192、194之前，使用电离内核182、184对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核192、194可以单独配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核192、194可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是质量分析仪190通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪190中。例如，共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵可以位于质量分析仪190中、或其上、或者与其耦合，并且可以由质量分析仪190中存在的不同质量MSC使用。系统180可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统180中，在内核182、184、192和194中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些实施例中，本文所描述的系统还可以包括一个或多个样品操作/处理内核，该样品操作/处理内核与一个或多个电离内核流体耦合。参照图2A，系统200包括与电离内核220流体耦合的样品操作内核210，电离内核220本身与包括MS内核230的质量分析仪流体耦合。下面就内核210、220和230中的每一个的各个配置进行更详细的讨论。在使用系统200时，可以将样品导入样品操作内核210中，并且在将分析物物质提供到电离内核220之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核220可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核220中，以便在将元素离子提供给内核230之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核220中，以便在将分子离子提供给内核230之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统200可以配置成在将离子提供给MS内核230之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核230可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核230可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核230的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统200可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统200中，在内核210、220和230中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，可以将图2A中所示的内核中的任一个或多个分离成或分成两个或更多个内核。例如，参照图2B，系统250包括样品操作内核260，与样品操作内核260流体耦合的第一电离内核270，以及与样品操作内核260流体耦合的第二电离内核280。内核270、280中每一个还与包括MS内核290的共用质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在样品操作内核260和电离内核270、280之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统250使用期间，在选定的时间，从样品操作内核260仅向电离内核270、280中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从样品操作内核260同时向电离内核270、280提供物质。类似地，在电离内核270、280和MS内核290之间，可以存在阀、接口或其他装置(未示出)，以便在系统250使用期间，在选定的时间，从电离内核270、280中的一个向MS内核290提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核270、280向MS内核290提供物质。在使用系统250时，可以将样品导入样品操作内核260中，并且在将分析物物质提供到电离内核270、280中的一个或两个之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核270、280可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核270中，以便在将元素离子提供给MS内核290之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核280中，以便在将分子离子提供给MS内核290之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统250可以配置成在将离子提供给MS内核290之前，使用电离内核270、280对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核290可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核290可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核290的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，存在于系统250的质量分析仪中的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统250可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统200中，在内核260、270、280和290中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在其他配置中，本文所描述的质量分析仪可以包括两个或更多个单独的MS内核。如本文所指出的，即使MS内核可以分离，但其仍然可以共享某些共用部件，包含气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵。参照图3，示出了系统300，其包括样品操作内核310、第一电离内核320、第二电离内核330、以及质量分析仪335，质量分析仪335包括第一MS内核340和第二MS内核350。样品操作内核310与电离内核320、330中的每一个流体耦合。尽管未示出，但是在样品操作内核310和电离内核320、330之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统300使用期间，在选定的时间，从样品操作内核310仅向电离内核320、330中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从样品操作内核310同时向电离内核320、330提供物质。电离内核320与第一MS内核340流体耦合，并且第二电离内核330与第二MS内核350流体耦合。在使用系统300时，可以将样品导入样品操作内核310中，并且在将分析物物质提供到电离内核320、330中的一个或两个之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核320、330可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核320中，以便在将元素离子提供给内核340之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核330中，以便在将分子离子提供给内核350之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统300可以配置成在将离子提供给MS内核340、350之前，使用电离内核320、330对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核340、350可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，根据存在的特定部件，MS内核340可以设计成对无机离子进行过滤/选择/检测，并且MS内核350可以设计成对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是质量分析仪335通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以单独存在于质量分析仪335中。例如，虽然MS内核340、350中的每一个可以包括其自己的气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵(如果需要)，但共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵可以由质量分析仪335中存在的不同质量MSC使用。系统300可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统300中，在内核310、320、330、340和350中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个电离内核和两个MS内核的一些实例中，可能需要将离子从不同的电离内核提供给不同的MS内核。例如，参照图4，示出了系统400，其包括样品操作内核410、第一电离内核420、第二电离内核430、接口435、以及质量分析仪437，该质量分析仪437包括第一MS内核440和第二MS内核450。样品操作内核410与电离内核420、430中的每一个流体耦合。尽管未示出，但是在样品操作内核410和电离内核420、430之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统400使用期间，在选定的时间，从样品操作内核410仅向电离内核420、430中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从样品操作内核410同时向电离内核420、430提供物质。电离内核420与接口435流体耦合，而电离内核430与接口435流体耦合。接口435与第一MS内核440和第二MS内核450中的每一个流体耦合。在使用系统400时，可以将样品导入样品操作内核410中，并且在将分析物物质提供到电离内核420、430中的一个或两个之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核420、430可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核420中，以便在将元素离子提供给接口435之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核430中，以便在将分子离子提供给接口435之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统400可以配置成在将离子提供给接口435之前，使用电离内核420、330对无机物质和有机物质两者进行电离处理。接口435可以配置成向MS内核440、450中的任一个或两个提供离子，每个MS内核均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，根据存在的特定部件，MS内核440可以设计成对无机离子进行过滤/选择/检测，并且MS内核450可以设计成对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，MS内核440、450配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪437通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以单独存在于质量分析仪437中。例如，虽然MS内核440、450中的每一个可以包括其自己的气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵(如果需要)，但共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵可以由质量分析仪437中存在的不同质量MSC使用。系统400可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统400中，在内核410、420、430、440和450中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些示例中，如果需要，可以将样品操作内核分离成两个或更多个内核。例如，与向电离内核或MS内核提供有机离子时相比，当向电离内核或MS内核提供无机离子时，可能需要执行不同的操作。参照图5，示出了系统500，其包括第一样品操作内核505和第二样品操作内核510。内核505、510中的每一个均与接口515流体耦合。接口515与电离内核520流体耦合，电离内核520本身与包括MS内核530的质量分析仪流体耦合。在使用系统500时，可以将样品导入样品操作内核505、550中的一个或两个，并且在将分析物物质提供到接口515之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口515可以配置成允许样品从样品操作内核505、510中的一个或两个通过，到达电离内核520。电离内核520可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核520中，以便在将元素离子提供给MS内核530之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核520中，以便在将分子离子提供给MS内核530之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统500可以配置成在将离子提供给MS内核530之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核530可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核530可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核530的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统500可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统500中，在内核505、510、520和530中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，如果需要，可以将样品操作内核分成彼此流体耦合的两个或更多个内核。例如，与向电离内核或MS内核提供有机离子时相比，当向电离内核或MS内核提供无机离子时，可能需要执行不同的操作。参照图6，示出了系统600，其包括第一样品操作内核605，第一样品操作内核605与第二样品操作内核610流体耦合。根据分析物样品的性质，内核605、610中的一个可以存在于无源配置中，并且一般使样品穿过而不会对样品执行任何操作；而在其他实例中，内核605、610中的每一个执行一项或多项样品操作，该样品操作包含但不限于：在将分析物物质提供给电离内核620之前，以某种方式对样品进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式起作用。电离内核620可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核620中，以便在将元素离子提供给包括MS内核630的质量分析仪之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核620中，以便在将分子离子提供给MS内核630之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统600可以配置成在将离子提供给MS内核630之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核630可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核630可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核630的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统600可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统600中，在内核605、610、620和630中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个样品操作内核的某些配置中，每个样品操作内核可以与相应的电离内核流体耦合。例如，参照图7，系统700包括第一样品操作内核705、第二样品操作内核710、与第一样品操作内核705流体耦合的第一电离内核720，以及与第二样品操作内核710流体耦合的第二电离内核730。内核720、730中每一个还与包括MS内核740的共用质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在电离内核720、730和MS内核740之间，可以存在阀、接口或其他装置，以便在系统700使用期间，在选定的时间，从电离内核720、730中的一个向MS内核740提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核720、730向MS内核740提供物质。在使用系统700时，可以将样品导入样品操作内核705、710中，并且在将分析物物质提供到电离内核720、730之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核720、730可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核720中，以便在将元素离子提供给内核MS 740之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核730中，以便在将分子离子提供给MS内核740之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统700可以配置成在将离子提供给MS内核740之前，使用电离内核720、730对无机物质和有机物质两者进行电离处理。MS内核740可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核740可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核740的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统700可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统700中，在内核705、710、720、730和740中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个样品操作内核的某些配置中，每个样品操作内核都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合。例如，参照图8，系统800包括第一样品操作内核805、第二样品操作内核810、接口815、第一电离内核820和第二电离内核830。内核820、830中每一个还与包括MS内核840的共用质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在电离内核820、830和MS内核840之间，可以存在阀、接口或其他装置，以便在系统800使用期间，在选定的时间，从电离内核820、830中的一个向MS内核840提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核820、830向MS内核840提供物质。在使用系统800时，可以将样品导入样品操作内核805、810中，并且在将分析物物质提供到电离内核820、830之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口815与样品操作内核805、810中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核820、830中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核820、830可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核820中，以便在将元素离子提供给MS内核840之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核830中，以便在将分子离子提供给内核MS 840之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统800可以配置成在将离子提供给MS内核840之前，使用电离内核820、830对无机物质和有机物质进行电离处理。样品操作内核805、810可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口815可以从样品操作内核805向电离内核820、830中的任一个提供分析物。类似地，接口815可以从样品操作内核810向电离内核820、830中的任一个提供分析物。MS内核840可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，内核840可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核840的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，MS内核840中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统800可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统800中，在内核805、810、820、830和840中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个样品操作内核的某些配置中，每个样品操作内核都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合；并且每个电离内核都可以包括相应的MS内核。例如，参照图9，系统900包括第一样品操作内核905、第二样品操作内核910、接口915、第一电离内核920和第二电离内核930。内核920、930中每一个还与包括MS内核940、950的质量分析仪935流体耦合。在使用系统900时，可以将样品导入样品操作内核905、910中，并且在将分析物物质提供到电离内核920、930之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口915与样品操作内核905、910中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核920、930中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核920、930可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核920中，以便在将元素离子提供给内核MS 940之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核930中，以便在将分子离子提供给MS内核950之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统900可以配置成在将离子提供给MS内核940、950之前，使用电离内核920、930对无机物质和有机物质两者进行电离处理。样品操作内核905、910可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口915可以从样品操作内核905向电离内核920、930中的任一个提供分析物。类似地，接口915可以从样品操作内核910向电离内核920、930中的任一个提供分析物。MS内核940、950中的每一个均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核940、950中的任一个或两个可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，MS内核940、950配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪935通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪935中。例如，质量分析仪935中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统900可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统900中，在内核905、910、920、930、940和950中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个样品操作内核的某些配置中，每个样品操作内核都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合；并且每个电离内核都可以通过接口与包括两个或更多个MS内核的质量分析仪耦合。参照图10，系统1000包括第一样品操作内核1005、第二样品操作内核1010、接口1015、第一电离内核1020和第二电离内核1030。内核1020、1030中每一个还通过接口1035与包括MS内核1040、1035的质量分析仪1037流体耦合。在使用系统1000时，可以将样品导入样品操作内核1005、1010中，并且在将分析物物质提供到电离内核1020、1030之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口1015与样品操作内核1005、1010中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核1020、1030中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核1020、1030可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1020中，以便在将元素离子提供给接口1035之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1030中，以便在将分子离子提供给接口1035之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1000可以配置成在将离子提供给接口1035之前，使用电离内核1020、1030对无机物质和有机物质两者进行电离处理。样品操作内核1005、1010可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口1015可以从样品操作内核1005向电离内核1020、1030中的任一个提供分析物。类似地，接口1015可以从样品操作内核1010向电离内核1020、1030中的任一个提供分析物。接口1035可以从电离内核1020、1030中的任一个或两个接收离子，并且将所接收的离子提供给MS内核1040、1050中的一个或两个。MS内核1040、1050中的每一个均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1040、1050中的任一个或两个可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，MS内核1040、1050配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪1037通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪1037中。例如，质量分析仪1037中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1000可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1000中，在内核1005、1010、1020、1030、1040和1050中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些示例中，电离内核可以以串联布置进行流体耦合，以允许使用多个电离源。参照图11，示出了系统1100，其包括与第二电离内核1120流体耦合的第一电离内核1110，第二电离内核1120本身与包括MS内核1130的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是也可以存在旁路管线，以将第一电离内核1110直接耦合到MS内核1130，从而允许在未使用电离内核1120的情况下，将离子从内核1110直接提供到MS内核1130。在使用系统1100时，可以将样品导入电离内核1110中。电离内核1110、1120可以单独配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1110、1120中，以便在将元素离子提供给内核1130之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1110、1120中，以便在将分子离子提供给MS内核1130之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1100可以配置成在将离子提供给MS内核1130之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1130可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1130可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1130的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1100可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1100中，在内核1110、1120和1130中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。在一些实例中，在图1至10中描述和示出的任何系统都可以包括与图11中所示的内核1110、1120类似的串联布置的电离内核。
在某些配置中，本文所描述的系统中可以存在一个或多个串联布置的电离内核。例如，参照图12，示出了系统1200，其包括样品操作内核1110，该样品操作内核1110与第一电离内核1215流体耦合。第一电离内核1215与第二电离内核1220流体耦合，第二电离内核1220本身与包括MS内核1230的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是如果需要，也可以存在旁路管线，以将电离内核1215直接耦合到MS内核1230，从而允许在未使用第二电离内核1220的情况下，将离子从内核1215直接提供到MS内核1230。类似地，可以存在旁路管线，以便在不需要使用电离内核1215的情况下，将样品操作内核1210直接耦合到电离内核1220。在使用系统1200时，可以将样品导入样品操作内核1210中，并且在将分析物物质提供到电离内核1215之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核1215可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1215中，以便在将元素离子提供给内核1230之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1215中，以便在将分子离子提供给内核1230之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。电离内核1220可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理，这些技术可以和内核1215所使用的技术不同。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1220中，以便在将元素离子提供给内核1230之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1220中，以便在将分子离子提供给MS内核1230之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1200可以配置成在将离子提供给内核1230之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1230可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1230可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1230的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1200可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1200中，在内核1210、1215、1220和1230中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。在一些实例中，在图1至10中描述和示出的任何系统都可以包括与图12中所示的内核1215、1120类似的串联布置的电离内核。
在某些配置中，本文所描述的系统中可以存在一个或多个串联布置的MS内核。例如，参照图13，示出了系统1300，其包括样品操作内核1310，该样品操作内核1310与电离内核1320流体耦合。电离内核1320与包括第一MS内核1330的质量分析仪1325流体耦合，第一MS内核1330本身与第二MS内核1340流体耦合。尽管未示出，但是如果需要，也可以存在旁路管线，以将电离内核1320直接耦合到MS内核1340，从而允许在未使用第一MS内核1330的情况下，将离子从内核1320直接提供到MS内核1340。在使用系统1300时，可以将样品导入样品操作内核1310中，并且在将分析物物质提供到电离内核1320之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核1320可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1320中，以便在将元素离子提供给内核1330之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1320中，以便在将分子离子提供给内核1330之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1300可以配置成在将离子提供给内核1330之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1330可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1330可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。类似地，MS内核1340可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1340可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是质量分析仪1325通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪1325中。例如，质量分析仪1325中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1300可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1300中，在任一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。在一些实例中，在图1至12中描述和示出的任何系统都可以包括与图13中所示的内核1330、1340类似的串联布置的MS内核。
在某些实施例中，还可以存在附加组件、装置等，其与样品操作内核、电离内核和包括一个或多个MS内核的质量分析仪一起使用。结合本文更详细地描述的各种内核，对各种示例性装置进行描述。
样品操作内核
在某些实施例中，适于在本文所描述的系统和方法中使用的样品通常以气态、液态或固态形式存在，并且所使用的精确形式可以根据样品操作内核执行的特定样品操作而改变。
在一些实例中，样品操作内核可以配置成执行气相色谱法。在不希望受到任何特定理论的束缚的前提下，气相色谱法使用气态流动相和固定相对气态分析物进行分离。图14中示出了GC系统的简化图示，尽管如此，鉴于本公开的益处，本领域普通技术人员将认识到GC系统的其他配置。GC系统1400包括载气源1410，其通过流体管线与压力调节器1420流体耦合。压力调节器1420通过流体管线与分流器1430流体耦合。分流器1430配置成将载气流分到至少两条流体管线中。分流器1430通过一条流体管线与注射器1440流体耦合。将样品注入到注射器中并在烘箱1435中蒸发，烘箱1435可以容纳注射器1440的一些部分以及包括固定相的柱1450。尽管未示出，但是可以用吸附剂管或装置代替注射器1430，该吸附剂管或装置配置成吸附和解吸各种分析物，例如，具有三个或更多个碳原子的分析物。柱1450将分析物物质分离成单独的分析物组分，并允许那些分析物物质沿着箭头1465的大致方向通过出口1460离开。然后，可以将离开的分析物提供给如本文所描述的一个或多个电离内核。如果需要，可以在本文所描述的系统中使用两个或更多个单独的GC系统。例如，如果需要，每个电离内核可以与共用的GC系统或相应的GC系统流体耦合。
在某些实施例中，本文所描述的系统可以包括一个或多个样品操作内核，该样品操作内核包括与一个或多个电离内核流体耦合的GC。参照图15A，系统1500包括与电离内核1502流体耦合的GC 1501，电离内核1502本身与包括MS内核1503的质量分析仪流体耦合。在使用系统1500时，可以将样品导入GC 1501中，并且在将分析物物质提供到电离内核1502之前，可以通过GC 1501，以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核1502可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1502中，以便在将元素离子提供给MS内核1503之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1502中，以便在将分子离子提供给MS内核1503之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1500可以配置成在将离子提供给内核1503之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1503可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1503可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1503的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1500可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1500中，在内核1501、1502和1503中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，可以将图15A中所示的内核中的任一个或多个分离成或分成两个或更多个内核。例如，参照图15B，系统1505包括包括GC 1506的样品操作内核1506，与GC1506流体耦合的第一电离内核1507，以及与GC 1506流体耦合的第二电离内核1508。内核1507、1508中的每一个还与包括MS内核1509的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在GC1506和电离内核1507、1508之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统1505使用期间，在选定的时间，从GC 1506仅向电离内核1507、1508中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从GC 1506同时向电离内核1507、1508提供物质。类似地，在电离内核1507、1508和MS内核1509之间，可以存在阀、接口或其他装置(未示出)，以便在系统150使用期间，在选定的时间，从电离内核1507、1508中的一个向MS内核1509提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核1507、1508向MS内核1509提供物质。在使用系统1505时，可以将样品导入GC 1506中，并且在将分析物物质提供到电离内核1507、1508中的一个或两个之前，可以通过GC 1506，以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核1507、1508可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1507中，以便在将元素离子提供给MS内核1509之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1508中，以便在将分子离子提供给MS内核1509之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1505可以配置成在将离子提供给MS内核1509之前，使用电离内核1507、1508对无机物质和有机物质两者进行电离处理。MS内核1509可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1509可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1509的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1505可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1505中，在内核1506、1507、1508和1509中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在其他配置中，本文所描述的包括MS内核的质量分析仪(与GC一起使用时)可以包括两个或更多个单独的MS内核。如本文所指出的，即使MS内核可以分离，但其仍然可以共享某些共用部件，包含气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵。参照图15C，示出了系统1510，其包括：包括GC 1511的样品操作内核、第一电离内核1512、第二电离内核1513、以及质量分析仪1514，质量分析仪1514包括第一MS内核1515和第二MS内核1516。GC 1511与电离内核1512、1513中的每一个流体耦合。尽管未示出，但是在GC 1511和电离内核1512、1513之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统1510使用期间，在选定的时间，从GC 1511仅向电离内核1512、1513中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从GC 1511同时向电离内核1512、1513提供物质。电离内核1512与第一MS内核1515流体耦合，并且第二电离内核1513与第二MS内核1516流体耦合。在使用系统1510时，可以将样品导入GC 1511中，并且在将分析物物质提供到电离内核1512、1513中的一个或两个之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核1512、1513可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1512中，以便在将元素离子提供给MS内核1515之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1513中，以便在将分子离子提供给MS内核1516之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1510可以配置成在将离子提供给MS内核1515、1516之前，使用电离内核1512、1513对无机物质和有机物质两者进行电离处理。MS内核1515、1516可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，根据存在的特定部件，MS内核1515可以设计成对无机离子进行过滤/选择/检测，并且MS内核1516可以设计成对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1515、1516的质量分析仪1514通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以单独存在于质量分析仪1514中。例如，虽然内核1515、1516中的每一个可以包括其自己的气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵(如果需要)，但共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵可以由质量分析仪1514中存在的不同质量MSC使用。系统1510可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1510中，在内核1511、1512、1513、1515和1516中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在GC、两个电离内核和包括两个MS内核的质量分析仪的一些实例中，可能需要将离子从不同的电离内核提供给不同的MS内核。例如，参照图15D，示出了系统1520，其包括：包括GC 1521的样品操作内核、第一电离内核1522、第二电离内核1523、接口1524、以及质量分析仪1525，该质量分析仪1525包括第一MS内核1526和第二MS内核1527。GC 1521与电离内核1522、1523中的每一个流体耦合。尽管未示出，但是在GC 1521和电离内核1522、1523之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统1520使用期间，在选定的时间，从GC 1521仅向电离内核1522、1523中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从GC 1521同时向电离内核1522、1523提供物质。电离内核1522与接口1524流体耦合，而电离内核1523与接口1524流体耦合。接口1524与第一MS内核1526和第二MS内核1527中的每一个流体耦合。在使用系统1520时，可以将样品导入GC 1521中，并且在将分析物物质提供到电离内核1522、1523中的一个或两个之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核1522、1523可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1522中，以便在将元素离子提供给接口1524之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1523中，以便在将分子离子提供给接口1524之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1520可以配置成在将离子提供给接口1524之前，使用电离内核1522、1523对无机物质和有机物质两者进行电离处理。接口1524可以配置成向MS内核1526、1527中的任一个或两个提供离子，每个MS内核均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，根据存在的特定部件，MS内核1526可以设计成对无机离子进行过滤/选择/检测，并且MS内核1527可以设计成对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，MS内核1526、1527配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪1525通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以单独存在于质量分析仪1525中。例如，虽然MS内核1526、1527中的每一个可以包括其自己的气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵(如果需要)，但共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵可以由质量分析仪1525中存在的不同质量MSC使用。系统1520可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1520中，在内核1521、1522、1523、1526和1527中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些示例中，如果需要，可以将样品操作内核分离成两个或更多个内核。例如，与向电离内核或MS内核提供有机离子时相比，当向电离内核或MS内核提供无机离子时，可能需要执行不同的操作。参照图15E，示出了系统1530，其包括包括第一GC 1531和第二GC1532的样品操作内核，尽管如此，如下所指出的，GC 1531、1532中的一个可以用诸如LC、DSA或其他装置或系统之类的样品操作内核替换。GC 1531、1532中的每一个均与接口1533流体耦合。接口1533与电离内核1534流体耦合，电离内核520本身与包括MS内核1535的质量分析仪流体耦合。在使用系统1530时，可以将样品导入GC 1531、1532中的一个或两个，并且在将分析物物质提供到接口1533之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。不同的GC 1531、1532可以配置成执行不同的分离、使用不同的分离条件、使用不同的载气或者包含不同的部件。接口1533可以配置成允许样品从GC 1531、1532中的一个或两个通过，到达电离内核1534。电离内核1534可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1534中，以便在将元素离子提供给MS内核1535之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1534中，以便在将分子离子提供给MS内核15350之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1530可以配置成在将离子提供给MS内核1535之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1535可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1535可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1535的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1530可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1530中，在内核1531、1532、1534和1535中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，如果需要，样品操作内核的GC可以彼此串联耦合。例如，可能需要使用针对不同分离条件配置的GC，对样品中的分析物进行分离。参照图15F，示出了系统1540，其包括第一GC 1541，第一GC 1541与第二GC 1542流体耦合。根据分析物样品的性质，GC 1541、1542中的一个可以存在于无源配置中，并且一般使样品穿过而不会对样品执行任何操作；而在其他实例中，GC 1541、1542中的每一个执行一项或多项样品操作，该样品操作包含但不限于：在将分析物物质提供给电离内核1543之前，以某种方式对样品进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式起作用。电离内核1543可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1543中，以便在将元素离子提供给包括MS内核1544的质量分析仪之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1543中，以便在将分子离子提供给MS内核1544之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1540可以配置成在将离子提供给MS内核1544之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1544可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1544可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1544的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1540可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1540中，在内核1541、1542、1543和1544中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个GC的某些配置中，每个GC可以与相应的电离内核流体耦合。例如，参照图15G，系统1550包括第一GC 1551、第二GC 1552、与第一GC 1551流体耦合的第一电离内核1553、以及与第二GC 1552流体耦合的第二电离内核1554。如本文所指出的，如果需要，GC 1551、1552中的一个可以用不同的样品操作内核(诸如，例如LC、DSA装置或其他样品操作内核)替换。内核1553、1554中的每一个还与包括MS内核1555的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在电离内核1553、1554和MS内核1555之间，可以存在阀、接口或其他装置，以便在系统1550使用期间，在选定的时间，从电离内核1553、1554中的一个向MS内核1555提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核1553、1554向MS内核1555提供物质。在使用系统1550时，可以将样品导入GC 151、1552中，并且在将分析物物质提供到电离内核1553、1554之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核1553、1554可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1553中，以便在将元素离子提供给MS内核1555之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1554中，以便在将分子离子提供给MS内核1555之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1550可以配置成在将离子提供给MS内核1555之前，使用电离内核1553、1554对无机物质和有机物质两者进行电离处理。MS内核1555可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1555可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1555的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1550可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1550中，在内核1551、1552、1553、1554和1555中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个GC的某些配置中，每个GC都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合。例如，参照图15H，系统1560包括第一GC 1561、第二GC 1562、接口1563、第一电离内核1564和第二电离内核1565。如本文所指出的，如果需要，GC 1561、1562中的一个可以用不同的样品操作内核(诸如，例如LC、DSA装置或其他样品操作内核)替换。电离内核1564、1565中的每一个还与包括MS内核1566的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在电离内核1564、1565和MS内核1566之间，可以存在阀、接口或其他装置，以便在系统1560使用期间，在选定的时间，从电离内核1564、1565中的一个向MS内核1566提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核1564、1565向MS内核1566提供物质。在使用系统1560时，可以将样品导入GC 1561、1562中，并且在将分析物物质提供到电离内核1564、1565之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口1563与GC 1561、1562中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核1564、1565中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核1564、1565可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1564中，以便在将元素离子提供给内核MS 1566之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1565中，以便在将分子离子提供给MS内核1566之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1560可以配置成在将离子提供给MS内核1566之前，使用电离内核1564、1565对无机物质和有机物质两者进行电离处理。GC 1561、1562可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口1563可以从GC 1561向电离内核1564、1565中的任一个提供分析物。类似地，接口1563可以从GC 1562向电离内核1564、1565中的任一个提供分析物。MS内核1566可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1566可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1566的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，内核1566中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1560可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1560中，在内核1561、1562、1564、1565和1566中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个GC的某些配置中，每个GC都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合；并且每个电离内核都可以与包括两个或更多个MS内核的重量分析仪流体耦合。例如，参照图15I，系统1570包括第一GC 1571、第二GC 1572、接口1573、第一电离内核1574和第二电离内核1575。电离内核1574和1575中的每一个还与包括MS内核1577和1578的质量分析仪1576中的相应的MS内核流体耦合。如本文所指出的，如果需要，GC 1571、1572中的一个可以用不同的样品操作内核(诸如，例如LC、DSA装置或其他样品操作内核)替换。在使用系统1570时，可以将样品导入GC1571、1572中，并且在将分析物物质提供到电离内核1574、1575之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口1573与GC 1571、1572中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核1574、1575中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核1574、1575可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1574中，以便在将元素离子提供给内核MS 1577之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1575中，以便在将分子离子提供给MS内核1578之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1570可以配置成在将离子提供给MS内核1577、1578之前，使用电离内核1574、1575对无机物质和有机物质两者进行电离处理。GC 1571、1572可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口1573可以从GC 1571向电离内核1574、1575中的任一个提供分析物。类似地，接口1573可以从GC 1572向电离内核1574、1575中的任一个提供分析物。MS内核1577、1578中的每一个均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1577、1578中的任一个或两个可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，MS内核1577、1578配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪1576通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪1576中。例如，质量分析仪1576中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1570可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1570中，在内核1571、1572、1574、1575、1577和1578中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个GC的某些配置中，每个GC都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合；并且每个电离内核都可以通过接口与两个或更多个MS内核耦合。参照图15J，系统1580包括第一GC 1581、第二GC 1582、接口1583、第一电离内核1584和第二电离内核1585。内核1584、1585中每一个还通过接口1586，与包括MS内核1588、1589的质量分析仪1587流体耦合。在使用系统1580时，可以将样品导入GC 1581、1582中，并且在将分析物物质提供到电离内核1584、1585之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口1583与GC 1581、1582中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核1584、1585中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核1584、1585可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1584中，以便在将元素离子提供给接口1586之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1585中，以便在将分子离子提供给接口1586之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1580可以配置成在将离子提供给接口1586之前，使用电离内核1584、1585对无机物质和有机物质两者进行电离处理。GC 1581、1582可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口1583可以从GC 1581向电离内核1584、1585中的任一个提供分析物。类似地，接口1583可以从样品GC 1582向电离内核1584、1585中的任一个提供分析物。接口1586可以从电离内核1584、1585中的任一个或两个接收离子，并且将所接收的离子提供给MS内核1588、1589中的一个或两个。MS内核1588、1589中的每一个均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1588、1589中的任一个或两个可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，MS内核1588、1589配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪1587通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪1587中。例如，质量分析仪1587中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1580可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1580中，在内核1581、1582、1584、1585、1588和1589中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，可以存在一个或多个串联布置的电离内核并与GC一起使用。例如，参照图15K，示出了系统1590，其包括样品操作内核，该样品操作内核包括与第一电离内核1592流体耦合的GC 1591。第一电离内核1592与第二电离内核1593流体耦合，第二电离内核1593本身与包括MS内核1594的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是如果需要，也可以存在旁路管线，以将电离内核1592直接耦合到MS内核1594，从而允许在未使用第二电离内核1593的情况下，将离子从内核1592直接提供到MS内核1594。类似地，可以存在旁路管线，以便在不需要使用电离内核1592的情况下，将GC 1591直接耦合到电离内核1593。在使用系统1590时，可以将样品导入GC 1591中，并且在将分析物物质提供到电离内核1592之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核1592可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1592中，以便在将元素离子提供给内核1593或内核1594之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1592中，以便在将分子离子提供给内核1593或内核1594之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。电离内核1593可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理，这些技术可以和内核1592所使用的技术不同。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1593中，以便在将元素离子提供给MS内核1594之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1593中，以便在将分子离子提供给MS内核1594之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1590可以配置成在将离子提供给内核MS 1594之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1594可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1594可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1594的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1590可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1590中，在内核1591、1592、1593和1594中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。在一些实例中，在图15A至15J中描述和示出的任何系统都可以包括与图15K中示出的内核1592、1593类似的串联布置的电离内核。
在某些配置中，本文所描述的系统中可以存在一个或多个串联布置的MS内核。例如，参照图15L，示出了系统1595，其包括样品操作内核，该样品操作内核包括与电离内核1597流体耦合的GC 1596。电离内核1597与包括第一MS内核1598的质量分析仪流体耦合，第一MS内核1598本身与质量分析仪的第二MS内核1599流体耦合。尽管未示出，但是如果需要，也可以存在旁路管线，以将电离内核1597直接耦合到MS内核1599，从而允许在未使用第一MS内核1598的情况下，将离子从内核1597直接提供到MS内核1599。在使用系统1595时，可以将样品导入GC 1596中，并且在将分析物物质提供到电离内核1597之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核1597可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1597中，以便在将元素离子提供给内核MS 1598之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1597中，以便在将分子离子提供给MS内核1598之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1595可以配置成在将离子提供给MS内核1598之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1598可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1598可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。类似地，MS内核1599可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1599可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1598、1599的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1595可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1595中，在内核1596、1597、1598和1599中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。在一些实例中，在图15A至15K中描述和示出的任何系统都可以包括与图15L中示出的MS内核1598、1599类似的串联布置的MS内核。
在其他实例中，样品操作内核可以配置成实施液相色谱/分离技术。与气相色谱法相比，液相色谱法(LC)使用液态流动相和固定相来分离物质。对于将各种有机或生物分析物彼此分离的用途，液相色谱法可能是理想的。参照图16，示出了液相色谱系统的一种配置的简化示意图。在该配置中，系统1600配置成执行高效液相色谱法。系统1600包括贮液器或液体源1610，其与一个或多个泵(诸如泵1620)流体耦合。泵1620通过流体管线与注射器1640流体耦合。如果需要，在泵1620和注射器1630之间可以存在过滤器、背压调节器、疏水阀、排水阀、脉冲阻尼器或其他部件。将液态样品注入注射器1640并提供给柱1650。柱1650可以将样品中的液体分析物组分分离成单个分析物组分，这些单个分析物组分从柱1650中洗脱。然后，这些单个分析物组分可以通过流体管线1665离开柱1650，并且可以提供给如本文所描述的一个或多个电离内核。如果需要，可以在本文所描述的系统中使用两个或更多个单独的LC系统。例如，如果需要，每个电离内核可以与共用的LC系统或相应的LC系统流体耦合。进一步地，还可以使用包括串联或并联的GC/LC系统的混合系统，对某些分析物组分进行蒸发并使用GC将其分离，同时允许在将分离的分析物组分提供给一个或多个电离内核之前，使用LC技术分离其他组分。
在一些实例中，还可以使用其他液相色谱技术，诸如尺寸排阻液相色谱法、离子交换色谱法、疏水相互作用色谱法、快速蛋白质液相色谱法、薄层色谱法、免疫分离或其他色谱技术。在某些实施例中，可以使用超临界流体色谱(SFC)系统。参照图17，系统1700包括二氧化碳源1710，其与一个或多个泵(诸如泵1720)流体耦合。泵1720通过流体管线与注射器1740流体耦合。如果需要，在泵1720和注射器1730之间可以存在过滤器、背压调节器、疏水阀、排水阀、脉冲阻尼器或其他部件。将液体样品注入注射器1740并提供给烘箱1745内的柱1750。柱1750可以使用超临界二氧化碳，将样品中的液体分析物组分分离成单个分析物组分，这些单个分析物组分从柱1750中洗脱。然后，这些单个分析物组分可以通过流体管线1765离开柱1750，并且可以提供给如本文所描述的一个或多个电离内核。如果需要，可以在本文所描述的系统中使用两个或更多个单独的SFC系统。例如，如果需要，每个电离内核可以与共用的SFC系统或相应的SFC系统流体耦合。进一步地，还可以使用包括串联或并联的GC/SFC系统的混合系统，对某些分析物组分进行蒸发并使用GC将其分离，同时允许在将分离的分析物组分提供给一个或多个电离内核之前，使用SFC技术分离其他组分。
在某些实施例中，本文所描述的系统可以包括一个或多个样品操作内核，该样品操作内核包括与一个或多个电离内核流体耦合的LC。参照图18A，系统1800包括样品操作内核，该样品操作内核包括与电离内核1802流体耦合的LC 1801，电离内核1802本身与过滤/检测内核1803流体耦合。在使用系统1800时，可以将样品导入LC 1801中，并且在将分析物物质提供到电离内核1802之前，可以通过LC 1801，以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核1802可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1802中，以便在将元素离子提供给MS内核1803之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1802中，以便在将分子离子提供给MS内核1803之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1800可以配置成在将离子提供给内核1803之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1803可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，内核1803可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1803的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1800可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1800中，在内核1801、1802和1803中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，可以将图18A中所示的内核中的任一个或多个分离成或分成两个或更多个内核。例如，参照图18B，系统1805包括包括LC 1806的样品操作内核，与LC 1806流体耦合的第一电离内核1807，以及与LC 1806流体耦合的第二电离内核1808。内核1807、1808中的每一个还与包括MS内核1809的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在LC 1806和电离内核1807、1808之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统1805使用期间，在选定的时间，从LC 1806仅向电离内核1807、1808中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从LC 1806同时向电离内核1807、1808提供物质。类似地，在电离内核1807、1808和MS内核1809之间，可以存在阀、接口或其他装置(未示出)，以便在系统180使用期间，在选定的时间，从电离内核1807、1808中的一个向MS内核1809提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核1807、1808向MS内核1809提供物质。在使用系统1805时，可以将样品导入LC 1806中，并且在将分析物物质提供到电离内核1807、1808中的一个或两个之前，可以通过LC 1806，以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核1807、1808可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1807中，以便在将元素离子提供给MS内核1809之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1808中，以便在将分子离子提供给MS内核1809之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1805可以配置成在将离子提供给MS内核1809之前，使用电离内核1807、1808对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1809可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1809可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1809的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1805可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1805中，在内核1806、1807、1808和1809中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在其他配置中，本文所描述的质量分析仪(与LC一起使用时)可以包括两个或更多个单独的MS内核。如本文所指出的，即使MS内核可以分离，但其仍然可以共享某些共用部件，包含气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵。参照图18C，示出了系统1810，其包括LC 1811、第一电离内核1812、第二电离内核1813、以及质量分析仪1814，质量分析仪1814包括第一MS内核1815和第二MS内核1816。LC 1811与电离内核1812、1813中的每一个流体耦合。尽管未示出，但是在LC 1811和电离内核1812、1813之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统1810使用期间，在选定的时间，从LC 1811仅向电离内核1812、1813中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从LC 1811同时向电离内核1812、1813提供物质。电离内核1812与第一MS内核1815流体耦合，并且第二电离内核1813与第二MS内核1816流体耦合。在使用系统1810时，可以将样品导入LC 1811中，并且在将分析物物质提供到电离内核1812、1813中的一个或两个之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核1812、1813可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1812中，以便在将元素离子提供给MS内核1815之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1813中，以便在将分子离子提供给MS内核1816之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1810可以配置成在将离子提供给内核1815、1816之前，使用电离内核1812、1813对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1815、1816可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，根据存在的特定部件，内核1815可以设计成对无机离子进行过滤/选择/检测，并且内核1816可以设计成对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是质量分析仪1814通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以单独存在于质量分析仪1814中。例如，虽然内核1815、1816中的每一个可以包括其自己的气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵(如果需要)，但共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵可以由质量分析仪1814中存在的不同质量MSC使用。系统1810可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1810中，在内核1811、1812、1813、1815和1816中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在LC、两个电离内核和两个MS内核的一些实例中，可能需要将离子从不同的电离内核提供给不同的MS内核。例如，参照图18D，示出了系统1820，其包括LC 1821、第一电离内核1822、第二电离内核1823、接口1824、以及质量分析仪1825，该质量分析仪1825包括第一MS内核1826和第二MS内核1827。LC 1821与电离内核1822、1823中的每一个流体耦合。尽管未示出，但是在LC 1821和电离内核1822、1823之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统1820使用期间，在选定的时间，从LC 1821仅向电离内核1822、1823中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从LC 1821同时向电离内核1822、1823提供物质。电离内核1822与接口1824流体耦合，而电离内核1823与接口1824流体耦合。接口1824与第一MS内核1826和第二MS内核1827中的每一个流体耦合。在使用系统1820时，可以将样品导入LC 1821中，并且在将分析物物质提供到电离内核1822、1823中的一个或两个之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核1822、1823可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1822中，以便在将元素离子提供给接口1824之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1823中，以便在将分子离子提供给接口1824之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1820可以配置成在将离子提供给接口1824之前，使用电离内核1822、1823对无机物质和有机物质进行电离处理。接口1824可以配置成向MS内核1826、1827中的任一个或两个提供离子，每个MS内核均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，根据存在的特定部件，MS内核1826可以设计成对无机离子进行过滤/选择/检测，并且MS内核1827可以设计成对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，内核1826、1827配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪1825通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以单独存在于质量分析仪1825中。例如，虽然MS内核1826、1827中的每一个可以包括其自己的气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵(如果需要)，但共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵可以由质量分析仪1825中存在的不同质量MSC使用。系统1820可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1820中，在内核1821、1822、1823、1826和1827中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些示例中，如果需要，可以将样品操作内核分离成两个或更多个内核。例如，与向电离内核或MS内核提供有机离子时相比，当向电离内核或MS内核提供无机离子时，可能需要执行不同的操作。参照图18E，示出了系统1830，其包括包括第一LC 1831和第二LC1832的样品操作内核，尽管如此，如本文所指出的，LC 1831、1832中的一个可以用诸如GC、DSA或其他装置或系统之类的样品操作内核替换。LC 1831、1832中的每一个均与接口1833流体耦合。接口1833与电离内核1834流体耦合，电离内核1834本身与包括MS内核1835的质量分析仪流体耦合。在使用系统1830时，可以将样品导入LC 1831、1832中的一个或两个，并且在将分析物物质提供到接口1833之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。不同的LC 1831、1832可以配置成执行不同的分离、使用不同的分离条件、使用不同的载气或者包含不同的部件。接口1833可以配置成允许样品从LC 1831、1832中的一个或两个通过，到达电离内核1834。电离内核1834可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1834中，以便在将元素离子提供给MS内核1835之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1834中，以便在将分子离子提供给MS内核1835之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1830可以配置成在将离子提供给内核MS1835之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1835可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1835可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1835的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1830可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1830中，在内核1831、1832、1834和1835中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，如果需要，可以将LC彼此串联耦合。例如，可能需要使用针对不同分离条件配置的LC，对样品中的分析物执行分离。参照图18F，示出了系统1840，其包括第一LC 1841，第一LC 1841与第二LC 1842流体耦合。根据分析物样品的性质，LC 1841、1842中的一个可以存在于无源配置中，并且一般使样品穿过而不会对样品执行任何操作；而在其他实例中，LC 1841、1842中的每一个执行一项或多项样品操作，该样品操作包含但不限于：在将分析物物质提供给电离内核1843之前，以某种方式对样品进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式起作用。电离内核1843可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1843中，以便在将元素离子提供给包括MS内核1844的质量分析仪之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1843中，以便在将分子离子提供给内核MS 1844之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1840可以配置成在将离子提供给MS内核1844之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1844可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1844可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1844的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1840可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1840中，在内核1841、1842、1843和1844中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个LC的某些配置中，每个LC可以与相应的电离内核流体耦合。例如，参照图18G，系统1860包括样品操作内核，该样品操作内核包括第一LC 1851、第二LC1852、与第一LC 1851流体耦合的第一电离内核1853、以及与第二LC 1852流体耦合的第二电离内核1854。如本文所指出的，如果需要，LC 1851、1852中的一个可以用不同的样品操作内核(诸如，例如GC、DSA装置或其他样品操作内核)替换。内核1853、1854中的每一个还与包括MS内核1855的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在电离内核1853、1854和MS内核1855之间，可以存在阀、接口或其他装置，以便在系统1850使用期间，在选定的时间，从电离内核1853、1854中的一个向MS内核1855提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核1853、1854向MS内核1855提供物质。在使用系统1850时，可以将样品导入LC 181、1852中，并且在将分析物物质提供到电离内核1853、1854之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核1853、1854可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1853中，以便在将元素离子提供给MS内核1855之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1854中，以便在将分子离子提供给MS内核1855之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1850可以配置成在将离子提供给MS内核1855之前，使用电离内核1853、1854对无机物质和有机物质两者进行电离处理。MS内核1855可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1855可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1855的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1850可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1850中，在内核1851、1852、1853、1854和1855中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个LC的某些配置中，每个LC都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合。例如，参照图18H，系统1860包括第一LC 1861、第二LC 1862、接口1863、第一电离内核1864和第二电离内核1865。如本文所指出的，如果需要，LC 1861、1862中的一个可以用不同的样品操作内核(诸如，例如GC、DSA装置或其他样品操作内核)替换。电离内核1864、1865中的每一个还与包括MS内核1866的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在电离内核1864、1865和MS内核1866之间，可以存在阀、接口或其他装置，以便在系统1860使用期间，在选定的时间，从电离内核1864、1865中的一个向MS内核1866提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核1864、1865向MS内核1866提供物质。在使用系统1860时，可以将样品导入LC 1861、1862中，并且在将分析物物质提供到电离内核1864、1865之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口1863与LC 1861、18652中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核1864、1865中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核1864、1865可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1864中，以便在将元素离子提供给MS内核1866之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1865中，以便在将分子离子提供给MS内核1866之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1860可以配置成在将离子提供给MS内核1866之前，使用电离内核1864、1865对无机物质和有机物质两者进行电离处理。LC 1861、1862可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口1863可以从LC 1861向电离内核1864、1865中的任一个提供分析物。类似地，接口1863可以从LC 1862向电离内核1864、1865中的任一个提供分析物。MS内核1866可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1866可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1866的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于MS内核1866中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1860可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1860中，在内核1861、1862、1864、1865和1866中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个LC的某些配置中，每个LC都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合；并且每个电离内核都可以包括相应的MS内核。例如，参照图18I，系统1870包括包括样品操作内核，该样品操作内核包括第一LC 1871、第二LC 1872、接口1873、第一电离内核1874和第二电离内核1875。电离内核1874、1875中每一个还与包括MS内核1877、1878的质量分析仪1876流体耦合。如本文所指出的，如果需要，LC 1871、1872中的一个可以用不同的样品操作内核(诸如，例如GC、DSA装置或其他样品操作内核)替换。在使用系统1870时，可以将样品导入LC 1871、1872中，并且在将分析物物质提供到电离内核1874、1875之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口1873与LC 1871、1872中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核1874、1875中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核1874、1875可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1874中，以便在将元素离子提供给MS内核1877之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1875中，以便在将分子离子提供给MS内核1878之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1870可以配置成在将离子提供给MS内核1877、1878之前，使用电离内核1874、1875对无机物质和有机物质两者进行电离处理。LC 1871、1872可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口1873可以从LC 1871向电离内核1874、1875中的任一个提供分析物。类似地，接口1873可以从LC 1872向电离内核1874、1875中的任一个提供分析物。MS内核1877、1878中的每一个均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，内核1877、1878中的任一个或两个可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，内核1877、1878配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是包括MS内核1877、1878的质量分析仪1876通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪1876中。例如，质量分析仪1876中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1870可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1870中，在内核1871、1872、1874、1875、1877和1878中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个LC的某些配置中，每个LC都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合；并且每个电离内核都可以通过接口与两个或更多个MS内核耦合。参照图18J，系统1880包括第一LC 1881、第二LC 1882、接口1883、第一电离内核1884和第二电离内核1885。电离内核1884、1885中每一个还通过接口1886与包括MS内核1888、1889的质量分析仪1887流体耦合。在使用系统1880时，可以将样品导入LC 1881、1882中，并且在将分析物物质提供到电离内核1884、1885之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口1883与LC 1881、1882中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核1884、1885中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核1884、1885可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1884中，以便在将元素离子提供给接口1886之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1885中，以便在将分子离子提供给接口1886之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1880可以配置成在将离子提供给接口1886之前，使用电离内核1884、1885对无机物质和有机物质两者进行电离处理。LC 1881、1882可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口1883可以从LC 1881向电离内核1884、1885中的任一个提供分析物。类似地，接口1883可以从LC 1882向电离内核1884、1885中的任一个提供分析物。接口1886可以从电离内核1884、1885中的任一个或两个接收离子，并且将所接收的离子提供给质量分析仪1887的MS内核1888、1889中的一个或两个。MS内核1888、1889中的每一个均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，内核1888、1889中的任一个或两个可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，内核1888、1889配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是包括MS内核1888、1889的质量分析仪1887通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪1887中。例如，质量分析仪1887中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1880可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1880中，在内核1881、1882、1884、1885、1888和1889中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，可以存在一个或多个串联布置的电离内核并与LC一起使用。例如，参照图18K，示出了系统1890，其包括LC 1891，该LC 1891与第一电离内核1892流体耦合。第一电离内核1892与第二电离内核1893流体耦合，第二电离内核1893本身与包括MS内核1894的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是如果需要，也可以存在旁路管线，以将电离内核1892直接耦合到MS内核1894，从而允许在未使用第二电离内核1893的情况下，将离子从内核1892直接提供到MS内核1894。类似地，可以存在旁路管线，以便在不需要使用电离内核1892的情况下，将LC 1891直接耦合到电离内核1893。在使用系统1890时，可以将样品导入LC 1891中，并且在将分析物物质提供到电离内核1892之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核1892可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1892中，以便在将元素离子提供给电离内核1893或MS内核1894之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1892中，以便在将分子离子提供给电离内核1893或MS内核1894之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。电离内核1893可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理，这些技术可以和内核1892所使用的技术相同的不同。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1893中，以便在将元素离子提供给MS内核1894之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1893中，以便在将分子离子提供给MS内核1894之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1890可以配置成在将离子提供给MS内核1894之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1894可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1894可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1894的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源和真空泵。系统1890可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1890中，在内核1891、1892、1893和1894中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。在一些实例中，在图18A至18J中描述和示出的任何系统都可以包括与图18K中示出的内核1892、1893类似的串联布置的电离内核。
在某些配置中，本文所描述的系统中可以存在一个或多个串联布置的MS内核。例如，参照图18L，示出了系统1895，其包括LC 1896，该LC 1896与电离内核1897流体耦合。电离内核1897与包括第一MS内核1898的质量分析仪流体耦合，第一MS内核1898本身与质量分析仪的第二MS内核1899流体耦合。尽管未示出，但是如果需要，也可以存在旁路管线，以将电离内核1897直接耦合到MS内核1899，从而允许在未使用第一MS内核1898的情况下，将离子从电离内核1897直接提供到MS内核1899。在使用系统1895时，可以将样品导入LC 1896中，并且在将分析物物质提供到电离内核1897之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核1897可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1897中，以便在将元素离子提供给MS内核1898之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1897中，以便在将分子离子提供给内核MS 1898之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1895可以配置成在将离子提供给MS内核1898之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1898可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1898可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。类似地，MS内核1899可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1899可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1898、1899的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1895可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1895中，在内核1896、1897、1898和1899中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。在某些实例中，在图18A至18K中描述和示出的任何系统都可以包括与图18L中示出的内核1898、1899类似的串联布置的MS内核。
在一些示例中，可以使用其他样品操作内核来代替GC、LC或SCF系统。例如，在将分析物物质提供给一个或多个电离内核和/或一个或多个MS内核之前，可以使用直接样品分析(DSA)装置。在一些实例中，直接样品分析技术可以允许将离子导入MS内核而无需使用单独的电离内核。另选地，直接样品分析技术可以在MS之前将离子提供给另一个电离内核。在不希望受到任何特定理论的束缚的前提下，直接样品分析可以使用针，对存在于基片或支架上或其内的样品进行电离处理。所得到的离子可以提供给合适的MS内核以便检测，或者提供给其他电离内核、样品操作内核或其他装置。如图15A至15K示出的任何图示中所示，包括GC的样品操作内核可以替代地使用包括DSA的样品操作内核或其他样品操作内核替换。类似地，如图18A至18K示出的任何图示中所示，包括LC的样品操作内核可以替代地使用包括DSA的样品操作内核或其他样品操作内核替换。参照图19，系统1900的一个图示包括样品操作内核，该样品操作内核包括与电离内核1920流体耦合的DSA装置1910，电离内核1920本身与包括MS内核1930的质量分析仪流体耦合。在使用系统1900时，可以将样品导入DSA装置1910中，并且在将分析物物质提供到电离内核1920之前，可以通过DSA1910，以某种方式对样品中的分析物进行电离或以其他方式作用其上。电离内核1920可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核1920中，以便在将元素离子提供给MS内核1930之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核1920中，以便在将分子离子提供给MS内核1930之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统1900可以配置成在将离子提供给MS内核1930之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核1930可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核1930可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核1930的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统1900可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统1900中，在内核1910、1920和1930中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。如果需要，可以使用DSA装置替换图18B至18L中所示的LC装置。进一步地，如果需要，DSA装置可以和LC装置或GC装置结合使用。
在某些示例中，样品操作内核可以配置成实施细胞分选(CS)，或者实施将一种类型的细胞与其他类型的细胞相分离的其他技术。在其他实例中，可以使用免疫测定的抗体或免疫分离，以在为某些细胞、蛋白质或其他材料提供电离内核之前，将其彼此分离。在一些示例中，可以执行电场分离(例如，通过执行电泳，诸如毛细管电泳(CE))，以在将分离的分析物提供给一个或多个电离内核之前，将生物分子(例如，氨基酸、蛋白质、肽、碳水化合物、脂质等)彼此分离。如果需要，可以实施离子选择性电极分离，以将样品中的一种或多种分析物与其他分析物相分离。CS、CE或其他样品操作内核中的任何一个或多个可以用图18A至18L中所示的LC部件替换。进一步地，如果需要，CS装置或CE装置可以和LC装置结合使用。
在某些示例中，可以使用合适的接口，将分离的分析物提供给本文所描述的电离内核，该接口可以包括雾化器、喷雾器、喷雾室、阀门、流体管线、喷嘴，或者可以从样品操作内核向电离内核提供气体、液体或固体的其他装置。接口可以和样品操作内核相分离，或者与样品操作内核成为一体。在其他配置中，接口可以和电离内核成为一体。如果需要，还可以存在自动进样器，并与本文所描述的样品操作内核一起使用。
电离内核
在某些示例中，本文所描述的系统可以包括一个或多个电离内核，该电离内核可以配置成向一个或多个质谱仪内核(MSC)提供离子，例如无机离子、分子离子等。选择使用的精确的电离内核可能取决于待分析的特定样品。在一些实例中，在本文所描述的仪器中使用的电离内核可以包括：第一电离源，其配置成提供无机离子(例如，元素离子)；和第二电离源，其配置成提供分子离子(例如，有机离子)。如本文所指出的，电离内核可以配置成提供低质量离子(例如，质量为三、四或五个amu的离子)，和高质量离子(例如，质量高达2000amu的离子)。在一些示例中，电离内核可以包括可以提供无机离子的电离装置。可以提供无机离子的示例性电离装置包含但不限于：电感耦合等离子体(ICP)、电容耦合等离子体(CCP)、微波等离子体、火焰、电弧、火花或其他高能量源。
在某些配置中，电离内核可以包括电感耦合等离子体(ICP)装置。参照图20，示出了电感耦合等离子体装置2000，其包括炬管和感应线圈2050。ICP装置2000包括炬管，炬管包括外管2010、内管2020、喷雾器2030和螺旋感应线圈2050。装置2000可以用来使用大致由图20中的箭头所示的气流，维持电感耦合等离子体2060。螺旋感应线圈550可以与射频能量源(未示出)电耦合，以向炬管提供射频能量，从而维持炬管内的等离子体2060。在一些实施例中，无机离子可以从等离子体2060离开并且提供给本文所描述的质量分析仪。
在一些配置中，电离内核可以包括电感耦合等离子体装置，该电感耦合等离子体装置包括具有一个或多个板式电极的感应装置。例如，参照图21，ICP装置2100包括外管2110、内管2120、喷雾器2130和板式电极2142。显示存在可选的第二板式电极2144，并且如果需要，也可以存在三个或更多个板式电极。外管2110可以定位在板式电极2142、2144的孔内，如图21所示。ICP装置2100可以用来使用图21中的箭头所示的气流，维持等离子体2160。板式电极2142、2144可以与射频能量源(未示出)电耦合，以向炬管提供射频能量，从而维持炬管内的等离子体2160。在一些示例中，无机离子可以从等离子体2160离开并且提供给本文所描述的质量分析仪。例如，在共同受让的美国专利第7,511,246号、第8,263,897号、第8633,416号、第8,786,394号、第8,829,386号、第9,259,798号和第6,504,137号中，描述了示例性的板式电极及其用途。
在某些配置中，电离内核可以包括“松果式”感应装置，如图22A和图22B所示。感应装置2210一般包括一个或多个径向翅片2212。感应装置1210通过互连件或支腿2220、2230与底座或接口电耦合。例如，感应装置2210的一端与支腿2220电耦合，并且感应装置2210的另一端与支腿2230电耦合。例如，可以向支腿2220、2230中的每一个提供相反极性的电流，或者可以通过支腿2220向感应装置2210提供电流，并且支腿2230可以连接到地。在一些实例中，可以省略支腿2220、2230中的一个，并且感应装置2210的另一端可以电耦合到地。如果需要，在支腿2220和2230之间的某个点处的感应装置可以电耦合到地。冷却气体可以提供给感应装置2210，并且可以围绕感应装置2210的翅片和基部流动，以增强热传递并防止感应装置2210和/或炬管因温度过高而退化。感应装置2210可以卷绕以形成可以接收炬管2250的内孔(参见图22B)，该炬管可以设计成与参照图20和图21中描述的炬管类似。在共同受让的美国专利第9,433,073号中，更详细地描述了具有径向翅片的示例性感应装置。
在一些示例中，本文所描述的电离内核可以包括电容耦合等离子体装置，该装置可以向质量分析仪提供无机离子。参照图23，电离内核2300包括围绕炬管2305的电容装置2310。电容装置2310与振荡器2315电耦合。振荡器2315可以控制成使得以所需频率为电容装置2提供射频能量。例如，电容装置2310可以从与电容装置2310电耦合的27MHz振荡器、38.5MHz振荡器或40MHz振荡器，提供射频能量。振荡器的27MHz、38.5MHz和40MHz操作仅仅为示例性的，并且不是维持炬管中的电容耦合等离子体所必需的。如果需要，可以将两个、三个或更多个电容装置耦合到单个炬管，以维持炬管中的电容耦合等离子体。任何一个或多个电容装置可以和另一台电容装置一样与同一台振荡器电耦合，或者可以与不同的振荡器电耦合。另外，电容装置不需要是相同类型或种类。例如，一台电容装置可以采用线圈的形式，并且另一台电容装置可以是板式电极或其他不同类型的电容装置。在共同受让的美国专利第9,504,137号中，描述了可以在电离内核中使用的示例性电容装置。
在一些实施例中，如本文所描述的电离内核可以包括具有耐火尖端或端部的炬管，以延长炬管的总寿命。参照图24，炬管2400包括长度L并且包括尖端2410，例如，氮化硅尖端，其存在于炬管的端部。磨砂玻璃接头2430(或除尖端2410和主体2420中存在的材料之外的材料)可以存在于石英主体2420和尖端2410之间。如果需要，可以抛光磨砂玻璃接头，或者以其它方式使其基本上呈光学透明性，以允许对炬管中的等离子体进行更好的观察。在一些示例中，无机离子可从使用炬管2400产生的等离子体中离开，并提供给如本文所描述的质量分析仪。例如，在美国专利第9,259,798号和第9,516,735号中，描述了具有耐火尖端或端部的示例性炬管及其用途。
在一些实施例中，电离内核可以包括增强装置以增强电离。例如，增强装置通常与无机离子源结合使用，以将附加射频能量提供到炬管中，并且可以辅助对难以电离元素进行电离处理。参照图25A，系统2500包括增强装置2520，增强装置2520显示成环绕炬管2510。炬管2510还被感应线圈或一个或多个板式电极(未示出)环绕，该感应线圈或一个或多个板式电极可以用来维持炬管2510中的电感耦合等离子体或电容耦合等离子体。可以将来自RF源2530的射频能量提供给增强装置2520，以向炬管2510中提供附加的射频。增强装置可以和感应线圈、板式电极等一样存在于相同的炬管上。例如，参照图25B，示出了系统2550，其包括：增强装置2560，其环绕与炬管2555分离的腔室2570；和感应线圈2556，其用来维持等离子体。炬管2555和腔室2570通过接口2575分离，尽管如此，如果需要可以省略接口2575。
在其他实例中，电离内核可以包括火焰、电弧、火花等中的一种或多种，以便提供无机离子。通过向电极提供电流，可以在两个电极之间产生电弧。可以使用合适的燃料源和燃烧器来产生火焰。通过使电流穿过包括样品或其他材料的电极，可以产生火花。这些电离源中的任何一种都可以用在本文所描述的电离内核中。方便起见，参照图26A至26L，对包括ICP的电离内核的各种配置进行描述。可以使用其他无机电离源代替ICP，例如，如果需要，可以使用CCP，可以使用微波等离子体，或者可以使用电弧，或者可以使用火焰，或者可以使用火花等。参照图26A，系统2600包括与电离内核流体耦合的样品操作内核2601，电离内核包括ICP 2602，该ICP 2602本身与包括MS内核2603的质量分析仪流体耦合。在使用系统2600时，可以将样品导入样品操作内核2601中，并且在将分析物物质提供到ICP 2602之前，可以通过样品操作内核2601，以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。ICP 2602可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。在一些示例中，ICP 2602可以用CCP或微波等离子体替换。在其他示例中，ICP 2602可以用火焰替换。在另外的示例中，ICP 2602可以用电弧替换。在其他示例中，ICP2602可以用火花替换。在附加示例中，ICP 2602可以用另一种无机电离内核替换。在一些实例中，ICP可以在将元素离子提供给MS内核2603之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核中，以便在将分子离子提供给MS内核2603之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2600可以配置成在将离子提供给MS内核2603之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核2603可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核2603可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核2603的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统2600可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2600中，在内核2601、2602和2603中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，可以将图26A中所示的内核中的任一个或多个分离成或分成两个或更多个内核。例如，参照图26B，系统2605包括样品操作内核2606、与样品操作内核2606流体耦合的包括ICP的第一电离内核2607、以及与样品操作内核2606流体耦合的第二电离内核2608。内核2607、2608中的每一个还与包括MS内核2609的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在样品操作内核2606和电离内核2607、2608之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统2605使用期间，在选定的时间，从样品操作内核2606仅向电离内核2607、2608中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从样品操作内核2606同时向电离内核2607、2608提供物质。类似地，在电离内核2607、2608和MS内核2609之间，可以存在阀、接口或其他装置(未示出)，以便在系统2605使用期间，在选定的时间，从电离内核2607、2608中的一个向MS内核2609提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核2607、2608向MS内核2609提供物质。在使用系统2605时，可以将样品导入样品操作内核2606中，并且在将分析物物质提供到电离内核2607、2608中的一个或两个之前，可以通过样品操作内核2606，以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核2607、2608可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。在一些示例中，ICP 2607可以用CCP或微波等离子体替换。在其他示例中，ICP 2607可以用火焰替换。在另外的示例中，ICP 2607可以用电弧替换。在其他示例中，ICP 2607可以用火花替换。在附加示例中，ICP 2607可以用另一种无机电离内核替换。在一些实例中，包括ICP 2607的电离内核可以在将元素离子提供给内核2609之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核2608中，以便在将分子离子提供给MS内核2609之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2605可以配置成在将离子提供给MS内核2609之前，使用电离内核2607、2608对无机物质和有机物质两者进行电离处理。MS内核2609可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，内核2609可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核2609的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，内核2609中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统2605可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2605中，在内核2606、2607、2608和2609中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在其他配置中，本文所描述的MS内核(与LC一起使用时)可以分离成两个或更多个单独的内核。如本文所指出的，即使MS内核可以分离，但其仍然可以共享某些共用部件，包含气体控制器、处理器、电源和/或真空泵。参照图26C，示出了系统2610，其包括样品操作内核2611、包括ICP的第一电离内核2612、第二电离内核2613、以及质量分析仪2614，质量分析仪2614包括第一MS内核2615和第二MS内核2616。样品操作内核2611与电离内核2612、2613中的每一个流体耦合。尽管未示出，但是在样品操作内核2611和电离内核2612、2613之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统2610使用期间，在选定的时间，从样品操作内核2611仅向电离内核2612、2613中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从样品操作内核2611同时向电离内核2612、2613提供物质。电离内核2612与第一MS内核2615流体耦合，并且第二电离内核2613与第二MS内核2616流体耦合。在使用系统2610时，可以将样品导入样品操作内核2611中，并且在将分析物物质提供到电离内核2612、2613中的一个或两个之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核2612、2613可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，ICP 2612可以在将元素离子提供给MS内核2615之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在一些示例中，ICP 2612可以用CCP或微波等离子体替换。在其他示例中，ICP 2612可以用火焰替换。在另外的示例中，ICP 2612可以用电弧替换。在其他示例中，ICP 2612可以用火花替换。在附加示例中，ICP 2612可以用另一种无机电离内核替换。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核2613中，以便在将分子离子提供给MS内核2616之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2610可以配置成在将离子提供给MS内核2615、2616之前，使用电离内核2612、2613对无机物质和有机物质两者进行电离处理。MS内核2615、2616可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，根据存在的特定部件，MS内核2615可以设计成对无机离子进行过滤/选择/检测，并且MS内核2616可以设计成对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是质量分析仪2614通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以单独存在于质量分析仪2614中。例如，虽然MS内核2615、2616中的每一个可以包括其自己的气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵(如果需要)，但共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵可以由质量分析仪2614中存在的不同质量MSC使用。系统2610可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2610中，在系统2610的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在样品操作内核、两个电离内核和两个MS内核的一些实例中，可能需要将离子从不同的电离内核提供给不同的MS内核。例如，参照图26D，示出了系统2620，其包括样品操作内核2621、包括ICP的第一电离内核2622、第二电离内核2623、接口2624、以及质量分析仪2625，该质量分析仪2625包括第一MS内核2626和第二MS内核2627。样品操作内核2621与电离内核2622、2623中的每一个流体耦合。尽管未示出，但是在样品操作内核2621和电离内核2622、2623之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统2620使用期间，在选定的时间，从样品操作内核2621仅向电离内核2622、2623中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从样品操作内核2621同时向电离内核2622、2623提供物质。电离内核2622与接口2624流体耦合，而电离内核2623与接口2624流体耦合。接口2624与第一MS内核2626和第二MS内核2627中的每一个流体耦合。在使用系统2620时，可以将样品导入样品操作内核2621中，并且在将分析物物质提供到电离内核2622、2623中的一个或两个之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核2622、2623可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，ICP 2622可以在将元素离子提供给接口2624之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在一些示例中，ICP 2622可以用CCP或微波等离子体替换。在其他示例中，ICP 2622可以用火焰替换。在另外的示例中，ICP 2622可以用电弧替换。在其他示例中，ICP 2622可以用火花替换。在附加示例中，ICP2622可以用另一种无机电离内核替换。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核2623中，以便在将分子离子提供给接口2624之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2620可以配置成在将离子提供给接口2624之前，使用电离内核2622、2623对无机物质和有机物质两者进行电离处理。接口2624可以配置成向MS内核2626、2627中的任一个或两个提供离子，每个MS内核均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，根据存在的特定部件，MS内核2626可以设计成对无机离子进行过滤/选择/检测，并且MS内核2627可以设计成对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，MS内核2626、2627配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪2625通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以单独存在于质量分析仪2625中。例如，虽然MS内核2626、2627中的每一个可以包括其自己的气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵(如果需要)，但共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵可以由质量分析仪2625中存在的不同质量MSC使用。系统2620可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2620中，在系统2620的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些示例中，如果需要，可以将样品操作内核分成两个或更多个内核。例如，与向电离内核或MS内核提供有机离子时相比，当向电离内核或MS内核提供无机离子时，可能需要执行不同的操作。参照图26E，示出了系统2630，其包括第一样品操作内核2631和第二样品操作内核2632。样品操作内核2631、2632中的每一个均与接口2633流体耦合。接口2633与包括ICP 2634的电离内核流体耦合，ICP 2634本身与包括MS内核2635的质量分析仪流体耦合。在使用系统2630时，可以将样品导入样品操作内核2631、2632中的一个或两个，并且在将分析物物质提供到接口2633之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。不同的样品操作内核2631、2632可以配置成执行不同的分离、使用不同的分离条件、使用不同的载气或者包含不同的部件。接口2633可以配置成允许样品从样品操作内核2631、2632中的一个或两个通过，到达包括ICP 2634的电离内核。电离内核2634可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，ICP 2634可以在将元素离子提供给MS内核2635之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在一些示例中，ICP 2634可以用CCP或微波等离子体替换。在其他示例中，ICP 2634可以用火焰替换。在另外的示例中，ICP 2634可以用电弧替换。在其他示例中，ICP 2634可以用火花替换。在附加示例中，ICP 2634可以用另一种无机电离内核替换。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核2634中，以便在将分子离子提供给内核26350之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2630可以配置成在将离子提供给内核2635之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核2635可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，内核2635可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核2635的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统2630可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2630中，在系统2630的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，如果需要，可以将样品操作内核彼此串联耦合。例如，可能需要使用针对不同分离条件配置的样品操作，对样品中的分析物执行分离。参照图26F，示出了系统2640，其包括第一样品操作内核2641，第一样品操作内核2641与第二样品操作内核2642流体耦合。根据分析物样品的性质，样品操作内核2641、2642中的一个可以存在于无源配置中，并且一般使样品穿过而不会对样品执行任何操作；而在其他实例中，样品操作内核2641、2642中的每一个执行一项或多项样品操作，该样品操作包含但不限于：在将分析物物质提供给电离内核2643之前，以某种方式对样品进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用于其上。包括ICP的电离内核2643可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，ICP可以在将元素离子提供给包括MS内核2644的质量分析仪之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在一些示例中，ICP 2643可以用CCP或微波等离子体替换。在其他示例中，ICP 2643可以用火焰替换。在另外的示例中，ICP 2643可以用电弧替换。在其他示例中，ICP 2643可以用火花替换。在附加示例中，ICP2643可以用另一种无机电离内核替换。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核2643中，以便在将分子离子提供给内核2644之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2640可以配置成在将离子提供给MS内核2644之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核2644可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核2644可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核2644的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统2640可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2640中，在系统2640的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个样品操作内核的某些配置中，每个样品操作可以与相应的电离内核流体耦合。例如，参照图26G，系统2660包括第一样品操作内核2651、第二样品操作内核2652、与第一样品操作内核2651流体耦合的包括ICP的第一电离内核2653，以及与第二样品操作内核2652流体耦合的第二电离内核2654。电离内核2653、2654中的每一个还与包括MS内核2655的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在电离内核2653、2654和MS内核2655之间，可以存在阀、接口或其他装置，以便在系统2650使用期间，在选定的时间，从电离内核2653、2654中的一个向MS内核2655提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核2653、2654向MS内核2655提供物质。在使用系统2650时，可以将样品导入样品操作261、2652中，并且在将分析物物质提供到电离内核2653、2654之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核2653、2654可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，ICP 2653可以在将元素离子提供给MS内核2655之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在一些示例中，ICP 2653可以用CCP或微波等离子体替换。在其他示例中，ICP 2653可以用火焰替换。在另外的示例中，ICP 2653可以用电弧替换。在其他示例中，ICP 2653可以用火花替换。在附加示例中，ICP2653可以用另一种无机电离内核替换。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核2654中，以便在将分子离子提供给MS内核2655之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2650可以配置成在将离子提供给MS内核2655之前，使用电离内核2653、2654对无机物质和有机物质两者进行电离处理。MS内核2655可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核2655可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核2655的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统2650可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2650中，在系统2650的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个样品操作内核的某些配置中，每个样品操作都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合。例如，参照图26H，系统2660包括第一样品操作内核2661、第二样品操作内核2662、接口2663、包括ICP的第一电离内核2664、以及第二电离内核2665。电离内核2664、2665中的每一个还与包括MS内核2666的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在电离内核2664、2665和MS内核2666之间，可以存在阀、接口或其他装置，以便在系统2660使用期间，在选定的时间，从电离内核2664、2665中的一个向MS内核2666提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核2664、2665向MS内核2666提供物质。在使用系统2660时，可以将样品导入样品操作2661、2662中，并且在将分析物物质提供到电离内核2664、2665之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口2663与样品操作内核2661、2662中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核2664、2665中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核2664、2665可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，ICP 2664可以在将元素离子提供给内核2666之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在一些示例中，ICP 2664可以用CCP或微波等离子体替换。在其他示例中，ICP 2664可以用火焰替换。在另外的示例中，ICP2664可以用电弧替换。在其他示例中，ICP 2664可以用火花替换。在附加示例中，ICP 2664可以用另一种无机电离内核替换。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核2665中，以便在将分子离子提供给MS内核2666之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2660可以配置成在将离子提供给MS内核2666之前，使用电离内核2664、2665对无机物质和有机物质两者进行电离处理。样品操作内核2661、2662可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口2663可以从样品操作内核2661向电离内核2664、2665中的任一个提供分析物。类似地，接口2663可以从样品操作内核2662向电离内核2664、2665中的任一个提供分析物。MS内核2666可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核2666可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核2666的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统2660可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2660中，在系统2660的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个样品操作内核的某些配置中，每个样品操作都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合；并且每个电离内核都可以包括相应的MS内核。例如，参照图26I，系统2670包括第一样品操作内核2671、第二样品操作内核2672、接口2673、包括ICP的第一电离内核2674、以及第二电离内核2675。电离内核2674、2675中每一个还与包括MS内核2677、2678的质量分析仪2676流体耦合。在使用系统2670时，可以将样品导入样品操作内核2671、2672中，并且在将分析物物质提供到电离内核2674、2675之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口2673与样品操作内核2671、2672中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核2674、2675中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核2674、2675可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，ICP 2674可以在将元素离子提供给MS内核2677之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在一些示例中，ICP 2674可以用CCP或微波等离子体替换。在其他示例中，ICP 2674可以用火焰替换。在另外的示例中，ICP 2674可以用电弧替换。在其他示例中，ICP 2674可以用火花替换。在附加示例中，ICP 2674可以用另一种无机电离内核替换。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核2675中，以便在将分子离子提供给内核2678之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2670可以配置成在将离子提供给MS内核2677、2678之前，使用电离内核2674、2675对无机物质和有机物质两者进行电离处理。样品操作内核2671、2672可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口2673可以从样品操作内核2671向电离内核2674、2675中的任一个提供分析物。类似地，接口2673可以从样品操作内核2672向电离内核2674、2675中的任一个提供分析物。MS内核2677、2678中的每一个均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核2677、2678中的任一个或两个可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，MS内核2677、2678配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪2676通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪2676中。例如，质量分析仪2676中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统2670可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2670中，在系统2670的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个样品操作内核的某些配置中，每个样品操作都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合；并且每个电离内核都可以通过接口与两个或更多个MS内核耦合。参照图26J，系统2680包括第一样品操作内核2681、第二样品操作内核2682、接口2683、包括ICP的第一电离内核2684、以及第二电离内核2685。内核2684、2685中每一个还通过接口2686与包括MS内核2688、2689的质量分析仪2687流体耦合。在使用系统2680时，可以将样品导入样品操作内核2681、2682中，并且在将分析物物质提供到电离内核2684、2685之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口2683与样品操作内核2681、2682中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核2684、2685中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核2684、2685可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，ICP 2684可以在将元素离子提供给接口2686之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在一些示例中，ICP 2684可以用CCP或微波等离子体替换。在其他示例中，ICP 2684可以用火焰替换。在另外的示例中，ICP 2684可以用电弧替换。在其他示例中，ICP 2684可以用火花替换。在附加示例中，ICP 2684可以用另一种无机电离内核替换。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核2685中，以便在将分子离子提供给接口2686之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2680可以配置成在将离子提供给接口2686之前，使用电离内核2684、2685对无机物质和有机物质两者进行电离处理。样品操作内核2681、2682可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口2683可以从样品操作内核2681向电离内核2684、2685中的任一个提供分析物。类似地，接口2683可以从样品操作内核2682向电离内核2684、2685中的任一个提供分析物。接口2686可以从电离内核2684、2685中的任一个或两个接收离子，并且将所接收的离子提供给MS内核2688、2689中的一个或两个。MS内核2688、2689中的每一个均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，内核2688、2689中的任一个或两个可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，内核2688、2689配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪2687通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪2687中。例如，质量分析仪2687中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统2680可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2680中，在系统2680的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，可以存在一个或多个串联布置的电离内核并与样品操作一起使用。例如，参照图26K，示出了系统2690，其包括样品操作内核2691，该样品操作内核2691与第一电离内核2692流体耦合。包括ICP的第一电离内核2692与第二电离内核2693流体耦合，第二电离内核2693本身与包括MS内核2694的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是如果需要，也可以存在旁路管线，以将电离内核2692直接耦合到MS内核2694，从而允许在未使用第二电离内核2693的情况下，将离子从内核2692直接提供到MS内核2694。类似地，可以存在旁路管线，以便在不需要使用电离内核2692的情况下，将样品操作内核2691直接耦合到电离内核2693。在使用系统2690时，可以将样品导入样品操作内核2691中，并且在将分析物物质提供到ICP 2692之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核2692可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，ICP 2692可以在将元素离子提供给内核2693或MS内核2694之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在一些示例中，ICP 2692可以用CCP或微波等离子体替换。在其他示例中，ICP 2692可以用火焰替换。在另外的示例中，ICP 2692可以用电弧替换。在其他示例中，ICP 2692可以用火花替换。在附加示例中，ICP 2692可以用另一种无机电离内核替换。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核2692中，以便在将分子离子提供给内核2693或MS内核2694之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。电离内核2693可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理，这些技术可以和内核2692所使用的技术不同。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核2693中，以便在将元素离子提供给MS内核2694之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核2693中，以便在将分子离子提供给MS内核2694之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2690可以配置成在将离子提供给MS内核2694之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核2694可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核2694可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核2694的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统2690可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2690中，在系统2690的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。在一些实例中，在图26A至26J中描述和示出的任何系统都可以包括与图26K中示出的内核2692、2693类似的串联布置的电离内核。
在某些配置中，本文所描述的系统中可以存在一个或多个串联布置的MS内核。例如，参照图26L，示出了系统2695，其包括样品操作内核2696，该样品操作内核2696与包括ICP的电离内核2697流体耦合。电离内核2697与包括第一MS内核2698的质量分析仪流体耦合，第一MS内核2698本身与质量分析仪的第二MS内核2699流体耦合。尽管未示出，但是如果需要，也可以存在旁路管线，以将电离内核2697直接耦合到MS内核2699，从而允许在未使用第一MS内核2698的情况下，将离子从内核2697直接提供到MS内核2699。在使用系统2695时，可以将样品导入样品操作内核2696中，并且在将分析物物质提供到电离内核2697之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核2697可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，ICP 2697可以在将元素离子提供给MS内核2698之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核2697中，以便在将分子离子提供给MS内核2698之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2695可以配置成在将离子提供给MS内核2698之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核2698可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核2698可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。类似地，MS内核2699可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核2699可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核2698、2699的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统2695可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2695中，在系统2695的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。在一些实例中，在图26A至26K中描述和示出的任何系统都可以包括与图26L所示的内核2698、2699类似的串联布置的MS内核。
在某些配置中，电离内核可以包括一个或多个可以对有机离子进行电离处理(例如，向下游内核提供分子离子)的装置或系统。在本文的某些实例中，这种电离内核被称为有机电离内核，或可以提供有机离子的电离内核。有机电离内核通常包括配置成提供有机离子的有机离子源。用来提供有机离子的精确技术可以改变，并且一般而言，使用比用来提供无机离子的那些“更软”的电离技术提供有机离子。在一种配置中，电离内核可以包括配置成执行快原子轰击的装置或系统。快原子轰击源(FAB)可以提供高质量(例如，2000amu或以上)的有机离子。尽管不希望受任何特定理论的束缚，但FAB源可以通过用高能氙或氩原子轰击缩合样品，例如，在溶液或溶剂(诸如甘油溶液)基质中对缩合状态的样品进行电离处理。在样品解吸过程中，可以产生正有机离子和负有机离子。由原子轰击样品引起的快速加热可以在减少样品碎裂的同时，提供离子。液体基质可以减少晶格能量，并且可以允许对由轰击引起的任何损坏进行修复。为了获得原子，可以通过包括其他氙或氩原子的真空室对氙束或氩束进行加速。加速的离子与其他原子进行共振电子交换，而不会发生明显的能量损失。使用偏转器和/或透镜，可以清除能量较低的离子，并且可以使用枪或其他装置来集中快原子。FAB可以形成分子量高达约3,000或甚至10,000的分子离子。
在某些示例中，电离内核可以包括电喷雾电离(ESI)源以提供分子离子。在ESI源中，在存在气体的情况下，将样品(通常在大气压下)提供到电场中，以辅助进行去溶剂化。气溶胶液滴在真空区域中形成，导致电荷在分析物液滴上增加。产生的离子可以提供给MS台架。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括ESI源以提供分子离子。ESI可以和解吸电离(DESI)结合使用，其中，将电喷雾液滴关注点朝向样品引导，以提供离子。如果需要，以下描述ESI的使用的示例可以替代地使用DESI。
在某些实施例中，电离内核可以包括电子碰撞(EI)源以提供有机离子。在典型的EI源中，从金属丝发射的电子可以朝向阳极加速。当电子与分子碰撞(一般以90度角)时，形成的主要物质是单电荷正离子，因为碰撞的电子可能会导致分子因电子排斥效应而失去电子。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括EI源以提供分子离子。
在某些示例中，电离内核可以包括基质辅助激光解吸/电离(MALDI)源以提供有机离子。在MALDI源的一种配置中，包括分析物的样品可以和合适的基质材料混合，并设置在基片(例如，金属板)上。然后，可以向设置的样品/基质材料提供激光脉冲，例如，UV激光脉冲。激光脉冲被基质吸收，这会导致来自基片的分析物(和一些基质材料)快速受热、消融和解吸。然后，可以提供解吸的分析物或将其暴露于消融的气体，以便对分析物进行电离处理。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，其包括提供分子离子的MALDI源。
在某些示例中，电离内核可以包括化学电离源(CI)。CI源可以单独使用，或者与其他电离源(例如EI源)结合使用。在CI源中，气态样品原子通过与电子轰击过量反应气而产生的离子发生碰撞而进行电离。通常产生正离子，但也可以产生负离子，具体取决于所使用的样品和气体。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括EI源以提供分子离子。
在某些实施例中，电离内核可以包括场电离源(FI)。FI源在例如108V/cm或更高的大电场的影响下形成离子。可以向发射器(例如，包括碳或其他材料的钨丝)提供高电压。可以将来自样品操作内核的气态样品提供给发射器或其附近，并且可以发生从样品的分析物到发射器的电子转移。传递给分析物的能量很小，这导致样品碎裂很少或没有样品碎裂。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括FI源以提供分子离子。
在某些实例中，包括场解吸(FD)源的电离内核可以用来提供有机离子。在FD源中，可以将类似于FI源的那些的发射器安装在可以用样品涂覆的探针上。通过向探针施加电势来进行电离。还可以对探针进行加热，以增强离子的形成。在一些实例中，本文所描述的电离内核可以包括FD源。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括FD源以提供有机离子。
在某些示例中，电离内核可以包括二次离子(SI)源。通过将表面暴露于离子束，可以使用SI源分析固体表面、膜和涂层。然后，如本文所述，可以将从表面射出的二次离子提供给MS内核。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括SI源以提供有机离子。
在某些配置中，电离内核可以包括等离子体解吸(PD)源。在PD源中，利用从核或不稳定材料的裂变形成的离子原子或中性原子，轰击固态样品。所得到的离子可以提供给本文所描述的MS内核。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括PD源以提供有机离子。
在一些示例中，电离内核可以包括热电离(TI)源。TI源可以将蒸发的中性原子提供给加热的表面，以促进离子形式的原子的再蒸发。该技术通常用于电离能较低的表面，例如，包括锂、钠、钾等的表面。根据用来喷涂表面的原子的性质，可以提供正离子和负离子。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括TI源以提供有机离子。
在一些示例中，电离内核可以包括电流体动力学电离(EHI)源。在EHI源中，通过施加电场，从液体表面产生带电液滴/离子。对于分析从包括LC的样品操作内核中洗脱的液体分析物而言，EHI源可能特别有用。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括EHI源以提供有机离子。
在其他示例中，电离内核可以包括热喷雾(TS)源。在TS源中，迫使包括样品和溶剂的液体通过例如金属毛细管中的带电小孔。分析物以电离化的形式离开。液体以气溶胶的形式离开孔。当溶剂蒸发时，分析物离子彼此排斥并导致液滴破裂。最终，分析物离子不含溶剂，并且可以提供给本文所描述的MS内核。在某些配置中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括TS源以提供有机离子。
在一些实施例中，电离内核可以包括大气压化学电离(APCI)源。在APCI源中，在大气压下喷射包括样品的加热的溶剂，并用高流速的氮气或其他气体喷射以提供气溶胶。所得到的气溶胶暴露于电晕放电，电晕放电允许溶剂用作反应气，以对样品中的分析物进行电离。在APCI中，溶剂蒸发步骤一般与离子形成步骤分开，这允许将低极性溶剂与APCI源一起使用。当存在包括LC装置的样品操作内核时，APCI源可能特别适于使用。在某些配置中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括APCI源以提供有机离子。在其他实例中，可以使用其他大气增压装置来提供有机离子。
在一些示例中，电离内核可以包括光电离(PI)源。PI源使样品暴露于光下来产生离子。可以实施单光子或多光子电离技术。进一步地，可以向雾化溶剂喷雾提供光，以提供离子。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括PI源以提供有机离子。
在一些配置中，电离内核可以包括硅上解吸电离(DiOS)源。在DiOS源中，使用激光对沉积在一般惰性的多孔硅基表面上的样品进行解吸/电离。在需要很少碎裂或没有碎裂的情况下，DiOS源通常与小的或大的分析物分子一起使用。DiOS源可能优于MALDI源，因为使用DiOS源不会产生干扰性基质离子，这允许将DiOS源与小分子一起使用。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括DiOS源以提供有机离子。
在某些实施例中，电离内核可以包括实时直接分析(DART)源。DART源是一种大气压力离子源，其可以在大气条件下同时对气体、液体和固体进行电离。通过将分析物分子暴露于电子激发的原子或亚稳态物质，电离通常直接在样品表面上发生。分析物分子和受激原子之间的碰撞可能会导致电子转移/释出并提供分析物离子。通常存在载气，以便将所得的分析物离子提供给MS内核。在某些示例中，本文所描述的系统可以包括电离内核，该电离内核包括DART源以提供有机离子。
参照图27，系统2700包括与电离内核流体耦合的样品操作内核2701，该电离内核包括有机离子源2702，该有机离子源2702本身与包括MS内核2703的质量分析仪流体耦合。在使用系统2700时，可以将样品导入样品操作内核2701中，并且在将分析物物质提供到有机离子源2702之前，可以通过样品操作内核2701，以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。有机离子源2702可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。在某些实例中，有机离子源2702可以包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源2702可以包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源2702可以包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源2702可以包括EI装置。在某些实例中，有机离子源2702可以包括FI装置。在其他实例中，有机离子源2702可以包括FD装置。在某些实例中，有机离子源2702可以包括SI装置。在其他实例中，有机离子源2702可以包括PD装置。在某些实例中，有机离子源2702可以包括TI装置。在其他实例中，有机离子源2702可以包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源2702可以包括TS装置。在其他实例中，有机离子源2702可以包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源2702可以包括PI装置。在其他实例中，有机离子源2702可以包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源2702可以包括DART装置。在一些实例中，源2702可以在将分子离子提供给MS内核2703之前，对分子物质进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核中，以便在将分子离子提供给MS内核2703之前，产生元素物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2700可以配置成在将离子提供给MS内核2703之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核2703可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，内核2703可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核2703的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源和真空泵。系统2700可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2700中，在系统2700的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，可以将图27中所示的内核中的任一个或多个分离成或分成两个或更多个内核。例如，参照图28，系统2800包括样品操作内核2806、与样品操作内核2806流体耦合的包括有机离子源的电离内核2808、以及与样品操作内核2806流体耦合的另一个电离内核2807。内核2807、2808中的每一个还与包括MS内核2809的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在样品操作内核2806和电离内核2807、2808之间，可以存在接口、阀或其他装置，以便在系统2805使用期间，在选定的时间，从样品操作内核2806仅向电离内核2807、2808中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从样品操作内核2806同时向电离内核2807、2808提供物质。类似地，在电离内核2807、2808和MS内核2809之间，可以存在阀、接口或其他装置(未示出)，以便在系统2800使用期间，在选定的时间，从电离内核2807、2808中的一个向MS内核2809提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核2807、2808向MS内核2809提供物质。在使用系统2800时，可以将样品导入样品操作内核2806中，并且在将分析物物质提供到电离内核2807、2808中的一个或两个之前，可以通过样品操作内核2806，以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核2807、2808可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。在一些示例中，内核2807可以包括ICP或CCP或微波等离子体。在其他示例中，内核2807可以包括火焰。在另外的示例中，内核2807可以包括电弧。在其他示例中，内核2807可以包括火花。在附加示例中，内核2807可以包括另一种无机电离内核。在一些实例中，电离内核2802包括有机离子源。在某些实例中，有机离子源2808可以包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源2808可以包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源2808可以包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源2808可以包括EI装置。在某些实例中，有机离子源2808可以包括FI装置。在其他实例中，有机离子源2808可以包括FD装置。在某些实例中，有机离子源2808可以包括SI装置。在其他实例中，有机离子源2808可以包括PD装置。在某些实例中，有机离子源2808可以包括TI装置。在其他实例中，有机离子源2808可以包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源2808可以包括TS装置。在其他实例中，有机离子源2808可以包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源2808可以包括PI装置。在其他实例中，有机离子源2808可以包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源2808可以包括DART装置。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核2808中，以便在将无机离子提供给内核2809之前，产生元素物质或对其进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2800可以配置成在将离子提供给内核2809之前，使用电离内核2807、2808对无机物质和有机物质两者进行电离处理。MS内核2809可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，内核2809可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核2809的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统2800可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2800中，在系统2800的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在其他配置中，本文所描述的MS内核(与有机离子源一起使用时)可以分离成两个或更多个单独的内核。如本文所指出的，即使MS内核可以分离，但其仍然可以共享某些共用部件，包含气体控制器、处理器、电源和/或真空泵。参照图29，示出了系统2900，其包括样品操作内核2911、包括有机离子源的第一电离内核2913、另一个电离内核2912、以及质量分析仪2910，该质量分析仪2910包括第一MS内核2914和第二MS内核2915。样品操作内核2911与电离内核2912、2913中的每一个流体耦合。尽管未示出，但是在样品操作内核2911和电离内核2912、2913之间，可以存在接口、阀或其他装置(未示出)，以便在系统2910使用期间，在选定的时间，从样品操作内核2911仅向电离内核2912、2913中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从样品操作内核2911同时向电离内核2912、2913提供物质。电离内核2912与第一MS内核2914流体耦合，并且第二电离内核2913与第二MS内核2915流体耦合。在使用系统2910时，可以将样品导入样品操作内核2911中，并且在将分析物物质提供到电离内核2912、2913中的一个或两个之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核2912、2913可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，有机离子源2913可以在将分子离子提供给内核2914之前，对分子物质进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在一些示例中，内核2912可以包括ICP或CCP或微波等离子体。在其他示例中，内核2912可以包括火焰。在另外的示例中，内核2912可以包括电弧。在其他示例中，内核2912可以包括火花。在某些实例中，有机离子源2913可以包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源2913可以包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源2913可以包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源2913可以包括EI装置。在某些实例中，有机离子源2913可以包括FI装置。在其他实例中，有机离子源2913可以包括FD装置。在某些实例中，有机离子源2913可以包括SI装置。在其他实例中，有机离子源2913可以包括PD装置。在某些实例中，有机离子源2913可以包括TI装置。在其他实例中，有机离子源2913可以包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源2913可以包括TS装置。在其他实例中，有机离子源2913可以包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源2913可以包括PI装置。在其他实例中，有机离子源2913可以包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源2913可以包括DART装置。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核2913中，以便在将元素离子提供给MS内核2915之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统2900可以配置成在将离子提供给内核2914、2915之前，使用电离内核2912、2913对无机物质和有机物质两者进行电离处理。MS内核2914、2915可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，根据存在的特定部件，MS内核2914可以设计成对无机离子进行过滤/选择/检测，并且MS内核2915可以设计成对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是质量分析仪2910通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以单独存在于质量分析仪2910中。例如，虽然内核2914、2915中的每一个可以包括其自己的气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵(如果需要)，但共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵可以由质量分析仪2910中存在的不同质量MSC使用。系统2900可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统2900中，在系统2900的内核中的任一个或多个之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在样品操作两个电离内核和两个MS内核的一些实例中可能需要将离子从不同的电离内核提供给不同的MS内核。例如，参照图30，示出了系统3000，其包括样品操作内核3021、包括有机离子源的电离内核3023、另一个电离内核3022、接口3024、以及质量分析仪3010，该质量分析仪3010包括第一MS内核3025和第二MS内核3027。样品操作内核3021与电离内核3022、3023中的每一个流体耦合。尽管未示出，但是在样品操作内核3021和电离内核3022、3023之间，可以存在接口、阀或其他装置(未示出)，以便在系统3000使用期间，在选定的时间，从样品操作内核3021仅向电离内核3022、3023中的一个提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成从样品操作内核3021同时向电离内核3022、3023提供物质。电离内核3022与接口3024流体耦合，并且电离内核3023与接口3024流体耦合。接口3024与第一MS内核3025和第二MS内核3027中的每一个流体耦合。在使用系统3000时，可以将样品导入样品操作内核3021中，并且在将分析物物质提供到电离内核3022、3023中的一个或两个之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核3022、3023可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，有机离子源3023可以在将有机离子提供给接口3024之前，对分子物质进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在一些示例中，内核3022可以包括ICP或CCP或微波等离子体。在其他示例中，内核3022可以包括火焰。在另外的示例中，内核3022可以包括电弧。在其他示例中，内核3022可以包括火花。在某些实例中，有机离子源3023可以包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源3023可以包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源3023可以包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源3023可以包括EI装置。在某些实例中，有机离子源3023可以包括FI装置。在其他实例中，有机离子源3023可以包括FD装置。在某些实例中，有机离子源3023可以包括SI装置。在其他实例中，有机离子源3023可以包括PD装置。在某些实例中，有机离子源3023可以包括TI装置。在其他实例中，有机离子源3023可以包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源3023可以包括TS装置。在其他实例中，有机离子源3023可以包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源3023可以包括PI装置。在其他实例中，有机离子源3023可以包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源3023可以包括DART装置。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核3023中，以便在将离子提供给接口3024之前，产生元素物质或对其进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统3000可以配置成在将离子提供给接口3024之前，使用电离内核3022、3023对无机物质和有机物质两者进行电离处理。接口3024可以配置成向MS内核3025、3027中的任一个或两个提供离子，每个MS内核均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，根据存在的特定部件，MS内核3025可以设计成对无机离子进行过滤/选择/检测，并且MS内核3027可以设计成对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，MS内核3025、3027配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪3010通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以单独存在于质量分析仪3010中。例如，虽然MS内核3025、3027中的每一个可以包括其自己的气体控制器、处理器、电源、检测器和/或真空泵(如果需要)，但共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵可以由质量分析仪3010中存在的不同质量MSC使用。系统3000可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统3000中，在系统3000的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些示例中，如果需要，可以将样品操作内核分成两个或更多个内核。例如，与向电离内核或MS内核提供有机离子时相比，当向电离内核或MS内核提供无机离子时，可能需要执行不同的操作。参照图31，示出了系统3100，其包括第一样品操作内核3131和第二样品操作内核3132。样品操作内核3131、3132中的每一个均与接口3133流体耦合。接口3133与包括有机离子源3134的电离内核流体耦合，有机离子源3134本身与包括MS内核3135的质量分析仪流体耦合。在使用系统3100时，可以将样品导入样品操作内核3131、3132中的一个或两个，并且在将分析物物质提供到接口3133之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。不同的样品操作内核3131、3132可以配置成执行不同的分离、使用不同的分离条件、使用不同的载气或者包含不同的部件。接口3133可以配置成允许样品从样品操作内核3131、3132中的一个或两个通过，到达电离内核3134。电离内核3134可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。在某些实例中，有机离子源3134可以包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源3134可以包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源3134可以包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源3134可以包括EI装置。在某些实例中，有机离子源3134可以包括FI装置。在其他实例中，有机离子源3134可以包括FD装置。在某些实例中，有机离子源3134可以包括SI装置。在其他实例中，有机离子源3134可以包括PD装置。在某些实例中，有机离子源3134可以包括TI装置。在其他实例中，有机离子源3134可以包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源3134可以包括TS装置。在其他实例中，有机离子源3134可以包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源3134可以包括PI装置。在其他实例中，有机离子源3134可以包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源3134可以包括DART装置。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核3134中，以便在将无机离子提供给MS内核3135之前，产生元素物质或对其进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统3100可以配置成在将离子提供给MS内核3135之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核3135可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核3135可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核3135的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统3100可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统3100中，在系统3100的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，如果需要，可以将样品操作内核彼此串联耦合。例如，可能需要使用针对不同分离条件配置的样品操作，对样品中的分析物执行分离。参照图32，示出了系统3200，其包括第一样品操作内核3241，第一样品操作内核3241与第二样品操作内核3242流体耦合。根据分析物样品的性质，样品操作内核3241、3242中的一个可以存在于无源配置中，并且一般使样品穿过而不会对样品执行任何操作；而在其他实例中，样品操作内核3241、3242中的每一个执行一项或多项样品操作，该样品操作包含但不限于：在将分析物物质提供给电离内核3243之前，以某种方式对样品进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用于其上。在某些实例中，有机离子源3243可以包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源3243可以包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源3243可以包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源3243可以包括EI装置。在某些实例中，有机离子源3243可以包括FI装置。在其他实例中，有机离子源3243可以包括FD装置。在某些实例中，有机离子源3243可以包括SI装置。在其他实例中，有机离子源3243可以包括PD装置。在某些实例中，有机离子源3243可以包括TI装置。在其他实例中，有机离子源3243可以包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源3243可以包括TS装置。在其他实例中，有机离子源3243可以包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源3243可以包括PI装置。在其他实例中，有机离子源3243可以包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源3243可以包括DART装置。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核3243中，以便在将无机离子提供给包括MS内核3244的质量分析仪之前，产生元素物质或对其进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统3200可以配置成在将离子提供给MS内核3244之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核3244可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核3244可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核3244的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统3200可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统3200中，在系统3200的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个样品操作内核的某些配置中，每个样品操作都可以与相应的电离内核流体耦合。例如，参照图33，系统3300包括第一样品操作内核3351、第二样品操作内核3352、与第二样品操作内核3352流体耦合的包括有机离子源的电离内核3354，以及与第一样品操作内核3351流体耦合的第二电离内核3353。电离内核3353、3354中的每一个还与包括MS内核3355的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在电离内核3353、3354和MS内核3355之间，可以存在阀、接口或其他装置，以便在系统3350使用期间，在选定的时间，从电离内核3353、3354中的一个向MS内核3355提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核3353、3354向MS内核3355提供物质。在使用系统3350时，可以将样品导入样品操作内核3351、3352中，并且在将分析物物质提供到电离内核3353、3354之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。在一些实例中，电离内核3353、3354可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在某些配置中，电离内核3353可以配置成例如使用ICP、CCP、微波等离子体、火焰、电弧、火花等，对无机物质进行电离处理，并且将无机离子提供给内核3355。在一些实例中，有机离子源3354可以在将有机离子提供给MS内核3355之前，对分子物质进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在某些实例中，有机离子源3354可以包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源3354可以包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源3354可以包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源3354可以包括EI装置。在某些实例中，有机离子源3354可以包括FI装置。在其他实例中，有机离子源3354可以包括FD装置。在某些实例中，有机离子源3354可以包括SI装置。在其他实例中，有机离子源3354可以包括PD装置。在某些实例中，有机离子源3354可以包括TI装置。在其他实例中，有机离子源3354可以包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源3354可以包括TS装置。在其他实例中，有机离子源3354可以包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源3354可以包括PI装置。在其他实例中，有机离子源3354可以包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源3354可以包括DART装置。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核3354中，以便在将无机离子提供给MS内核3355之前，产生元素物质或对其进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统3300可以配置成在将离子提供给MS内核3355之前，使用电离内核3353、3354对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核3355可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核3355可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核3355的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统3300可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统3300中，在系统3300的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个样品操作内核的某些配置中，每个样品操作都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合。例如，参照图34，系统3400包括第一样品操作内核3461、第二样品操作内核3462、接口3463、包括有机离子源的电离内核3465和第二电离内核3464。电离内核3464、3465中的每一个还与包括MS内核3466的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是在电离内核3464、3465和MS内核3466之间，可以存在阀、接口或其他装置，以便在系统3300使用期间，在选定的时间，从电离内核3464、3465中的一个向MS内核3466提供物质。在其他配置中，接口、阀或装置可以配置成在同一时刻，从电离内核3464、3465向MS内核3466提供物质。在使用系统3400时，可以将样品导入样品操作内核3461、3462中，并且在将分析物物质提供到电离内核3464、3465之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口3463与样品操作内核3461、3462中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核3464、3465中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核3464、3465可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。在一些示例中，内核3464可以包括ICP或CCP或微波等离子体。在其他示例中，内核3464可以包括火焰。在另外的示例中，内核3464可以包括电弧。在其他示例中，内核3464可以包括火花。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核3465中，以便在将无机离子提供给内核3466之前，产生元素物质或对其进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在某些实例中，有机离子源3465可以包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源3465可以包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源3465可以包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源3465可以包括EI装置。在某些实例中，有机离子源3465可以包括FI装置。在其他实例中，有机离子源3465可以包括FD装置。在某些实例中，有机离子源3465可以包括SI装置。在其他实例中，有机离子源3465可以包括PD装置。在某些实例中，有机离子源3465可以包括TI装置。在其他实例中，有机离子源3465可以包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源3465可以包括TS装置。在其他实例中，有机离子源3465可以包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源3465可以包括PI装置。在其他实例中，有机离子源3465可以包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源3465可以包括DART装置。在本文所指出的某些配置中，系统3400可以配置成在将离子提供给MS内核3466之前，使用电离内核3464、3465对无机物质和有机物质两者进行电离处理。样品操作内核3461、3462可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口3463可以从样品操作内核3461向电离内核3464、3465中的任一个提供分析物。类似地，接口3463可以从样品操作内核3462向电离内核3464、3465中的任一个提供分析物。MS内核3466可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核3466可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核3466的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源和真空泵。系统3400可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统3400中，在任一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个样品操作内核的某些配置中，每个样品操作都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合；并且每个电离内核都可以包括相应的MS内核。例如，参照图35，系统3500包括第一样品操作内核3571、第二样品操作内核3572、接口3573、包括有机离子源的电离内核3575和第二电离内核3574。电离内核3574、3575中每一个还与包括MS内核3576、3577的质量分析仪3510流体耦合。在使用系统3500时，可以将样品导入样品操作内核3571、3572中，并且在将分析物物质提供到电离内核3574、3575之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口3573与样品操作内核3571、3572中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核3574、3575中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核3574、3575可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，内核3574可以在将元素离子提供给内核3576之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在一些示例中，内核3574包括CCP或微波等离子体。在其他示例中，内核3574包括火焰。在另外的示例中，内核3574包括电弧。在其他示例中，内核3574包括火花。在附加示例中，内核3574可以包括其他无机电离源。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核3575中，以便在将分子离子提供给内核3577之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在某些实例中，有机离子源3575可以包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源3575可以包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源3575可以包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源3577可以包括EI装置。在某些实例中，有机离子源3575可以包括FI装置。在其他实例中，有机离子源3575可以包括FD装置。在某些实例中，有机离子源3575可以包括SI装置。在其他实例中，有机离子源3575可以包括PD装置。在某些实例中，有机离子源3575可以包括TI装置。在其他实例中，有机离子源3575可以包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源3575可以包括TS装置。在其他实例中，有机离子源3575可以包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源3575可以包括PI装置。在其他实例中，有机离子源3575可以包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源3575可以包括DART装置。在本文所指出的某些配置中，系统3500可以配置成在将离子提供给MS内核3576、3577之前，使用电离内核3574、3575对无机物质和有机物质进行电离处理。样品操作内核3571、3572可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口3573可以从样品操作内核3571向电离内核3574、3575中的任一个提供分析物。类似地，接口3573可以从样品操作内核3572向电离内核3574、3575中的任一个提供分析物。MS内核3576、3577中的每一个均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核3576、3577中的任一个或两个可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，内核MS 3576、3577配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪3510通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪3510中。例如，质量分析仪3510中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统3500可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统3500中，在系统3500的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在存在两个或更多个样品操作内核的某些配置中，每个样品操作都可以通过一个或多个接口与相应的电离内核流体耦合；并且每个电离内核都可以通过接口与两个或更多个MS内核耦合。参照图36，系统3600包括第一样品操作内核3681、第二样品操作内核3682、接口3683、包括有机离子源的电离内核3685和第二电离内核3684。电离内核3684、3685中每一个还通过接口3686与包括MS内核3687、3688的质量分析仪3610流体耦合。在使用系统3600时，可以将样品导入样品操作内核3681、3682中，并且在将分析物物质提供到电离内核3684、3685之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。接口3683与样品操作内核3681、3682中的每一个流体耦合，并且可以配置成向电离内核3684、3685中的任一个或两个提供样品。在一些实例中，电离内核3684、3685可以配置成使用各种但不同的技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，内核3684可以在将元素离子提供给接口3686之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在一些示例中，内核3684可以包括ICP或CCP或微波等离子体。在其他示例中，内核3684可以包括火焰。在另外的示例中，内核3684可以包括电弧。在其他示例中，内核3684可以包括火花。在附加示例中，内核3684可以用另一种无机电离源替换。在其他实例中，有机离子源3685可以存在于电离内核3685中，以便在将分子离子提供给接口3686之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在某些实例中，有机离子源3685可以包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源3685可以包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源3685可以包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源3685可以包括EI装置。在某些实例中，有机离子源3685可以包括FI装置。在其他实例中，有机离子源3685可以包括FD装置。在某些实例中，有机离子源3685可以包括SI装置。在其他实例中，有机离子源3685可以包括PD装置。在某些实例中，有机离子源3685可以包括TI装置。在其他实例中，有机离子源3685可以包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源3685可以包括TS装置。在其他实例中，有机离子源3685可以包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源3685可以包括PI装置。在其他实例中，有机离子源3685可以包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源3685可以包括DART装置。在本文所指出的某些配置中，系统3600可以配置成在将离子提供给接口3686之前，使用电离内核3684、3685对无机物质和有机物质两者进行电离处理。样品操作内核3681、3682可以从相同的源或不同的源接收样品。在存在不同的样品源的情况下，接口3683可以从样品操作内核3681向电离内核3684、3685中的任一个提供分析物。类似地，接口3683可以从样品操作内核3682向电离内核3684、3685中的任一个提供分析物。接口3686可以从电离内核3684、3685中的任一个或两个接收离子，并且将所接收的离子提供给MS内核3687、3688中的一个或两个。MS内核3687、3688中的每一个均可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核3687、3688中的任一个或两个可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。在一些示例中，MS内核3687、3688配置不同，具有不同的过滤装置和/或检测装置。尽管未示出，但是质量分析仪3610通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪3610中。例如，质量分析仪3610中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统3600可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统3600中，在系统3600的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。
在某些配置中，可以存在一个或多个串联布置的电离内核并与样品操作一起使用。例如，参照图37，示出了系统3700，其包括样品操作内核3791，该样品操作内核3791与包括有机离子源的第一电离内核3792流体耦合。电离内核3792与第二电离内核3793流体耦合，第二电离内核3793本身与包括MS内核3794的质量分析仪流体耦合。尽管未示出，但是如果需要，也可以存在旁路管线，以将电离内核3792直接耦合到MS内核3794，从而允许在未使用第二电离内核3793的情况下，将离子从内核3792直接提供到MS内核3794。类似地，可以存在旁路管线，以便在不需要使用电离内核3792的情况下，将样品操作内核3791直接耦合到电离内核3793。在使用系统3700时，可以将样品导入样品操作内核3791中，并且在将分析物物质提供到内核3792之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核3792可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，有机离子源3792可以在将有机离子提供给内核3793或MS内核3794之前，对分子物质进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在某些实例中，有机离子源3792可以包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源3792可以包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源3792可以包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源3792可以包括EI装置。在某些实例中，有机离子源3792可以包括FI装置。在其他实例中，有机离子源3792可以包括FD装置。在某些实例中，有机离子源3792可以包括SI装置。在其他实例中，有机离子源3792可以包括PD装置。在某些实例中，有机离子源3792可以包括TI装置。在其他实例中，有机离子源3792可以包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源3792可以包括TS装置。在其他实例中，有机离子源3792可以包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源3792可以包括PI装置。在其他实例中，有机离子源3792可以包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源3792可以包括DART装置。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核3792中，以便在将无机离子提供给内核3793或内核3794之前，产生元素物质或对其进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。电离内核3793可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理，这些技术可以和内核3792所使用的技术相同的不同。例如，在一些实例中，电离源可以存在于电离内核3793中，以便在将元素离子提供给MS内核3794之前，对元素物质进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在其他实例中，电离源可以存在于电离内核3793中，以便在将分子离子提供给MS内核3794之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统3700可以配置成在将离子提供给MS内核3794之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核3794可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核3794可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核3794的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统3700可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统3700中，在系统3700的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。在一些实例中，在图27至36中描述和示出的任何系统都可以包括与图37中所示的内核3792、3793类似的串联布置的电离内核。
在某些配置中，本文所描述的系统中可以存在一个或多个串联布置的MS内核。例如，参照图38，示出了系统3800，其包括样品操作内核3896，该样品操作内核3896与包括有机离子源3897的电离内核流体耦合。电离内核3897与包括第一MS内核3898的质量分析仪流体耦合，第一MS内核3898本身与质量分析仪的第二MS内核3899流体耦合。尽管未示出，但是如果需要，也可以存在旁路管线，以将电离内核3897直接耦合到MS内核3899，从而允许在未使用第一MS内核3898的情况下，将离子从内核3897直接提供到MS内核3899。在使用系统3800时，可以将样品导入样品操作内核3896中，并且在将分析物物质提供到电离内核3897之前，可以以某种方式对样品中的分析物进行蒸发、分离、反应、衍生化、分选、改性或以其他方式作用其上。电离内核3897可以配置成使用各种技术对样品中的分析物进行电离处理。例如，在一些实例中，有机离子源3897可以在将有机离子提供给内核3898之前，对分子物质进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在某些实例中，有机离子源3897可以包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源3897可以包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源3897可以包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源3897可以包括EI装置。在某些实例中，有机离子源3897可以包括FI装置。在其他实例中，有机离子源3897可以包括FD装置。在某些实例中，有机离子源3897可以包括SI装置。在其他实例中，有机离子源3897可以包括PD装置。在某些实例中，有机离子源3897可以包括TI装置。在其他实例中，有机离子源3897可以包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源3897可以包括TS装置。在其他实例中，有机离子源3897可以包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源3897可以包括PI装置。在其他实例中，有机离子源3897可以包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源3897可以包括DART装置。在其他实例中，另一个电离源可以存在于电离内核3897中，以便在将无机离子提供给MS内核3898之前，产生元素物质或对其进行电离处理，例如对无机物质进行电离处理。在本文所指出的某些配置中，系统3800可以配置成在将离子提供给MS内核3898之前，对无机物质和有机物质进行电离处理。MS内核3898可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，内核3898可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。类似地，MS内核3899可以配置成对具有特定质荷比的离子进行过滤/检测。在一些示例中，MS内核3899可以设计成根据存在的特定部件，对无机离子进行过滤/选择/检测，以及对有机离子进行过滤/选择/检测。尽管未示出，但是包括MS内核3898、3899的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统3800可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。尽管未示出，但是在系统3800中，在系统3800的一个或多个内核之间，还可以存在各种其他部件，诸如样品导入装置、烘箱、泵等。在一些实例中，在图27至37中描述和示出的任何系统都可以包括与图38中所示的内核3898、3899类似的串联布置的MS内核。
在某些示例中，本文所描述的系统可以包括多于两个的电离内核。参照图39，示出了系统3900，其包括电离内核3910、3920和3930，每一个电离内核与包括MS内核3950的质量分析仪流体耦合。电离内核3910可以配置成向内核3950提供无机离子。在一些示例中，内核3910可以包括ICP或CCP或微波等离子体。在其他示例中，内核3910可以包括火焰。在另外的示例中，内核3910可以包括电弧。在其他示例中，内核3910可以包括火花。在附加示例中，内核3910可以用另一种无机电离源替换。在其他实例中，有机离子源3920、3930中的每一个可以存在于电离内核中，以便在将分子离子提供给接口3686之前，产生分子物质或对其进行电离处理，例如对有机物质进行电离处理。在某些实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括EI装置。在某些实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括FI装置。在其他实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括FD装置。在某些实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括SI装置。在其他实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括PD装置。在某些实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括TI装置。在其他实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括TS装置。在其他实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括PI装置。在其他实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源3920、3930可以单独包括DART装置。MS内核3950可以采用本文所描述的任何MSC的形式。尽管未示出，但是包括MS内核3950的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统3900可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。
在某些示例中，本文所描述的系统可以包括多于两个的电离内核。参照图40，示出了系统400，其包括电离内核4010、4020，电离内核4010、4020中的每一个均包括有机离子源。在某些实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括FAB装置。在其他实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括ESI或DESI装置。在某些实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括MALDI装置。在其他实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括EI装置。在某些实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括FI装置。在其他实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括FD装置。在某些实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括SI装置。在其他实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括PD装置。在某些实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括TI装置。在其他实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括EHI装置。在某些实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括TS装置。在其他实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括ACPI装置。在某些实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括PI装置。在其他实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括DiOS装置。在其他实例中，有机离子源4010、4020可以单独包括DART装置。接口4030配置成从两个有机离子源4010、4020接收离子，并且可以在将离子提供给包括MS内核4050的质量分析仪之前，对离子进行组合。MS内核4050可以采用本文所描述的任何MSC的形式。尽管未示出，但是MS内核4050的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统4000可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。
在一些示例中，本文所描述的系统中可以存在多于两个的MS内核。参照图41，示出了系统4100，其包括电离内核4110、接口4120和质量分析仪，该质量分析仪包括三个MS内核4130、4140和4150。电离内核4110可以包括本文所描述的任何电离源，例如，无机和/或有机离子源。接口4130可以配置成在任何特定的分析周期期间，向一个、两个或三个MS内核4130、4140、4150提供离子。MS内核4130、4140、4150中的每一个均可以单独地采用本文所描述的任何MS内核的形式，例如，单一MS内核或双核MS。尽管未示出，但是包括MS内核4130、4140、4150的质量分析仪通常包括由一个、两个、三个或更多个质谱仪内核(MSC)使用的共用部件，该质谱仪内核可以存在于质量分析仪中。例如，质量分析仪中存在的不同质量MSC可以使用共用的气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。系统4100可以配置成对低原子质量单位分析物(例如，锂或质量低至三、四或五个amu的其他元素)进行检测，和/或对高原子质量单位分析物(例如质量高达约2000amu的分子离子物质)进行检测。
尽管已经描述了可以提供有机离子的某些源，但是可以替代地使用可以提供有机离子的其他源，例如，光电离源、解吸电离源、喷雾电离源等。进一步地，如果需要，任何单个仪器中可以存在两种或更多种不同的有机电离源。如本文所指出的，有机电离源可以和无机电离源组合存在，以允许对样品中的无机分析物和有机分析物两者进行分析。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括FAB源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括ESI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括EI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括MALDI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括CI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括FI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括FD源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括SI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括PD源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括TI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括EHI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括APCI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括PI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括DiOS源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括等离子体源，并且另一个电离内核包括DART源。
在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括FAB源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括ESI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括EI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括MALDI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括CI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括FI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括FD源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括SI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括PD源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括TI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括EHI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括APCI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括PI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括DiOS源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括ICP源，并且另一个电离内核包括DART源。
在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括FAB源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括ESI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括EI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括MALDI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括CI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括FI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括FD源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括SI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括PD源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括TI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括EHI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括APCI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括PI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括DiOS源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括CCP源或微波等离子体，并且另一个电离内核包括DART源。
在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括FAB源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括ESI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括EI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括MALDI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括CI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括FI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括FD源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括SI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括PD源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括TI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括EHI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括APCI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括PI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括DiOS源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括火焰源，并且另一个电离内核包括DART源。
在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括FAB源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括ESI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括EI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括MALDI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括CI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括FI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括FD源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括SI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括PD源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括TI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括EHI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括APCI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括PI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括DiOS源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括电弧源，并且另一个电离内核包括DART源。
在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括FAB源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括ESI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括EI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括MALDI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括CI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括FI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括FD源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括SI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括PD源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括TI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括EHI源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括APCI源。在存在两个电离内核的一些实施例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括PI源。在存在两个电离内核的其他实施例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括DiOS源。在存在两个电离内核的一些示例中，一个电离内核包括火花源，并且另一个电离内核包括DART源。
质量分析仪、质谱仪内核和检测器
在某些配置中，本文所描述的系统可以包括存在于质量分析仪中的一个或多个质谱仪内核。质谱仪内核可以被认为是单核(SC)，例如，可以过滤无机离子或有机离子；或者可以被认为是双核(DC)，例如，可以根据所使用的条件过滤无机离子和有机离子两者。参照图42，示出了系统4200，其包括：样品操作内核4210、接口4220、第一电离内核4230、第二电离内核4240、接口4250和4260、以及质量分析仪4275，该质量分析仪4275包括MS内核4270、4280和4290。如以下更详细讨论的，MS内核4270、4280和4290可以单独包括单一MS内核或双核MS。在一些示例中，内核4270、4290包括单一MS内核，并且内核4280包括双核MS。接口4250、4260可以配置成向单一MS内核4270、4280中的相应一个提供离子，或者如果需要，可以向双核MS 4280提供离子。在该配置中，可以根据要执行的特定分析，使用两个单一M内核或使用单核、双核MS。电离内核4230、4240可以是本文所描述的那些中的任何一种，并且在一些实例中，内核4230、4240中的一个包括无机离子源，并且内核4230、4240中的另一个包括有机离子源。样品操作内核4210可以根据需要采用多种形式，包含LC、GC等。接口4220和4250、4260可以采用如本文所指出的多种形式。在一些示例中，可以存在单一接口并替换两个接口4250、4260。
在一些示例中，参照图43A，质量分析仪可以包括第一单一MS内核4310和第二单一MS内核4320。单一MS内核(SMSC)装置4310、4320可以和相应的电离内核(未示出)流体耦合来接收离子。SMSC 4310、4320可以和共用检测器4330流体耦合，或者可以和相应的检测器4350、4360流体耦合，如图43B所示。例如，SMSC 4310、4320中的一个可以在任何特定的分析周期期间，向检测器4330提供离子。在一些配置中，SMSC 4310可以配置成接收和选择无机离子，并且SMSC 4320可以配置成接收和选择有机离子。在存在共用检测器4330的情况下，来自不同SMSC 4310、4320的离子可以按顺序提供给检测器4330。例如，接口可以存在于SMSC 4310、4320和检测器4330之间，以控制系统中的离子流。以下更详细地对示例性接口进行描述。在存在两个检测器4350、4360的情况下(参见图43B)，可以对无机离子和有机离子进行同时检测。检测器4330、4350和4360的精确配置可以改变，如以下更详细讨论的。
在一些示例中，SMSC 4310、4320或检测器4330(或二者)中的一个或多个可以在某个方向上(例如，在一维、二维或三维中)移动，以使SMSC 4310、4320与检测器4330流体耦合/解耦。例如，参照图44A和图44B，SMSC 4410在检测器4430的第一位置中(参见图44A)与检测器4430流体耦合。例如使用步进电机或其他装置，可以将检测器4430移动到第二位置，如图44B所示。当位于第二位置时，检测器4430与SMSC 4420流体耦合并且从SMSC 4410流体解耦。在使用系统4400时，SMSC 4410可以配置成当检测器存在于如图44A所示的第一位置时，对无机离子进行选择/过滤，并将其提供给检测器4430。SMSC 4420可以配置成当检测器存在于如图44B所示的第二位置时，对有机离子进行选择/过滤，并将其提供给检测器4430。另选地，SMSC 4410、4420可以根据需要各自配置成选择无机离子或有机离子。在一些示例中，SMSC 4410、4420中的一个包括单一多极、双重多极、三重多极或如以下更详细讨论的其他的极布置。在其他示例中，SMSC 4410、4420中的每一个均单独包括单一多极、双重多极、三重多极或如本文所讨论的其他的极布置。检测器4430的精确配置可以改变，如以下更详细讨论的。
在另一种配置中，MS内核可以包括单个检测器和两个或更多个可以移动的SMSC。参照图45A和图45B，系统4500(例如，质量分析仪)包括第一SMSC 4510和第二SMSC 4520。检测器4530显示在图45A中的第一位置，其与SMSC 4510流体耦合并与SMSC 4520流体解耦。SMSC 4510、4520可以移动至如图45B所示的第二位置，使得SMSC 4520与检测器4530流体耦合，并且SMSC 4510与检测器4530流体解耦。检测器4530的精确配置可以改变，如以下更详细讨论的。在如本文所指出的一些情况下，各个部件可以存在于转盘上，使得可以根据需要使周向旋转的部件与部件流体耦合或解耦。例如，周向旋转90度可以使第一SMSC与检测器对准，并且周向旋转另外90度可以使第二SMSC与检测器对准。如果需要，样品操作内核也可以存在于转盘上，以允许特定的样品操作内核与电离内核的耦合/解耦。
在其他实例中，包括偏转器的接口可以存在于两个或更多个SMSC和一个或多个检测器之间，以将特定类型或性质的离子朝向所需的检测器引导。例如，偏转器可以定位在两个SMSC之间并且用来在一种配置中将离子从第一SMSC朝向第一偏转器偏转，并且可以在另一种配置中将离子从第二SMSC朝向第一偏转器偏转。包括偏转器的接口将在下面进行更详细的讨论。参照图46A和图46B，系统4600(例如，质量分析仪)包括第一SMSC 4610和第二SMSC 4620。接口4615存在于SMSC 4610、4620之间。检测器4630与图46A中的接口4615流体耦合。根据接口4615中的偏转器的配置，可以将来自SMSC 4610的离子提供给检测器4630(图46A)，或者可以将来自SMSC 4620的离子提供给检测器4630(图46B)。在某些配置中，接口4615可以配置成同时从SMSC 4610、4620二者向检测器4630提供离子。检测器4630的精确配置可以改变，如以下更详细讨论的。
在某些实施例中，本文所描述的存在于质量分析仪中的各个MS内核可以包括一个或多个多极杆组件，该多极杆组件可以基于离子束中离子的质荷比(m/z)，用来选择/过滤离子。参照图47A，示出了四极杆组件的一个图示。四极4700包括杆4710、4712、4714和4716。杆4710、4712、4714和4716可以一起仅传输小m/z范围内的离子。通过改变提供给杆4710至4716的电信号，可以改变所传输的离子的m/z范围。来自电离内核、接口等的离子可以进入通过对杆4710至4716进行定位而形成的内部空间。进入的离子通常被加速到杆4710至4716之间的空间中，并且相对的杆一般电连接，其中一对杆电耦合到正端子，并且另一对杆电耦合到负端子。例如，杆4710、4714可以带正电荷，并且杆4712、4716可以带负电荷。也可以将变频AC电势施加到杆4710至4716。可以改变施加到杆4710至4716的电压，以在m/z的范围内进行扫描，从而过滤离子并将过滤的离子提供给检测器(未示出)。在本文的一些实例中，缩写“Q”用于表示四极。例如，第一四极可以称为Q1，第二四极可以称为Q2，等等。每个四极Q可以被认为是子内核，并且可以组装一个、两个、三个或更多个四极以提供MS内核。通过在特定的MS内核中将两个或更多个四极彼此流体耦合，可以对离子进行分离、破碎等，以为复杂混合物中的分析物提供更好的检测。如果需要，除四极之外，还可以在单一MS内核、双核MS或多MS内核中使用六极、八极或多极结构。
在一些示例中，可以使用离子阱来选择/过滤从一个或多个电离内核接收的离子。在典型的离子阱中，可以使用电场和/或磁场形成和限制气态离子。例如，离子阱可以包括中心环形环电极和一对端盖电极。可以将可变射频电压施加到环形电极，并且端盖电极电耦合到地。具有合适m/z比的离子在由环环绕的腔内的稳定轨道中行进。随着射频电压的升高，较重的离子变得更加稳定，并且较轻的离子变得不稳定。然后，较轻的电极可以离开其轨道并被提供给EM。可以扫描射频电压，并且当离子不稳定并离开环电极区域时，可以由EM按顺序对其进行检测。
在一些示例中，离子阱可以配置成回旋加速器。当离子进入磁场然后在垂直于场方向的圆形平面中绕轨道运行。该运动的角频率被称为回旋加速器频率。当提供射频能量时，如果频率与回旋加速器频率相匹配，圆形路径内捕获的离子可以吸收RF能量。吸收的能量会提高离子的速度。离子的圆周运动可以检测为在一段时间内衰减的影像电流。信号随时间的衰减提供代表离子的信号。如果需要，这种衰减可以和傅立叶变换一起使用以提供频率信号。
在其他配置中，本文描述的质量分析仪可以包括一个或多个扇形磁场分析仪。在典型的扇形磁场分析仪中，永磁体或电磁体可以诱导离子以例如180度、90度或60度的圆形路径行进。通过改变磁体的场强或检测器的狭缝之间的加速电势，可以在出口狭缝上扫描到不同质量的离子。通过出口狭缝离开的离子入射在集电极上，并且可以与本文所描述的EM类似地进行放大。
在某些实施例中，两个或更多个四极杆组件可以彼此流体耦合以提供单一MS内核，该单一MS内核可以单独或与另一个单一MS内核组合而存在于质量分析仪中。参照图48A，示出了单一MS内核4800的一种配置，其包括与第二四极组件Q2 4803流体耦合的第一四极组件Q1 4802。SMSC 4800可以从电离内核或接口接收离子、过滤所选择的离子并将其提供给检测器(未示出)。SMSC 4800可以包括其自己的相应检测器，或者可以根据需要通过接口与共用检测器流体耦合。如以下所指出的，根据质量分析仪的配置，可以在双核MS中使用类似于4800的组件。
在其他配置中，SMSC可以包括彼此流体耦合的三个或更多个四极杆组件。参照图48B，示出了单一MS内核4805的一种配置，其包括与第二四极组件Q2 4807流体耦合的第一四极组件Q1 4806，该第二四极组件Q2 4807与第三四极组件Q3流体耦合。SMSC 4805可以从电离内核或接口接收离子、过滤所选择的离子并将其提供给检测器(未示出)。SMSC 4805可以包括其自己的相应检测器，或者可以根据需要通过接口与共用检测器流体耦合。如以下所指出的，根据质量分析仪的配置，可以在双核MS中使用类似于4805的组件。
在一些实例中，可能需要将质量分析仪配置成具有两个或更多个单一MS内核。参照图48C，示出了质量分析仪4810，其包括：包括双重四极杆组件4811的第一单一MS内核；和包括双重四极杆组件4812的第二单一MS内核。单一MS内核组件4811、4812可以存在于相同的外壳中，但是可以彼此流体解耦，以允许将来自一个电离内核的离子提供给SMSC 4811并且允许将来自不同电离内核的离子提供给SMSC 4812。例如，SMSC 4811可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的2.5MHz频率，从包括无机离子源的电离内核中选择无机离子。SMSC 4812可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的1.0MHz频率，从包括有机离子源的电离内核中选择有机离子。鉴于本公开的益处，本领域普通技术人员将认识到还可以使用其他频率。如本文所指出的，SMSC 4811、4812可以按需要共享共用的MS部件，该MS部件包含但不限于：气体控制器、处理器、电源、检测器和真空泵。进一步地，SMSC 4811、4812可以包括其自己的相应检测器，或者可以根据需要通过接口与共用检测器流体耦合。如下所指出的，SMSC 4811、4812中的一个或两个可以替代地配置为双核MS。
在一些示例中，可能需要将质量分析仪配置成具有两个或更多个具有不同杆组件结构的单一MS内核。参照图48D，示出了质量分析仪4815，其包括：包括双重四极杆组件4816的第一单一MS内核；和包括三重四极杆组件4817的第二单一MS内核。单一MS内核杆组件4816、4817可以存在于相同的外壳中，但是可以彼此流体解耦，以允许将来自一个电离内核的离子提供给SMSC 4816并且允许将来自不同电离内核的离子提供给SMSC 4817。例如，SMSC 4816可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的2.5MHz频率，从包括无机离子源的电离内核中选择无机离子。SMSC 4817可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的1.0MHz频率，从包括有机离子源的电离内核中选择有机离子。另选地，SMSC 4817可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的2.5MHz频率，从包括无机离子源的电离内核中选择无机离子，并且SMSC 4816可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的1.0MHz频率，从包括有机离子源的电离内核中选择有机离子。鉴于本公开的益处，本领域普通技术人员将认识到还可以使用其他频率。如本文所指出的，SMSC 4816、4817可以按需要共享共用的MS部件，该MS部件包含但不限于：气体控制器、处理器、电源和真空泵。进一步地，SMSC 4816、4817可以包括其自己的相应检测器，或者可以根据需要通过接口与共用检测器流体耦合。如下所指出的，SMSC 4816、4817中的一个或两个可以替代地配置为双核MS。
在某些配置中，可能需要将质量分析仪配置成具有两个或更多个具有三重杆组件结构的单一MS内核。参照图48E，示出了质量分析仪4820，其包括：包括三重四极杆组件4821的第一单一MS内核；和包括三重四极杆组件4822的第二单一MS内核。单一MS内核杆组件4821、4822可以存在于相同的外壳中，但是可以彼此流体解耦，以允许将来自一个电离内核的离子提供给SMSC 4821并且允许将来自不同电离内核的离子提供给SMSC 4822。例如，SMSC 4821可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的2.5MHz频率，从包括无机离子源的电离内核中选择无机离子。SMSC 4822可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的1.0MHz频率，从包括有机离子源的电离内核中选择有机离子。另选地，SMSC 4822可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的2.5MHz频率，从包括无机离子源的电离内核中选择无机离子，并且SMSC 4821可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的1.0MHz频率，从包括有机离子源的电离内核中选择有机离子。鉴于本公开的益处，本领域普通技术人员将认识到还可以使用其他频率。如本文所指出的，SMSC 4821、4822可以按需要共享共用的MS部件，该MS部件包含但不限于：气体控制器、处理器、电源和真空泵。进一步地，SMSC 4821、4822可以包括其自己的相应检测器，或者可以根据需要通过接口与共用检测器流体耦合。如下所指出的，SMSC 4821、4822中的一个或两个可以替代地配置为双核MS。
在某些配置中，质量分析仪中可以存在多于两个的单一MS内核。例如，三个、四个、五个或更多个SMSC可以存在于质量分析仪中并用于检测离子。另外，单一MS内核还可以与一个双核MS或多个双核MS结合使用，如本文更详细指出的。
在某些配置中，本文所描述的系统可以包括存在于质量分析仪中的一个或多个双核质谱仪(DCMS)。DCMS可配置成根据所使用的条件，对无机离子和有机离子两者进行过滤/选择。例如，在一个实例中，双核MS包括相同的物理部件但可以使用不同的频率操作，以便选择不同类型的离子，例如，DCMS可以使用共用的硬件(诸如共用的多极杆组件)提供无机离子和/或有机离子，具体取决于DCMS的配置。在一些实例中，DCMS可以使用大约2.5MHz的频率进行操作来选择/过滤无机离子，例如，质量高达约300amu的离子；并且可以以大约1MHz的频率进行操作来选择/过滤有机离子，例如，质量大于300amu至约2000amu的离子。DCMS可以是二元的，因为它在两个频率之间交替，或者如果需要可以使用另外的频率。SMSC通常是一元的，其设计用于提供无机离子或有机离子。参照图49A，包括DCMS 4910的质量分析仪4900可以配置成从电离内核(未示出)中接收离子，该电离内核配置成提供无机离子，然后对无机离子进行选择/过滤以便使用检测器4930进行检测。在另一个实例中，包括DCMS4910的质量分析仪内核可以配置成从电离内核接收离子，该电离内核配置成提供有机离子，然后对离子进行选择/过滤以便使用检测器4930进行检测(参见图49B)。质量分析仪4900可以来回切换以对无机离子和有机离子两者进行实时(例如，按顺序)检测，或者系统4900可以配置成对无机离子进行检测，然后根据需要切换成对有机离子进行检测。在使用DCMS时，检测器4930可以保持静止，或者如果需要可以使用多台检测器，其中各个检测器移动成与DCMS流体耦合。一个重要的属性是，可以使用DCMS和共用硬件部件对无机离子和有机离子两者(例如，质量为至少三、四或五个amu至质量约为2000amu的离子)进行过滤/检测。
尽管包括DCMS的质量分析仪的精确配置可以改变，但DCMS通常包括一个或多个类似于SMSC的多极结构。在一些实例中，DCMS的多极可以和变频发生器电耦合，以向极提供所需频率，用于如本文所描述的选择/滤波。DCMS可以包括共用的光学器件、透镜、偏转器等，并且动态改变所施加的频率，以对无机离子或有机离子进行选择/过滤。例如，系统可以配置成在每毫秒或几毫秒中在频率之间进行切换，以在样品分析期间对无机离子和有机离子进行检测。进一步地，DCMS可以和SMSC、另一个DCMS或其他质谱仪内核结合使用。在存在多个电离源的情况下，在电离源和DCMS之间可以存在接口，以引导来自两个电离源的离子流。DCMS可以包括共用入口和共用出口，或者在一些实例中，可以存在多个单一入口和/或出口，以便选择性地将离子引导至DCMS中和/或从DCMS引导出。在一些示例中，DCMS可以是“可插拔”模块的一部分，该模块可以根据需要与系统的其他部件流体耦合。进一步地，DCMS可以定位在转盘或其他周向旋转的工作台上，以使DCMS与系统的所需内核流体耦合和解耦。
在某些实施例中，本文所示的任何一个或多个四极杆组件可以替换成扇形磁场分析仪、离子阱或其他合适类型的质量分析仪。进一步地，如果需要，离子阱可以和多极杆组件一起使用来捕获和/或检测离子。
在某些实施例中，本文所描述的MS内核可以包括一个或多个检测器或与其流体耦合，以对无机离子和有机离子进行检测。所用检测器的精确性质可以取决于样品、所需灵敏度和其他考虑因素。在一些示例中，MS内核包括至少一台电子倍增器(EM)或与其流体耦合。在不希望受到任何特定理论的束缚的前提下，电子倍增器一般接收入射离子，放大对应于离子的信号，并将所得到的电流或电压作为检测到的离子的指示提供。可以使用具有偏移电压的一系列倍增电极来放大信号，倍增电极在被离子撞击时会发射电子。常见的是具有10至20个倍增电极的电子倍增器，其电流增益为107或以上。可以将离散的和连续的倍增电极电子倍增器与本文所描述的内核一起使用。参照图50，示出了电子倍增器的简化图示。EM5000包括集电极(或阳极)5035和集电极5035上游的多个倍增电极(统称为5025并且单独称为5026至5033)。尽管未示出，但是检测器5000的部件通常将定位在管或外壳内(在真空下)，并且还可以包含聚焦透镜或其他部件，以将离子束5020以合适的角度提供给第一倍增电极5026。在使用检测器5000时，离子束5020入射在第一倍增电极5026上，第一倍增电极5026将离子信号转换成显示为束5022的电子信号。在一些实施例中，倍增电极526(和倍增电极5027至5033)可以包含入射表面上的材料薄膜，该材料薄膜可以接收离子并引起电子从表面中进行相应的射出。来自离子束5020的能量通过电子发射由倍增电极526转换成电信号。每个离子射出的电子的精确数量至少部分地取决于材料的逸出功和入射离子的能量。由倍增电极5026发射的二次电子在下游倍增电极5027的大致方向上发射。例如，可以使用分压器电路、梯形电阻器或其他合适的电路系统，为每个下游倍增电极提供更高的正电压。倍增电极5026和倍增电极5027之间的电势差致使从倍增电极5026射出的电子朝向倍增电极5027加速。精确的加速度水平至少部分地取决于所使用的增益。倍增电极5027通常保持在比倍增电极5026更高(例如高100至200伏)的正电压上，以致使倍增电极5026发射的电子朝向倍增电极5027加速。当从倍增电极5027发射电子时，电子朝向下游倍增电极5028加速，如束5040所示。提供级联机制，其中每个连续的倍增电极台架发射出比上游倍增电极发射的更多的电子数量。所得到的放大信号可以提供给可选的集电极5035，集电极5035通常通过EM检测器5000的一个或多个电耦合器，将电流输出到外部电路。可以使用在集电极5035处测量的电流来确定每秒到达的离子的量、样品中存在的特定离子的量(例如，具有选定质荷比的特定离子)或离子的其他属性。如果需要，可以使用测量的电流，利用常规标准曲线技术对离子的浓度或量进行定量处理。一般而言，检测到的电流取决于从倍增电极5026射出的电子的数量，该数量与入射离子的数量和装置5000的增益成比例。示例性EM装置和基于EM的装置可以从PerkinElmer Health Sciences公司(马萨诸塞州沃尔瑟姆)商购获得，并且例如在共同受让的美国专利第9,269,552号和第9,396,914号中对其进行了描述。
在其他示例中，法拉第杯可以作为检测器与本文所描述的内核一起使用。离开MS内核的离子可能会撞击位于笼内的集电极。正离子的电荷被来自接地电阻器的电子流中和。在电阻器上产生的电势降可以通过高阻抗放大器放大。在本文描述的系统中可以使用一个或多个法拉第杯。此外，法拉第杯可以和EM或其他类型的检测器结合使用。图51示出了法拉第杯5100的一个图示。杯5100包括入口5105，该入口5105可以接收来自质量分析仪(未示出)的离子。离子撞击由笼5120环绕的集电极5110。笼5120配置成防止反射的离子和二次电子逸出。集电极5110一般相对于进入离子的入射角成角度，使得入射在电极5110上或离开电极5110的粒子被反射远离笼5120的入口。集电极5110和笼5120通过电阻器5140电耦合接地5130。撞击电极5110的离子的电荷被通过电阻器5140的电子流中和。电阻器5140上的电势降可以通过高阻抗放大器放大。还可以存在离子抑制器5150a、b来降低背景噪声。
在一些示例中，本文所描述的系统可以包括闪烁检测器。闪烁检测器包括设置在金属板上的结晶磷光体材料。金属板可以安装或用作光电倍增管的窗口。入射离子撞击磷光体，导致磷光体闪烁。可以使用类似于EM的倍增电极布置来放大和检测该信号。
在某些实施例中，与本文所描述的系统一起使用的检测器可以包括成像器。与成像器一起使用的电离内核的精确类型可以改变，并且与成像器一起使用的共用电离内核包含但不限于MALDI源和SI源。成像器可以包括一个或多个其他检测器，例如，EM、TOF或其组合，该检测器可以和软件一起使用以提供所分析的表面、组织等的二维图或三维图。在一些实施例中，可以使用在特定坐标位点处检测到的离子来产生单个像素，例如，颜色编码的像素(如果需要)，以便为被分析的分析物表面或材料提供视觉图像。本文所描述的系统可以使用本文所描述的系统检测表面、组织、涂层等上的无机离子和有机离子，并且使用单一MS系统，使用检测到的离子提供影像图。
在其他配置中，与本文所描述的系统一起使用的检测器可以包括微通道板(MCP)检测器。虽然精确的配置可以改变，但是微通道板通常包括多个通道，每个通道可以接收离子并放大代表离子的信号。MCP检测器可以包括许多彼此分离的管或槽，使得每个管或槽起到类似于电子倍增器的作用。许多MCP具有V形配置，其中两个MCP形成V形结构，信号使用两个MCP放大。另选地，可以使用三个MCP形成Z形堆叠MCP。使用MCP的附加配置也是可能的。
在某些示例中，图52A至52E示出了系统的各个配置，该系统包括与质量分析仪流体耦合的检测器，该质量分析仪包括单核MS。参照图52A，系统5200包括单一MS内核5202，该单一MS内核5202包括四极杆组件Q1和Q2。双重四极SMSC 5202与检测器5203流体耦合。在一些示例中，检测器5203包括电子倍增器。在其他示例中，检测器5203包括法拉第杯。在另外的示例中，检测器5203包括MCP。在附加示例中，检测器5203包括成像器。在其他示例中，检测器5203包括闪烁检测器。可以将离子提供给SMSC 5202，并且可以将所选择的离子提供给检测器5203以便检测。在一些实例中，SMSC 5202配置成从包括无机离子源的电离内核中接收离子。在其他配置中，SMSC 5202配置成从包括有机离子源的电离内核中接收离子。如果需要，SMSC 5202可以替代地配置成双核MS。
在一些示例中，包括三个四极杆组件的SMSC可以和本文所描述的检测器一起使用。参照图52B，系统5205包括单一MS内核5206，该单一MS内核5206包括四极杆组件Q1、Q2和Q3。三重四极SMSC 5206与检测器5207流体耦合。在一些示例中，检测器5207包括电子倍增器。在其他示例中，检测器5207包括法拉第杯。在另外的示例中，检测器5207包括MCP。在附加示例中，检测器5207包括成像器。在其他示例中，检测器5207包括闪烁检测器。可以将离子提供给SMSC 5206，并且可以将所选择的离子提供给检测器5207以便检测。在一些实例中，SMSC 5206配置成从包括无机离子源的电离内核中接收离子。在其他配置中，SMSC 5206配置成从包括有机离子源的电离内核中接收离子。如果需要，SMSC 5206可以替代地配置成双核MS。
在一些示例中，两个SMSC可以和单个检测器一起使用。参照图52C，系统5210包括：单一MS内核5211，其包括四极杆组件Q1和Q2；和单一MS内核5212，其包括四极杆组件Q1和Q2。双重四极SMSC 5211、5212可以和检测器5213流体耦合。在一些示例中，检测器5213包括电子倍增器。在其他示例中，检测器5213包括法拉第杯。在另外的示例中，检测器5213包括MCP。在附加示例中，检测器5213包括成像器。在其他示例中，检测器5213包括闪烁检测器。可以将离子提供给SMSC 5211、5212，并且可以将所选择的离子提供给检测器5213以便检测。在一些配置中，SMSC 5211、5212可以通过接口(未示出)与检测器5213流体耦合，该接口配置成在任何选择的分析周期期间，将离子提供给检测器5213。例如，SMSC 5211可以配置成从电离内核接收无机离子，选择无机离子，并且将所选择的无机离子提供给检测器5213。SMSC 5212可以配置成从电离内核中接收有机离子，选择有机离子，并且将所选择的有机离子提供给检测器5213。如本文所指出的，SMSC 5211、5212可以按需要共享共用的MS部件，该MS部件包含但不限于：气体控制器、处理器、电源和真空泵。如果需要，SMSC 5211、5212中的一个或两个可以替代地配置成双核MS。
在一些示例中，两个SMSC可以和两个检测器一起使用。参照图52D，系统5220包括：单一MS内核5221，其包括四极杆组件Q1和Q2；和单一MS内核5222，其包括四极杆组件Q1和Q2。双重四极SMSC 5221、5222可以和相应的检测器5223、5225流体耦合。在一些示例中，检测器5223包括电子倍增器。在其他示例中，检测器5223包括法拉第杯。在另外的示例中，检测器5223包括MCP。在附加示例中，检测器5223包括成像器。在其他示例中，检测器5223包括闪烁检测器。在一些示例中，检测器5225包括电子倍增器。在其他示例中，检测器5225包括法拉第杯。在另外的示例中，检测器5225包括MCP。在附加示例中，检测器5225包括成像器。在其他示例中，检测器5225包括闪烁检测器。可以将离子提供给SMSC 5221、5222，并且可以将所选择的离子提供给检测器5223、5225以便检测。例如，SMSC 5221可以配置成从电离内核接收无机离子，选择无机离子，并且将所选择的无机离子提供给检测器5223。SMSC 5222可以配置成从电离内核中接收有机离子，选择有机离子，并且将所选择的有机离子提供给检测器5225。如本文所指出的，SMSC 5221、5222可以按需要共享共用的MS部件，该MS部件包含但不限于：气体控制器、处理器、电源和真空泵。如果需要，SMSC 5221、5222中的一个或两个可以替代地配置成双核MS。
在一些示例中，两个不同配置的SMSC可以和单个检测器或两个检测器一起使用。参照图52E，系统5230包括：单一MS内核5231，其包括四极杆组件Q1和Q2；和单一MS内核5232，其包括四极杆组件Q1、Q2和Q3。SMSC 5231、5232可以和检测器5233流体耦合。在一些示例中，检测器5233包括电子倍增器。在其他示例中，检测器5233包括法拉第杯。在另外的示例中，检测器5233包括MCP。在附加示例中，检测器5233包括成像器。在其他示例中，检测器5233包括闪烁检测器。可以将离子提供给SMSC 5231、5232，并且可以将所选择的离子提供给检测器5233以便检测。在一些配置中，SMSC 5231、5232可以通过接口(未示出)与检测器5233流体耦合，该接口配置成在任何选择的分析周期期间，将离子提供给检测器5213。在其他实例中，可以存在第二检测器，其中一个检测器与SMSC 5231、5232中的一个流体耦合。在一些实例中，SMSC 5231可以配置成从电离内核接收无机离子，选择无机离子，并且将所选择的无机离子提供给检测器5233。SMSC 5232可以配置成从电离内核中接收有机离子，选择有机离子，并且将所选择的有机离子提供给检测器5233。在其他实例中，SMSC 5232可以配置成从电离内核接收无机离子，选择无机离子，并且将所选择的无机离子提供给检测器5233。SMSC 5231可以配置成从电离内核中接收有机离子，选择有机离子，并且将所选择的有机离子提供给检测器5233。如本文所指出的，SMSC 5211、5212可以按需要共享共用的MS部件，该MS部件包含但不限于：气体控制器、处理器、电源和真空泵。如果需要，SMSC 5231、5232中的一个或两个可以替代地配置成双核MS。
在某些实施例中，双核MS可以和本文所描述的检测器一起使用。参照图53A，双核MS 5302包括四极杆组件Q1和Q2。DCMS 5302可以例如通过接口，或者通过移动DCMS 5302或检测器5303、5304，与检测器5303、5304中的一个或多个流体耦合。在一些示例中，检测器5303包括电子倍增器。在其他示例中，检测器5303包括法拉第杯。在另外的示例中，检测器5303包括MCP。在附加示例中，检测器5303包括成像器。在其他示例中，检测器5303包括闪烁检测器。在一些示例中，检测器5304包括电子倍增器。在其他示例中，检测器5304包括法拉第杯。在另外的示例中，检测器5304包括MCP。在附加示例中，检测器5304包括成像器。在其他示例中，检测器5304包括闪烁检测器。在一些示例中，DCMS 5302配置成例如通过使用约2.5MHz的射频，从无机离子源中选择无机离子，然后可以将所选择的无机离子提供给检测器5303。在其他示例中，DCMS 5302配置成例如通过使用约1.0MHz的射频，从有机离子源中选择有机离子，然后可以将所选择的有机离子提供给检测器5304。根据需要，可以存在接口(未示出)，以将离子引导至检测器5303、5304中的特定的一个。
在其他配置中，参照图53B，双核MS 5304包括四极杆组件Q1、Q2和Q3。三重四极DCMS 5305可以例如通过接口，或者通过移动DCMS 5306或检测器5307、5308，与检测器5307、5308中的一个或多个流体耦合。在一些示例中，检测器5307包括电子倍增器。在其他示例中，检测器5307包括法拉第杯。在另外的示例中，检测器5307包括MCP。在附加示例中，检测器5307包括成像器。在其他示例中，检测器5307包括闪烁检测器。在一些示例中，检测器5308包括电子倍增器。在其他示例中，检测器5308包括法拉第杯。在另外的示例中，检测器5308包括MCP。在附加示例中，检测器5308包括成像器。在其他示例中，检测器5308包括闪烁检测器。在一些示例中，DCMS 5305配置成例如通过使用约2.5MHz的射频，从无机离子源中选择无机离子，然后可以将所选择的无机离子提供给检测器5307。在其他示例中，DCMS5305配置成例如通过使用约1.0MHz的射频，从有机离子源中选择有机离子，然后可以将所选择的有机离子提供给检测器5308。根据需要，可以存在接口(未示出)，以将离子引导至检测器5303、5304中的特定的一个。如果需要，DCMS 5306可以替代地配置成单一MS内核。
在某些示例中，与本文所描述的系统一起使用的检测器可以是质量分析仪的一部分。例如，飞行时间(TOF)检测器可以配置成对来自一个或多个电离内核的离子进行过滤和检测。在典型的TOF配置中，可以通过用电子脉冲、二次离子或光子轰击样品来产生正离子。例如，精确的脉冲频率可以在10至50KHz之间变化。所产生的所得离子可以通过相同频率但随时间转移的电场脉冲加速。可以将加速的离子提供到无场漂移管中。离子的速度与其质量成反比变化，较轻的颗粒比较重的颗粒更快地到达检测器。典型的飞行时间可以在1微秒到30微秒或更长时间之间发生变化。TOF的检测器部分可以构造成与EM相同或类似。图54A至54D中示出了质量分析仪/检测器的某些图示。参照图54A，单一MS内核质量分析仪/检测器5400可以包括第一四极组件Q1 5402，其与第二四极组件Q2 5403流体耦合。Q2 5403与TOF 5404流体耦合。SMSC/检测器5400可以从电离内核或接口接收离子、过滤所选择的离子并使用TOF 5404对离子进行检测。如果需要，可以通过接口使SMSC/检测器5400与两个或更多个电离内核流体耦合，因此其可以接收无机离子和/或有机离子。在一些示例中，SMSC5402可以替代地配置成双核MS。
在其他配置中，TOF可以和一个或多个其他单一MS内核、双核MS或多MS内核结合使用。例如，参照图54B，系统5410包括第一单一MS内核5412，该第一单一MS内核5412包括四极组件Q1和Q2；并且系统5410可以和单一MS内核/检测器5414一起使用，该单一MS内核/检测器5414包括四极组件Q1、Q2和TOF。不同的内核5412、5414可以存在于相同的外壳中，但是可以彼此流体解耦，以允许将来自一个电离内核的离子提供给SMSC 5412并且允许将来自不同电离内核的离子提供给SMSC/检测器5414。例如，SMSC 5412可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的2.5MHz频率，从包括无机离子源的电离内核中选择无机离子。SMSC/检测器5414可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的1.0MHz频率，从包括有机离子源的电离内核中选择有机离子并对其进行检测。在其他配置中，SMSC 5412可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的1.0MHz频率，从包括有机离子源的电离内核中选择有机离子。SMSC/检测器5414可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的2.5MHz频率，从包括无机离子源的电离内核中选择无机离子并对其进行检测。鉴于本公开的益处，本领域普通技术人员将认识到还可以使用其他频率。如本文所指出的，SMSC 5412、5414可以按需要共享共用的MS部件，该MS部件包含但不限于：气体控制器、处理器、电源和真空泵。SMSC5412通常与检测器(未示出)流体耦合。在一些示例中，SMSC 5412、5414中的一个或两个可以替代地配置成双核MS。
在其他配置中，两个或更多个TOF可以和一个或多个其他单一MS内核、双核MS或多MS内核结合使用。例如，参照图54C，系统5420(例如，质量分析仪)包括第一单一MS内核/检测器5422，该第一单一MS内核5422包括四极组件Q1和Q2；并且TOF可以和单一MS内核/检测器5424一起使用，该单一MS内核/检测器5424包括四极组件Q1、Q2和TOF。不同的内核5422、5424可以存在于相同的外壳中，但是可以彼此流体解耦，以允许将来自一个电离内核的离子提供给SMSC/检测器5422并且允许将来自不同电离内核的离子提供给SMSC/检测器5424。例如，SMSC/检测器5422可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的2.5MHz频率，从包括无机离子源的电离内核中选择无机离子。SMSC/检测器5424可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的1.0MHz频率，从包括有机离子源的电离内核中选择有机离子并对其进行检测。在其他配置中，SMSC/检测器5422可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的1MHz频率，从包括有机离子源的电离内核中选择有机离子。SMSC/检测器5424可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的2.5MHz频率，从包括无机离子源的电离内核中选择无机离子并对其进行检测。鉴于本公开的益处，本领域普通技术人员将认识到还可以使用其他频率。如本文所指出的，SMSC/检测器5422、5424可以按需要共享共用的MS部件，该MS部件包含但不限于：气体控制器、处理器、电源和真空泵。
在某些实施例中，TOF可以和双核MS一起使用。例如，参照图54D，双核MS 5430包括四极组件Q1和Q2和TOF。DCMS/检测器5432可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的2.5MHz频率，从包括无机离子源的电离内核中选择无机离子，该RF频率源与Q1和/或Q2电耦合。DCMS/检测器5424还可以配置成通过使用例如来自RF频率源(未示出)的1.0MHz频率，从包括有机离子源的电离内核中选择有机离子并对其进行检测。鉴于本公开的益处，本领域普通技术人员将认识到还可以使用其他频率。如本文所指出的，DCMS/检测器5432可以按需要共享共用的MS部件，该MS部件包含但不限于：气体控制器、处理器、电源和真空泵，其中系统5430中存在其他MS内核。
尽管未在图54A至54D中示出，但包括TOF的单一MS内核可以和双核MS结合使用，该双核MS可以包括TOF或者可以包括不同类型的检测器，诸如，EM、法拉第杯、闪烁检测器、成像器或其他检测器。类似地，包括TOF的双核MS可以和单一MS内核结合使用，该单一MS内核包括不同类型的检测器，诸如，例如EM、法拉第杯、闪烁检测器、成像器或其他检测器。
接口
在某些示例中，本文所描述的各个内核可以通过一个或多个接口分离。在不希望受到任何特定配置的约束的前提下，接口一般可以从一个系统部件向另一个系统部件提供或引导样品、离子等。在一些配置中，样品操作内核和电离内核之间可以存在一个或多个接口。参照图55，示出了系统5500，其包括样品操作内核5510，该样品操作内核5510通过接口5510，与第一电离内核5520和第二电离内核5530流体耦合。样品操作内核5510可以包括本文所描述的任何一个或多个样品操作内核，例如，GC、LC、DSA、CE等。电离内核5520、5530可以是无机离子源或有机离子源，并且在一些实例中，电离内核5520、5530中的一个包括无机离子源，并且内核5520、5530中的另一个包括有机离子源。接口5515可以配制成将分析物流从样品操作内核5510引导至电离内核5520、5530中的一个或两个。在一些配置中，接口5515可以包括一个或多个阀，其可以定位成在任何特定分析周期将分析物流引导至电离内核5520、5530中的一个。在其他示例中，接口5515可以包括一个或多个阀，其可以定位成在任何特定分析周期将分析物流引导至电离内核5520、5530中的两个。接口5515的精确配置可以取决于从样品操作内核5510提供的特定样品，并且示例性的接口可以包括三通阀、机械开关或阀、电气开关或阀、流体多路复用器、Swafer装置(诸如在共同受让的美国专利第8,303,694号、第8,562,837号和第8,794,053号中描述的那些)、或者可以引导气体、液体或其他材料从样品操作内核5510向一个或多个电离内核5520、5530流动的其他装置。在一些示例中，接口5515可以包括第一出口和第二出口。第一出口可以流体耦合到电离内核5520，并且第二出口可以流体耦合到电离内核5530。可以控制分析物流过第一出口和第二出口，以确定电离内核5520、5530中的哪一个从样品操作内核5510接收样品。
在一些实施例中，样品操作内核和一个或多个电离内核之间的接口可以配置成以特定角度朝向电离内核引导样品。参照图56，接口5615存在于样品操作内核5610和两个电离内核5620、5630之间。接口5615可以包括出口、喷嘴、喷头等，其可以在任何分析周期，向电离内核5620、5630中的一个提供样品。样品操作内核5610可以包括本文所描述的任何一个或多个样品操作内核，例如，GC、LC、DSA、CE等。类似地，电离内核5620、5630可以是无机离子源或有机离子源，并且在一些实例中，电离内核5620、5630中的一个包括无机离子源，而电离内核5620、5630中的另一个包括有机离子源。在一些示例中，出口在两个位置之间的移动允许系统5600在第一位置向电离内核5620提供离子，并且允许系统5600在出口的第二位置向电离内核5630提供离子。系统5600可以配置成连续交替接口5615的出口的位置，使得在分析周期期间，间歇地且按顺序向电离内核5620、5630中的每一个提供离子。通过在分析周期期间连续地在第一位置和第二位置之间移动出口，然后再回到第一位置，可以产生无机离子和有机离子用于分析。接口5615的精确配置可以取决于从样品操作内核5610提供的特定样品，并且示例性的接口可以包括三通阀、机械开关或阀、电气开关或阀、流体多路复用器、Swafer装置(诸如在共同受让的美国专利第8,303,694号、第8,562,837号和第8,794,053号中描述的那些)、或者可以引导气体、液体或其他材料从样品操作内核5610向一个或多个电离内核5620、5630流动的其他装置。如以下更详细指出的，接口5615可以以共面或非共面的方式向电离内核5620、5630提供离子。
在一些示例中，接口可以与两个或更多个样品操作内核流体耦合，并且可以配置成从一个或两个样品操作内核接收样品，具体取决于接口的配置。参照图57，可以存在两个样品操作内核5705、5710并且二者可以和接口5715流体耦合/解耦。例如，样品操作内核5705、5710中的每一个可以单独包括GC、LC、DSA、CE等中的一个或多个。在一些示例中，样品操作内核5705、5710是不同的，以便允许对样品中存在的更宽范围的分析物和/或不同形式的分析物进行分析，例如，对样品中存在的液体和固体进行分析。接口5715可以包括入口，该入口可以配置成从内核5705、5710中的一个或两个接收样品；并且还可以包括一个或多个出口，以向一个或多个电离内核(未示出)提供样品。接口5715可以包括一个或多个阀，该阀可以在不同的位置之间致动，以引导来自内核5705、5710中的一个的样品流过接口5715并流到下游内核。在一些示例中，接口5715可以包括用于内核5705、5710中的每一个的单独入口；并且接口5715内的内部特征可以引导样品向下游流到一个或多个其他系统内核。接口5715的精确配置可以取决于从样品操作内核5705、5710提供的特定样品，并且示例性的接口可以包括三通阀、机械开关或阀、电气开关或阀、流体多路复用器、Swafer装置(诸如在共同受让的美国专利第8,303,694号、第8,562,837号和第8,794,053号中描述的那些)、或者可以引导气体、液体或其他材料从样品操作内核5705、5710向一个或多个下游内核流动的其他装置。
在一些实例中，接口可以是定点式或固定式接口，并且一个或多个电离内核可以移动至特定位置，以从接口中接收分析物。参照图58A和58B，系统5800包括接口5815，该接口5815存在于样品操作内核5810和两个电离内核5820、5830之间。样品操作内核5810可以包括本文所描述的任何一个或多个样品操作内核，例如，GC、LC、DSA、CE等。类似地，电离内核5820、5830可以是无机离子源或有机离子源，并且在一些实例中，电离内核5820、5830中的一个包括无机离子源，并且电离内核5820、5830中的另一个包括有机离子源。接口5815可以向电离内核5820或电离内核5830提供样品，具体取决于电离内核5820、5830的特定位置。如图58A所示，电离内核5820可以位于接口5815并与其流体耦合，而电离内核5830与接口5815流体解耦。在图58B中，电离内核5830可以位于接口5815并与其流体耦合，而电离内核5820与接口5815流体解耦。电离内核5820、5830可以定位在可移动的台架上，该可移动的台架可以根据需要，使用马达、发动机、动力源等平移内核5820、5830。例如，步进电机可以耦合到可移动的台架，并且用来在位置之间切换电离内核5820、5830。如本文所指出的，内核5820、5830的位置并不需要是一维的。相反，可以改变内核5820、5830的高度和/或横向位置，以使内核5820、5830与接口5815流体耦合/解耦。
在其他实例中，接口可以是定点式或固定式接口，并且一个或多个样品操作内核可以移动至特定位置，以从接口中接收分析物。参照图59A和图59B，系统5900包括接口5915，该接口5915可以和样品操作内核5905、5910流体耦合/解耦。例如，样品操作内核5905、5910中的每一个可以单独是GC、LC、DSA、CE等中的一个或多个。在一些示例中，样品操作内核5905、5910是不同的，以便允许对样品中存在的更宽范围的分析物和/或不同形式的分析物进行分析，例如，对样品中存在的液体和固体进行分析。接口5915可以从样品操作内核5905或样品操作内核5910接收样品，具体取决于样品操作内核5905、5910的特定位置。如图59A所示，样品操作内核5905可以位于接口5915并与其流体耦合，而样品操作内核5910与接口5915流体解耦。在图59B中，样品操作内核5910可以位于接口5915并与其流体耦合，而样品操作内核5905与接口5915流体耦合。样品操作内核5905、5910可以定位在可移动的台架上，该可移动的台架可以根据需要，使用马达、发动机、动力源等平移内核5905、5910。例如，步进电机可以耦合到可移动的台架，并且用来在位置之间切换样品操作内核5905、5910。如本文所指出的，内核5905、5910的位置并不需要是一维的。相反，可以改变内核5905、5910的高度和/或横向位置，以使内核5905、5910与接口5915流体耦合/解耦。
在一些示例中，接口可以存在于样品操作内核之间，并且可以用来将样品提供给两个或更多个非共面的电离内核。例如，两个电离内核可以定位在仪器内的不同高度处。根据接口和/或电离内核的特定配置，可以将样品提供给一个或两个电离内核。图60中示出了简化的示意图。系统6000包括样品操作内核6010，或者可以包括多于一个的样品操作内核。例如，样品操作内核6010可以是GC、LC、DSA、CE等中的一中或多种。接口6015存在于样品操作内核6010和电离内核6020、6030之间。电离内核6020、6030可以是无机离子源或有机离子源，并且在一些实例中，电离内核6020、6030中的一个包括无机离子源，并且内核6020、6030中另一个包括有机离子源。电离内核6020升高并搁置在支撑件6025上，而电离内核6020搁置在支撑件6005上。在一些示例中，接口6015可以包括：第一出口，其可以向电离内核6020提供样品；和第二出口，其可以向电离内核6030同时提供样品。在其他配置中，接口可以在两个位置之间移动(例如，升高)，以在第一位置向电离内核6020提供样品，并且在第二位置向电离内核6030提供样品。例如，电动机、发动机或其他动力源可以耦合到接口6015并且用来将接口6015上下移动至不同的位置，以使接口6015与各个电离内核6020、6025流体地耦合或从各个电离内核6020、6025流体解耦
在某些实施例中，电离内核可以存在于可旋转的圆盘或平台上，并且可以实施周向旋转，以使接口与各个电离内核流体耦合/解耦。参照图61A，系统6100包括样品操作内核6110、接口6115和两个电离内核6120、6130。样品操作内核6110可以包括本文所描述的任何一个或多个样品操作内核，例如，GC、LC、DSA、CE等。类似地，电离内核6120、6130可以是无机离子源或有机离子源，并且在一些实例中，电离内核6120、6130中的一个包括无机离子源，并且电离内核6120、6130中的另一个包括有机离子源。在使用系统6100时，样品操作内核6110和接口6115可以居中地定位在外壳6105中。电离内核6120、6130可以使用平台或台架6125在各个位置之间周向旋转。例如，如图61A所示，电离内核6120可以存在于第一位置，该第一位置使电离内核6120与接口6115流体耦合。电离内核6130与图61A中的接口6115流体解耦。沿周向逆时针旋转台架6125约90度，可以使电离内核6120与接口6115流体解耦，并使电离内核6130与接口6115流体耦合，如图61B所示。尽管在图61B中使用了90度旋转，但平台6125旋转的精确度数可以从例如约五度到约九十度发生变化。在一些实例中，可以存在另一个电离内核。参照图61C，示出了系统6150，其包括附加电离内核6160。参照图61D，示出了系统6170，其包括第四电离内核6180。附加电离内核6160、6180通常彼此不同并且还与内核6120、6130不同，以便扩展可能存在于特定系统中的可能类型的电离源。在图61C中，旋转平台6125约180度可以使电离内核6160与接口6115流体耦合。在图61D中，顺时针旋转平台6125约90度或逆时针旋转平台6125 270度，可以使电离内核6180与接口6115流体耦合。
在某些示例中，一个或多个样品操作内核可以存在于可旋转的圆盘或台架上，并且可以实施周向旋转以使样品操作内核与接口流体耦合/解耦。参照图62A，系统6200包括样品操作内核6210、6220和接口6215。样品操作内核6210、6215可以单独包括本文所描述的任何一个或多个样品操作内核，例如，GC、LC、DSA、CE等。在一些示例中，样品操作内核6210、6210是不同的，以便允许对样品中存在的更宽范围的分析物和/或不同形式的分析物进行分析，例如，对样品中存在的液体和固体进行分析。在使用系统6200时，接口6215可以居中定位，并且电离内核(未示出)可以相对于接口6215的位置定位在上方/下方或以其他方式定位。样品操作内核6210、6220可以使用平台或台架6225在各个位置之间周向旋转。例如，如图62A所示，样品操作6210可以存在于第一位置，该第一位置使样品操作内核6210与接口6215流体耦合。样品操作内核6230与图61A中的接口6215流体解耦。沿周向逆时针旋转台架6225约90度，可以使样品操作内核6220与接口6215流体解耦，并使样品操作内核6230与接口6115流体耦合，如图61B所示。尽管在图62B中使用了90度旋转，但平台6225旋转的精确度数可以从例如约五度到约九十度发生变化。在一些实例中，可以存在另一个样品操作内核。参照图61C，示出了系统6260，其包括附加样品操作内核6260。参照图61D，示出了系统6270，其包括第四样品操作内核6280。附加样品操作内核6260、6280通常彼此不同并且还与内核6220、6230不同，以便扩展可能存在于特定系统中的可能类型的样品操作装置。在图62C中，旋转平台6225约180度可以使样品操作内核6260与接口6115流体耦合。在图62D中，顺时针旋转平台6225约90度或逆时针旋转平台6125 270度，可以使样品操作内核6280与接口6215流体耦合。
在某些示例中，电离内核和MS内核可以通过一个或多个接口分离/耦合。参照图63，系统6300包括电离部6310，电离部6310与接口6315流体耦合。接口6315可以和第一nMSC6320(其中，nMSC是至少一个单一MS内核或至少一个双核MS)和第二nMSC 6330流体耦合/解耦。nMSC 6320、6330可以是相同的或不同的，但它们通常是不同的，使得nMSC 6320、6330中的一个可以选择无机离子，并且nMSC 6320、6330中的另一个可以选择有机离子。尽管未示出，但nMSC 6320、6330可以与共用检测器流体耦合，或者nMSC 6320、6330中的每一个可以和相应的检测器流体耦合。接口6315可以配置成将离子流从接口6315引导至nMSC 6320、6330中的一个或两个。在一些配置中，接口6315可以包括一个或多个阀、透镜、偏转器等，其可以定位成在任何特定分析周期将离子流引导至nMSC 6320、6330中的一个。在其他示例中，接口6315可以包括一个或多个阀、透镜、偏转器等，其可以定位成在任何特定分析周期将分析物流引导至nMSC 6320、6330两者。接口6315的精确配置可以取决于从电离内核6310提供的特定样品，并且示例性的接口可以包括多极偏转器，该多极偏转器可以以共面的方式或以非共面的方式接收/偏转离子。例如在共同受让的美国专利公开第20140117248号、第20150136966号和第20160172176号中，描述了示例性的偏转器，并且本文更详细地描述了某些特定类型的偏转器。在一些示例中，接口6315可以包括第一出口和第二出口。第一出口可以流体耦合到nMSC 6320，并且第二出口可以流体耦合到nMSC 6330。可以控制离子流过第一出口和第二出口，以确定nMSC 6320、6330中的哪一个从接口6315接收样品。类似地，可以控制离子流入接口6315，以确定从接口6315向下游nMSC提供的离子的性质和/或类型。
在一些实施例中，质量分析仪的电离内核和nMSC之间的接口可以配置成以特定角度朝向nMSC引导离子。参照图64，接口6415存在于电离内核6410和两个nMSC 6420、6430之间。接口6415可以配置成以特定角度，将离子流从接口6415引导至nMSC 6420、6430中的一个或两个。在一些配置中，接口6415可以包括一个或多个阀、透镜、偏转器等，其可以定位成在任何特定分析周期将离子流引导至nMSC 6420、6430中的一个。在其他示例中，接口6415可以包括一个或多个阀、透镜、偏转器等，其可以定位成在任何特定分析周期将分析物流引导至nMSC 6420、6430中的一个。接口6415的精确配置可以取决于从电离内核6410提供的特定样品，并且示例性的接口可以包括多极偏转器，该多极偏转器可以以共面的方式或以非共面的方式接收/偏转离子。例如在共同受让的美国专利公开第20140117248号、第20150136966号和第20160172176号中，描述了示例性的偏转器，并且本文更详细地描述了某些特定类型的偏转器。nMSC 6420、6430可以是相同的或不同的，但它们通常是不同的，使得nMSC 6420、6430中的一个可以选择无机离子，并且nMSC 6420、6430中的另一个可以选择有机离子。尽管未示出，但nMSC 6420、6430可以与共用检测器流体耦合，或者nMSC 6420、6430中的每一个可以和相应的检测器流体耦合。接口6415可以配置成在任何分析周期期间，以不同的角度向nMSC 6420、6430中的一个提供离子。在一些示例中，向接口6415施加电压允许系统6400向nMSC 6420提供离子，并且施加不同的电压允许系统6400向nMSC 6430提供离子。系统6400可以配置成使所提供的离子的角度互相交替，使得在分析周期期间间歇地并且按顺序将离子提供给nMSC 6420、6430中的每一个。通过改变离子的输出角度，可以在分析周期期间在nMSC 6420、6430之间按顺序提供离子，以便对例如样品中的无机离子和有机离子进行检测。
在一些示例中，接口可以和两个或更多个样品电离内核流体耦合，并且可以配置成从一个或两个电离内核中接收离子，具体取决于接口的配置。参照图65，可以存在两个电离内核6505、6510并且其与接口6515流体耦合/解耦。电离内核6505、6510可以包括无机离子源或有机离子源，并且在一些实例中，电离内核6510、6520中的一个包括无机离子源，并且内核6510、6520中另一个包括有机离子源。在某些配置中，接口6515可以包括一个或多个阀、透镜、偏转器等，其可以定位成在任何特定分析周期，从电离内核6505、6510中接收离子。在其他示例中，接口6515可以包括一个或多个阀、透镜、偏转器等，其可以定位成在任何特定分析周期，从两个电离内核6505、6510中接收离子。接口6515的精确配置可以取决于从电离内核6505、6510提供的特定样品，并且示例性的接口可以包括多极偏转器，该多极偏转器可以以共面的方式或以非共面的方式接收/偏转离子。例如在共同受让的美国专利公开第20140117248号、第20150136966号和第20160172176号中，描述了示例性的偏转器，并且本文更详细地描述了某些特定类型的偏转器。尽管未示出，但是接口6515通常配置成将离子提供给一个或多个下游质量分析仪，以用于MS和随后的检测。在一些实例中，接口可以是定点式或固定式接口，并且一个或多个电离内核可以移动至特定位置，以从接口中接收分析物。
参照图66A和图66B，系统6600包括接口6615，该接口6615存在于电离内核6610和两个质量分析仪nMSC 6620、6630之间。电离内核6610可以包括无机离子源和/或有机离子源。nMSC 6620、6630可以是相同的或不同的，但它们通常是不同的，使得nMSC 6620、6630中的一个可以选择无机离子，并且nMSC 6620、6630中的另一个可以选择有机离子。尽管未示出，但nMSC 6620、6630可以与共用检测器流体耦合，或者nMSC 6620、6630中的每一个可以和相应的检测器流体耦合。接口6615可以向nMSC 6620或nMSC 6630提供样品，具体取决于nMSC 6620、6630的特定位置。如图66A所示，nMSC 6620可以位于接口6615并与其流体耦合，而nMSC 6630与接口6615流体解耦。在图66B中，nMSC 6630可以位于接口6615并与其流体耦合，而nMSC 6620与接口6615流体解耦。nMSC 6620、6630可以定位在可移动的台架上，该可移动的台架可以根据需要，使用马达、发动机、动力源等平移内核6620、6630。例如，步进电机可以耦合到可移动的台架，并且用来在位置之间切换nMSC 6620、6630。如本文所指出的，nMSC 6620、6630的位置并不需要是一维的。相反，可以改变nMSC 6620、6630的高度和/或横向位置，以使nMSC 6620、6630与接口6615流体耦合/解耦。
在其他实例中，接口可以是定点式或固定式接口，并且一个或多个电离内核可以移动至特定位置，以向接口提供离子。参照图67A和图67B，系统6700包括接口6715，该接口6715可以和电离内核6705、6710流体耦合/解耦。电离内核6705、6710可以包括无机离子源或有机离子源，并且在一些实例中，电离内核6705、6710中的一个包括无机离子源，并且内核6720、6730中另一个包括有机离子源。接口6715可以从电离内核6705或电离内核6730中接收离子，具体取决于电离内核6705、6710的特定位置。如图67A所示，电离内核6705可以位于接口6715并与其流体耦合，而电离内核6710与接口6715流体解耦。在图67B中，电离内核6710可以位于接口6715并与其流体耦合，而电离内核6705与接口6715流体解耦。电离内核6705、6710可以定位在可移动的台架上，该可移动的台架可以根据需要，使用马达、发动机、动力源等平移内核6705、6710。例如，步进电机可以耦合到可移动的台架，并且用来在位置之间切换电离内核6705、6710。如本文所指出的，内核6705、6710的位置并不需要是一维的。相反，可以改变内核6705、6710的高度和/或横向位置，以使内核6705、6710与接口6715流体耦合/解耦。
在一些示例中，可以存在接口，并且该接口可以用来将离子提供给两个或更多个非共面的nMSC。例如，两个nMSC可以定位在仪器内的不同高度处。根据接口和/或nMSC的特定配置，可以将离子提供给一个或两个nMSC。图68示出了一个图示。系统6800包括电离内核6810，或者可以包括多于一个的电离内核。电离内核6810可以包括无机离子源和/或有机离子源。然后，nMSC内核6820升高并搁置在支撑件6825上，而nMSC 6820搁置在支撑件6805上。在一些示例中，接口6815可以包括：第一出口，其可以向nMSC 6820提供样品；和第二出口，其可以向nMSC 6830同时提供样品。在其他配置中，接口6815可以在两个位置之间移动(例如，升高)，以在第一位置向nMSC 6820提供样品，并且在第二位置向nMSC 6830提供样品。例如，电动机、发动机或其他动力源可以耦合到接口6815并且用来将接口6815上下移动至不同的位置，以使接口6815与各个nMSC 6820、6825流体地耦合或从各个nMSC 6820、6825流体解耦。另选地，接口6815可以包括一个或多个偏转器，该偏转器可以以所需的角度偏转离子，并且将所偏转的离子提供给nMSC 6820、6830中的一个。
在某些实施例中，nMSC可以存在于可旋转的圆盘或平台上，并且可以实施周向旋转，以使接口与各个nMSC流体耦合/解耦。参照图69A，系统6900包括电离内核6910、接口6915和两个nMSC 6920、6930。电离内核6910可以包括无机离子源和/或有机离子源。nMSC6920、6930可以是相同的或不同的，但它们通常是不同的，使得nMSC 6920、6930中的一个可以选择无机离子，并且nMSC 6920、6930中的另一个可以选择有机离子。在使用系统6900时，电离内核6910和接口6915可以居中地定位在外壳6905中。nMSC 6920、6930可以使用平台或台架6925在各个位置之间周向旋转。例如，如图69A所示，nMSC 6920可以存在于第一位置，该第一位置使nMSC 6920与接口6915流体耦合。在图69A中，nMSC 6930与接口6915流体解耦。沿周向逆时针旋转台架6925约90度，可以使nMSC 6920与接口6915流体解耦，并使nMSC6930与接口6915流体耦合，如图69B中所示。尽管在图69B中使用了90度旋转，但平台6925旋转的精确度数可以从例如约五度到约九十度发生变化。在一些实例中，可以存在另一个电离内核或nMSC。参照图69C，示出了系统6950，其包括附加的nMSC 6960。参照图69D，示出了系统6970，其包括第四nMSC 6980。附加nMSC 6960、6980通常彼此不同并且还与内核6920、6930不同，以便扩展可能存在于特定系统中的可能类型的nMSC。在图69C中，旋转平台6925约180度可以使nMSC 6960与接口6915流体耦合。在图69D中，顺时针旋转平台6925约90度或逆时针旋转平台6925 270度，可以使nMSC 6980与接口6915流体耦合。
在某些示例中，一个或多个接口可以存在于可旋转的圆盘或台架上，并且可以实施周向旋转以使nMSC与接口流体耦合/解耦。参照图70A，系统7000包括接口7010、7020和中心nMSC 7015。接口7010、7015可以单独包括本文所描述的任何一个或多个接口。在一些实例中，接口7010、7020中的一个与包括无机电离源的电离内核流体耦合；并且接口7010、7020中的另一个与包括有机电离源的电离内核流体耦合。在使用系统7000时，nMSC 7015可以居中定位，并且接口7010、7020可以使用平台或台架7025在各个位置之间周向旋转。例如，如图70A中所示，接口7010可以存在于第一位置，该第一位置使接口7010与nMSC 7015流体耦合，以将离子从接口7010提供到nMSC 7015。在图70A中，接口7020与nMSC 7015流体解耦。沿周向逆时针旋转台架7025约90度，可以使接口7010与nMSC 7015流体解耦，并使接口7020与nMSC 7015流体耦合，如图70B中所示。尽管在图70B中使用了90度旋转，但平台7025旋转的精确度数可以从例如约五度到约九十度发生变化。在一些实例中，可以存在另一个接口。参照图70C，示出了系统7050，其包括附加接口7060。参照图70D，示出了系统7070，其包括第四接口7080。附加接口7060、7080通常彼此不同并且还与接口7010、7020不同，以便扩展可能存在于特定系统中的可能类型的接口和/或电离内核。在图70C中，旋转平台7025约180度，可以使接口7060与nMSC 7015流体耦合。在图70D中，顺时针旋转平台7025约90度或逆时针旋转平台7025 270度，可以使接口7080与nMSC 7015流体耦合。
在一些示例中，两个或更多个电离内核可以存在于可旋转的圆盘或台架上，并且可以实施周向旋转，以使电离台架与一个或多个nMSC流体耦合/解耦。参照图71A，系统7100包括两个电离内核7120、7130和nMSC 7110。电离内核7120、7130可以包括无机离子源和/或有机离子源。在一些示例中，电离内核7120、7130中的一个可以包括无机离子源，并且电离内核7120、7130中的另一个可以包括有机离子源。nMSC 7110可以设计成选择离子，例如，可以选择无机离子或有机离子或两者。在使用系统7100时，nMSC 7110居中定位在质量分析仪外壳7115中。电离内核7120、7130可以使用平台或台架7125在各个位置之间周向旋转。例如，如图71A所示，电离内核7120可以存在于第一位置，该第一位置使nMSC 7110与内核7120流体耦合。在图71A中，电离内核7130与nMSC 7110流体解耦。逆时针周向旋转台架7125约90度，可以使电离内核7120与nMSC 7110流体解耦，并使电离内核7130与nMSC 7115流体耦合，如图71B中所示。尽管在图71B中使用了90度旋转，但平台7125旋转的精确度数可以从例如约五度到约九十度发生变化。在一些实例中，可以存在另一个电离内核或nMSC。参照图71C，示出了系统7150，其包括附加电离内核7160。参照图71D，示出了系统7170，其包括第四电离内核7180。附加电离内核7160、7180通常彼此不同并且还与内核7120、7130不同，以便扩展可能存在于特定系统中的可能类型的电离内核。在图71C中，旋转平台7125约180度，可以使电离内核7160与nMSC 7110流体耦合。在图71D中，顺时针旋转平台7125约90度或逆时针旋转平台7125 270度，可以使电离内核7180与nMSC 7110流体耦合。
在一些配置中，两个或更多个电离内核可以存在于可旋转的圆盘或台架上，并且可以实施周向旋转，以使电离台架通过接口与两个nMSC流体耦合/解耦。参照图72A，系统7200包括两个电离内核7220、7230、接口7215和两个nMSC 7235、7245。电离内核7220、7230可以包括无机离子源和/或有机离子源。在一些示例中，电离内核7220、7230中的一个可以包括无机离子源，并且电离内核7220、7230中的另一个可以包括有机离子源。nMSC 7235、7345可以设计成选择离子，例如，可以选择无机离子或有机离子或两者。在一些示例中，nMSC 7235、7245中的一个可以选择无机离子，并且nMSC 7235、7245中的另一个可以选择有机离子。在某些示例中，接口7215的精确配置可以取决于从电离内核6220、6230提供的特定样品，并且示例性的接口可以包括多极偏转器，该多极偏转器可以以共面的方式或以非共面的方式接收/偏转离子。例如在共同受让的美国专利公开第20140117248号、第20150136966号和第20160172176号中，描述了示例性的偏转器，并且本文更详细地描述了某些特定类型的偏转器。在使用系统7200时，接口7215和nMSC 7235、7345居中定位在质量分析仪外壳7205中。电离内核7220、7230可以使用平台或台架7225在各个位置之间周向旋转。例如，如图72A所示，电离内核7220可以存在于第一位置，该第一位置使接口7215与内核7220流体耦合。在图71A中，电离内核7230与接口7215流体解耦。沿周向逆时针旋转台架7225约90度，可以使电离内核7220与接口7215流体解耦，并使电离内核7230与接口7215流体耦合，如图71B所示。尽管在图71B中使用了90度旋转，但平台7225旋转的精确度数可以从例如约五度到约九十度发生变化。在一些实例中，可以存在另一个电离内核或nMSC。参照图72C，示出了系统7250，其包括附加电离内核7260。参照图71D，示出了系统7270，其包括第四电离内核7280。附加电离内核7260、7280通常彼此不同并且还与内核7220、7230不同，以便扩展可能存在于特定系统中的可能类型的电离内核。在图72C中，旋转平台7225约180度，可以使电离内核7160与接口7215流体耦合。在图72D中，顺时针旋转平台7225约90度或逆时针旋转平台7225 270度，可以使电离内核7180与接口7225流体耦合。如果需要，可以将内核7220、7230、7260和7280的性质和类型链接到接口7215的配置，使得内核7220、7230、7260、7280向接口7215提供离子的定位导致接口向nMSC 7235、7245中的一个提供离子。例如，在nMSC 7235配置成选择/过滤无机离子并且内核7220、7280提供无机离子的情况下，接口7215可以配置成当来自内核7220、7280中的任一个的离子被提供给接口7215时，将所接收的无机离子提供给nMSC 7235。在该配置中，nMSC 7245未使用或不处于活动状态。在nMSC7245配置成选择/过滤有机离子并且内核7230、7260提供有机离子的情况下，接口7215可以配置成当来自内核7230、7260中的任一个的离子提供给接口7215时，将所接收的有机离子提供给nMSC 7245。在该配置中，nMSC 7235未使用或不处于活动状态。
尽管描述了其中单个电离内核在任何一个分析周期期间向接口提供离子的某些配置，但是如果需要，可以向接口同时提供来自不同电离内核的离子。例如，以共面的方式定位的不同电离内核可以将离子提供到接口的不同入口。参照图73A，示出了将来自第一电离内核7320的离子和来自第二电离内核7320的离子提供给接口7315的图示。在接口7315的该第一配置中，来自电离内核7320的离子被提供给包括nMSC 7340的质量分析仪，并且来自电离内核7330的离子被提供给包括nMSC 7350的质量分析仪。例如，电离内核7320可以包括无机离子源，并且无机离子可以被提供给配置成对无机离子进行选择/过滤的nMSC 7340。电离内核7330可以包括有机离子源，并且有机离子可以被提供给配置成对有机离子进行选择/过滤的nMSC 7350。通过改变接口7315的极上的电压，可以将来自各个电离内核7320、7330的离子重定向到不同的MS内核。例如，如图73B所示，来自电离内核7320的离子可以被替代地提供给nMSC 7340，并且来自电离内核7330的离子可以被提供给nMSC 7350。接口7315是共面接口，因为来自电离内核7320、7330的离子一般在相同的二维平面中(例如，在相同的x-y平面中)提供给接口。尽管图73A和73B示出了两个nMSC 7340、7350，但可能需要省略其中一个nMSC。例如，在nMSC 7340是双核MS的情况下，可以省略nMSC 7350，并且来自内核7320的无机离子可以由nMSC 7340过滤，并且来自内核7330的有机离子也可以由nMSC7340过滤，具体取决于双核MS的整体配置。在一些示例中，当来自内核7320、7330中的一个的离子被引导至双核MS中时，可以引导来自内核7320、7330中的另一个的离子远离双核MS。在双核MS配置成用于无机离子检测，并且电离内核7320提供无机离子而电离内核7330提供有机离子的情况下，可以将来自内核7330的有机离子引导至系统的废料部件或另一个部件。当需要对来自电离内核7330的有机离子进行过滤/检测时，可以将来自内核7320的无机离子引导至系统的废料部件或另一个部件，并且可以将来自内核7330的有机离子提供给双核MS。尽管将电离内核7320、7330和nMSC 7340、7350显示为定位成彼此分开大约180度，如图73A和图73B所示，但是如果需要，电离内核7320、7330或nMSC 7340、7350可以彼此相邻定位，并且可以将接口重新配置成沿着所需的轨迹引导进入的离子。进一步地，尽管将接口7315配置成通过大约90度的单个弯曲来弯曲进入的离子，但是可以使用双弯曲接口或多弯曲接口以引导接口内的离子通过所需的轨迹。在共同受让的美国专利公开第20140117248号、第20150136966号和第20160172176号中，更详细地描述了合适的多极组件，这些多极组件可以用在本文所描述接口中来提供单弯曲、双弯曲或多弯曲。
在某些实施例中，本文所描述的系统可以包括多于一个的可旋转台架或可移动平台。例如，该系统可以包括质量分析仪，该质量分析仪包括位于一个平台上的nMSC和位于另一个平台上的接口。nMSC和接口中的每一个可以移动至各个位置，以将使该部件与系统的另一个内核部件流体耦合/解耦。类似地，样品操作内核、电离内核等可以存在于可移动平台或台架上，以允许内核部件相对于其他内核部件的位置单独移动。可以提供线性移动、旋转移动、周向移动或以多个维度提供运动，以便相对于一个或多个其他内核部件的位置对各个内核部件进行适当的定位。
在其他实例中，以非共面方式定位的不同电离内核可以将离子提供到接口的不同入口。图74A中示意性地示出了一个图示。来自第一电离内核7410的离子被提供到位于第一x-y平面中的支撑件7405上的接口7415，并且来自位于支撑件7405上方的第二电离内核7420的离子被提供到与第一x-y平面不同的平面中的接口7415。来自内核7410的离子通过接口7415一侧上的开口7419进入接口7415，并且来自内核7420的离子通过接口7415的不同侧上的开口7417进入接口7415。离子可以沿箭头7450的方向从接口7415提供给一个或多个下游nMSC(未示出)。在一些示例中，接口7415配置成在特定分析周期期间，仅提供来自电离内核7410的离子，而在其他配置中，在不同的分析周期期间仅提供来自电离内核7420的离子。例如，内核7410可以提供无机离子，并且内核7420可以提供有机离子。下游双核MS可以配置成在第一周期期间对无机离子进行检测，并且接口7415可以在第一周期期间仅提供来自内核7410的离子。下游双核MS可以重新配置成在第二周期期间对有机离子进行选择/过滤，并且接口7415可以在第二周期期间仅提供来自内核7410的离子。接口7415和双核MS可以来回切换，使得按顺序对无机离子和有机离子执行分析。图74B中示出了非共面接口的一个特定图示。该接口包括八极偏转器7470，八极偏转器7470示出为与四极杆组件7480(例如，作为nMSC的一部分的四极杆组件)流体耦合。两个离子源可以彼此正交地定位，并且与八极偏转器7470流体耦合。来自离子源#1的离子可以通过顶表面进入接口，并且来自离子源#2的离子可以通过侧表面进入接口。偏转器7470可以将来自不同源的离子引导至四极组件7480中以进行选择/过滤。
在一些示例中，非共面接口可以存在于两个或更多个nMSC与共用检测器之间。例如，参照图75A，第一nMSC 7510定位在支撑件7505上。第二nMSC 7520定位在支撑件7505上方。接口7515流体耦合到nMSC 7510、7520中的每一个并耦合到检测器7560。来自nMSC 7510的离子通过接口7515一侧上的开口7519进入接口7515，并且来自nMSC 7520的离子通过接口7515的不同侧上的开口7517进入接口7515。可以沿箭头7550的方向从接口7515将离子提供给下游检测器7560(未示出)。在某些示例中，接口7515配置成在特定分析周期期间，仅向检测器7560提供来自nMSC 7510的离子，而在其他配置中，在不同的分析周期期间，仅向检测器7560提供来自nMSC 7520的离子。例如，nMSC 7510可以提供无机离子，并且nMSC 7520可以提供有机离子。下游检测器7560可以按顺序检测从两个nMSC 7510、7520提供的无机离子和有机离子。如果需要，可以存在第二检测器，并且接口7515可以配置成例如同时或按顺序向检测器7560和第二检测器提供离子。
如本文的一些实例中所指出的，在使用非共面接口的情况下，该接口可以包括多极组件，以便在所需的方向上对进入的离子进行导向。例如，第一多极(例如，第一正交组件)可以在接口外壳中流体耦合到第二多极(例如，正交组件)，以接收和导向来自系统的不同非共面内核的离子。在一些实例中，多极可以形成八极，其可以配置成在多于一个的单一平面中接收离子并将离子引导至到同一平面或不同平面。在一些示例中，在本文中将可以在多于一个的平面中接收和/或引导离子的偏转器称为多维偏转器。例如，偏转器可以包括中心四极，其中一个或多个其他四极以与中心四极成合适的角度定位。参照图75B，示出了中心偏转器7580，其可以接收和/或引导来自内核7581、7582、7583、7584、7585、7586中的一个或多个的离子。在一些实例中，中心偏转器可以包括中心正交组件，和一个或多个与中心正交组件流体耦合的堆叠的正交组件。例如，在内核7581、7582和7583中的每一个包括电离内核的情况下，偏转器850可以包括三个耦合的四极，这三个耦合的四极可以从三个电离内核接收离子并沿着不同的路径例如朝向内核7584、7585、7586中的一个或多个引导离子。如果需要，六个内核7581、7582、7583、7584、7585、7586中的五个可以是电离内核，并且剩余内核可以包括质量分析仪，该质量分析仪包括如本文所描述的nMSC。在其它示例中，内核7581、7582、7583、7584、7585、7586中至少有两个可以是包括一个或多个nMSC的质量分析仪，并且其他四个内核中的任何一个或多个可以包括电离内核。在一些示例中，中心偏转器7580可以定位在两个或更多个nMSC和检测器之间。例如，内核7584可以包括检测器，并且内核7581、7582、7583、7585和7586的每一个都可以包括包括nMSC等的质量分析仪，该质量分析仪可以选择离子并将所选择的离子提供给中心偏转器7580。中心偏转器可以配置成将从内核7581、7582、7583、7585和7586中的任何一个或多个接收的离子提供给内核7584中的检测器。在一些示例中，存在于中心偏转器7580中的单个四极的数量可以反映出耦合到中心偏转器7580的单独的内核的数量。在其他实例中，中心偏转器7580中存在的单个四极的数量可以包括“n+1”或“n-1”配置，其中，n是耦合到中心偏转器7580的单独的内核的数量，这取决于内核将离子提供给中心偏转器7580的精确角度，和/或取决于中心偏转器将离子提供给另一个内核的精确角度。
在一些实施例中，本文所描述的接口可以采用机械开关或电气开关的形式。在使用机械开关的情况下，开关可以包括快门或孔口，其可以打开和关闭以允许分析物/离子穿过，或者抑制样品/离子穿过。在其他实例中，可以存在电气开关，以允许分析物/离子穿过，或者抑制分析物或离子穿过。示例性的电气开关可以包括或提供一个或多个电场或磁场，该电场或磁场可以将分析物/离子朝向所需方向引导或者起到“阻挡壁”的作用，以阻止来自特定内核部件的分析物/离子穿过。
共用的MS部件
在某些实施例中，本文所描述的各个质谱内核可以符合所需地使用共用的MS部件，包括但不限于：气体控制器、电源、处理器、泵、共用仪器外壳等。参照图76，示出了这些共用部件中的一些的一般示意图。系统7600可以包括气体控制器7610、处理器7620(其可以是一个整体，或者作为计算机系统或以下所指出的其他装置的一部分存在)、一个或多个真空泵7640和一个或多个电源7630。这些共用部件可以和一个或多个单一MS内核、双核MS或多MS内核(诸如，MS内核7650和MS内核7660)电耦合。如果需要，可以仅存在一个MS内核7650，并且可以省略另一个MS内核7660。例如，在质量分析仪7650包括双核MS的情况下，可能不需要使用质量分析仪7660。一个重要属性是，可以存在不同的MS内核并使用共用MS部件，这可以导致总成本降低以及本文所描述的系统中存在的部件减少。如果需要，可以存在共用检测器(未示出)并由MS内核7650、7660使用，如本文详细描述的。尽管未示出，但是一个或多个反应/碰撞单元也可以由不同的MS内核7650、7660共同使用，或者每个内核可以包括相应的反应/碰撞单元。例如，在共同受让的美国专利第8,426,804号、第8,884,217号和第9,190,253号中描述了示例性的反应/碰撞单元。
在某些实施例中，本文所描述的系统的气体控制器可以向系统的一些内核部件提供所需的气体或气体。控制器可以控制流速，调节气体压力，或者以其他方式控制进出系统的气体流量。系统电源可以是交流或直流电源，并且可以是固定式电源、便携式电源，或者可以采用可以向系统的各个部件提供电流或电压的其他形式。真空泵通常包括低真空泵和涡轮分子泵。低真空泵(前级管道泵)可以用来提供低真空，并且涡轮分子泵可以用来提供高真空，例如10-4托、10-6托、10-8托或以下。高真空防止了离子偏离所选定的路径，并且可以提供无碰撞离子轨迹并降低背景噪声。使用的精确压力可以取决于质量分析仪中存在的特定部件。旋转泵、扩散泵和其他类似的泵可以用作本文所描述的系统中的真空泵。如果需要，还可以存在阀、真空计、传感器等，以控制和/或监测系统中的各个压力。
在某些实施例中，本文所描述的IOMS系统可以包括合适的共用硬件电路，其包括，例如，微处理器和/或用于系统操作的合适的软件。处理器可以和仪器外壳成为一体，或者可以存在于一个或多个电耦合到IOMS系统的部件的附件板、印刷电路板或计算机上。例如，处理器可以用来控制气流、控制任何内核部件的移动、控制施加到nMSC或与nMSC一起使用的电压或频率、使用检测器等检测离子。处理器通常与一个或多个存储器单元电耦合，以接收来自IOMS系统的内核组件的数据，并允许根据要求或需要调整各个系统参数。处理器可以是通用计算机的一部分，诸如，基于Unix、英特尔奔腾型处理器、摩托罗拉PowerPC、SunUltraSPARC、惠普PA-RISC处理器或任何其他类型的处理器的通用计算机。根据本技术的各个实施例，可以使用任何类型的计算机系统中的一种或多种。进一步地，该系统可以连接到单个计算机，或者可以分布在通过通信网络连接的多个计算机中。应当理解的是，可以执行其他功能(包含网络通信)，并且该技术不限于具有任何特定功能或功能集。系统和方法的各个方面可以实施为在通用计算机系统中执行的专用软件。计算机系统可以包含：连接到一个或多个存储器装置(诸如，磁盘驱动器、存储器或用于存储数据的其他装置)的处理器。存储器通常用于在采样系统的操作期间存储程序、刻度和数据。计算机系统的部件可以通过互连装置和/或网络(例如，在驻留在单独的分立机器上的部件之间)耦合，该互连装置可以包含一根或多根总线(例如，在集成在同一机器内的部件之间)。互连装置提供要在系统的部件之间交换的通信(例如，信号、数据、指令)。计算机系统通常可以在处理时间(例如，几毫秒、几微秒或更短)内接收和/或发出命令，以允许快速控制IOMS系统。例如，计算机控制可以通过双核MS实施，以允许在无机离子过滤和有机离子过滤之间快速切换。处理器通常电耦合到可以改变的电源，例如，直流电源、电池、可充电电池、电化学电池、燃料电池、太阳能电池、风力涡轮机、手摇发电机、交流电源(例如，120V AC电源或240V AC电源)、或任何这些类型电源的组合。电源可以由系统的其他部件共享，包含MS内核、检测器等。系统还可以包含：一或多个输入装置，例如，键盘、鼠标、轨迹球、麦克风、触摸屏、手动开关(例如，超控开关)；和一个或多个输出装置，例如，打印装置、显示屏、扬声器。另外，该系统可以含有一个或多个将计算机系统连接到通信网络的通信接口(作为互连装置的补充或替代)。该系统还可以包含合适的电路，以便转换从IOMS系统的内核部件接收的信号。这种电路系统可以存在于印刷电路板上，或者可以存在于单独的板或装置上，该单独的板或装置通过合适的接口(例如，串行ATA接口、ISA接口、PCI接口等)，或者通过一种或多种无线接口(例如，蓝牙、WiFi、近场通信或其他无线协议和/或接口)，与印刷电路板电耦合。
在某些实施例中，与IOMS系统一起使用的存储系统通常包含计算机可读且可写的非易失性记录介质，该介质中可以存储可以由处理器执行的程序使用的代码，或者存储在介质上或介质中的由程序处理的信息。例如，介质可以是磁盘、固态驱动器或闪存。通常，在操作中，处理器致使数据从非易失性记录介质中被读取到另一个存储器中，这允许处理器比介质更快地访问信息。该存储器通常是易失性随机存取存储器，诸如，动态随机存取存储器(DRAM)或静态存储器(SRAM)。它可以位于存储系统中或存储器系统中。一般而言，处理器操纵集成电路存储器内的数据，然后在完成处理之后将数据复制到介质。例如，处理器可以从各个内核部件接收信号，并调节气体流速、接口参数、电离源参数、检测器参数等。已知各种用于管理介质和集成电路存储器元件之间的数据移动的机制。并且该技术并不限于此。该技术也不限于特定的存储器系统或存储系统。在某些实施例中，系统还可以包含专门编程的专用硬件，例如，专用集成电路(ASIC)或现场可编程门阵列(FPGA)。该技术的各方面能够以软件、硬件或固件或其任何组合来实施。进一步地，这些方法、行为、系统、系统元件及其部件可以实施为以上所描述的系统的一部分，或者实施为独立的部件。尽管通过示例的方式将具体系统描述为可以在其上实践该技术的各个方面的一类系统，但是应当理解，各方面不限于在所描述的系统上实施。可以在具有不同架构或部件的一个或多个系统上实践各个方面。该系统可以包括通用计算机系统，该通用计算机系统可以使用高级计算机编程语言编程。该系统还可以使用专门编程的专用硬件来实施。在这些系统中，处理器通常是商用处理器，诸如，可以从英特尔公司获得的众所周知的奔腾级处理器。有许多其他处理器可用。这样的处理器通常执行操作系统，该操作系统可以是，例如：可以从微软公司获得的Windows 95、Windows 98、Windows NT、Windows 2000(Windows ME)、Windows XP、WindowsVista、Windows 7、Windows 8或Windows 10操作系统；可以从苹果公司获得的MAC OS X，例如Snow Leopard、Lion、Mountain Lion或其他版本；可以从太阳微系统公司获得的Solaris操作系统；或者可以从各种来源获得的UNIX或Linux操作系统。可以使用许多其他操作系统，并且在某些实施例中，一组简单的命令或指令可以起到操作系统的作用。
在某些示例中，处理器和操作系统可以一起定义可以为其编写高级编程语言的应用程序的平台。应当理解，该技术不限于特定的系统平台、处理器、操作系统或网络。而且，对本领域技术人员而言显而易见的是，鉴于本公开的益处，本技术不限于具体的编程语言或计算机系统。进一步地，应当理解，还可以使用其他适当的编程语言和其他适当的系统。在某些示例中，硬件或软件可以配置成实施认知架构、神经网络或其他合适的实施方式。如果需要，计算机系统的一个或多个部分可以分布在耦合到通信网络的一个或多个计算机系统上。这些计算机系统还可以是通用计算机系统。例如，各个方面可以分布在一个或多个计算机系统中，这些计算机系统配置成向一个或多个客户端计算机提供服务(例如，服务器)，或者作为分布式系统的一部分执行整体任务。例如，可以在客户端-服务器或多层系统上执行各个方面，该客户端-服务器或多层系统包含的部件分布在根据各个实施例执行各种功能的一个或多个服务器系统之间。这些部件可以是可执行的代码、中间代码(例如，IL)或直译码(例如，Java)，其使用通信协议(例如，TCP/IP)在通信网络(例如，互联网)上进行通信。还应当理解，该技术不限于在任何特定的系统或系统群组上执行。而且，应该理解，该技术不限于任何特定的分布式架构、网络或通信协议。
在一些实例中，可以使用面向对象的编程语言，诸如，例如SQL、SmallTalk、Basic、Java、Javascript、PHP、C++、Ada、Python、iOS/Swift、Ruby on Rails或C#(C-Sharp)，对各个实施例进行编程。还可以使用其他面向对象的编程语言。另选地，可以使用功能、脚本和/或逻辑编程语言。可以在非编程环境(例如，以HTML、XML或其他格式创建的文档，当在浏览器程序的窗口中查看时，这些文档呈现出图形用户界面(GUI)的各个方面或者执行其他功能)中实现各种配置。某些配置可以实施为编程元件或非编程元件，或其任何组合。在一些实例中，可以通过远程接口，诸如移动装置、平板电脑、笔记本电脑、或者可以通过有线或无线接口与IOMS系统通信并允许对IOMS系统进行远程操作(如果需要)的其他便携式装置，对IOMS系统进行控制。
在某些示例中，一种使用与电离内核流体耦合的质量分析仪按顺序检测无机离子和有机离子的方法包括：按顺序(i)从自电离内核接收的无机离子中选择离子以及(ii)从自电离内核接收的有机离子中选择离子，其中，质量分析仪包括第一单核质谱仪和第二单核质谱仪，每个均配置成使用共用处理器、共用电源和至少一个共用真空泵，其中，第一单核质谱仪配置成从自电离内核接收的无机离子中选择离子，并且第二单核质谱仪配置成从自电离内核接收的有机离子中选择离子。在一些示例中，该方法包括：在第一分析周期期间，将所选择的无机离子从第一单核质谱仪提供给第一检测器。在其他实施例中，该方法包括：在不同于第一分析周期的第二分析周期期间，将所选择的有机离子从第二单核质谱仪提供给第一检测器。在一些实例中，该方法包括：在第一分析周期期间，将所选择的无机离子从第一单核质谱仪提供给第一检测器，以及在第一分析周期期间，将所选择的有机离子从第二单核质谱仪提供给第二检测器。在某些示例中，该方法包括：在第一分析周期期间向第一单核质谱仪提供离子，同时在第一分析周期期间防止离子流到第二单核质谱仪。在其他示例中，该方法包括：在第二分析周期期间向第二单核质谱仪提供离子，同时在第二分析周期期间防止离子流到第一单核质谱仪。在一些实施例中，该方法包括：使电离内核配置有无机离子源和有机离子源，有机离子源与无机离子源分隔开。在一些示例中，该方法包括：在第一分析周期期间，从无机离子源向第一单核质谱仪提供离子，同时在第一分析周期期间，防止离子从有机离子源流到第二单核质谱仪。在一些实施例中，该方法包括：在第二分析周期期间，从有机离子源向第二单核质谱仪提供离子，同时在第二分析周期期间，防止离子从无机离子源流到第一单核质谱仪。在其他实例中，该方法包括：使质量分析仪配置有接口，接口配制成在第一分析周期期间，仅从第一单核质谱仪和第二单核质谱仪中的一个向检测器提供离子。
在其他示例中，一种使用与电离内核流体耦合的质量分析仪按顺序检测无机离子和有机离子的方法包括：按顺序(i)从自电离内核接收的无机离子中选择离子以及(ii)从自电离内核接收的有机离子中选择离子，其中，质量分析仪包括双核质谱仪，双核质谱仪配置成选择无机离子和有机离子两者。在一些实例中，该方法包括：在第一分析周期期间，将所选择的无机离子从双核质谱仪提供给第一检测器。在其他示例中，该方法包括：在不同于第一分析周期的第二分析周期期间，将所选择的有机离子从双核质谱仪提供给第一检测器。在某些实施例中，该方法包括：在第一分析周期期间，将所选择的无机离子从双核质谱仪提供给第一检测器，以及在第二分析周期期间，将所选择的有机离子从双核质谱仪提供给第二检测器。在其他示例中，该方法包括：在第一分析周期期间向双核质谱仪提供无机离子，同时在第一分析周期期间防止有机离子流到双核质谱仪。在一些示例中，该方法包括：在第二分析周期期间向双核质谱仪提供有机离子，同时在第二分析周期期间防止无机离子流到双核质谱仪。在某些实例中，该方法包括：使电离内核配置有无机离子源和有机离子源，有机离子源与无机离子源分隔开。在一些示例中，该方法包括：将双核质谱仪co配置成包括双重四极组件。在其他示例中，该方法包括：将双核质谱仪配置成包括双重四极组件，双重四极组件通过接口与第一检测器流体耦合，并且通过接口和四极组件与第二检测器流体耦合。在一些示例中，该方法包括：将接口配置成包括非共面接口。
在其他实施例中，一种使用双核质谱仪选择从包括两个不同电离源的电离内核提供的离子的方法包括：从包括无机电离源和有机电离源的电离内核中按顺序将离子提供给双核质谱仪；使用提供给双核质谱仪的第一频率，从来自无机电离源的所提供的离子中选择离子；以及使用提供给双核质谱仪的第二频率，从来自有机电离源的所提供的离子中选择离子，其中，第一频率不同于第二频率。在一些示例中，该方法包括：将双核质谱仪配置成在选择周期之后在第一频率和第二频率之间进行切换。在其他实施例中，该方法包括：将选择周期配置成1毫秒或以下。在一些示例中，该方法包括：在无机电离源和双核质谱仪之间以及在有机电离源和双核质谱仪之间提供接口，其中，接口配置成当向双核质谱仪提供第一频率时，从无机电离源向双核质谱仪提供离子，并且配置成当向双核质谱仪提供第二频率时，从有机电离源向双核质谱仪提供离子。在一些实例中，该方法包括：将检测器配置成当向双核质谱仪提供第一频率时，检测所选择的无机离子。在一些示例中，该方法包括：将检测器配置成当向双核质谱仪提供第二频率时，检测所选择的有机离子。在某些实例中，该方法包括：将双核质谱仪配置成具多极组件。在其他示例中，该方法包括：将多极组件配置成包括双重四极组件。在一些实施例中，该方法包括：将多极组件配置成包括三重四极组件。在一些实例中，该方法包括：将检测器配置成包括以下至少一种或多种：电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、成像检测器或飞行时间装置。
下面更详细地描述了可以分析无机离子和有机离子两者的质谱仪的某些具体示例。
示例1
图77中示出了IOMS 7700的一种配置。IOMS 7700包括：元素电离源7702，例如，ICP、CCP、微波等离子体、火焰、电弧、火花等；以及有机电离源7704，例如，ESI、API、APCI、DESI、MALDI或本文所描述的任何一种或多种其他有机电离源。尽管未示出，但是源7702、7704中的每一个可以和样品操作内核流体耦合，并且可以通过接口7701接收样品，该接口7701可以配置成将样品划分/提供给源7702、7704中的每一个。源7702与第一MS内核7712流体耦合，该第一MS内核7712与真空腔室7710放置在一起。第一MS内核7712包括三重四极组件，该第一MS内核7712可以被认为是与第一电子倍增器7714耦合的单核质谱仪。MS内核7712可以和2.5MHz RF驱动器7705电耦合，使得内核7712选择无机离子并将所选择的无机离子提供给EM 7714用于检测。源7704与第二MS内核7716流体耦合，该第二MS内核7716位于真空腔室7710内。第二MS内核7716包括三重四极组件，该第二MS内核7716可以被认为是与第二电子倍增器7718耦合的单核质谱仪。MS内核7716可以和1.0MHz RF驱动器7707电耦合，使得MS内核7716选择有机离子并将所选择的有机离子提供给EM 7718用于检测。质谱仪内核7712、7714共享几个共用的MS部件，包括气体控制器7722、计算机7724、交流-直流电源7726和真空泵7728。驱动器7705、7707可以存在于单独的RF发生器或共用的RF发生器中。
示例2
图78中示出了IOMS 7800的另一个配置。IOMS 7800包括：元素电离源7802，例如，ICP、CCP、微波等离子体、火焰、电弧、火花等；以及有机电离源7804，例如，ESI、API、APCI、DESI、MALDI或本文所描述的任何一种或多种其他有机电离源。尽管未示出，但是源7802、7804中的每一个可以和样品操作内核流体耦合，并且可以通过接口7801接收样品，该接口7801可以配置成将样品划分/提供给源7802、7804中的每一个。源7802与第一MS内核7812流体耦合，该第一MS内核7812与真空腔室7810放置在一起。第一MS内核7812包括三重四极组件，该第一MS内核7812可以被认为是与第一电子倍增器7814耦合的单核质谱仪。MS内核7812可以和2.5MHz RF驱动器7805电耦合，使得内核7812选择无机离子并将所选择的无机离子提供给EM 7814用于检测。源7804与第二MS内核7816流体耦合，该第二MS内核7816位于真空腔室7810内。第二MS内核7816包括双重四极组件，该第二MS内核7816可以被认为是与飞行时间装置或离子阱耦合的单核质谱仪。MS内核7816可以和1.0MHz RF驱动器7807电耦合，使得MS内核7816选择有机离子并将所选择的有机离子提供给TOF/离子阱7818用于检测。质谱仪内核7812、7814共享几个共用的MS部件，包括气体控制器7822、计算机7824、交流-直流电源7826和真空泵7828。驱动器7805、7807可以存在于单独的RF发生器或共用的RF发生器中。
示例3
图79中示出了IOMS 7900的另一种配置。IOMS 7900包括：元素电离源7902，例如，ICP、CCP、微波等离子体、火焰、电弧、火花等；以及有机电离源7904，例如，ESI、API、APCI、DESI、MALDI或本文所描述的任何一种或多种其他有机电离源。尽管未示出，但是源7902、7904中的每一个可以和样品操作内核流体耦合，并且可以通过接口7901接收样品，该接口7901可以配置成将样品划分/提供给源7902、7904中的每一个。源7902与MS内核7912流体耦合，该MS内核7912与真空腔室7910放置在一起。MS内核7912包括三重四极组件7912，该MS内核7912可以被认为是与第一电子倍增器7914耦合的双核质谱仪。MS内核7912可以和变频或多频驱动器7920电耦合，使得双核MS 7912在第一频率(例如，2.5MHz)下选择无机离子，并将所选择的无机离子提供给EM 7914用于检测。源7904还可以和MS内核7912流体耦合，该MS内核7912位于真空腔室7910内。MS内核7912可以和驱动器7920电耦合，使得MS内核7912在第二频率(例如，1.0MHz)下选择有机离子，并将所选择的有机离子提供给EM 7914用于检测。系统7900包括接口7915，该接口7915可以配置成在任何特定分析周期期间，将离子从源7902或源7904(或两者)提供给MS内核7912。系统7900还包括共用MS部件，包括气体控制器7922、计算机7924、交流-直流电源7926和真空泵7928。
示例4
图80中示出了IOMS 8000的另一种配置。IOMS 8000包括：元素电离源8002，例如，ICP、CCP、微波等离子体、火焰、电弧、火花等；以及有机电离源8004，例如，ESI、API、APCI、DESI、MALDI或本文所描述的任何一种或多种其他有机电离源。尽管未示出，但是源8002、8004中的每一个可以和样品操作内核流体耦合，并且可以通过接口8001接收样品，该接口8001可以配置成将样品划分/提供给源8002、8004中的每一个。源8002、8004中的每一个与MS内核8012流体耦合，该MS内核8012与真空腔室8020放置在一起。MS内核8012包括双重四极组件。MS内核8012可以选择离子并将其提供给偏转器8050，该偏转器8050可以配置成向TOF/离子阱8014提供离子，或者可以配置成向包括四极Q3的内核8022提供离子。例如，可以选择有机离子并使用由多频驱动器8020提供给MS内核8012的第一频率(例如，1.0MHz)，将其提供给TOF/离子阱8014。在向MS内核8012提供无机离子的情况下，可以使用例如来自多频源8020的第二频率，将无机离子提供给偏转器8050和内核8022。所选择的无机离子可以从MS内核8012向EM检测器8024提供。系统8000还包括共用的MS部件，包括气体控制器8022、计算机8024、交流-直流电源8026和真空泵8028，该真空泵8028可以由内核8012和内核8022以及系统8000的其他部件使用。
示例5
图81中示出了IOMS 8100的另一种配置。IOMS 8100包括：元素电离源8102，例如，ICP、CCP、微波等离子体、火焰、电弧、火花等；以及有机电离源8104，例如，ESI、API、APCI、DESI、MALDI或本文所描述的任何一种或多种其他有机电离源。尽管未示出，但是源8102、8104中的每一个可以和样品操作内核流体耦合，并且可以通过接口8101接收样品，该接口8101可以配置成将样品划分/提供给源8102、8104中的每一个。源8102、8104中的每一个与双核MS 8112流体耦合，该双核MS 8112与真空腔室8110放置在一起。双核MS 8112包括三重四极组件。双核MS 8112可以选择离子(无机离子或有机离子)并将其提供给偏转器8150。例如，内核8112可以用来例如通过以1MHz运行Q1和Q3，并使用偏转器8150将有机离子路由至检测器8120(例如，第一电子倍增器)，对有机离子进行过滤和检测。内核8112还可以用来例如通过以2.5MHz运行Q1和Q3，并将无机离子路由至检测器8125(例如，第二电子倍增器)，对无机离子进行过滤和检测。系统8100还包括共用的MS部件，包括气体控制器8122、计算机8124、交流-直流电源8126和真空泵8128，其可以由内核8112以及系统8100的其他部件使用。
示例6
如本文所描述的双核质谱仪可以用来测量农作物(包括大米或其他谷物)中的汞水平。IOMS系统可以包括耦合到ICP装置的液相色谱装置，和作为电离源的ESI装置。每个电离源都可以耦合到三重四元双核质谱仪，该三重四元双核质谱仪包括电子倍增器检测器。可以使用IOMS系统对汞、甲基汞和其他汞化合物和配合物进行测量。
示例7
如本文所描述的双核质谱仪可以用来测量游离的和金属结合的植物螯合肽。IOMS系统可以包括与ICP装置耦合的液相色谱装置，和作为电离源的ESI装置。每个电离源都可以耦合到三重四元双核质谱仪，该三重四元双核质谱仪包括电子倍增器检测器。可以使用IOMS系统对金属结合的植物螯合肽和游离的植物螯合肽的水平进行测量。
示例8
如本文所描述的双核质谱仪可以用来测量脂肪酸以及与金属(例如，砷)络合的脂肪酸。IOMS系统可以包括耦合到ICP装置的液相色谱装置，和作为电离源的ESI装置。每个电离源都可以耦合到三重四元双核质谱仪，该三重四元双核质谱仪包括电子倍增器检测器。可以使用IOMS系统对脂肪酸以及与金属(例如砷)络合的脂肪酸的水平进行测量。
示例9
如本文所描述的双核质谱仪可以用来测量组织样品中的硒水平和硒代谢物。IOMS系统可以包括耦合到ICP装置的液相色谱装置，和作为电离源的ESI装置。每个电离源都可以耦合到三重四元双核质谱仪，该三重四元双核质谱仪包括电子倍增器检测器。可以使用IOMS系统对硒和硒代谢物的水平进行测量。
示例10
可以使用包括两个单一MS内核的IOMS系统，对农业作物(例如，大豆)中的硒水平进行测量。IOMS系统可以包括耦合到ICP装置的液相色谱装置，以及作为电离源的ESI装置。每个单一MS内核都可以包括三重四元质谱仪。一个单核MS可以和电子倍增器流体耦合。另一个单核MS可以和离子阱流体耦合。可以使用IOMS系统测量硒的水平。
示例11
可以使用包括两个单一MS内核的IOMS系统，对脑脊髓液(CSF)中存在的物质和代谢物进行测量。IOMS系统可以包括气相色谱装置、液相色谱装置和直流注入装置，气相色谱装置和液相色谱装置中的每一个均与ICP装置耦合。每个单一MS内核都可以包括三重四元质谱仪。另选地，一个单一MS内核可以包括与TOF装置耦合的双重四元。一个单核MS可以和电子倍增器流体耦合。另一个单核MS可以和电子倍增器或离子阱或TOF装置流体耦合。可以使用IOMS系统，对CSF中的不同无机物质和有机物质的水平进行测量。
示例12
可以使用包括双核MS的IOMS系统，对水样中的无机污染物和有机污染物进行测量。IOMS系统可以包括耦合到ICP装置的HPLC，以及作为电离源的ESI装置。每个电离源都可以耦合到三重四元双核质谱仪，该三重四元双核质谱仪包括电子倍增器检测器。可以使用IOMS系统，对水样中的无机污染物和有机污染物中的每一种的水平进行测量。
示例13
包含双核MS的IOMS系统可以用来测量无机和有机药物代谢物。IOMS系统可以包括耦合到ICP装置的HPLC，以及作为电离源的ESI装置。每个电离源都可以耦合到三重四元双核质谱仪，该三重四元双核质谱仪包括电子倍增器检测器。可以使用IOMS系统对药物代谢物的水平进行测量。特别地，可以测量锂和其他轻质元素的游离水平。
在介绍本文所公开的示例的元件时，冠词“一”、“一个”、“该”和“所述”旨在表示存在一个或多个该元件。术语“包括”、“包含”和“具有”均为开放性的，并且表示可能存在除所列元件之外的其他元件。鉴于本公开的益处，本领域普通技术人员将认识到，示例的各个部件可以互换，或者可以用其他示例中的各个部件进行替换。
尽管以上已经描述了某些方面、示例和实施例，但是鉴于本公开的益处，本领域普通技术人员将认识到，可以对所公开的示例性的方面、示例和实施例进行添加、替换、修改和变更。

Claims (20)

1.一种系统，包括：
电离内核，其配置成接收样品并使用所接收的样品提供无机离子和有机离子两者；和
质量分析仪，其与所述电离内核流体耦合，其中，所述质量分析仪包括至少一个质谱仪内核，所述质谱仪内核配置成(i)从自所述电离内核接收的所述无机离子中选择离子，以及(ii)从自所述电离内核接收的所述有机离子中选择离子，其中，所述质量分析仪配置成选择质量低至三个原子质量单位直到高至两千个原子质量单位的所述无机离子和所述有机离子，
其中所述质量分析仪包括由所述至少一个质谱仪内核使用的至少一个共用部件。
2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个质谱仪内核包括第一单核质谱仪和第二单核质谱仪，其中，所述第一单核质谱仪配置成从自所述电离内核接收的所述无机离子中选择所述离子，并且所述第二单核质谱仪配置成从自所述电离内核接收的所述有机离子中选择所述离子。
3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个质谱仪内核包括双核质谱仪。
4.根据权利要求3所述的系统，其中，所述双核质谱仪配置成使用第一频率从自所述电离内核接收的所述无机离子中选择所述离子，并且配置成使用与所述第一频率不同的第二频率从自所述电离内核接收的所述有机离子中选择所述离子。
5.根据权利要求4所述的系统，其中，所述双核质谱仪配置成在所述第一频率和所述第二频率之间交替，以便按顺序选择所述无机离子和所述有机离子。
6.根据权利要求1所述的系统，进一步包括：检测器，其与所述质量分析仪流体耦合，其中，所述检测器配置成检测选自所述无机离子的所述离子并且检测选自所述有机离子的所述离子，其中，所述检测器包括电子倍增器、法拉第杯、多通道板、闪烁检测器、飞行时间装置或成像检测器。
7.根据权利要求1所述的系统，其中，所述电离内核配置成按顺序或同时向所述质量分析仪提供所述无机离子和所述有机离子。
8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述电离内核包括第一电离源和不同于所述第一电离源的第二电离源。
9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述第一电离源配置成向所述质量分析仪提供所述有机离子。
10.根据权利要求9所述的系统，其中，所述第一电离源包括以下一种或多种：电喷雾电离源、化学电离源、大气压电离源、大气压化学电离源、解吸电喷雾电离源、基质辅助激光解吸电离源、热喷雾电离源、热解吸电离源、电子碰撞电离源、场电离源、二次离子源、等离子体解吸源、热电离源、电流体动力学电离源、硅上直接电离电离源、实时直接分析电离源或快原子轰击源。
11.根据权利要求8所述的系统，其中，所述第二电离源配置成向所述质量分析仪提供所述无机离子。
12.根据权利要求11所述的系统，其中，所述第二电离源选自由以下各项组成的群组：电感耦合等离子体、电容耦合等离子体、微波等离子体、火焰、电弧和火花。
13.根据权利要求8所述的系统，进一步包括：接口，其位于所述第一电离源和所述质量分析仪之间以及所述第二电离源和所述质量分析仪之间，其中，所述接口配置成在所述接口的第一状态下从所述第一电离源向所述质量分析仪提供所述有机离子，以及配置成在所述接口的第二状态下从所述第二电离源向所述质量分析仪提供所述无机离子。
14.根据权利要求1所述的系统，其中，所述电离内核包括第一电离源和第二电离源，其中，所述第一电离源通过将所述第一电离源定位在第一位置而与所述质量分析仪流体耦合，并且通过将所述第一电离源定位在与所述第一位置不同的第二位置而与所述质量分析仪流体解耦。
15.根据权利要求14所述的系统，其中，当所述第一电离源定位在所述第二位置时，所述第二电离源与所述质量分析仪流体耦合。
16.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个质谱仪内核包括第一单核质谱仪，所述第一单核质谱仪包括第一四极。
17.根据权利要求16所述的系统，其中，所述第一单核质谱仪进一步包括第二四极，所述第二四极与所述第一四极流体耦合。
18.根据权利要求16所述的系统，其中，所述第一单核质谱仪包括飞行时间检测器，所述飞行时间检测器与所述第二四极流体耦合。
19.根据权利要求16所述的系统，其中，所述第一单核质谱仪包括离子阱，所述离子阱与所述第二四极流体耦合。
20.根据权利要求16所述的系统，其中，所述第一单核质谱仪包括第三四极，所述第三四极与所述第二四极流体耦合。
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