CN110549741A - 流平装置、喷墨打印设备及流平方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提及了一种流平装置、喷墨打印设备及流平方法，解决了现有膜层结构中的像素单元的流平时间过长的问题。该流平装置包括承载模块，用于承载待流平基板；与承载模块联动连接的驱动模块，用于改变承载模块的运动状态。本发明实施例提供的流平装置，通过设置与承载模块联动连接的驱动模块的方式，实现了借助驱动模块改变承载模块的运动状态，进而改变待流平基板的运动状态的目的。与现有将待流平基板静置以实现流平目的的方式相比，本发明实施例提供的流平装置能够加快待流平基板的流平速度，减少流平时间，提高生产效率。此外，还能够降低流平不均匀的几率，进而提高生产良率。

Description

流平装置、喷墨打印设备及流平方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及流平装置、喷墨打印设备及流平方法。

背景技术

随着智能科技的迅速发展，喷墨打印技术越来越广泛的被应用到各个领域，其重要性不言而喻。具体的，应用喷墨打印技术时，将墨水液滴喷涂到一固定位置，墨水液滴在固定位置处流平，然后进行后续固化操作。

然而，在现有技术中，墨水液滴的流平时间比较长，较长的流平时间严重影响生产节拍，降低生产节奏。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供了一种流平装置、喷墨打印设备及流平方法，以解决现有膜层结构中的像素单元的流平时间过长的问题。

第一方面，本发明一实施例提供的一种流平装置，该流平装置包括承载模块，用于承载待流平基板；与承载模块联动连接的驱动模块，用于改变承载模块的运动状态。

在本发明一实施例中，驱动模块的工作状态基于待流平基板的参数确定。优选地，驱动模块的工作状态包括方向状态、速度状态中的至少一种。通过驱动模块可进一步缩短流平时间以及进一步提高流平精准度。并且，优选方案能实现缩减待流平基板的流平时间的目的。

在本发明一实施例中，待流平基板包括像素通槽，像素通槽用于容纳像素单元；待流平基板的参数包括像素密度、像素通槽角度中的至少一种。能够实现进一步提高流平精准度，进而进一步达到缩减流平时间的目的。

在本发明一实施例中，驱动模块包括气压调节单元和与气压调节单元气相连接的气压柱，气压柱与承载模块联动连接。能够提供更精确的运动状态调节操作，进而进一步提高流平精准度。

在本发明一实施例中，气压柱为螺旋形弹性气压柱。能够助益于承载台的抖动频率，因此，与不具备弹性的非螺旋形气压柱相比，本发明实施例能够进一步降低流平不均匀的几率。

在本发明一实施例中，气压柱包括流体区和气体区，流体区与承载模块抵接。由于流体区能够为承载台提供更为稳定的驱动力，因此，本发明实施例能够进一步提高流平装置的流平精准度。

在本发明一实施例中，驱动模块包括步进驱动器，步进驱动器与承载模块联动连接。能够借助步进驱动器灵活控制待流平基板的运动状态。

在本发明一实施例中，承载模块包括承载台和限位单元，限位单元位于承载台的预设限位范围内。与采用胶黏剂等固定方式相比，本发明实施例能够极大降低待流平基板的误损伤几率，进而提高生产良率。

第二方面，本发明一实施例还提供一种喷墨打印设备，该喷墨打印设备包括喷墨模块和上述任一实施例所提及的包括承载模块的流平装置，其中，喷墨模块与承载模块对应设置。

第三方面，本发明一实施例还提供一种流平方法，应用于包括承载模块和驱动模块的流平装置。该流平方法包括将待流平基板置于流平装置的所述承载模块；基于驱动模块改变承载模块的运动状态，直至待流平基板处于流平状态。

本发明实施例提供的流平装置，通过设置与承载模块联动连接的驱动模块的方式，实现了借助驱动模块改变承载模块的运动状态，进而改变待流平基板的运动状态的目的。与现有将待流平基板静置以实现流平目的的方式相比，本发明实施例提供的流平装置能够加快待流平基板的流平速度，减少流平时间，提高生产效率。此外，由于本发明实施例提供的流平装置通过改变待流平基板的运动状态的方式实现流平的目的，因此，与现有将待流平基板静置以实现流平目的的方式相比，本发明实施例还能够降低流平不均匀的几率，进而提高生产良率。

附图说明

图1所示为本发明一实施例提供的流平装置的结构示意图。

图2a所示为本发明一实施例提供的待流平基板的局部结构示意图。

图2b所示为本发明一实施例提供的待流平基板的显示单元的第一状态示意图。

图2c所示为本发明一实施例提供的待流平基板的显示单元的第二状态示意图。

图2d所示为本发明一实施例提供的待流平基板的显示单元的第三状态示意图。

图2e所示为本发明一实施例提供的待流平基板的显示单元的第四状态示意图。

图3所示为本发明另一实施例提供的流平装置的结构示意图。

图4所示为本发明又一实施例提供的流平装置的结构示意图。

图5所示为本发明再一实施例提供的流平装置的结构示意图。

图6所示为本发明一实施例提供的流平方法的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

图1所示为本发明一实施例提供的流平装置的结构示意图。如图1所示，本发明实施例提供的流平装置2包括承载模块21和与承载模块21联动连接的驱动模块22。承载模块21用于承载待流平基板1，驱动模块22用于改变承载模块21的运动状态。其中，联动连接指的是，驱动模块22与承载模块21之间存在联动关系，即，在驱动模块22的作用下，承载模块21的运动状态能够被改变。

具体地，承载模块21包括矩形立方体形状的承载台211，待流平基板1置于承载台211上。驱动模块22作用于承载模块21中的承载台211以改变承载台211的运动状态，进而改变置于承载台211上的待流平基板1的运动状态。

需要说明的是，待流平基板1可以直接置于承载台211上。那么，当承载台211的运动状态改变时，借助基于承载台211和待流平基板1之间的摩擦力改变待流平基板1的运动状态即可，以便降低本发明实施例提及的流平装置的操作难度。优选地，承载台211与待流平基板1接触的表面设置有能够增大摩擦力的纹理，以防止待流平基板1从承载台211上滑脱的现象。此外，需要说明的是，待流平基板1亦可以固定到承载台211上，以便能够精准地将承载台211的运动状态同步至待流平基板1，从而提高本发明实施例提及的流平装置的流平精准度。

在实际应用过程中，首先将待流平基板1置于流平装置2的承载台211上，然后借助与承载台211联动连接的驱动模块22改变承载台211的运动状态，进而改变置于承载台211的待流平基板1的运动状态。

本发明实施例提供的流平装置，通过设置与承载模块联动连接的驱动模块的方式，实现了借助驱动模块改变承载模块的运动状态，进而改变待流平基板的运动状态的目的。与现有将待流平基板静置以实现流平目的的方式相比，本发明实施例提供的流平装置能够加快待流平基板的流平速度，减少流平时间，提高生产效率。此外，由于本发明实施例提供的流平装置通过改变待流平基板的运动状态的方式实现流平的目的，因此，与现有将待流平基板静置以实现流平目的的方式相比，本发明实施例还能够降低流平不均匀的几率，进而提高生产良率。

图2a所示为本发明一实施例提供的待流平基板的局部结构示意图。图2b所示为本发明一实施例提供的待流平基板的显示单元的第一状态示意图。图2c所示为本发明一实施例提供的待流平基板的显示单元的第二状态示意图。图2d所示为本发明一实施例提供的待流平基板的显示单元的第三状态示意图。图2e所示为本发明一实施例提供的待流平基板的显示单元的第四状态示意图。具体地，图2b至图2e所示为图2a所示的待流平基板1的A区域的显示单元的不同状态示意图。

如图2a所示，本发明实施例提供的待流平基板1包括层叠设置的导电层11和像素限定层12，像素限定层12包括沿层叠方向(如图2a所示方位的前后方向)贯穿像素限定层12的多个像素通槽121。像素通槽121为包括矩形开口的贯通槽，且多个像素通槽121以阵列形式等间隔排布。应当理解，像素通槽121与对应的导电层11区域形成能够容纳像素单元13的像素容器。

由于墨水材料具备液体特性，因此利用喷墨打印技术将墨水材料注入到像素容器后，像素单元13呈现如图2b所示的液滴形状(即形成墨水液滴)。此时，形成像素单元13的墨水材料处于未干燥状态。当将待流平基板1置于本发明上述实施例提及的流平装置后，在流平装置的作用下，处于图2b所示状态的待流平基板1呈现图2c以及图2d所示状态，并最终形成图2e所示的状态。应当理解，在图2e所示的状态中，像素单元13的厚度均匀，膜层均一性好。

需要说明的是，当利用本发明实施例提及的流平装置对图2a所示的待流平基板1进行流平操作时，还能够有效降低墨水液滴未进入像素容器的几率，进而提高生产良率。

可选地，导电层11为氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)阳极层。

在本发明一实施例中，流平装置2中的驱动模块22的工作状态基于待流平基板1的参数确定。以便能够基于待流平基板1的实际情况确定更适用于待流平基板1的驱动模块22的工作状态，进而进一步缩短流平时间以及进一步提高流平精准度。

优选地，驱动模块22的工作状态包括方向状态、速度状态中的至少一种。比如，驱动模块22的工作状态为转动工作状态，其中，方向状态包括转动方向，比如，逆时针转动和顺时针转动等。速度状态包括转动速度和转动加速度等。那么，在流平装置2的实际应用过程中，可通过调节驱动模块22的转动方向以及转动速度等参数的方式控制待流平基板1的运动状态，进而实现缩减待流平基板1的流平时间的目的。

优选地，待流平基板1的参数包括像素密度、像素通槽角度中的至少一种。其中，像素密度指的是待流平基板1所包括的像素单元13的密度，又可理解为待流平基板1中所包括的像素通槽121的密度。像素通槽角度指的是像素通槽的槽面1211和与像素通槽相邻的膜层之间的夹角角度。比如，在图2a至图2e所示实施例中，像素通槽角度指的是像素通槽的槽面1211与导电层11之间的夹角角度。由于像素密度以及像素通槽角度能够表征待流平基板1中的像素单元13与像素容器之间的关系，因此，当基于待流平基板1的像素密度和/或像素通槽角度确定流平装置2中的驱动模块22的工作状态时，能够实现进一步提高流平精准度，进而进一步缩减流平时间的目的。

比如，驱动模块22的工作状态包括方向状态和速度状态，并且方向状态包括第一方向和与第一方向相反的第二方向，速度状态包括多个不同加速度大小的速度阶段，那么，当待流平基板1的像素密度越高时，单位面积内的像素容器就越密集，此时，可适当提高驱动模块22的速度至加速度较大的速度阶段，以及适当提高第一方向和第二方向的交替频率，以便能够进一步提高流平精准度，进而进一步缩减流平时间。又比如，当以待流平基板1的像素通槽角度确定驱动模块22的工作状态时，像素通槽角度与驱动模块22的加速度和方向交替频率成反比关系。

图3所示为本发明另一实施例提供的流平装置的结构示意图。在本发明图1所示实施例的基础上延伸出本发明图3所示实施例，下面着重叙述图3所示实施例与图1所示实施例的不同之处，相同之处不再赘述。

如图3所示，在本发明实施例提供的流平装置2中，承载模块21还包括固定于承载台211的多个限位单元212。其中，限位单元212为圆柱体，并且多个限位单元212分别固定于承载台211的延伸方向的两端部(即如图3所示方位的左右两端部)。限位单元212位于承载台211的预设限位范围内，用于固定待流平基板1。

此外，在本发明实施例中，驱动模块22为加速度可控的步进驱动器221。其中，步进驱动器221与承载模块21联动连接，用于给承载台211提供加速度可变的加速度和转动速度，以便能够借助步进驱动器221灵活控制待流平基板1的运动状态。

需要说明的是，限位单元212的具体高度可根据实际情况设定，本发明实施例对此不进行统一限定。

本发明实施例提供的流平装置，通过在承载台设置限位单元的方式，实现了基于限位单元固定待流平基板的目的。与采用胶黏剂等固定方式相比，本发明实施例能够极大降低待流平基板的误损伤几率，进而提高生产良率。

图4所示为本发明又一实施例提供的流平装置的结构示意图。在本发明图1所示实施例的基础上延伸出本发明图4所示实施例，下面着重叙述图4所示实施例与图1所示实施例的不同之处，相同之处不再赘述。

如图4所示，在本发明实施例提供的流平装置2中，驱动模块22包括气压调节单元222和与气压调节单元222气相连接的多个气压柱223，且气压调节单元222能够分别单独调节每一气压柱223的气压值。多个气压柱223独立间隔排布，并且多个气压柱223均与承载模块21存在联动连接关系。此外，气压柱223为螺旋形弹性气压柱。

在实际应用过程中，可借助气压调节单元222分别调节某一或某些气压柱223中的气压值，进而实现承载台211的运动，从而最终实现缩减待流平基板1的流平时间的目的。需要说明的是，承载台211的运动，包括但不限于上、下升降运动、同一侧倾斜运动、不同侧往复倾斜运动、抖动运动等运动形式，只要承载台211的运动有利于缩短待流平基板1的流平时间即可。

具体的，可借助气压调节单元222分别调节某些气压柱223中的气压值，进而实现承载台211按照一定的角度值倾斜，从而使得待流平基板1按照一定的角度值倾斜，此种设置方式可有效缩减待流平基板1的流平时间。

应当理解，气压柱223亦可以为其他形状，并且亦可以为非弹性气压柱，本发明实施例对此不进行统一限定。需要说明的是，本发明实施例提及的螺旋形弹性气压柱能够助益于承载台211的抖动频率，因此，与不具备弹性的非螺旋形气压柱相比，本发明实施例能够进一步降低流平不均匀的几率。

本发明实施例提供的流平装置，借助气压调节单元和气压柱之间的联动配合，实现了通过调节气压柱的气压值以改变待流平基板的运动状态的目的。与图1所示实施例相比，本发明实施例能够提供更细腻的运动状态调节操作，进而进一步提高流平精准度。

图5所示为本发明再一实施例提供的流平装置的结构示意图。在本发明图4所示实施例的基础上延伸出本发明图5所示实施例，下面着重叙述图5所示实施例与图4所示实施例的不同之处，相同之处不再赘述。

如图5所示，在本发明实施例提供的流平装置2中，气压柱223包括流体区2231和气体区2233，并且流体区2231和气体区2233之间借助隔离片2232实现隔离。其中，气压柱223的流体区2231与承载模块21抵接，并且隔离片2232能够在气压柱223内滑动。

在实际应用过程中，可借助气压调节单元222调节气压柱223的气体区2233的气压值，当气体区2233的气压值改变后，能够使流体区2231发生位移。由于流体区2231能够为承载台211提供更为稳定的驱动力，因此，本发明实施例能够进一步提高流平装置的流平精准度。

在本发明一实施例中，还提供一种喷墨打印设备。该喷墨打印设备包括喷墨模块和上述任一实施例所提及的包括承载模块的流平装置，其中，喷墨模块与承载模块对应设置。应当理解，喷墨模块与承载模块对应设置指的是，喷墨模块的设置位置能够保证喷墨模块喷射的墨水液滴能够滴入到承载模块所承载的待流平基板的像素容器内，即喷墨模块能够对承载模块所承载的待流平基板进行喷墨打印操作。

图6所示为本发明一实施例提供的流平方法的流程示意图。具体地，本发明实施例提供的流平方法应用于包括承载模块和驱动模块的流平装置。如图6所示，本发明实施例提供的流平方法包括如下步骤。

步骤S10：将待流平基板置于流平装置的承载模块。

步骤S20：基于驱动模块改变承载模块的运动状态，直至待流平基板处于流平状态。

在实际应用过程中，首先将待流平基板置于流平装置的承载模块，然后基于驱动模块改变承载模块的运动状态，直至待流平基板处于流平状态。

本发明实施例提供的流平方法，借助流平装置的承载模块与驱动模块之间的联动连接关系，实现了借助驱动模块改变承载模块的运动状态，进而改变待流平基板的运动状态，以最终实现对待流平基板的流平操作。本发明实施例提供的流平方法能够加快待流平基板的流平速度，减少流平时间，提高生产效率。此外，本发明实施例还能够降低流平不均匀的几率，进而提高生产良率。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种流平装置，其特征在于，包括：

承载模块，用于承载待流平基板；和

与所述承载模块联动连接的驱动模块，用于改变所述承载模块的运动状态。

2.如权利要求1所述的流平装置，其特征在于，所述驱动模块的工作状态基于所述待流平基板的参数确定，优选地，所述驱动模块的工作状态包括方向状态、速度状态中的至少一种。

3.如权利要求2所述的流平装置，其特征在于，所述待流平基板包括包括像素通槽，所述像素通槽用于容纳像素单元；

所述待流平基板的参数包括像素密度、像素通槽角度中的至少一种。

4.如权利要求1至3任一所述的流平装置，其特征在于，所述驱动模块包括气压调节单元和与所述气压调节单元气相连接的气压柱，所述气压柱与所述承载模块联动连接。

5.如权利要求4所述的流平装置，其特征在于，所述气压柱为螺旋形弹性气压柱。

6.如权利要求4或5所述的流平装置，其特征在于，所述气压柱包括流体区和气体区，所述流体区与所述承载模块抵接。

7.如权利要求1至3任一所述的流平装置，其特征在于，所述驱动模块包括步进驱动器，所述步进驱动器与所述承载模块联动连接。

8.如权利要求1至3任一所述的流平装置，其特征在于，所述承载模块包括承载台和限位单元，所述限位单元位于所述承载台的预设限位范围内。

9.一种喷墨打印设备，其特征在于，包括：

喷墨模块；和

如权利要求1至8任一所述的包括承载模块的流平装置，其中，所述喷墨模块与所述承载模块对应设置。

10.一种流平方法，其特征在于，应用于包括承载模块和驱动模块的流平装置，包括：

将待流平基板置于所述流平装置的所述承载模块；

基于驱动模块改变所述承载模块的运动状态，直至所述待流平基板处于流平状态。