CN110515234A - 显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种显示面板，其具有显示区以及周边区，周边区位于显示区外侧，其中显示面板包含第一基板、第二基板以及显示介质层。第二基板位于第一基板上，并包含第一偏光层、第一四分之一波片、反射层以及像素阵列。第一偏光层位于显示区及周边区，并包含金属线栅结构。第一四分之一波片位于周边区。反射层位于周边区，其中第一四分之一波片位于第一偏光层与反射层之间。像素阵列至少位于显示区。显示介质层位于第一基板与第二基板之间。

Description

显示面板

技术领域

本发明涉及一种显示面板。

背景技术

在各式消费性电子产品之中，显示面板已经被广泛地使用来提供影像或是提供操作选单。对此，随着科技发展，显示面板也发展为多种形态。举例来说，镜面式显示面板除了可以提供影像或是提供操作选单以外，也能提供镜面功能，以满足消费者需求。

对于镜面式显示面板来说，需要一片传统的半透镜玻璃于显示面板上，显示面板的显示区及周边区都可提供镜面反射功能。然而，由于显示面板的显示区与周边区的结构相异，故其提供的镜面反射效果也会不相同，使得消费者的使用体验将可能受到影响。也就是说，在镜面式显示面板的发展方向中，如何轻量化及均匀化镜面反射效果已成为相关领域的重要议题之一。

发明内容

本发明的一实施方式提供一种显示面板，具有显示区以及周边区，周边区位于显示区外侧，其中显示面板包含第一基板、第二基板以及显示介质层。第二基板位于第一基板上，并包含第一偏光层、第一四分之一波片、反射层以及像素阵列。第一偏光层位于显示区及周边区，并包含金属线栅结构。第一四分之一波片位于周边区。反射层位于周边区，其中第一四分之一波片位于第一偏光层与反射层之间。像素阵列至少位于显示区。显示介质层位于第一基板与第二基板之间。

在部分实施方式中，第一四分之一波片更位于显示区，且第二基板还包含第二四分之一波片。第二四分之一波片位该显示区，且与第一四分之一波片共同位于像素阵列与第一偏光层之间。显示面板还包含第二偏光层，且第一四分之一波片、第二四分之一波片与显示介质层共同位于第二偏光层与第一偏光层之间。

在部分实施方式中，第一四分之一波片的光轴相对第二偏光层的光轴为正45度，而第二四分之一波片的光轴相对第二偏光层的光轴为负45度。

在部分实施方式中，第二基板还包含吸光层。吸光层位于第一偏光层与像素阵列之间以及位于第一偏光层与第一四分之一波片之间。

在部分实施方式中，反射层的材料包含铝、金、银、钛、钼氧化物、钽或其组合。

在部分实施方式中，第一基板包含多个色阻层，且第一基板于第二基板的垂直投影范围落在第一偏光层的边界之内。

在部分实施方式中，第一四分之一波片及反射层为环状，且环绕显示区。

在部分实施方式中，第二基板还包含驱动电路层。驱动电路层位于周边区并电连接像素阵列，且反射层位于驱动电路层与第一偏光层之间。

本发明的一实施方式提供一种显示面板，具有显示区以及周边区，周边区位于显示区外侧，其中显示面板包含第一基板以及第二基板。第一基板包含发光二极管阵列，且发光二极管阵列位于显示区。第二基板位于第一基板上，并包含第一偏光层、第一四分之一波片以及吸光层。第一偏光层位于显示区及周边区，并包含金属线栅结构。第一四分之一波片位于显示区及周边区。吸光层位于显示区及周边区，并与第一四分之一波片共同位于第一基板与第一偏光层之间，且吸光层位于第一四分之一波片与第一偏光层之间。

在部分实施方式中，第一基板还包含线路层。线路层至少位于周边区并电连接发光二极管阵列，且吸光层与第一四分之一波片共同位于线路层与第一偏光层之间。

通过上述配置，显示面板可在影像模式与镜面反射模式之间切换。当显示面板处在影像模式时，可通过像素阵列控制显示介质层来使显示面板提供影像。当显示面板处在镜面反射模式时，可通过第二基板内的层体衰减自显示面板内部离开的光束，从而均匀化显示面板所提供的镜面反射效果。

附图说明

图1A为本发明的第一实施方式绘示显示面板的上视示意图；

图1B为沿着图1A的线段1B-1B’的剖面示意图；

图1C为图1B的区域C的放大示意图；

图1D为图1B的显示面板处在镜面反射模式的剖面示意图；

图2A为本发明的第二实施方式绘示显示面板的剖面示意图；

图2B为图2A的显示面板处在镜面反射模式的剖面示意图；

图3为本发明的第三实施方式绘示显示面板的剖面示意图；

图4为本发明的第四实施方式绘示显示面板的剖面示意图。

符号说明

100A、100B、100C、100D 显示面板

102 显示区

104 周边区

106 间隙物

110 第一基板

112 第一透光基板

114 色阻层

116 发光二极管阵列

118 发光二极管

119 线路层

120 第二基板

122 像素阵列

124 驱动电路层

126 第一隔离层

128 反射层

130 显示介质层

132 显示介质

140 第二隔离层

142 第一四分之一波片

144 吸光层

146 第一偏光层

148 第二透光基板

147 金属线

150 背光模块

152 框架

154 光源

156 第二偏光层

160 第二四分之一波片

162 第三隔离层

164 第四隔离层

166 第五隔离层

168 支撑物

1B-1B’ 线段

C 区域

L1、L2、L1S、L2S、L2P、L3S、L3P 光束

W1、W2、W3、W4 宽度

具体实施方式

以下将以附图揭露本发明的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本发明。也就是说，在本发明部分实施方式中，这些实务上的细节为非必要的。此外，为简化附图起见，一些现有惯用的结构与元件在附图中将以简单示意的方式绘示之。

在本文中，使用第一、第二与第三等等的词汇，来描述各种元件、区域、层与/或区块是可以被理解的，这些词汇是用来辨别单一元件、区域、层与/或区块。因此，在下文中的第一元件、区域、层与/或区块也可被称为第二元件、区域、层与/或区块，而不脱离本发明的本意。本文使用的「约」或「实质上」包括所述值和在本领域普通技术人员确定的特定值的可接受的偏差范围内的平均值。例如，「约」或「实质上」可以表示在所述值的一个或多个标准偏差内，或±30％、±20％、±10％、±5％内。

请先看到图1A及图1B，图1A为根据本发明的第一实施方式绘示显示面板100A的上视示意图，而图1B为沿着图1A的线段1B-1B’的剖面示意图。如图1A所示，显示面板100A具有显示区102以及周边区104，且周边区104位于显示区102外侧。显示面板100A可通过显示区102提供影像。周边区104可视为是显示面板100A的边框，其例如可为放置走线的区域。如图1B所示，显示面板100A包含第一基板110、第二基板120以及显示介质层130。第二基板120位于第一基板110上，而显示介质层130位于第一基板110与第二基板120之间。

第一基板110可以是彩色滤光层基板。具体来说，第一基板110可包含第一透光基板112以及色阻层114，其中色阻层114设置在第一透光基板112上。在部分实施方式中，第一透光基板112可以是玻璃基板。在部分实施方式中，色阻层114可以是红色色阻层、绿色色阻层或蓝色色阻层。

显示面板100A可还包含间隙物106，其中间隙物106位于第一基板110与第二基板120之间。具体来说，间隙物106可设置在第一基板110上并支撑第二基板120，以使第一基板110可相距第二基板120一段距离。显示介质层130填充于第一基板110与第二基板120之间，并可具有显示介质132，其中显示介质132例如是液晶分子。

第二基板120可以是将偏光结构与像素阵列整合在一起。具体来说，第二基板120可包含像素阵列122、驱动电路层124、第一隔离层126、反射层128、第二隔离层140、第一四分之一波片142、吸光层144、第一偏光层146以及第二透光基板148。

像素阵列122至少位于显示区102。像素阵列122可包含薄膜晶体管及像素电极(未绘示)，其中薄膜晶体管电连接像素电极，以通过薄膜晶体管施加电压予像素电极，从而耦合出电场。由像素阵列122耦合出的电场可控制显示介质层130的显示介质132，以使显示介质132旋转。驱动电路层124位于周边区104，且驱动电路层124可电连接像素阵列122。在部分实施方式中，驱动电路层124可包含栅极驱动电路(gate on array；GOA)、外引脚(outerlead bonding；OLB)接点、扇出型封装(fan-out package)、电极垫、走线或其组合。在部分实施方式中，像素阵列122可通过驱动电路层124电连接至外部电路或连接端子。

第一隔离层126设置在像素阵列122及驱动电路层124上。在部分实施方式中，第一隔离层126的材料可以是有机材料或无机材料，像是环氧树脂、氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)、由氧化硅及氮化硅共同组成的复合层或是其他合适的介电材料。

反射层128设置在第一隔离层126上，并位于周边区104。反射层128可通过第一隔离层126来跟像素阵列122及驱动电路层124分隔。反射层128可为环状的。具体来说，在沿着垂直显示面板100A的视角(例如图1A的视角)中，反射层128会是环状的，并且环绕显示区102。也就是说，环状的反射层128的内边界可以跟显示区102与周边区104之间的边界切齐。此外，在图1B所绘的实施方式中，环状的反射层128可环绕部分的第一隔离层126。在部分实施方式中，反射层128的材料可包含铝、金、银、钛、钼氧化物、钽或其组合。在反射层128的材料包含钼氧化物、钽或其组合的情况下，反射层128除了具有光反射性以外，也会具有吸光性。举例来说，钼氧化物与钽的组合可形成黑化材料并具有吸光性，因而致使可提供的光反射率大致是大于0％并小于10％之间。在部分实施方式中，反射层128的厚度可介于50纳米(nm)至300纳米(nm)之间。

第二隔离层140设置在第一隔离层126及反射层128上。在部分实施方式中，第二隔离层140的材料可以是有机材料或无机材料，像是环氧树脂、氧化硅(SiO_x)、氮化硅(SiN_x)、由氧化硅及氮化硅共同组成的复合层或是其他合适的介电材料。

第一四分之一波片142设置在第二隔离层140上，并位于周边区104。第一四分之一波片142也可以为环状的。亦即，在沿着垂直显示面板100A的视角(例如图1A的视角)中，第一四分之一波片142会是环状的，并且环绕显示区102。同样地，在图1B所绘的配置中，环状的第一四分之一波片142可环绕部分的第二隔离层140。在部分实施方式中，第一四分之一波片142可包含液晶薄膜、光栅结构、纳米结构或其组合。于部分实施方式中，第一四分之一波片142的光栅结构或纳米结构的厚度可介于600纳米(nm)至1500纳米(nm)之间。虽图1B是将第一四分之一波片142绘示为与反射层128通过第二隔离层140隔开，然而本发明不以此为限。在其他实施方式中，反射层128与第一四分之一波片142可配置为层叠且互相接触。

请同时看到图1B及图1C，其中图1C绘示图1B的区域C的放大示意图。吸光层144与第一偏光层146设置在第二隔离层140及第一四分之一波片142上，并位于显示区102及周边区104。在周边区104中，驱动电路层124、反射层128、第一四分之一波片142、吸光层144及第一偏光层146可以是依序堆叠的。具体来说，第一四分之一波片142与吸光层144可共同位于第一偏光层146与反射层128之间，而反射层128会位于驱动电路层124与第一偏光层146之间。

第一偏光层146包含金属线栅结构(wire-grid polarizer；WGP)。具体来说，第一偏光层146的金属线栅结构可以是由多个平行的金属线147形成。第一偏光层146的金属线栅结构可使单一偏振态(例如P极化)的光束穿过，并使另一偏振态(例如S极化)的光束反射。在部分实施方式中，第一偏光层146的厚度可介于100纳米(nm)至500纳米(nm)之间。

吸光层144可位于像素阵列122与第一偏光层146与之间，并也位于第一四分之一波片142与第一偏光层146之间。具体来说，第一偏光层146的金属线147可具有下表面，且下表面面向第一四分之一波片142或第二隔离层140。吸光层144可设置在第一偏光层146的金属线147的下表面。吸光层144的材料可足以使吸光层的光吸收率大于90％。在部分实施方式中，吸光层144的材料可包含钼氧化物、钽或其组合。同前所述，钼氧化物与钽的组合可形成黑化材料。在部分实施方式中，吸光层144的厚度可介于50纳米(nm)至150纳米(nm)之间。

第二透光基板148设置在像素阵列122、驱动电路层124、第一隔离层126、反射层128、第二隔离层140、第一四分之一波片142、吸光层144以及第一偏光层146上。第二透光基板148可以是玻璃基板，其可用以作为第二基板120于制作工艺中的承载基板。举例来说，第一偏光层146的形成方式可包含在第二透光基板148上形成金属层，并接着图案化金属层为多个平行的金属线147。

也就是说，自第一偏光层146至像素阵列122的层体会是依序形成在第二透光基板148上，使得反射层128、第一四分之一波片142及第一偏光层146可视为是显示面板100A的内嵌式结构，从而实现将偏光结构与像素阵列整合在一起。再者，在位于像素阵列122上方的层体是使用金属材料形成的情况下，这些层体可与像素阵列122的制作工艺温度相容。举例来说，在反射层128是通过金属材料形成且第一四分之一波片142为采用无机纳米光栅结构的情况下，可防止反射层128及第一四分之一波片142因像素阵列122的制作工艺温度受到影响。除此之外，由于如此的配置可使第二基板120在使用单一承载基板的情况下即可制作完成，故可达到轻量化显示面板100A。

另一方面，显示面板100A还包含背光模块150以及第二偏光层156。背光模块150设置于第一基板110与显示介质层130的同一侧，且第一基板110会位于背光模块150与显示介质层130之间。背光模块150包含框架152以及光源154，其中光源154设置于框架152内。光源154可包含发光元件以及导光板(未绘示)，并用以朝第一基板110提供光照。第二偏光层156可贴附至第一基板110的第一透光基板112，使得第一透光基板112会位于第二偏光层156与色阻层114之间。在部分实施方式中，第二偏光层156的结构会异于第一偏光层146。举例来说，第二偏光层156可以是吸收型偏光片，即第二偏光层156可使单一偏振态(例如P极化)的光束穿过，并吸收另一偏振态(例如S极化)的光束。在部分实施方式中，第一偏光层146的光轴会与第二偏光层156的光轴正交，而第一四分之一波片142的光轴相对第二偏光层156的光轴为会是相差45度。

通过上述配置，显示面板100A可提供全区镜面反射效果。在此「全区」包含了显示区102以及周边区104。具体来说，显示面板100A可在影像模式与镜面反射模式之间切换。

在显示面板100A处在影像模式的情况下，对于要提供影像的像素区域而言，可通过像素阵列122驱动对应的像素电极，以耦合出电场来控制显示介质层130的显示介质132。显示介质层130之中受到电场作用的显示介质132可使通过的光束的偏振态维持不变。接着，当背光模块150朝第一基板110提供光束时，第二偏光层156可以使P极化光穿过。此P极化光在穿过显示介质层130后，可维持P极化的偏振态。之后，当此P极化光到达第一偏光层146时，可因P极化的偏振态而穿过第一偏光层146，从而使显示面板100A的对应像素区域能提供影像。

在显示面板100A处在影像模式的情况下，对于要提供黑色效果的像素区域而言，可通过显示介质层130的旋光性来改变通过的光束的偏振态。因此，在第二偏光层156使P极化光穿过后，自第二偏光层156穿过显示介质层130的光束会是S极化的偏振态，即S极化光。接着，当此S极化光到达第一偏光层146时，可因S极化的偏振态而自第一偏光层146反射。换言之，自第一基板110朝第二基板120行进的光束不会自显示面板100A的显示区102离开，使得显示面板100A的对应像素区域能提供黑色效果。

当将显示面板100A的显示区102切换为像素区域都提供黑色效果时，即可使显示面板100A切换至镜面反射模式。本发明不以此为限。在其他实施方式中，也可通过切换背光模块150的光照提供与否来使显示面板100A在影像模式与镜面反射模式之间切换。

在显示面板100A处在镜面反射模式的情况下，对于自显示面板100A上方朝显示面板100A行进的光束而言，光束之中的S极化光会自第一偏光层146反射，使得显示面板100A可通过此反射的S极化光来提供镜面反射效果。另一方面，光束之中的P极化光会通过第一偏光层146并进入至显示面板100A内。对此，通过显示面板100A内的层体配置，可降低此P极化光于离开显示面板100A时的光强度，从而达到均匀化显示区102与周边区104的镜面反射效果。

请再看到图1D，图1D绘示图1B的显示面板100A处在镜面反射模式的剖面示意图。以下将对自显示面板100A上方朝显示面板100A行进的光束的光路做进一步说明。为了方便说明，自显示面板100A上方朝显示面板100A的显示区102行进的光束以光束L1表示，而自显示面板100A上方朝显示面板100A的周边区104行进的光束以光束L2表示。

当光束L1到达第一偏光层146时，光束L1中的S极化光会自第一偏光层146反射(此S极化光以光束L1S表示)。另一方面，光束L1中的P极化光可穿过第一偏光层146，且此P极化光在穿过显示介质层130后会被转化为S极化光。之后，此由显示介质层130转化成的S极化光会由第二偏光层156吸收。

当光束L2到达第一偏光层146时，光束L2中的S极化光会自第一偏光层146反射(此S极化光以光束L2S表示)。另一方面，光束L2中的P极化光可穿过第一偏光层146，并朝第一四分之一波片142前进。此P极化光在穿过第一四分之一波片142后会被转化为圆偏振光，且此圆偏振光会接着自反射层128反射。对此，圆偏振光自反射层128反射后，其偏振方向会反向，使得自反射层128反射的圆偏振光在穿过第一四分之一波片142后会被转为S极化光，并且朝着第一偏光层146行进。接着，此S极化光会自第一偏光层146反射，并再次到达第一四分之一波片142。于此S极化光自第一四分之一波片142行进至第一偏光层146并再次反射回第一四分之一波片142的光路中，S极化光会因被吸光层144吸收而致使光强度受到衰减。

即使此S极化光在后续光路中被转化为P极化光并穿过第一偏光层146(此P极化光以光束L2P表示)，在经吸光层144的衰减后，光束L2P的光强度会大幅度地小于光束L1S或L2S的光强度，使得光束L1S的光强度会趋近光束L2P与L2S的光强度总合。

因此，通过上述配置，可使显示面板的显示区的反射率趋近周边区的反射率，使得当显示面板处在镜面反射模式的时候，可缩小显示区与周边区所提供的光照强度之间的差异。对此，由于显示面板所提供的镜面反射效果会与所提供的光照强度有相关性，故可通过上述配置来均匀化显示区及周边区所提供的镜面反射效果，用于降低显示区与周边区之间界线的可辨识性，从而提升使用者对镜面反射效果的观看体验。

另一方面，由于显示面板100A的周边区104可不用提供影像，故作为彩色滤光层基板的第一基板110可不用延伸至显示面板100A的周边区104，使得第一基板110的尺寸会小于第二基板120的尺寸。在此，所述的尺寸包含「长度」及「宽度」。举例来说，如图1B所示，第一基板110的宽度W1会小于第二基板120的宽度W2。更进一步来说，第一基板110于第二基板120的垂直投影范围会落在第一偏光层146的边界之内。通过此配置，在显示面板100A的周边区104中，第二基板120的下方空间可用来容置其他元件。例如，显示面板100A的边框(未绘示)可延伸至此处。或者，也可以是用来容置其他电路配置。

除此之外，反射层128的材料可依据反射需求或制作工艺条件来调整。在部分实施方式中，可通过黑化材料形成反射层128，以提升前述均匀化的效果。在其他实施方式中，可通过金属材料形成反射层128，像是铝，以符合制作工艺条件。

请再看到图2A，图2A为根据本发明的第二实施方式绘示显示面板100B的剖面示意图。本实施方式与第一实施方式的至少一个差异点在于，本实施方式的第二基板120的结构异于第一实施方式的第二基板120的结构，并且本实施方式的第二基板120还包含第二四分之一波片160。

本实施方式中，第二基板120的像素阵列122与驱动电路层124的配置可雷同第一实施方式，在此不再赘述。第三隔离层162覆盖在像素阵列122及驱动电路层124上，第三隔离层162的材料可同于前述第一隔离层的材料。

反射层128及第二四分之一波片160会设置在第三隔离层上。反射层128位于周边区104，而第二四分之一波片160则是位于显示区102。同样地，反射层128会是环状的，且环状的反射层128可环绕第二四分之一波片160。在图2A所绘的实施方式中，反射层128的材料可包含钼氧化物、钽或其组合，而第二四分之一波片160可包含液晶薄膜、光栅结构、纳米结构或其组合。

第二透光基板148设置在像素阵列122、驱动电路层124、第三隔离层162、反射层128以及第二四分之一波片160上，且自反射层128及第二四分之一波片160至像素阵列122的层体可以是依序形成在第二透光基板148上。因此，反射层128及第二四分之一波片160可视为是显示面板100A的内嵌式结构。

本实施方式中，第一四分之一波片142与第一偏光层146的位置变更至第二透光基板148上，即第一四分之一波片142与第一偏光层146会跟像素阵列122位于第二透光基板148的相对侧。第一四分之一波片142会位于在第二透光基板148与第一偏光层146之间。此外，第一四分之一波片142可更位于显示区102，即第一四分之一波片142及第一偏光层146都是位于显示区102及周边区104。

第二透光基板148也可作为形成第一四分之一波片142与第一偏光层146时的承载基板。亦即，第一四分之一波片142与第一偏光层146会是依序形成在第二透光基板148上。因此，可在使用单一透光基板的情况下，就将第二基板120的各层体制作完成，用于减少使用的透光基板数量，从而达到轻量化显示面板100A。此外，第二基板120可还包含第四隔离层164，设置在第一偏光层146上。第四隔离层164的材料可同于前述第一隔离层的材料，并作为保护层使用，以使第二基板120可抗刮、抗磨及抗水气。

第二基板120的第一四分之一波片142、第二四分之一波片160、显示介质层130、第一偏光层146与第二偏光层156可以是层叠关系。举例来说，第二四分之一波片160与第一四分之一波片142会共同位于像素阵列122与第一偏光层146之间，且第二四分之一波片160、第一四分之一波片142与显示介质层130会是共同位于第二偏光层156与第一偏光层146之间。

第一四分之一波片142可包含液晶薄膜、光栅结构、纳米结构膜或其组合。第一四分之一波片142的尺寸会大于第二四分之一波片160的尺寸。在此，所述的尺寸包含「面积」、「长度」及「宽度」。举例来说，如图2A所示，第一四分之一波片142的宽度W3会大于第二四分之一波片160的宽度W4。此外，第一四分之一波片142的光轴相对第二偏光层156的光轴为正45度，而第二四分之一波片160的光轴相对第二偏光层156的光轴为负45度。

第一偏光层146包含金属线栅结构，且第一偏光层146的形成方式也包含图案化金属层为多个平行的金属线。除此之外，本实施方式中，第一基板110的尺寸也可小于第二基板120的尺寸，用于使第二基板120的下方空间可用来容置其他元件。

通过上述配置，显示面板100B可提供全区镜面反射效果，且显示面板100B可在影像模式与镜面反射模式之间切换。

在显示面板100B处在影像模式的情况下，对于要提供影像的像素区域而言，可通过像素阵列122驱动对应的像素电极，以耦合出电场来控制显示介质层130，以使穿过显示介质层130的光束的偏振态可维持不变。接着，当背光模块150朝第一基板110提供光束时，第二偏光层156可以使P极化光穿过。此P极化光在穿过显示介质层130后，可维持P极化的偏振态。由于第二四分之一波片160的光轴与第一四分之一波片142的光轴相对第二偏光层156的光轴分别为负45与正45度，故穿过显示介质层130的P极化光在依序穿过第二四分之一波片160与第一四分之一波片142后，也仍会是维持P极化的偏振态。之后，当此P极化光到达第一偏光层146时，可因P极化的偏振态而穿过第一偏光层146，从而使显示面板100B的对应像素区域能提供影像。

在显示面板100B处在影像模式的情况下，对于要提供黑色效果的像素区域而言，可通过显示介质层130的旋光性来改变通过的光束的偏振态。因此，在第二偏光层156使P极化光穿过后，自第二偏光层156穿过显示介质层130的光束会是S极化的偏振态，即S极化光。此S极化光在依序穿过第二四分之一波片160与第一四分之一波片142后，会是维持S极化的偏振态。接着，当此S极化光到达第一偏光层146时，可因S极化的偏振态而自第一偏光层146反射。换言之，自第一基板110朝第二基板120行进的光束不会自显示面板100B的显示区102离开，使得显示面板100B的对应像素区域能提供黑色效果。

同样地，当将显示面板100B的显示区102切换为像素区域都提供黑色效果时，即可将显示面板100A切换至镜面反射模式。在显示面板100B处在镜面反射模式的情况下，对于自显示面板100B上方朝显示面板100B行进的光束而言，光束之中的S极化光会自第一偏光层146反射，使得显示面板100B可通过此反射的S极化光来提供镜面反射效果。

请再看到图2B，图2B绘示图2A的显示面板100B处在镜面反射模式的剖面示意图。以下将对自显示面板100B上方朝显示面板100B行进的光束的光路做进一步说明。为了方便说明，自显示面板100B上方朝显示面板100B的显示区102行进的光束以光束L1表示，而自显示面板100B上方朝显示面板100B的周边区104行进的光束以光束L2表示。

当光束L1到达第一偏光层146时，光束L1中的S极化光会自第一偏光层146反射(此S极化光以光束L1S表示)。光束L1中的P极化光可穿过第一偏光层146，且此P极化光在依序穿过第一四分之一波片142与第二四分之一波片160后，会是维持P极化的偏振态。之后，此P极化光在穿过显示介质层130后会被转化为S极化光，并接着由第二偏光层156吸收。

当光束L2到达第一偏光层146时，光束L2中的S极化光会自第一偏光层146反射(此S极化光以光束L2S表示)。光束L2中的P极化光可穿过第一偏光层146，并朝着第一四分之一波片142行进。此P极化光在穿过第一四分之一波片142后会被转化为圆偏振光，且此圆偏振光会接着自反射层128反射。由于在图2B所绘的实施方式中，反射层128的材料是包含钼氧化物、钽或其组合，故此自反射层128的圆偏振光会因被反射层128吸收而致使光强度受到衰减(称第一次衰减)。自反射层128反射的圆偏振光可在穿过第一四分之一波片142后转为S极化光，并且朝着第一偏光层146行进。接着，此S极化光会自第一偏光层146反射，并且通过重复上述路径而再度回到第一偏光层146。于此S极化光自第一偏光层146反射并经反射层128再度反射回第一偏光层146的光路中，S极化光会因被反射层128吸收而致使光强度受到反射层128的衰减(称第二次衰减)。

即使此S极化光在后续光路中被转化为P极化光并穿过第一偏光层146(此P极化光以光束L2P表示)，在经反射层128的两次衰减后，光束L2P的光强度会大幅度地小于光束L1S或L2S的光强度，使得光束L1S的光强度可趋近光束L2P与L2S的光强度总合，从而均匀化显示区102及周边区104所提供的镜面反射效果。

请再看到图3，图3为根据本发明的第三实施方式绘示显示面板100C的剖面示意图。本实施方式与第二实施方式的至少一个差异点在于，本实施方式的第二基板120还包含吸光层144。吸光层144设置在第一四分之一波片142与第一偏光层146之间，且吸光层144的材料可包含黑化材料。

通过设置吸光层144，当有自显示面板100C上方朝显示面板100C行进的P极化光进入显示面板100C内的时候，此P极化光的光强度除了会受到反射层128的衰减之外，还会受到吸光层144的衰减。对此，此P极化光至少会受到反射层128的两次衰减以及到吸光层144的一次衰减。因此，即使此P极化光在后续光路中会自显示面板100C周边区104离开，然而此P极化光的光强度会被衰减至大幅度地小于用来提供镜面反射的光束的光强度，从而更进一步地均匀化显示区102及周边区104所提供的镜面反射效果。

此外，在图3所绘的实施方式中，吸光层144设置为延伸至显示区102。吸光层144的位于显示区102的部份可防止显示区102所提供的镜面反射效果有不预期的情况发生。举例来说，当显示面板100C处在镜面反射模式的时候，在显示面板100C的显示区102内，可能会有光束因多次反射而被转化成P极化光，并因此穿过第一偏光层146。然而，由于此P极化光在其光路之中会受到吸光层144的衰减，故可避免显示区102及周边区104所提供的镜面反射效果有不均匀的状况发生。

虽图3所绘的实施方式是将吸光层144延伸至显示区102，然而本发明不以此为限，在其他实施方式中，吸光层144也可以是未延伸至显示区102。换言之，吸光层144也可以是环绕显示区102。

请再看到图4，图4为根据本发明的第四实施方式绘示显示面板100D的剖面示意图。本实施方式与第一实施方式的至少一个差异点在于，本实施方式的显示面板100D是通过发光二极管阵列显示影像。

具体来说，显示面板100D具有显示区102以及周边区104，且周边区104位于显示区102外侧。显示面板100D包含第一基板110、第二基板120以及支撑物168。第二基板120位于第一基板110上，且支撑物168位于第一基板110与第二基板120之间。支撑物168可设置在第一基板110上并支撑第二基板120，以使第一基板110可相距第二基板120一段距离。

第一基板110包含第一透光基板112、发光二极管阵列116以及线路层119。发光二极管阵列116设置在第一透光基板112上，并位于显示区102。发光二极管阵列116可包含多个发光二极管118，且不同的发光二极管118可提供不同颜色的色光。于部分实施方式中，发光二极管118的材料包含有机发光材料，且不同的发光二极管118可包含相异的有机发光材料，从而提供不同颜色的色光。线路层119可设置于第一透光基板112与发光二极管阵列116之间，并位于显示区102及周边区104。线路层119可电连接发光二极管阵列116的发光二极管118。在部分实施方式中，线路层119包含薄膜晶体管阵列，其可用以驱动对应的发光二极管118。

第二基板120包含位于显示区102及周边区104的第二透光基板148、第一四分之一波片142、吸光层144以及第一偏光层146。第一偏光层146设置在第二透光基板148之上，并包含金属线栅结构。第一四分之一波片142与吸光层144共同位于第一基板110与第一偏光层146之间，且吸光层144会位于第一四分之一波片142与第一偏光层146之间。具体来说，第一四分之一波片142、吸光层144以及第一偏光层146可以是依序形成在第二透光基板148上。此外，第一四分之一波片142与吸光层144也共同位于线路层119与第一偏光层146之间。另一方面，第二基板120可还包含第五隔离层166，设置在第一偏光层146上。第五隔离层166的材料可同于前述第一隔离层的材料，并作为保护层使用，以使第二基板120可抗刮、抗磨及抗水气。

通过上述配置，显示面板100D可提供全区镜面反射效果，且显示面板100D可在影像模式与镜面反射模式之间切换。

在显示面板100D处在影像模式的情况下，对于要提供影像的像素区域而言，可通过线路层119施加偏压至对应的发光二极管118，以使对应的发光二极管118发出光束。发光二极管118所提供的光束在通过第一四分之一波片142后，光束之中偏振态为P极化的部分可穿过第一偏光层146，从而使显示面板100D的对应像素区域能提供影像。

在显示面板100D处在影像模式的情况下，对于要提供黑色效果的像素区域而言，可将偏压自对应的发光二极管118移除，以使显示面板100D的对应像素区域能提供黑色效果。同样地，当将显示面板100D的显示区102切换为像素区域都提供黑色效果时，即可将显示面板100D切换至镜面反射模式。

在显示面板100D处在镜面反射模式的情况下，对于自显示面板100D上方朝显示面板100D行进之光束而言，光束之中的S极化光会自第一偏光层146反射，使得显示面板100D可通过此反射的S极化光(以光束L3S表示)来提供镜面反射效果。

另一方面，光束之中的P极化光会穿过第一偏光层146。于此P极化光在显示面板100D内发生多次反射，并穿过第一偏光层146且要自显示面板100D离开的光路中，此P极化光的光强度会受到吸光层144的至少一次衰减。对此，在显示面板100D处在镜面反射模式的情况下，穿过第一偏光层146并要自显示面板100D离开的光束(以光束L3P表示)的光强度会大幅度地小于光束L3S的光强度，因此可减缓光束L3P对整体反射光束造成不均匀。换言之，可通过上述配置均匀化显示面板100D所提供的镜面反射效果。

除此之外，本实施方式中，第一四分之一波片142的厚度可介于600纳米(nm)至1500纳米(nm)；吸光层144的厚度可介于50纳米(nm)至300纳米(nm)；以及第一偏光层146的厚度可介于100纳米(nm)至500纳米(nm)。在用来均匀化镜面反射效果的结构是由第一四分之一波片142、吸光层144以及第一偏光层146实现的情况下，上述的层体厚度范围可利于薄化显示面板100D。

综上所述，本发明的显示面板的第二基板包含第一偏光层、第一四分之一波片、反射层以及像素阵列。第一偏光层包含金属线栅结构，且第一四分之一波片位于第一偏光层与反射层之间。通过上述配置，显示面板可在影像模式与镜面反射模式之间切换。当显示面板处在影像模式时，可通过像素阵列驱动对应的像素电极来使显示面板提供影像。当显示面板处在镜面反射模式时，可通过第二基板内的层体衰减自显示面板内部离开的光束，从而均匀化显示面板所提供的镜面反射效果。

虽然结合以上多种实施方式公开了本发明，然而其并非用以限定本发明，任何熟悉此技术者，在不脱离本揭露内容的精神和范围内，可作各种的更动与润饰，因此本发明的保护范围应当以附上的权利要求所界定的为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，具有显示区以及周边区，该周边区位于该显示区外侧，其特征在于，该显示面板包含：

第一基板；

第二基板，位于该第一基板上，并包含：

第一偏光层，位于该显示区及该周边区，并包含金属线栅结构；

第一四分之一波片，位于该周边区；

反射层，位于该周边区，其中该第一四分之一波片位于该第一偏光层与该反射层之间；以及

像素阵列，至少位于该显示区；以及

显示介质层，位于该第一基板与该第二基板之间。

2.如权利要求1所述的显示面板，其中该第一四分之一波片还位于该显示区，且该第二基板还包含第二四分之一波片，位于该显示区，且与该第一四分之一波片共同位于该像素阵列与该第一偏光层之间，其中该显示面板还包含第二偏光层，且该第一四分之一波片、该第二四分之一波片与该显示介质层共同位于该第二偏光层与该第一偏光层之间。

3.如权利要求2所述的显示面板，其中该第一四分之一波片的光轴相对该第二偏光层的光轴为正45度，而该第二四分之一波片的光轴相对该第二偏光层的光轴为负45度。

4.如权利要求1所述的显示面板，其中该第二基板还包含：

吸光层，位于该第一偏光层与该像素阵列之间以及位于该第一偏光层与该第一四分之一波片之间。

5.如权利要求1所述的显示面板，其中该反射层的材料包含铝、钼氧化物、钽或其组合。

6.如权利要求1所述的显示面板，其中该第一基板包含多个色阻层，且该第一基板于该第二基板的垂直投影范围落在该第一偏光层的边界之内。

7.如权利要求1所述的显示面板，其中该第一四分之一波片及该反射层为环状，且环绕该显示区。

8.如权利要求1所述的显示面板，其中该第二基板还包含驱动电路层，位于该周边区并电连接该像素阵列，且该反射层位于该驱动电路层与该第一偏光层之间。

9.一种显示面板，具有显示区以及周边区，该周边区位于该显示区外侧，其中该显示面板包含：

第一基板，包含发光二极管阵列，位于该显示区；以及

第二基板，位于该第一基板上，并包含：

第一偏光层，位于该显示区及该周边区，并包含金属线栅结构；

第一四分之一波片，位于该显示区及该周边区；以及

吸光层，位于该显示区及该周边区，并与该第一四分之一波片共同位于该第一基板与该第一偏光层之间，且该吸光层位于该第一四分之一波片与该第一偏光层之间。

10.如权利要求9所述的显示面板，其中该第一基板还包含线路层，至少位于该周边区并电连接该发光二极管阵列，且该吸光层与该第一四分之一波片共同位于该线路层与该第一偏光层之间。