CN114563887B - 显示装置及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
一种显示装置及其制作方法,显示装置包括显示模块以及偏光模块。显示模块包括显示区以及非显示区。偏光模块设置在显示模块上。偏光模块包括偏光层、低延迟层以及四分之一波片层。低延迟层及四分之一波片层设置在偏光层与显示模块之间,且四分之一波片层设置在低延迟层旁。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学装置及其制作方法,且特别涉及一种显示装置及其制作方法。
背景技术
目前市场上已有三侧窄边框的显示装置。然而,若要实现四侧窄边框的显示装置,仍要隐藏连接覆晶薄膜(Chip On Flex或Chip On Film,COF)处的金属线。现行对于隐藏连接覆晶薄膜处的金属线的提案例如是使用黑色材料(black material)来遮蔽金属线。
然而,黑色材料若设置在透明胶层中,则有遮蔽反射效果差且存在漏光的问题。而黑色材料若设置在偏光层中,虽遮蔽反射效果较好,但其工艺难度高且容易产生气泡。
发明内容
本发明提供一种显示装置及其制作方法,其制造的偏光模块具有良好的遮蔽反射效果,且其工艺较为简单。
本发明的一实施例提供一种显示装置,其包括显示模块以及偏光模块。显示模块包括显示区以及非显示区。偏光模块设置在显示模块上。偏光模块包括偏光层、低延迟层以及四分之一波片层。低延迟层及四分之一波片层设置在偏光层与显示模块之间,且四分之一波片层设置在低延迟层旁。
本发明的一实施例提供一种显示装置的制作方法,其包括:提供一显示模块;以及在显示模块上设置偏光模块。显示模块包括显示区以及非显示区。偏光模块包括偏光层、低延迟层以及四分之一波片层。低延迟层与四分之一波片层设置在偏光层与显示模块之间,且四分之一波片层设置在低延迟层旁。
基于上述,在本发明的一实施例的显示装置及其制作方法中,将偏光模块设计为低延迟层及四分之一波片层设置在偏光层与显示模块之间,且四分之一波片层设置在低延迟层旁,使被显示模块的非显示区反射的环境光最后会被偏光层过滤。因此,本发明的一实施例的显示装置及其制作方法所制造的偏光模块具有良好的遮蔽反射效果,且其工艺较为简单。
附图说明
图1是根据本发明的一实施例的显示装置的分解示意图。
图2是根据本发明的一实施例的显示装置的剖面示意图。
图3是当低延迟层的R0值约为140纳米时,显示模块对比视角的示意图。
图4是当低延迟层的R0值约为30纳米时,显示模块对比视角的示意图。
图5是当低延迟层的R0值约为20纳米时,显示模块对比视角的示意图。
图6是根据本发明的一实施例的显示装置的制作方法的流程图。
图7是根据本发明的一实施例的显示装置的制作方法,形成偏光模块的第一示例。
图8是根据本发明的一实施例的显示装置的制作方法,形成偏光模块的第二示例。
图9是根据本发明的一实施例的显示装置的制作方法,形成偏光模块的第三示例。
附图标记说明:
10:显示装置
100:显示模块
110:显示区
120:非显示区
200:偏光模块
200-1’:第一裁切前偏光模块
200-2’:第二裁切前偏光模块
200-3’:第三裁切前偏光模块
210:偏光层
220:低延迟层
220’:裁切前低延迟层
220-1’:第一裁切前低延迟层
220-2’:第二裁切前低延迟层
230:四分之一波片层
230’:裁切前四分之一波片层
230-1’:第一裁切前四分之一波片层
230-2’:第二裁切前四分之一波片层
240:表面处理层
250:保护层
260:补偿层
270:透明胶层
D:堆叠方向
R1:第一轮廓
R2:第二轮廓
R3:第三轮廓
R4:第四轮廓
R5:第五轮廓
S100、S120:步骤
具体实施方式
图1是根据本发明的一实施例的显示装置的分解示意图。图2是根据本发明的一实施例的显示装置的剖面示意图。请参考图1与图2,本发明的一实施例提供一种显示装置10,其包括显示模块100以及偏光模块200。显示模块100可为液晶显示面板,但本发明不以此为限。显示模块100包括显示区110以及非显示区120。其中,非显示区120例如是显示模块100中设有覆晶薄膜处的金属线区。
在本实施例中,偏光模块200设置在显示模块100上。偏光模块200包括偏光层210、低延迟层(low retardation layer)220以及四分之一波片层(quarter-wave platelayer)230。偏光层210的材质例如是聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA)。其中,低延迟层220及四分之一波片层230设置在偏光层210与显示模块100之间,且四分之一波片层230设置在低延迟层220旁。
在本实施例中,偏光模块200还包括表面处理层240、保护层250、补偿层260以及透明胶层270。透明胶层270的材质例如是感压胶(pressure sensitive adhesive,PSA)。其中,表面处理层240、保护层250、偏光层210、补偿层260、低延迟层220与透明胶层270沿堆叠方向D按序堆叠,其中堆叠方向D由偏光模块200朝显示模块100定义。然而,在另一实施例中,低延迟层220与四分之一波片层230可设置在偏光层210及补偿层260之间。
在本实施例中,四分之一波片层230在显示模块100上的正投影与显示区110不互相重叠,且低延迟层220在显示模块100上的正投影与非显示区120不互相重叠。因此,低延迟层220或四分之一波片层230的设置位置较不影响显示模块100的显示。
在本实施例中,低延迟层220的光轴轴向与偏光层210的吸收轴方向相同。
图3是当低延迟层的R0值约为140纳米时,显示模块对比视角的示意图。图4是当低延迟层的R0值约为30纳米时,显示模块对比视角的示意图。图5是当低延迟层的R0值约为20纳米时,显示模块对比视角的示意图。请参考图3至图5,当低延迟层220的R0值约为20纳米时,显示装置10的出光光形与未设置低延迟层的显示装置的出光光形相似。反之,当低延迟层的R0值约为30纳米时,显示装置的出光光形稍有变形。当低延迟层的R0值约为140纳米时,低延迟层明显影响显示装置的显示效果。因此,在一优选的实施例中,低延迟层220在380纳米至780纳米范围内的R0绝对值小于等于20纳米,R0=(nx-ny)*d,nx为在x轴方向上的折射率,ny为在y轴方向上的折射率,以及d为低延迟层220的厚度。其中,x轴方向与y轴方向分别为在低延迟层220表面上两个互相垂直的轴向的折射率。
基于上述,在本发明的一实施例中,偏光模块200包括偏光层210、低延迟层220以及四分之一波片层230,低延迟层220及四分之一波片层230设置在偏光层210与显示模块100之间,且四分之一波片层230设置在低延迟层220旁。在环境光穿过偏光模块200而入射至显示模块100的过程中,环境光先穿过偏光层210而具有线偏振态。若此具有线偏振态环境光按序穿过四分之一波片层230、被显示模块100的非显示区120反射、再穿过四分之一波片层230后,则此具有线偏振态环境光的线偏振态会被90度转换。因此,被显示模块100的非显示区120反射的环境光最后会被偏光层210过滤。据此,本发明的一实施例的显示装置10具有良好的遮蔽反射效果。
图6是根据本发明的一实施例的显示装置的制作方法的流程图。请参考图6,本发明的一实施例提供一种显示装置10的制作方法,其包括以下步骤。提供显示模块100,步骤S100。在显示模块100上设置偏光模块200,步骤S120。其中,在显示模块100上设置偏光模块200的方式例如是利用卷对卷(roll to roll)偏贴的方式。
图7是根据本发明的一实施例的显示装置的制作方法,形成偏光模块的第一示例。请参考图7,在本实施例中,显示装置10的制作方法还包括:形成偏光模块200。形成偏光模块200包括以下步骤。提供偏光基底层,其中偏光基底层包括按序堆叠的裁切前表面处理层、裁切前保护层、裁切前偏光层与裁切前补偿层。也就是说,偏光基底层对应图2的表面处理层240、保护层250、偏光层210与补偿层260。
接着,在本实施例中,形成偏光模块200还包括以下步骤。在裁切前偏光层或裁切前补偿层上形成第一裁切前低延迟层220-1’、第二裁切前低延迟层220-2’以及裁切前四分之一波片层230’,以形成第一裁切前偏光模块200-1’,其中裁切前四分之一波片层230’位于第一裁切前低延迟层220-1’与第二裁切前低延迟层220-2’之间。此外,第一裁切前低延迟层220-1’、第二裁切前低延迟层220-2’及裁切前四分之一波片层230’例如是液晶材质,并先涂布在偏光基底层上后再利用光固化形成。
在本实施例中,形成偏光模块200还包括以下步骤。沿第一轮廓R1或第二轮廓R2裁切第一裁切前偏光模块200-1’,以形成偏光模块200,其中第一轮廓R1包括部分的第一裁切前低延迟层220-1’及部分的裁切前四分之一波片层230’,第二轮廓R2包括部分的第二裁切前低延迟层220-2’及部分的裁切前四分之一波片层230’,且第一轮廓R1的范围与第二轮廓R2的范围不互相重叠。
除此之外,图7的本发明一实施例形成偏光模块200的第一示例例如是利用卷对卷涂布的方式形成。也就是说,上述的偏光基底层为一卷基材。而在卷基材卷动的过程中,将第一裁切前低延迟层220-1’、第二裁切前低延迟层220-2’及裁切前四分之一波片层230’形成于卷基材上。而第一裁切前低延迟层220-1’、第二裁切前低延迟层220-2’及裁切前四分之一波片层230’以涂布等方式形成在偏光基底层上使各膜层可均匀分布在偏光基底层上,除了可减少气泡产生的问题,且较不影响后续的工艺。此外,利用图7的本发明一实施例形成偏光模块200的方式优选是适用于小尺寸的显示模块100。
图8是根据本发明的一实施例的显示装置的制作方法,形成偏光模块的第二示例。请参考图8,在图8中形成偏光模块200的方法与图7相似,其主要差异如下。在本实施例中,在裁切前偏光层上形成裁切前低延迟层220’、第一裁切前四分之一波片层230-1’以及第二裁切前四分之一波片层230-2’,以形成第二裁切前偏光模块200-2’,其中裁切前低延迟层220’位于第一裁切前四分之一波片层230-1’与第二裁切前四分之一波片层230-2’之间。
此外,在本实施例中,形成偏光模块200还包括以下步骤。沿第三轮廓R3或第四轮廓R4裁切第二裁切前偏光模块200-2’,以形成偏光模块200,其中第三轮廓R3包括部分的裁切前低延迟层220’及部分的第一裁切前四分之一波片层230-1’,第四轮廓R4包括部分的裁切前低延迟层220’及部分的第二裁切前四分之一波片层230-2’,且第三轮廓R3的范围与第四轮廓R4的范围不互相重叠。
同理,利用图8的本发明一实施例形成偏光模块200的方式优选是适用于小尺寸的显示模块100。而图8形成偏光模块200的第二示例的优点与图7形成偏光模块200的第一示例相似,在此不再赘述。
图9是根据本发明的一实施例的显示装置的制作方法,形成偏光模块的第三示例。请参考图9,在图9中形成偏光模块200的方法与图7相似,其主要差异如下。在本实施例中,在裁切前偏光层上形成裁切前低延迟层220’以及裁切前四分之一波片层230’,以形成第三裁切前偏光模块200-3’,其中裁切前低延迟层220’位于裁切前四分之一波片层230’旁。
在本实施例中,形成偏光模块200还包括以下步骤。沿第五轮廓R5裁切第三裁切前偏光模块200-3’,以形成偏光模块200,其中第五轮廓R5包括部分的裁切前低延迟层220’及部分的裁切前四分之一波片层230’。
此外,利用图9的本发明一实施例形成偏光模块的方式优选是适用于大尺寸的显示模块100。而图9形成偏光模块200的第三示例的优点与图7形成偏光模块200的第一示例相似,在此不再赘述。
综上所述,在本发明的一实施例的显示装置及其制作方法中,将偏光模块设计为低延迟层及四分之一波片层设置在偏光层与显示模块之间,且四分之一波片层设置在低延迟层旁。在环境光穿过偏光模块而入射至显示模块的过程中,环境光先穿过偏光层而具有线偏振态。若此具有线偏振态环境光按序穿过四分之一波片层、被显示模块的非显示区反射、再穿过四分之一波片层后,则此具有线偏振态环境光的线偏振态会被90度转换。因此,被显示模块的非显示区反射的环境光最后会被偏光层过滤。据此,本发明的一实施例的显示装置及其制作方法所制造的偏光模块具有良好的遮蔽反射效果,且其工艺较为简单。
Claims (10)
1.一种显示装置,包括:
一显示模块,包括一显示区以及一非显示区;以及
一偏光模块,设置在该显示模块上,包括:
一偏光层;
一低延迟层;以及
一四分之一波片层,其中该低延迟层及该四分之一波片层设置在该偏光层与该显示模块之间,且该四分之一波片层设置在该低延迟层旁,
其中,光先穿过该偏光层然后按序穿过该四分之一波片层、被该显示模块的该非显示区反射、再穿过该四分之一波片层最后被该偏光层过滤。
2.如权利要求1所述的显示装置,其中该四分之一波片层在该显示模块上的正投影与该显示区不互相重叠。
3.如权利要求1所述的显示装置,其中该偏光模块还包括一表面处理层、一保护层、一补偿层以及一透明胶层,该表面处理层、该保护层、该偏光层、该补偿层、该低延迟层与该透明胶层沿一堆叠方向按序堆叠,其中该堆叠方向由该偏光模块朝该显示模块定义。
4.如权利要求1所述的显示装置,其中该低延迟层在380纳米至780纳米范围内的R0绝对值小于等于20纳米,R0=(nx-ny)*d,nx与ny分别为在该低延迟层表面上两个互相垂直的轴向的折射率,以及d为该低延迟层的厚度。
5.如权利要求1所述的显示装置,其中该低延迟层的光轴轴向与该偏光层的吸收轴方向相同。
6.一种显示装置的制作方法,包括:
提供一显示模块,其中该显示模块包括一显示区以及一非显示区;以及
在该显示模块上设置一偏光模块,其中该偏光模块包括一偏光层、一低延迟层以及一四分之一波片层,该低延迟层与该四分之一波片层设置在该偏光层与该显示模块之间,且该四分之一波片层设置在该低延迟层旁,
其中,光先穿过该偏光层然后按序穿过该四分之一波片层、被该显示模块的该非显示区反射、再穿过该四分之一波片层最后被该偏光层过滤。
7.如权利要求6所述的显示装置的制作方法,其中该四分之一波片层在该显示模块上的正投影与该显示区不互相重叠。
8.如权利要求6所述的显示装置的制作方法,还包括形成该偏光模块,包括:
提供一偏光基底层,其中该偏光基底层包括一裁切前偏光层;
在该裁切前偏光层上形成一第一裁切前低延迟层、一第二裁切前低延迟层以及一裁切前四分之一波片层,以形成一第一裁切前偏光模块,其中该裁切前四分之一波片层位于该第一裁切前低延迟层与第二裁切前低延迟层之间;以及
沿一第一轮廓或一第二轮廓裁切该第一裁切前偏光模块,以形成该偏光模块,其中该第一轮廓包括部分的该第一裁切前低延迟层及部分的该裁切前四分之一波片层,且该第二轮廓包括部分的该第二裁切前低延迟层及部分的该裁切前四分之一波片层。
9.如权利要求6所述的显示装置的制作方法,还包括形成该偏光模块,包括:
提供一偏光基底层,其中该偏光基底层包括一裁切前偏光层;
在该裁切前偏光层上形成一裁切前低延迟层、一第一裁切前四分之一波片层以及一第二裁切前四分之一波片层,以形成一第二裁切前偏光模块,其中该裁切前低延迟层位于该第一裁切前四分之一波片层与该第二裁切前四分之一波片层之间;以及
沿一第三轮廓或一第四轮廓裁切该第二裁切前偏光模块,以形成该偏光模块,其中该第三轮廓包括部分的该裁切前低延迟层及部分的该第一裁切前四分之一波片层,且该第四轮廓包括部分的该裁切前低延迟层及部分的该第二裁切前四分之一波片层。
10.如权利要求6所述的显示装置的制作方法,还包括形成该偏光模块,包括:
提供一偏光基底层,其中该偏光基底层包括一裁切前偏光层;
在该裁切前偏光层上形成一裁切前低延迟层以及一裁切前四分之一波片层,以形成一第三裁切前偏光模块,其中该裁切前低延迟层位于该裁切前四分之一波片层旁;以及
沿一第五轮廓裁切该第三裁切前偏光模块,以形成该偏光模块,其中
该第五轮廓包括部分的该裁切前低延迟层及部分的该裁切前四分之一波片层。
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