CN110387292A - 一种应用于光学玻璃基板的清洗液及制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种应用于光学玻璃基板的清洗液，其包括以下重量百分比的组分：无机碱性物质3‑20％；钾盐1‑4％；非离子表面活性剂0.01‑0.05％；余量为去离子水；其中，上述的去离子水为通过RO反渗透的方法制取，除去了呈离子形式杂质后的纯水，在光电行业和半导体行业也称为“超纯水”和“高纯水”。本发明提供了一种应用于光学玻璃基板的清洗液的制备方法。本发明的积极效果在于：能非常有效的去除光学玻璃基板上残留的手指纹，脏污和细小颗粒，同时不腐蚀光学玻璃基板本身；同时，该清洗液对使用环境的温度和设备无高要求，操作简单方便，安全环保。
Description
技术领域
本发明属于光学玻璃材料清洗技术领域，具体涉及一种应用于光学玻璃基板的清洗液及制备方法，再具体地涉及一种用于平板玻璃、光学玻璃基板切割和抛光后表面污渍和颗粒清洗的清洗液及制备方法。
背景技术
光学玻璃基板是液晶显示器件的重要光学零部件部件，在镀膜前会有指纹、粉尘、油污以及其它有机或无机的颗粒物附着于表面，这些杂质会影响光学玻璃基板的质量，以致降低液晶显示器件的合格率，所以在镀膜前需要将光学玻璃基板的标签清洗干净。现有光学玻璃基板清洗液主要有水基清洗液和溶液清洗液两种，因为溶剂清洗液对环境破坏严重，水基清洗液是现今主流的清洗液。且目前中国国内液晶显示器材和零部件生产和组装厂家使用的清洗液基本上为国外厂家直接提供；或者是国外厂家提供技术，国内厂家代工的模式。
公开号为CN101250465公开了一种导电光学玻璃基板清洗液，它是由如下重量百分比的组分组成：碳酸氢钠3～5％，三聚磷酸钠3～5％，单乙醇胺2～4％，异丙醇5～10％，脂肪醇聚氧乙烯醚0.2～0.4％，十二烷基苯磺酸钠0.1～0.5％，乙二醇丁醚2～5％，其余为水。该清洗液含有较多的有机溶剂，会造成一定的环境污染。
公开号为CN103045391A公开了一种光学玻璃基板水基清洗液，以重量百分比计，包括以下组分：无机碱性物质1～5％、阴离子表面活性剂5～15％、非离子表面活性剂5～10％、消泡剂0.1～1％，其余为水。该专利公开的清洗液不含N，P和OP类表面活性剂，对环境影响较小，但除污效果欠佳。
发明内容
鉴于此，本发明提供了一种应用于光学玻璃基板的清洗液及制备方法，可以在保证清洗效果好的前提下有效地解决环境污染的问题，并且不腐蚀光学玻璃基板。
为此，一方面，本发明提供了一种应用于光学玻璃基板的清洗液，其包括以下重量百分比的组分：
无机碱性物质 3-20％；
钾盐 1-4％；
非离子表面活性剂 0.01-0.05％；
余量为去离子水；
其中，上述的去离子水为通过RO反渗透的方法制取，除去了呈离子形式杂质后的纯水，在光电行业和半导体行业也称为“超纯水”和“高纯水”。
进一步地，上述一种应用于光学玻璃基板的清洗液包括以下重量百分比的组分：无机碱性物质5-11％；钾盐1.5-3％；非离子表面活性剂0.02-0.05％；余量为去离子水。
进一步地，上述一种应用于光学玻璃基板的清洗液包括以下重量百分比的组分：无机碱性物质6-9％；钾盐1.5-2.5％；非离子表面活性剂0.02-0.04％；余量为去离子水。
进一步地，上述无机碱性物质包括氢氧化钾和无机钾盐，其中，氢氧化钾占清洗液总重量的2-10％，无机钾盐占清洗液总重量的1-10％。
进一步地，上述钾盐为氯化钾、硫酸钾、硫酸氢钾、硝酸钾、亚硝酸钾、磷酸钾、碳酸钾中的一种或多种。
进一步地，上述非离子表面活性剂为脂肪醇和季胺盐醇醚共聚物的表面活性剂。
另一方面，本发明提供了一种应用于光学玻璃基板的清洗液的制备方法，其包括以下制备步骤：
1)将自来水通过制水设备制作纯水，并检测其出水电导率；
2)将制作出的高纯水放入第一储液罐中，并通过冷却机冷却到合适的温度；
3)将已经冷却的高纯水储存到第二储液罐中，然后通过上料控制设备加入无机碱性物质，搅拌混匀；
4)再通过上料控制设备在第二储液罐中加入钾盐，搅拌混匀；
5)再通过上料控制设备在第二储液罐中加入非离子表面活性剂，搅拌混匀；
6)把制得的混合溶液经过滤器过滤后得到清洗液成品。
本发明相较于现有技术主要具有以下优点：
1)无异味，无毒无刺激性，无有机挥发物，不易燃易爆，原料易得，配置简单，使用方便；
2)采用了多种协同效应的缓蚀剂成分，能非常有效的保护金属基底不受腐蚀；另外，本发明的清洗液配方本身就是一个缓冲体系，保证了清洗液在长时间清洗过程中的稳定作用，具有较长的使用寿命；
3)使用时微泡或无泡，水溶性强；适合各种液晶光学玻璃基板的清洗，清洗后光学玻璃基板表面无残留、无颗粒物质、洁净度高、效果较好，尤其适合触摸屏光学玻璃基板的清洗；
4)使用后易生物降解，易排放处理，不会产生磷、硫等污染环境的物质；
5)制作方法简单，生产良率高，易自动化批量生产，能耗低，不会产生残渣沉淀和环境污染，且经济效益高。
附图说明
通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本发明的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
图1为本发明实施例提供的一种应用于光学玻璃基板的清洗液及制备方法中所涉及的制造设备的结构示意图。
具体实施方式
下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
实施例一：
本发明的实施例一首先提供了一种应用于光学玻璃基板的清洗液，其具体包括以下重量百分比的组分：无机碱性物质(KOH)5.7％；碳酸钾(K2CO3)2.7％；脂肪醇和季胺盐醇醚共聚物0.03％；去离子水91.57％。其次，如图1所示，本发明的实施例一提供的一种应用于光学玻璃基板的清洗液通过以下制备方法获得：
S1：将自来水通过制水设备1制作纯水，并检测其出水电导率；
S2：将制作出的高纯水放入第一储液罐2中，并通过冷却机3冷却到合适的温度；
S3：将已经冷却的高纯水储存到第二储液罐5中，然后通过上料控制设备4加入无机碱性物质，搅拌混匀；
S4：再通过上料控制设备4在第二储液罐5中加入钾盐，搅拌混匀；
S5：再通过上料控制设备4在第二储液罐5中加入非离子表面活性剂，搅拌混匀；
S6：把制得的混合溶液经过滤器6过滤后得到清洗液成品。
实施例二：
其他与实施例一所述相同，不同之处在于，本发明的实施例二提供的一种应用于光学玻璃基板的清洗液包括以下重量百分比的组分：无机碱性物质(KOH)10.1％；碳酸钾(K2C03)1.4％；偏硅酸钠(NaSi03)0.1％；脂肪醇和季胺盐醇醚共聚物0.01％；去离子水88.39％。实施例三：
其他与实施例一所述相同，不同之处在于，本发明的实施例三提供的一种应用于光学玻璃基板的清洗液包括以下重量百分比的组分：无机碱性物质(KOH)8.8％；碳酸钾(K2C03)2％；氯化钾(KCI)0.5％；脂肪醇和季胺盐醇醚共聚物0.02％；去离子水88.68％。
为进一步观察上述实施例一至三所提供的一种应用于光学玻璃基板的清洗液的清洗效果，本发明采用了如下实验手段，即用光电显示材料光学玻璃基板作为测试对象，分别割3cm*4cm的小片，上面有手指纹，脏污，玻璃碎屑等问题，然后浸入100ml的清洗液(该清洗液是讲本发明的清洗液稀释100倍所得)中，在25℃至35℃的温度下浸泡30分钟，再经过纯去离子水漂洗后用高纯氮气吹干，光学玻璃基板的清洗效果和清洗液对光学玻璃基板的腐蚀情况如表1所示：
表1：
| 实施例 | 手指纹 | 脏污 | 玻璃碎屑颗粒 | 光学玻璃基板 |
| 1 | 完全清除干净 | 完全清除干净 | 颗粒完全清除 | 未腐蚀 |
| 2 | 完全清除干净 | 完全清除干净 | 颗粒完全清除 | 未腐蚀 |
| 3 | 完全清除干净 | 完全清除干净 | 颗粒完全清除 | 未腐蚀 |
因而，本发明相较于现有技术主要具有以下优点：
1)无异味，无毒无刺激性，无有机挥发物，不易燃易爆，原料易得，配置简单，使用方便；
2)采用了多种协同效应的缓蚀剂成分，能非常有效的保护金属基底不收腐蚀；另外，本发明的清洗液配方本身就是一个缓冲体系，保证了清洗液在长时间清洗过程中的稳定作用，具有较长的使用寿命；
3)使用时微泡或无泡，水溶性强；适合各种液晶光学玻璃基板的清洗，清洗后光学玻璃基板表面无残留、无颗粒物质、洁净度高；效果较好，尤其适合触摸屏光学玻璃基板的清洗；
4)使用后易生物降解，易排放处理，不会产生磷、硫等污染环境的物质；
5)制作方法简单，生产良率高，易自动化批量生产，能耗低，不会产生残渣沉淀和环境污染，且经济效益高。
综上，本发明的积极效果在于：能非常有效的去除光学玻璃基板上残留的手指纹，脏污和细小颗粒，同时不腐蚀光学玻璃基板本身；同时，该清洗液对使用环境的温度和设备无高要求，操作简单方便，安全环保；因而在光学玻璃基板的清洗领域具有较好的应用前景。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (7)
1.一种应用于光学玻璃基板的清洗液，其特征在于，包括以下重量百分比的组分：
无机碱性物质 3-20％；
钾盐 1-4％；
非离子表面活性剂 0.01-0.05％；
余量为去离子水。
2.根据权利要求1所述的一种应用于光学玻璃基板的清洗液，其特征在于，包括以下重量百分比的组分：无机碱性物质5-11％；钾盐1.5-3％；非离子表面活性剂0.02-0.05％；余量为去离子水。
3.根据权利要求1所述的一种应用于光学玻璃基板的清洗液，其特征在于，包括以下重量百分比的组分：无机碱性物质6-9％；钾盐1.5-2.5％；非离子表面活性剂0.02-0.04％；余量为去离子水。
4.根据权利要求1-3任一所述的一种应用于光学玻璃基板的清洗液，其特征在于，所述无机碱性物质包括氢氧化钾和无机钾盐，其中，氢氧化钾占清洗液总重量的2-10％，无机钾盐占清洗液总重量的1-10％。
5.根据权利要求1-3任一所述的一种应用于光学玻璃基板的清洗液，其特征在于，所述钾盐为氯化钾、硫酸钾、硫酸氢钾、硝酸钾、亚硝酸钾、磷酸钾、碳酸钾中的一种或多种。
6.根据权利要求1-3任一所述的一种应用于光学玻璃基板的清洗液，其特征在于，所述非离子表面活性剂为脂肪醇和季胺盐醇醚共聚物的表面活性剂。
7.根据权利要求1-6任一所述的一种应用于光学玻璃基板的清洗液的制备方法，其特征在于，包括以下制备步骤：
1)将自来水通过制水设备(1)制作纯水，并检测其出水电导率；
2)将制作出的高纯水放入第一储液罐(2)中，并通过冷却机(3)冷却到合适的温度；
3)将已经冷却的高纯水储存到第二储液罐(5)中，然后通过上料控制设备(4)加入无机碱性物质，搅拌混匀；
4)再通过所述上料控制设备(4)在所述第二储液罐(5)中加入钾盐，搅拌混匀；
5)再通过所述上料控制设备(4)在所述第二储液罐(5)中加入非离子表面活性剂，搅拌混匀；
6)把制得的混合溶液经过滤器(6)过滤后得到清洗液成品。
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