CN110383174A - 光学布置、特别是光刻系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及光学布置，特别是光刻系统(1)，其包括：特别是反射镜(3)的可移动部件，移动部件(3)的至少一个致动器(4)，以及具有限制部件(3)的移动的邻接表面(12)的至少一个邻接件(6)。光学布置包括在邻接件(6)上或多个邻接件上，以在相同移动方向(+X、‑X、‑Y、+Y)上限制可移动部件(3)的移动的至少两个邻接表面，该邻接表面特别是配备为施加于可移动部件(3)的相同侧，和/或光学布置包括相对于可移动部件(3)移动邻接件(6)的至少一个其他致动器(9)以及确定邻接件(6)的邻接表面(12)和可移动部件(3)之间的距离(A)的至少一个距离传感器(13)。光学布置还可以包括反射镜(3)形式的减少重量的可移动部件。

Description

光学布置、特别是光刻系统

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年1月17日提交的德国专利申请DE 10 2017 200 635.8的优先权，其全部公开内容通过引用并入本申请的内容。

发明背景

本发明涉及光学布置，例如涉及光刻系统，特别是EUV光刻系统，其包括：特别是反射镜的可移动部件，移动部件的至少一个致动器，和具有限制部件的移动的止挡面的至少一个止挡件。

出于本申请的目的，光刻系统被认为意味可以用在光刻领域中的光学系统或光学布置。除了光刻设备，其用于制造半导体部件，光学系统例如可以是检验光刻设备中所使用的光掩模(在下文中还称为掩模母版)的检验系统，以检验要结构化的半导体基板(在下文中还称为晶片)，或者可以是度量系统，其用于测量光刻设备或其部分，例如测量投射系统。光学布置或光刻系统可以特别是EUV光刻系统，其设计为所使用的辐射在约5nm和约30nm之间的EUV波长范围中的波长处。

DE 10 2012 212 503 A1公开了光刻设备，其具有第一部件和第二部件以及耦接设备，以便使第一部件和第二部件彼此耦接。光刻设备具有感测装置，以感测其上支撑光刻设备的基底的移动，并且还具有开环控制装置，其设计为取决于感测的基底的移动来致动耦接装置以便限制第二部件相对于第一部件的移动。出于该目的，耦接装置可以具有至少一个可调整的终端止挡件。可调整的终端止挡件可以与具有反射镜形式的第二部件邻接接触，以便产生反射镜相对于力框架形式的第一部件的形式匹配的固定。该固定旨在于在震动的事件中或由于地震的颤动的事件中避免损坏反射镜。

DE 10 2011 087 389 A1描述了具有用于例如反射镜的部件的止挡件的定位系统，其中止挡件限制了部件的移动的路径并且可调整地设计。止挡件的可调整性旨在于使得反射镜的移动区域尽可能扩大的同时最小化止挡件和反射镜之间的间隙宽度。可以提供开环和/或闭环控制装置，利用其以开环和/或闭环方式控制止挡件的再定位，其中特别地致动器的止挡面和部件之间的距离的最佳范围被指定或者止挡件被再定位使得部件与止挡面的距离保持在预先定义的范围内。最佳距离范围可以在5微米和15微米之间。

发明目的

本发明的目的为提供一种光学布置，特别是光刻设备，其中抵消了可移动部件在颤动的事件下的损坏。

发明内容

该目的根据第一方面通过在背景部分所提及类型的光学布置来实现，其还包括：至少一个其他致动器，以相对于可移动部件移动止挡件；以及至少一个距离传感器，以确定在止挡件的止挡面和可移动部件之间的距离。

如在背景部分引入的DE 10 2011 087 389 A1中所描述的，有利的是，在可移动部件和止挡件(更明确地说其止挡面)之间的距离保持在相对于可移动部件的预先定义的距离范围内。在可移动部件和止挡件之间的间隙有利于防止振动从止挡件传输到可移动部件中，例如到反射镜中。发明人已经认识到，如果可移动部件到止挡件的止挡面的的自由轨迹尽可能短，则可以最小化可移动部件的不受控制的加速或动能。

为了能够甚至在非常小距离的情况下以可靠的方式设定可移动部件和止挡面之间的距离，距离传感器的使用已证实是有利的。对于可以省略在光学布置中的间隙的情况，光学布置或止挡件还可以具有被动设计。在这种情况下，可以省略距离传感器并且可以例如通过止挡件和可移动部件之间的弹簧元件来实现接触。

典型地，安装可移动部件以便于通过致动器可相对于光学布置的承载结构移动，所述承载结构通常为特别是(EUV)光刻设备的光学布置的“力框架”。力框架实质上吸收在光学布置上作用的全部的力。可移动部件可以例如是例如(EUV)反射镜的光学部件部分、例如框部分的机械式部件部分、或光机械式部件部分。框部分特别可以用于接收光学元件或例如形成子镜头的反射镜形式的光学元件的组合。与(EUV)反射镜形式的光学元件的情况类似，可以例如通过弹簧元件将框部分从承载结构解耦，使得框部分相对于承载结构是可移动的。

在一个实施例中，距离传感器配置为无接触地确定止挡件的止挡面和可移动部件之间的距离。使用配置为无接触地确定距离的距离传感器可以避免机械应力由距离传感器传输到可移动部件上。距离传感器可以配置为例如光学距离传感器，例如使用激光器作为测量光束，或者可能配置为电容式距离传感器。

在一个实施例中，光学布置包括闭环控制装置，以控制止挡件(更具体地为止挡面)相对于可移动部件移动的距离小于5微米，优选地小于2微米。如上进一步所述的，有利的是，在光学布置操作期间，还可能在光学布置的运输期间，止挡面距可移动部件的距离尽可能最低，这可以基于距离传感器的距离信号通过闭环控制来实现。闭环控制装置还可以在控制距离时考虑可移动部件的移动的频率、大小和/或方向，更具体地移动可移动部件的致动器的移动的频率、大小和/或方向，如DE 10 2011 087 389 A1中所描述的，其在背景部分引入并且通过引用并入本申请关于该方面的内容中。

在其他实施例中，光学布置包括至少一个阻尼装置，以沿着可移动部件的移动方向衰减止挡面的移动。阻尼装置用于制动可移动部件的不期望的移动，其中在移动方向上所述部件打击止挡件的止挡面并且推动(可移动的)止挡件。由于可移动部件和止挡件之间的自由路径较短，因而在可移动部件的不期望的移动期间产生的动能较低。在小轨迹之上产生的该低动能可以被阻尼装置吸收。

可以以各种方式配置阻尼装置，例如阻尼装置可以包括弹簧元件或流体阻尼器，以衰减止挡件的移动。如果使用配置为机械式致动器的其他致动器，则例如弹簧元件形式的阻尼元件的用途典型地有利于衰减止挡件的移动。当使用其中流体(也就是说液体或气体)用于止挡件的移动的致动器时，流体阻尼器形式的阻尼装置是有利的，然而同样可以使用机械式阻尼器。

例如，固定设定节流钻孔可以用作流体阻尼器，当使用以诸如油的液体的形式的流体时，所述节流钻孔形成将高压侧与低压侧分离的流体的流动开口。如果流体是气体，流体阻尼器的阻尼效应还可以由可用的节流体积(其中气体被压缩)构成，使得它吸收可移动部件的动能。

在其他实施例中，其他致动器为液压致动器或气动致动器。在这种情况下，其他致动器可以例如具有液压缸或气压缸，其活塞杆形成止挡件，止挡面形成在该止挡件上。其他致动器可以配置为例如液压泵或气压泵，其实现液压缸或气压缸中的活塞杆的移动。如上进一步所述的，在这种情况下的阻尼装置优选地配置为流体阻尼器，例如形式为节流(孔)或节流体积。

在其他实施例中，止挡件具有至少一个膜，在至少一个膜的一侧形成止挡面并且在至少一个膜的另一侧邻接空间，该空间相对于所述环境密封并且允许流体能够进入其中，以改变膜的曲率。在该示例中，由膜和邻接膜的空间形成止挡件，将流体通过馈送和/或排放线馈送或排放进入该空间中以改变膜的曲率或拉伸膜，因此可以设定可移动部件和膜之间的距离并且因此可移动部件和止挡面之间的距离。

在其他替代实施例中，止挡件具有绕旋转轴线可枢转的杠杆臂。例如由铰链或铰接形成的旋转轴线可以形成在杠杆臂的一端，但是同样旋转轴线可以在沿着杠杆臂的不同位置处形成，以将旋转驱动器的电力传输适当地传输到杠杆臂。止挡件的止挡面在这种情况下可以直接形成在杠杆臂上，但是止挡面还可以通过阻尼元件(例如通过弹簧元件)耦接到杠杆臂。

本发明的其他方面涉及如背景部分所提及的类型的光学布置，其可以特别是按如上进一步所述的进行配置并且其中至少两个止挡面配备为在相同移动方向上限制可移动部件的移动，特别是邻接在可移动部件的相同侧上，该至少两个止挡面形成在同一个止挡件上或多个止挡件上。

当通过(端部)止挡件制动可移动部件时，存在如下问题：当可移动部件突然被制动时，在具有高质量的可移动部件的情况下，高局部力出现。为了避免该问题，提出使用多个或大量的止挡面以在多个接触点之上并且因此在大面积之上分布需要限制可移动部件移动的力，因此减小在相应止挡面上作用的力。

在最简单的情况下，在由(端部)止挡件制动可移动部件期间，例如通过使用相对于彼此平行对准的两个或更多个止挡件沿着相同移动方向以制动可移动部件的移动，这创造了清楚的超定。在本申请的含义内的相同移动方向被认为意味着不仅是轴向方向(例如X方向、Y方向......)，而且是轴线方向的取向(例如正向或负向X方向)。两个或更多个止挡件可以是仅沿着相同移动方向可移动的，特别是可位移的。然而，还可以的是，两个或更多个止挡件或其止挡面以一角度与移动方向对准，沿着该方向限制可移动部件的移动。在这种情况下，止挡件附加地至少部分地还可以用于在其他移动方向上限制移动路径。

替代地，唯一止挡件可以用于沿着移动方向限制可移动部件的移动，然而所述止挡件具有多个止挡面。在这种情况下，在制动可移动部件的移动期间在较大面积之上作用力，这减小了在相应止挡面上作用的力。具有两个或更多个止挡面的止挡件特别地可以通过同一个阻尼装置连接到承载结构。要理解的是，在此描述的两种可能性还可以组合，也就是说多个止挡件中的至少一个具有两个或更多个止挡面，该多个止挡件可以用于在同一个移动方向上限制可移动部件的移动。

在其他实施例中，提供至少五个止挡面和不多于十个止挡面，以在至少一个方向上限制可移动部件的移动。如上进一步所述的，通过增加止挡面或接触点的数目可以良好地分布力的作用。止挡面的最小数目取决于例如反射镜的可移动部件的允许的表面张力和接触张力。例如EUV光刻设备形式的光学布置中可用的安装空间是小的，意味着止挡件的空间需求并且因此止挡面的选择数目不应该非常大。

在其他实施例中，可移动部件具有接收至少一个止挡件的头部区域的至少一个切口，在至少一个止挡件上形成在至少两个不同的、特别是相互垂直移动方向上限制可移动部件的移动的至少两个止挡面。在该实施例中，相应的止挡件通过其头部区域接合在可移动部件的切口或凹部中。以这种方法，可以限制部件在两个，可能三个相互垂直的移动方向上的移动。例如，同样可以通过在止挡件的头部区域的相对两侧形成的止挡面将移动限制在两个相互相反移动方向上，也就是说在正向和负向X方向上。要理解的是，止挡件、更具体地其头部区域，还可以具有例如实质上圆柱几何体，其具有实质圆柱形外围止挡面。还可以在这种情况下限制部件沿以下方向的移动路径：轴向移动方向及与其垂直的移动方向，也就是说相对于圆柱形头部区域径向延伸的移动方向。替代地，头部区域还可以例如具有球形或椭球形几何体。切口的几何体可以与头部区域的几何体相适配，但是还可以例如在矩形或正方体的切口中布置球形头部区域。

在其他配置中，一个或多个止挡件具有阻尼装置，以沿着由一个或多个止挡件限制的移动方向衰减止挡面的移动。如上进一步所述的，阻尼装置可以是配置为机械上阻尼的装置，例如弹簧元件、流体阻尼器等

本发明的其他方面涉及在背景部分中提及类型的光学布置，其特别地如上进一步所述的配置并且其中可移动部件是反射镜，其中反射镜包括具有第一基板部分和第二基板部分的基板，在该第一基板部分上形成反射表面，其中第二基板部分由具有比第一基板部分更大的弹性模量与密度的比率和/或更大的断裂长度的材料制成，并且/或者其中切口形成在第二基板部分中。

在该方面中，提出了借助于减少可移动部件的质量或重量而在可移动部件的冲击事件中减少在止挡面上作用的力，也就是说，与如上进一步所述的解决方案的情况不同，提出了不修改止挡面而是以使可移动部件的重量减少的方式修改反射镜形式的可移动部件，如可能的话，不会同时减少可移动部件的刚性。通过减少反射镜的重量，还按比例地减少了反射镜在止挡面上的冲击的情况下的动能。

其上形成反射表面的第一反射镜部分由满足关于反射镜基板的光学和热学性质的需求的材料或物质构成。EUV光刻的反射镜中的该材料典型地是已知为零膨胀材料的材料，也就是说该材料具有低热膨胀系数，其在已知的零交叉温度处具有零交叉。基板可以例如是掺杂二氧化钛的石英玻璃或诸如的玻璃陶瓷。

第二基板部分可以由具有比第一基板部分的材料更大的弹性模量与密度的比率和/或更大的断裂长度的材料制成。第一基板部分和第二基板部分可以是不同材料或物质，也就是说反射镜配置为至少两件。例如通过直接连接(接合、(玻璃)焊接......)或黏合连接(粘合剂接合、(玻璃)焊料......)可以在边界面处使两个基板部分在这种情况下彼此连接。

为了获得反射镜的高固有频率，第二基板部分的(轴向)刚性可以通过增加的弹性模量来增加，和/或可以减小基板材料的质量或密度。如果弹性模量与密度的比率增加，则可以在维持刚性时减小质量。为了获得反射镜的高固有频率，替代地或附加地，可以有利的是，第二材料具有比第一基板部分的材料更高的断裂长度。断裂长度L_R定义为在拉伸测试中测得的强度R_M和密度ρ的商，即其中L_R＝R_M/ρ。

具有比第一基板部分更大的弹性模量与密度的比率的第二基板部分的合适材料例如是技术陶瓷材料(特别是无氧化物陶瓷)、碳化硅(SiC)和金刚石。在具有比第一基板部分的材料更大的断裂长度的第二基板部分的材料的情况下，同样可以使用如上文进一步提及的材料。为了相互固定两个基板部分，有利的是，它们由具有相似材料性质的材料制成。特别地，两个基板部分彼此之间的直接连接(其二者具有硅作为构成部分)已经被证实为有利的，因为在两个这样的基板部分之间所形成的硅键是相对较强的。

通过适当的形状或几何体可以替代地或附加地实现第二基板部分的质量的减小，这利用如下事实：在距反射表面的足够距离处，基板材料不再需要连续出现。在这种情况下，切口形成在第二基板部分中。切口典型地配置为盲孔或孔的形式，其从底部延伸到基板中，也就是说从远离反射表面的一侧延伸到基板中。可以在直径和它们之间的间隔方面选择盲孔，使得它们减少反射镜的重量而不会过多减少其刚性，因为在切口或盲孔之间形成且其中出现基板的材料的中间间隔形成硬化的肋状物。反射镜在这种情况下可以特别是整体地配置。在这种情况下，两个基板部分的区别在于：在第二基板部分中提供切口而邻接反射表面或包含反射表面的第一基板部分完全由基板材料形成并且不含切口。

第二基板部分可以给予反射镜所需的刚性，而第一基板部分给予反射镜其光学性质。根据诸如在基板材料中的形变或应力的确定的指定参数，可以例如使用拓扑设计方法来优化切口或盲孔的数目、布置和几何体。制造由用于制造轻重量结构的玻璃陶瓷制成的反射镜底版的一个可能性例如描述在US 2004/0247826A1中，其通过引用并入本申请的主题中。

参考示出对本发明必要的细节的附图，从本发明的示例性实施例的以下描述以及从权利要求书中，本发明的其他特征和优点是显而易见的。单独特征可以在各种情况下由它们自身单独地实现，或者作为本发明的变型中的任何期望的组合中的多个来实现。

附图说明

示例性实施例在示意性附图中得到说明，并且在以下描述中得到解释。

附图中：

图1示出了EUV光刻设备的细节的示意图，光刻设备具有EUV反射镜形式的可移动部件，并且具有带绕旋转轴线可枢转的杠杆臂的(端部)止挡件，以及具有距离传感器，

图2示出了与图1类似的示意图，其具有膜形式的(端部)止挡件，以及用于改变膜的曲率的邻接膜的气体填充空间，

图3示出了活塞杆形式的(端部)止挡件的示意图，该活塞杆可位移地安装在液压缸中。

图4示出了框部件部分形式且具有两个或六个(端部)止挡件的可移动部件，该止挡件各具有沿着相同移动方向限制框部件部分的移动的止挡面，

图5示出了与图4类似的具有(端部)止挡件的示意图，该止挡件各具有限制框部件部分的移动的两个或六个止挡面，

图6示出了框部件部分和(端部)止挡件的示意图，其头部区域被接收在框部件部分的切口中，其中六个止挡面形成在头部区域上，以在六个不同移动方向上限制框部件部分的移动，

图7a、b示出了EUV反射镜的侧视图的示意图和EUV反射镜的底部视图的示意图，该EUV反射镜具有其上形成反射表面的第一连续基板部分，并且具有其中形成盲孔的第二基板部分，以及

图8示出了与图7a类似的EUV反射镜的示意图，该EUV反射镜具有由不同材料制成的第一基板部分和第二基板部分。

在附图的以下描述中，相同的附图标记用于相同或功能相同的部件。

图1示意性示出了光刻设备的形式(更明确地说EUV光刻设备的形式)的光学布置1的细节。EUV光刻设备1具有力框架形式的承载结构2，其在操作EUV光刻设备1期间吸收所有基本力并且将它们通过EUV光刻设备1中未示出的基座传输到地面。EUV光刻设备1具有EUV反射镜形式的多个可移动部件3，其中一个作为示例在图1中示出。

可移动EUV反射镜3可以借助于致动器4相对于承载结构2来移动。致动器4用于在空间中自由地移动EUV反射镜3，以便将在EUV反射镜3的前侧3a上入射的EUV辐射5在出现在前侧3a处的反射涂层处反射到适当方向中。致动器4例如可以配置为非接触式，特别是磁致动器，并且在操作EUV光刻设备1期间产生一磁场，在该磁场内，EUV反射镜3悬浮。在此EUV反射镜3通过未示出的弹簧在承载结构2上总体上被柔软地支撑，也就是说可移动地支撑。

在操作EUV光刻设备1期间，由未更加详细示出的EUV光源产生的EUV辐射5经由照明系统向投射系统供应，该投射系统用于将掩模上的结构成像到感光基板上，出于简化图示的目的在图1中已经省略其说明。

图1作为示例同样示出了具有绕旋转轴线7或绕铰链可旋转的杠杆臂8的止挡件6。使用旋转驱动器的形式的其他(机械式)致动器9，在所示出的示例中的杠杆臂是绕旋转轴线7可枢转的，如由双向箭头所指示的。除了使用其他机械式致动器9，例如磁致动器形式的无接触式致动器同样可以用于旋转杠杆臂8。可以理解的是，其他致动器9不必在旋转轴线7处接合，但也可以在不同位置处对杠杆臂8作用以偏转它。

具有止挡面12的止挡元件11经由弹簧元件10形式的阻尼装置连接到杠杆臂8。例如滑块引导件形式的引导件(未详细示出)确保当杠杆臂8绕其旋转轴线7枢转时止挡元件11且因此平坦的止挡面12总是以平行方式位移，并且该引导件保持垂直于图1中所示的XYZ坐标系的X方向对准，该坐标系的Z轴对应于重力方向。通过绕旋转轴线7枢转杠杆臂8，在EUV反射镜3和止挡元件11的止挡面12之间的距离A因此可以被改变。

EUV光刻设备1具有距离传感器13，其用于精确测量EUV反射镜3(更具体地EUV反射镜3的同样在Y方向上延伸的平坦侧)和止挡面12之间的距离A。出于该目的，距离传感器13具有两个测量光源13a、b，其将第一测量光束和第二测量光束(例如激光束)指引到反射镜3的其他平坦侧面上或到止挡件6的止挡面12上。可以用本领域技术人员已知的方式基于两个反射的测量光束确定EUV反射镜3面向止挡面12的侧面和止挡面12之间的距离A。距离传感器13光学地(也就是说，无接触地)操作，其意味着在确定距离A期间在EUV反射镜3上不施加力。

EUV光刻设备1具有闭环控制装置14，其基于由距离传感器13确定的距离A来致动或控制其他致动器9以移动止挡件6，更具体地移动止挡面12，使得在操作EUV光刻设备1期间，距离A总是小于5微米，可能小于2微米。在止挡件6和EUV反射镜3之间的尽可能小的距离A已经被证实为有利于最小化EUV反射镜3至止挡面12的自由轨迹，这意味着沿着EUV反射镜3沿着自有轨迹吸收的动能尽可能低。以这种方法，EUV反射镜3由于例如在地震的事件中或在EUV光刻设备1的运输期间的颤动而不受控制的加速几乎可以被完全避免，使得当EUV反射镜3冲撞止挡面12时，EUV反射镜3或止挡件6不被损坏。

EUV反射镜3的剩余的、相对较低动能在EUV反射镜3沿着其轨迹移动时顺着距离A被其吸收，该动能被阻挡件6的弹簧元件10吸收并转换成弹簧元件10的弹性形变的势能。在距离A的闭环控制期间，在适用的情况下可以考虑EUV反射镜3为闭环控制装置14已知的迫近移动。

图2同样示出了EUV反射镜3的形式的可移动部件，其中出于简化目的已经省略移动EUV反射镜3的致动器4的图示和承载结构2的图示。在图2所示的示例中，在各个情况下提供止挡件6，其用于在EUV光刻设备1中为EUV反射镜3在正向Y方向(+Y)上的移动定界和为EUV反射镜3在负向Y方向(-Y)上的移动定界。

止挡件6各具有弹性膜15，其面向EUV反射镜3的一侧形成止挡面12。弹性模15在其外围边缘处附接到外壳17。膜15远离EUV反射镜3的一侧16邻接在外壳17中形成的空间18，其相对于环境被密封，并且经由馈送和排放线19连接到填充有压缩空气21的气体容器20。压缩空气21可以由气压泵形式的其他致动器9从气体容器取得并且可以馈送到外壳17中所形成的空间18，因此允许压缩气体21进入所述空间，所述空间然后形成气体填充空间18。

外壳17中所形成的空间中出现的压缩空气21的数量并且因此气体填充空间18中的压强p可以由气压泵形式的致动器9来设定。当改变气体填充空间18中的压强p时，膜15的曲率R或曲率半径并且因此在止挡件6的膜15的弯曲的止挡面12和EUV反射镜3之间的距离A被改变。气体填充空间18用作流体阻尼器，以衰减止挡件6的移动，更具体地其上形成止挡面12的膜15的移动。可以以这种方法沿着EUV反射镜3和膜15之间的间隙衰减沿着EUV反射镜3的相对较短自由轨迹吸收的EUV反射镜3的相对较低动能。

光学距离传感器13以微米范围的准确度测量膜15或止挡面12和EUV反射镜3之间的距离A，该光学距离传感器13同样用于借助于闭环控制装置14(图2的描绘中未示出)对距离A进行闭环控制。可以理解的是，不同于图2的图示，在适用的情况下可以使用除了压缩气体21以外的气体或特别是水的液体，将其馈送到空间18中。在后者情况中，除了气压泵形式的其他致动器9以外，使用液压泵。

图3示出了作为可移动部件的EUV反射镜3和具有平坦的止挡面12的活塞杆的形式的止挡件6，如果EUV反射镜由于突然颤动沿着对应于(正向)X方向的移动方向移动，则如图1所示的示例中，该止挡件6用于邻接EUV反射镜3的平坦侧面。如图1中，即使在图3中所示的示例中，距离传感器13也具有两个测量光源13a、b以确定在止挡面12和EUV反射镜3之间的距离A。

活塞杆形式的止挡件6在气压缸22中被可移动地引导，并且可以借助于压缩气体21使用气压泵形式的(其他)致动器9在(正向和负向)X方向上位移，通过在相对端部处形成的馈送和/或排放线以已知的方式将该压缩气体21馈送到气压缸22中或从气压缸22排放。在图3所示的示例中，节流阀空间23形成在气压缸22中以衰减以活塞杆形式的止挡件6的移动，所述节流阀空间用作流体阻尼器，因为位于那里的压缩空气正在被压缩。除了使用流动地耦接到止挡件6的节流阀，还可以使用机械耦接到止挡件6的(固定的)节流阀，例如弹簧元件10的形式，以衰减止挡面12的移动。止挡件6的移动的衰减还可以(以减震器的方式)被动地实现，也就是说泵对于该目的不是绝对必须的。

图4示出了用于减小当制动框架部件部分3形式的固体可移动部件时出现的局部力的其他可能性，因此不会发生框架部件部分3或其他部件的损坏。例如，图4中未示出的一个或多个EUV反射镜可以安装在框架部件部分3上。

在图4所示的示例中，在各个情况下，具有一个止挡面12a、b的两个止挡件6a、b各布置在框架部件部分3的彼此相对的两个窄侧3a、b上。两个止挡件6a、b各经由弹簧元件10连接到EUV光刻设备1的承载结构2。当受力颤动的情况下框架部件部分3在正向X方向或负向X方向上无意地加速时，两个止挡件6a、b的止挡面12a、b邻接框架部件部分3的相应窄侧3a、b，使得所述框架部件部分到达止挡面12a、b。通过在框架部件部分3的相同侧3a、b上作用的两个止挡件6a、b上提供相对于彼此平行对准的止挡面12a、b，施加在相应止挡面12上的力减半，因为它分布在两个止挡面12a、b上或在那里形成的接触点上。

因此，同样各具有止挡面12c-h的六个止挡件6c-h布置在框架部件部分3的两个长边3c、d上，该止挡件6c-h具有或形成框架部件部分3的接触点。由于六个止挡件6c-h，框架部件部分3的相应长侧3c、d撞击时的力可以减小到六分之一。

图5示出了框架部件部分3，其中，如图4所示的示例中，在各个情况下两个止挡面12a、b布置为邻接在框架部件部分3的相应前侧3a、b上，并且另外六个止挡面12c-h布置为邻接在框架部件部分3的相应长边3c、d上。与图4所示的示例相反，图5中的两个止挡面12a、b和六个止挡面12c-h各自形成在唯一的止挡件6上，该止挡件6经由单个弹簧元件10连接到承载结构2上。在图5所示的示例中，沿着相应的运动方向-X、+X、-Y、+Y施加到相应的止挡件6上的力可以通过分布在多个止挡面12a、b和12c-h上的所述力类似于图4中所示的示例来减小。

止挡件6a、b和6c-h的最小数目或止挡面12a、b和12e-f的最小数目是框架部件部分3的允许的表面张力或接触张力或EUV反射镜3的允许的表面张力或接触张力的函数，该止挡面12a、b和12e-f布置在框架部件部分3的相应侧3a-d上或者可替换地位于EUV反射镜3的相应侧上。已经证实有利的是，多个至少五个并且通常不多于十个止挡面12c-h布置为沿着例如框架部件部分3形式的可移动部件3的至少一个侧3a-d，因为EUV光刻设备1中的安装空间是有限的。

为了减小图4和图5中所示的止挡件6a-h或6的布置所需的空间，相应的止挡件6a-h、6可以具有更紧凑的设计，只要例如框架部件部分3形式的可移动部件具有切口24，如图6所示。在图6中所示的示例中，止挡件6的头部区域25布置在切口24中或者凹部中。在所示的示例中的头部区域25具有六个止挡面12a-e，并且在各个情况下用于在六个移动方向-X、+X、-Y、+Y、-Z、+Z之一中邻接框架部件部分3，也就是说头部区域25在水平方向(X、Y)和垂直方向(Z)上限制框架部件部分3的运动。

如果以图6所示的方式形成相应的止挡件6a-h、6，则可以减少限制框架部件部分3的运动所需的止挡件6的数目。例如，在图4所示的示例中，可以完全省略在相应的前侧3a、b上作用的两个止挡件6a、b。然而，要理解的是，止挡件6不是绝对必须以图6所示出的方式形成。还要理解的是，止挡件6的头部区域25不必具有实质上立方体的几何体。头部区域25可以例如具有弯曲的表面并且具有球体、椭圆体等的几何体。

除了如上进一步所描述的以下可能性：通过在加速作用期间减少加速度a或通过增加生成力F的面积来减少在可移动部件3上或在相应止挡件上作用的力F，还可以根据牛顿等式F＝m x a，通过减少可移动部件3的加速质量m来减少力F，如将在下文描述的。

图7a、b示出了具有基板26的反射镜3的形式的可移动部件，其在所示的示例中具有第一基板部分26a和第二基板部分26b，基板材料连续地存在于第一基板部分26a中，将盲孔27形式的切口引入到第二基板部分26b中以减少反射镜3的重量。在所示的示例中，盲孔27布置为在如特别是从图7b中显而易见的规则的矩阵布置中，该图7b示出了第二基板部分26的下侧的俯视图。在盲孔27之间的存在基板3的材料的中间间隔形成硬化的肋状物，这意味着盲孔27仅将反射镜3削弱到可忽略的程度。可以根据诸如形变或应力的确定的参数通过适当的拓扑设计方法来优化盲孔27的合适的布置、几何形状和大小。

反射镜3的反射表面3a形成在第一基板部分26a上，更具体地形成反射表面3a的反射涂层施加于基板26的表面。第一基板部分26a具有从反射表面3a开始的厚度，该厚度足够大以确保反射镜3的光学性质不被引入到第二基板部分26b中的盲孔27负面影响。由于盲孔27，第二基板部分26b具有比第一基板部分26a更低的密度。在盲孔27之间所形成的中间间隔形成硬化的肋状物，因此可以减少第二基板部分26的质量而不会在此减少太多第二基板部分26b的刚性。

在图7a、b所示的示例中，基板26整体地形成，也就是说第一和第二基板部分26a、b由相同材料构成。对于反射镜3用于波长小于近似250nm的UV光刻的情况，基板26的材料例如可以是石英玻璃。对于反射镜3要用于波长在近似5nm和近似30nm之间的EUV光刻的情况，如与上面结合图1进一步示出的EUV反射镜3的情况一样，基板26典型地是已知为零膨胀材料的基板，该材料在相对较大温度范围内具有非常小的热膨胀系数，例如掺杂有二氧化钛的石英玻璃(其已知为)或者例如的玻璃陶瓷。

图8示出了反射镜3的示例，其中其上形成反射表面3a的第一基板部分26a由第一材料制成，而第二基板部分26b由与第一材料不同的第二材料制成。两个基板部分26a、b在它们的边缘面处例如通过诸如接合或玻璃焊接的直接连接单片地接合在一起，或者可以使用例如粘合剂或玻璃焊料的接合方式彼此黏合地连接。

第一基板部分26a典型地由如上所述的材料之一制成并且具有第一弹性模量E₁、第一密度ρ₁和第一断裂长度L_R1，而第二基板部分26b由具有第二弹性模量E₂、第二密度ρ₂和第二断裂长度L_R2的材料制成。为了在维持反射镜3的刚性的同时减少反射镜3的重量，有利的是，第二基板部分26b的材料的弹性模量E₂与密度ρ₂的比率大于第一基板部分26a的材料的弹性模量E₁与密度ρ₁的比率。附加地或替代地，有利的是，第二基板部分26b的材料的断裂长度L_R2大于第一基板部分26a的材料的断裂长度L_R1。弹性模量E与密度ρ的比率和断裂长度LR二者表示材料性质，其与确定反射镜3具有的固有频率有关。如果第二基板部分26b与第一基板部分26a相比具有更大弹性模量E₂与密度ρ₂的比率或更大的断裂长度L_R2，则通常有利的是，一个或多个止挡件6在第二基板部分26b处接合或与第二基板部分26b邻接。

断裂长度L_R被定义为在拉伸测试中测得的强度R_M和密度ρ的商，即其中L_R＝R_M/ρ。第二基板部分26b的材料例如可以是技术陶瓷材料，理想地是无氧化物陶瓷。在所示出的示例中，第二基板部分26b的材料是碳化硅(SiC)，其具有近似110km的高断裂长度L_R2。(合成)金刚石也具有高断裂长度L_R或弹性模量E与密度ρ的较大比率，并且因此适合作为第二基板部分26b的材料。

如果第二基板部分26b具有大于第一基板部分26a的断裂长度L_R，则第二基板部分26b有助于硬化基板26，因为通过第二基板部分26b增加了基板26的尺寸稳定度并且因此增加反射镜3的尺寸稳定度。如果合适的话，切口27可以形成在第二基板部分26b中，其具有比第一基板部分26a更大的弹性模量E₂与密度ρ₂的比率或更大的断裂长度L_R2，如图7a、b所示。图7a、b所示的反射镜3可以形成可移动部件3，例如在图1至图6所示的示例中。

要理解的是，可以组合如上所述的两个或全部三个在例如光刻设备的光学布置中避免对可移动部件3的损坏的可能性(减少自由轨迹、减少力，减少质量)。可移动部件同样可以是不设计为反射但是透射辐射的光学元件，例如如在用于UV光刻的光刻设备中所使用的透镜元件。当然，还可以用如上所述的替代框架部分的其他方式避免非光学部件受到损坏。

Claims (13)

1.一种光学布置，特别是光刻系统(1)，包括：

可移动部件，特别是反射镜(3)，

至少一个致动器(4)，移动所述部件(3)，以及

至少一个止挡件(6)，具有限制所述部件的移动的止挡面(12)，

其特征在于，

在同一个移动方向(+X、-X、-Y、+Y)上限制所述可移动部件(3)的移动的至少两个止挡面(12a，b；12c-h)形成在止挡件(6)上或多个止挡件(6a，b；6c-h)上，其中所述止挡面(12a，b；12c-h)特别是配备为邻接抵靠所述可移动部件(3)的相同侧(3a，b；3c，d)。

2.如权利要求1所述的光学布置，其中至少五个止挡面(12c-h)和不多于十个止挡面(12c-h)配备为在至少一个移动方向(+X、-X、-Y、+Y)上限制所述可移动部件(3)的移动。

3.根据权利要求1或2所述的光学布置，其中所述可移动部件(3)具有接收至少一个止挡件(6)的头部区域(25)的至少一个切口(24)，在所述至少一个止挡件(6)上形成至少两个止挡面(12a-f)，所述至少两个止挡面在至少两个不同的、特别是相互垂直移动方向(-X、-Y、-Z；+X、+Y、+Z)上限制所述可移动部件(3)的移动。

4.如前述权利要求中任一项所述的光学布置，其中所述一个或多个止挡件(6、6a，b；6c-h)具有阻尼装置(10)，以沿着所述移动方向(-X、-Y、-Z、+X、+Y、+Z)衰减所述止挡面(12a，b；12c-h)的移动。

5.根据权利要求1的前序所述的光学布置，特别是如前述权利要求中任一项所述的光学布置，

其特征在于，

至少一个其他致动器(9)，相对于所述可移动部件(3)移动所述止挡件(6)，以及

至少一个距离传感器(13)，确定所述止挡件(6)的止挡面(12)和所述可移动部件(3)之间的距离(A)。

6.根据权利要求5所述的光学布置，其中所述距离传感器(13)配置为无接触地确定所述止挡件(6)的止挡面(12)和所述可移动部件(3)之间的距离(A)。

7.根据权利要求5或6所述的光学布置，还包括闭环控制装置(14)，以控制所述止挡件(6)相对于所述可移动部件(3)的移动的距离(A)小于5毫米，优选地小于2毫米。

8.根据前述权利要求中任一项所述的光学布置，还包括：阻尼装置(10)，以沿着所述可移动部件(3)的移动方向(+X、-Y、+Y)衰减所述止挡面(12)的移动。

9.根据权利要求8所述的光学布置，其中所述阻尼装置包括弹簧元件(10)或流体阻尼器(18、23)。

10.根据权利要求5至9中任一项所述的光学布置，其中所述其他致动器(9)配置为液压致动器或气动致动器。

11.根据前述权利要求中任一项所述的光学布置，其中所述止挡件(6)具有至少一个膜(15)，在所述至少一个膜(15)的一侧形成所述止挡面(12)并且在其另一侧(16)邻接空间(18)，所述空间(18)相对于所述环境密封并且允许流体(21)能够进入其中，以改变所述膜(15)的曲率(R)。

12.根据权利要求1至10中任一项所述的光学布置，其中所述止挡件(6)具有绕旋转轴线(7)可枢转的杠杆臂(8)。

13.根据权利要求1的前序所述的光学布置，特别是如前述权利要求中的任一项所述的光学布置，其中所述可移动部件是反射镜(3)，

其特征在于，

所述反射镜(3)具有带第一基板部分(26a)和第二基板部分(26b)的基板(26)，在所述第一基板部分(26a)上形成反射表面(3a)，其中所述第二基板部分(26b)由具有比所述第一基板部分(26a)更大的弹性模量(E₂)与密度(ρ₂)的比率和/或更大的断裂长度(L_R2)的材料制成，并且/或者其中在所述第二基板部分(26b)中形成切口(27)。