CN110382877A - 真空泵和用于该真空泵的叶片零件及转子以及固定的叶片 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种真空泵、用于该真空泵的叶片零件及转子以及固定的叶片，其能够在不损害真空泵的气体分子排出性能的情况下，有效地防止颗粒从真空泵向真空腔逆流，适合于防止由于逆流的颗粒导致的真空腔内的污染。真空泵在从吸气口至排气口之间具有作为将气体分子排出的机构发挥功能的多个排气层（PT），并且在多个排气层（PT）中的最上层的排气层（PT(PT1)）至吸气口之间，作为沿气体分子的排气方向移送颗粒的颗粒移送层，具备与构成最上层的排气层（PT1）的旋转叶片（7(71、75)）一同旋转且比构成最上层的排气层（PT1）的旋转叶片（7）的张数少的张数的叶片（NB）。

Description

真空泵和用于该真空泵的叶片零件及转子以及固定的叶片

技术领域

本发明涉及作为半导体制造装置、平板显示器制造装置、太阳能面板制造装置的处理腔、其他真空腔的气体排出机构被利用的真空泵，特别适合在不损害真空泵的气体分子排出性能的情况下能够有效地防止颗粒(粒子)从真空泵向腔的逆流来防止由逆流的颗粒导致的腔内的污染的真空泵。

背景技术

涡轮分子泵、螺纹槽式泵等真空泵多用于需要高真空的真空腔的排气。图18是作为真空腔的气体排出机构采用以往的真空泵的排气系统的概要图，图19(a)是将图18所示的以往的真空泵的最上层的排气层从图18的箭头D方向观察旋转叶片的状态的示意图，(b)是位于图19(a)所示的旋转叶片的上端面侧(吸气口侧)的叶片边缘部的放大图。

构成图18的排气系统的以往的真空泵Z在从吸气口2至排气口3之间具有作为排出气体分子的机构发挥功能的多个排气层PT。

以往的真空泵Z的各排气层PT构成为，针对每个排气层PT，借助放射状地以既定间隔配置的多个旋转叶片7和固定叶片8将气体分子排出。

在如前所述的气体分子的排气构造中，旋转叶片7一体地形成于被磁轴承等轴承机构能够旋转地支承的转子6的外周面，且与转子6一同高速旋转。另一方面，固定叶片8固定于外装壳1的内表面(例如参照专利文献1)。

但是，设想的是，在图18的排气系统中，在真空腔CH内中进行CVD等化学处理，由此附带地生成的微粒状的处理副产物在真空腔CH内漂浮・扩散，由于自重、气体分子的移送效果向真空泵Z的吸气口2下落。此外，设想的是，附着・堆积于真空腔CH的内壁面的堆积物、附着・堆积于压力调整阀BL的堆积物等也由于振动等剥落，由于自重向真空泵Z的吸气口2下落。

并且，由于如前所述的下落而来到吸气口2的颗粒从吸气口2进一步下落，如图19(a)所示地向最上层的排气层PT(PT1)入射。若这样地入射的颗粒Pa与高速旋转着的该排气层PT(PT1)的旋转叶片7碰撞，则碰撞的颗粒如图19(b)所示，由于与位于旋转叶片7的上端面侧的叶片边缘部EG的碰撞而被弹开，向吸气口2方向弹回而逆流，有由于这样的逆流颗粒而真空腔CH内被污染的可能。

作为防止如前所述的由逆流颗粒导致的真空腔CH内的污染的机构，在以往的真空泵Z中，作为构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7的具体的结构，例如，采用图19(b)所示的旋转叶片7。

在图19(b)所示的旋转叶片7中，作为减少如前所述地逆流的颗粒的比例的机构，相对于叶片边缘部EG设置由机械加工形成的倒角部MS(例如参照专利文献1)。

但是，若参照专利文献1的0026段至0027段的记载，则旋转叶片7的叶片边缘部EG附近的颗粒的碰撞可能区域极小(0.3mm以下)。该碰撞可能区域最大为与实用(量产)上能够由机械加工制作的边缘的倒角相同程度的尺寸。

在专利文献1所述的以往的真空泵中，如前所述地仅在极小的碰撞可能区域限定倒角的切削范围，且为了减少颗粒被向吸气口侧反射的概率，将该倒角面形成为相对于旋转体(4)的轴向平行(参照本申请的图19(b))或为气体分子排出方向即向下(参照本申请的图20)。

然而，由于倒角部MS的机械加工时产生的加工边缘部的变钝、为了提高旋转叶片7表面的耐腐蚀性的镀敷，无法避免倒角部MS的上部MC呈凸圆弧面的形状。向这样的凸圆弧面下落的颗粒由于与凸圆弧面的碰撞而被弹开，向吸气口2侧弹回，向真空腔CH方向逆流，所以若像记载于专利文献1的以往的真空泵那样构成为在叶片边缘部EG设置倒角部MS，则不能有效地防止颗粒从真空泵Z向真空腔CH逆流，对于防止逆流的颗粒导致的真空腔CH内的污染不充分。

特别是，若参照专利文献1的图1至图3，则倒角部的倒角面(28a)如前所述地形成为相对于旋转体(4)的轴向平行或向下(分子排气方向)，所以颗粒向该倒角面(28a)入射后，被向水平方向反射，或被稍向下游反射。该情况下，颗粒向下游的速度较小，所以反射后向旋转方向前方的旋转叶片(该文献1的图3上、左侧的旋转叶片28)的背面(朝向旋转方向背侧的吸气口方向的斜面。以下也相同)再次碰撞，有被向吸气口侧再次反射的可能。

但是，作为用于减少如前所述地逆流的颗粒的比例的结构，考虑将构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7的配置间隔整体的扩展的结构、使旋转叶片7的周速度下降的结构，但根据这些结构，均产生作为真空泵Z的气体分子排出性能受损的问题。

此外，作为用于减少如前所述地逆流的颗粒的比例的具体的结构，如图20所示，也考虑将前述的倒角部MS朝向分子排气方向向下地通过机械加工使其倾斜的结构。然而，根据这样的结构，旋转叶片7的上端7A面和倒角部MS的面(倒角面)所成的角度为锐角，所以容易产生由机械加工引起的飞边，加工成本提高，此外，机械加工时产生的加工边缘部的变钝、由前述的镀敷导致的凸圆弧面的曲率变大，所以导致逆流的颗粒的比例相反增大的反效果。

专利文献1：日本专利第5463037号公报。

发明内容

本发明是为了解决前述问题而作出的，其目的在于，提供能够在不损害真空泵的气体分子排出性能的情况下有效地防止颗粒从真空泵向真空腔逆流而适合防止由逆流的颗粒导致的真空腔内的污染的真空泵、具备用于该真空泵的叶片的零件及转子以及固定的叶片。

为了实现前述目的，本发明(1)是一种真空泵，前述真空泵在从吸气口至排气口之间具有作为将气体分子排出的机构发挥功能的多个排气层，前述多个排气层构成为，针对每个排气层，借助被放射状地以既定间隔配置的多个旋转叶片和固定叶片将前述气体分子排出，其特征在于，在前述多个排气层中的最上层的排气层至前述吸气口之间，作为沿前述气体分子的排气方向移送颗粒的颗粒移送层，具备与构成前述最上层的排气层的前述旋转叶片一同旋转且比构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的张数少的张数的叶片。

或者，其特征在于，作为前述排气层的一部分，在前述最上层的排气层构成向前述气体分子的排气方向移送颗粒的颗粒移送层。

在前述本发明(1)中，也可以是，其特征在于，构成前述颗粒移送层的前述叶片被与构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片相邻地设置。

在前述本发明(1)中，也可以是，其特征在于，相对于构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的至少某一张的旋转叶片的整体或其一部分，构成前述颗粒移送层的前述叶片被一体地设置。

在前述本发明(1)中，也可以是，其特征在于，构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的与构成前述颗粒移送层的前述叶片相邻的旋转叶片的高度由于构成前述颗粒移送层的前述叶片而被延长，由此，构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片作为它们整体而呈上游端的高度不同的高度不同构造。

在前述本发明(1)中，也可以是，其特征在于，构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的由于前述高度不同构造而上游端变高的旋转叶片与位于该旋转叶片的旋转进行方向前侧的旋转叶片的配置间隔被设定成，比其他前述多个旋转叶片的配置间隔宽。

在前述本发明(1)中，也可以是，其特征在于，构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的位于由于前述高度不同构造而上游端变高的旋转叶片的旋转进行方向前侧的前述旋转叶片的下游端与他的前述多个旋转叶片的下游端相比向前述吸气口方向凹进。

在前述本发明(1)中，也可以是，其特征在于，构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的由于前述高度不同构造而上游端变高的前述旋转叶片的下游端被以比其他前述多个旋转叶片的下游端长的方式被延长。

在前述本发明(1)中，也可以是，其特征在于，构成为，由前述高度不同构造产生的层差的高度台阶状地变化。

在前述本发明(1)中，也可以是，其特征在于，构成为，由前述高度不同构造产生的层差的高度锥状地变化。

在前述本发明(1)中，也可以是，其特征在于，相对于构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的至少某一张的旋转叶片的整体或其一部分，构成前述颗粒移送层的前述叶片被作为其他零件安装。

在前述本发明(1)中，也可以是，其特征在于，构成前述颗粒移送层的前述叶片的仰角被设定成比构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的仰角小。

在前述本发明(1)中，也可以是，其特征在于，构成前述颗粒移送层的前述叶片被设置于从构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片离开的位置。

本发明(2)是用于前述本发明(1)的真空泵而具备构成前述颗粒移送层的前述叶片的叶片零件。

本发明(3)是一种真空泵，前述真空泵在从吸气口至排气口之间具有作为将气体分子排出的机构发挥功能的多个排气层，前述多个排气层构成为，针对每个排气层，借助被放射状地以既定间隔配置的多个旋转叶片和固定叶片将前述气体分子排出，其特征在于，使构成最上层的排气层的前述多个旋转叶片的至少一部分的上游端的高度变低，由此呈作为它们的整体上游端的高度不同的高度不同构造，呈沿前述气体分子的排气方向移送颗粒的颗粒移送层。

在前述本发明(3)中，也可以是，其特征在于，构成为，由前述高度不同构造产生的层差的高度台阶状地变化。

在前述本发明(3)中，也可以是，其特征在于，构成为，由前述高度不同构造产生的层差的高度锥状地变化。

本发明(4)是用于前述本发明(1)或前述本发明(3)的真空泵而具备构成前述颗粒移送层的前述叶片的转子。

在前述本发明(1)或前述本发明(3)中，也可以是，其特征在于，在前述最上层的排气层的上游，作为反射机构，设置有以与构成该最上层的排气层的前述多个旋转叶片方向相反的角度倾斜的固定的叶片。

本发明(5)是一种固定的叶片，前述固定的叶片用于前述本发明(1)或前述本发明(3)的真空泵，在前述最上层的排气层的上游，作为前述反射机构，以与构成该最上层的排气层的前述多个旋转叶片方向相反的角度倾斜。

发明效果

本发明中，如前所述，采用如下结构：作为沿气体分子的排气方向移送颗粒的颗粒移送层，具备与构成最上层的排气层的旋转叶片一同旋转且比构成最上层的排气层的旋转叶片的张数少的张数的叶片，或具备与构成最上层的排气层的旋转叶片一体地设置的叶片，所以能够提供一种真空泵、用于该真空泵的叶片零件及转子，其能够在不损害真空泵的气体分子排出性能的情况下，有效地防止颗粒从真空泵向真空腔的逆流，适合用于防止由逆流的颗粒产生的真空腔内的污染。

并且，颗粒移送层为与排气层分体设置的构造和与排气层一体的构造的的任何一个均能够与原有的排气层构造相比使排气性能提高。

该理由如下述《理由1》及《理由2》所述。

《理由1》

在本发明中，颗粒移送层作为能够将从吸气口下落的颗粒高效地排出的机构，例如，无需进行扩展构成最上层的排气层的旋转叶片的配置间隔等使排气层的分子排气性能下降那样的设计改变，能够借助设计成适合气体分子的排气的条件的多个排气层高效地排出气体分子。

《理由2》

在本发明中，构成颗粒移送层的叶片的张数比构成最上层的排气层的旋转叶片的张数少，由此，构成颗粒移送层的叶片的配置间隔被比构成最上层的排气层的旋转叶片的配置间隔宽地设定。因此，比较颗粒移送层的颗粒的碰撞可能区域(＝叶片的配置间隔×颗粒的下落速度/叶片的旋转速度)、最上层的排气层的颗粒的碰撞可能区域(＝旋转叶片的配置间隔×颗粒的下落速度/旋转叶片的旋转速度)的情况下，颗粒的碰撞可能区域为前者即颗粒移送层的颗粒的碰撞可能区域的较大，所以在颗粒移送层和排气层的比较中，颗粒移送层由于与叶片的碰撞被向排气方向(具体地为排气层的方向)反射的颗粒、即排气方向反射颗粒的比例变高，被由于与叶片的碰撞而向吸气口的方向弹回的颗粒、即逆流颗粒的比例变低。该理由主要是因为，若颗粒的碰撞可能区域变宽，则与旋转叶片、在叶片处向分子排气方向倾斜的斜面碰撞而被向气体分子排出方向反射的概率和与沿吸气口方向逆流的概率高的面(具体地为前述的倒角面及位于倒角部的上部的凸圆弧面)碰撞的概率相比有优势。

附图说明

图1是应用本发明的真空泵的剖视图。

图2(a)是从转子的外周面侧观察图1的真空泵的颗粒移送层的状态的说明图，(b)是图2(a)的A向视图，(c)是图2(a)的B向视图。

图3是在不具备颗粒移送层的真空泵(相当于以往的真空泵的)处下落的颗粒的碰撞可能区域的说明图。

图4是在具备颗粒移送层的图1的真空泵(相当于本发明的真空泵)处下落的颗粒的碰撞可能区域的说明图。

图5(a)(b)(c)(d)及(e)是颗粒移送层的其他实施方式(其1)的说明图。

图6是颗粒移送层的其他实施方式(其2)的说明图。

图7是颗粒移送层的其他实施方式(其3)的说明图。

图8是颗粒移送层的其他实施方式(其4)的说明图。

图9(a)(b)及(c)是颗粒移送层的其他实施方式(其5)的说明图。

图10是颗粒移送层的其他实施方式(其6)的说明图。

图11是颗粒移送层的其他实施方式(其7)的说明图。

图12是图11的C向视图。

图13是颗粒移送层的其他实施方式(其8)的说明图。

图14是颗粒移送层的其他实施方式(其10)的说明图。

图15是颗粒移送层的其他实施方式(其11-1)的说明图。

图16是颗粒移送层的其他实施方式(其11-2)的说明图。

图17是颗粒移送层附近的本发明的其他实施方式的说明图。

图18是作为真空腔的气体排出机构采用以往的真空泵的排气系统的概要图。

图19(a)将图18所示的以往的真空泵的最上层的排气层从图18的箭头D方向观察排气层的旋转叶片的状态的示意图，(b)是位于图19(a)所示的旋转叶片的上端面侧的叶片边缘部的放大图。

图20是将倒角部朝向分子排气方向向下通过机械加工使其倾斜的状态的说明图。

具体实施方式

以下，参照附图，详细说明用于实施本发明的最佳的方式。在本实施方式中，作为真空泵的一例，作为排气机构，使用具备由多个排气层构成的涡轮分子泵部和螺纹槽排气层的所谓的复合翼式的涡轮分子泵来说明。另外，本实施方式也能够应用于仅具有涡轮分子泵部的泵。

图1是应用本发明的真空泵的剖视图。

若参照图1，则该图的真空泵P1具备截面筒状的外装壳1、配置于外装壳1内的转子6、能够旋转地支承转子6的支承机构、将转子6旋转驱动的驱动机构。

外装壳1为将筒状的泵壳1A和有底筒状的泵基部1B沿该筒轴向借助紧固连结螺栓一体地连结的有底圆筒形，泵壳1A的上端部侧作为用于抽吸气体的吸气口2开口，此外，在泵基部1B的下端部侧面设置有用于向外装壳1外排出气体的排气口3。

吸气口2经由压力调整阀BL(参照图18)与向半导体制造装置的处理腔等那样地呈高真空的真空腔CH(参照图18)连接。排气口3与图中未示出的辅助泵连通连接。

在泵壳1A内的中央部设置有内置各种电装品的圆筒状的定子柱4。在图1的真空泵P1中，作为与泵基部1B分体的零件形成定子柱4来螺纹紧固固定于泵基部1B的内底，由此将定子柱4立设于泵基部1B上，但作为除此之外的实施方式，也可以将该定子柱4一体地立设于泵基部1B的内底。

在定子柱4的外侧设置有前述的转子6。转子6被内包于泵壳1A及泵基部1B，且呈包围定子柱4的外周的圆筒形状。

在定子柱4的内侧设置有转子轴5。转子轴5配置成其上端部朝向吸气口2的方向，其下端部朝向泵基部1B的方向。此外，转子轴5被磁轴承(具体为公知的两组径向磁轴承MB1和一组轴向磁轴承MB2)能够旋转地支承。进而，在定子柱4的内侧设置有驱动马达MO，借助该驱动马达MO，转子轴5被绕该轴心旋转驱动。

转子轴5的上端部从定子柱4的圆筒上端面向上方突出，相对于该突出的转子轴5的上端部，转子6的上端侧借助螺栓等紧固连结机构被一体地固定。因此，转子6经由转子轴5被磁轴承(径向磁轴承MB1、轴向磁轴承MB2)能够旋转地支承，此外，在该支承状态中，若将驱动马达MO启动，则转子6能够与转子轴5一体地绕该转子轴心旋转。总之，在图1的真空泵P1中，转子轴5和磁轴承作为能够旋转地支承转子6的支承机构发挥功能，此外，驱动马达MO作为将转子6旋转驱动的驱动机构发挥功能。

并且，图1的真空泵P1在从吸气口2至排气口3之间具备作为将气体分子排出的机构发挥功能的多个排气层PT。

此外，在图1的真空泵P1中，在多个排气层PT的下游部，具体地在多个排气层PT的从最下层的排气层PT(PTn)至排气口3之间设置有螺纹槽泵层PS。

进而，在图1的真空泵P1中，在多个排气层PT的上游部，具体地在多个排气层PT的从最上层的排气层PT(PT1)至吸气口2之间，设置有向气体分子的排气方向移送颗粒的颗粒移送层PN。最上层的排气层PT(PT1)和颗粒移送层PN也可以是被一体地设置的构造。

《排气层的详细情况》

图1的真空泵P1为，转子6的比大致中间靠上游处作为多个排气层PT发挥功能。以下，对多个排气层PT进行详细说明。

在转子6的比大致中间靠上游的转子6外周面设置有与转子6一体地旋转的多个旋转叶片7，这些旋转叶片7针对排气层PT(PT1、PT2、…PTn)，以转子6的旋转中心轴(具体地为转子轴5的轴心)或外装壳1的轴心(以下称作“真空泵轴心”)为中心放射状以既定间隔配置。

另一方面，在泵壳1A的内周侧设置有多个固定叶片8，此外，这些固定叶片8也与旋转叶片7相同，针对排气层PT(PT1、PT2、…PTn)，以真空泵轴心为中心放射状地以既定间隔配置。

即，图1的真空泵P1的各排气层PT(PT1、PT2、…PTn)在从吸气口2至排气口3之间被多层地设置，并且，针对排气层PT(PT1、PT2、…PTn)，具备放射状地以既定间隔配置的多个旋转叶片7和固定叶片8，由此呈将气体分子排出的构造。

每个旋转叶片7都是与转子6的外径加工部一体地通过切削加工切削而形成的叶片状的切削加工品，相对于气体分子的排气以最佳角度倾斜。此外，每个固定叶片8也都以最适合气体分子的排气的角度倾斜。

《多个排气层的排气动作说明》

在由以上结构构成的多个排气层PT中，在最上层的排气层PT(PT1)中通过驱动马达MO的启动，多个旋转叶片7与转子轴5及转子6一体地高速旋转，对借助旋转叶片7的旋转方向前表面且向下(从吸气口2向排气口3的方向，以后简称作向下)的倾斜面从吸气口2入射的气体分子施加向下且沿切线方向的动量。该具有向下的动量的气体分子被设置于固定叶片8的旋转方向与旋转叶片7方向相反的向下的倾斜面送入接下来的排气层PT(PT2)。此外，在接下来的排气层PT(PT2)及此后的排气层PT中，也与最上层的排气层PT(PT1)相同地，旋转叶片7旋转，进行如前所述的基于旋转叶片7向气体分子的动量的施加和基于固定叶片8的气体分子的送入动作，由此，吸气口2附近的气体分子以向转子6的下游顺次转移的方式被排出。

《螺纹槽泵层的详细情况》

在图1的真空泵P1处，构成为，转子6的比大致中间靠下游处作为螺纹槽泵层PS发挥功能。以下，详细说明螺纹槽泵层PS。

螺纹槽泵层PS具有螺纹槽排气部定子9作为在转子6的外周侧(具体地，转子6的比大致中间靠下游的转子6部分的外周侧)形成螺纹槽排气流路R的机构，该螺纹槽排气部定子9作为固定部件安装于外装壳1的内周侧。

螺纹槽排气部定子9是配置成其内周面与转子6的外周面相向的圆筒形的固定部件，配置成将转子6的比大致中间靠下游的转子6部分包围。

并且，转子6的比大致中间靠下游的转子6部分是作为螺纹槽排气部PS的旋转部件旋转的部分，被经由既定的缝隙插入・容纳于螺纹槽排气部定子9的内侧。

在螺纹槽排气部定子9的内周部，形成有变化成深度向下方而小径化的圆锥形状的螺纹槽91。该螺纹槽91从螺纹槽排气部定子9的上端至下端被螺旋状地刻设。

借助具备如前所述的螺纹槽91的螺纹槽排气部定子9，在转子6的外周侧，形成用于排出气体的螺纹槽排气流路R。另外，虽省略图示，但也可以构成为，通过在转子6的外周面形成之前说明的螺纹槽91来设置如前所述的螺纹槽排气流路R。

在螺纹槽排气部PS，借助螺纹槽91和转子6的外周面处的曳力效果，将气体压缩的同时移送，所以螺纹槽91的深度设定成在螺纹槽排气流路R的上游入口侧(靠近吸气口2一方的流路开口端)最深，在其下游出口侧(靠近排气口3的一方的流路开口端)最浅。

螺纹槽排气流路R的入口(上游开口端)向构成最下层的排气层PTn的固定叶片8E和螺纹槽排气部定子9之间的间隙(以下称作“最终间隙GE”)开口，此外，该螺纹槽排气流路R的出口(下游开口端)穿过泵内排气口侧流路S与排气口3连通。

泵内排气口侧流路S通过在转子6、螺纹槽排气部定子9的下端部和泵基部1B的内底部之间设置既定的间隙(在图1的真空泵P1中环绕定子柱4的下部外周一周的方式的间隙)，形成为从螺纹槽排气流路R的出口到达排气口3。

《螺纹槽排气部的排气动作说明》

通过基于之前说明的多个排气层PT的排气动作的移送到达前述的最终间隙GE的气体分子向螺纹槽排气流路R转移。转移的气体分子由于由转子6的旋转产生的曳力效果，被从过渡流向粘性流压缩，同时向泵内排气口侧流路S转移。并且，到达泵内排气口侧流路S的气体分子流入排气口3，被穿过图中未示出的辅助泵向外装壳1外排出。

《颗粒移送层的详细情况》

图2(a)是从转子的外周面侧观察图1的真空泵的颗粒移送层的状态的说明图，图2(b)是图2(a)的A向视图，图2(c)是图2(a)的B向视图。

若参照图2(a)，则构成为，图1的真空泵P1的颗粒移送层PN与构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7一同旋转，且具备比构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7的张数少的张数的叶片NB。

构成颗粒移送层PN的旋转叶片7的张数如前所述，比构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7的张数少，所以构成颗粒移送层PN的旋转叶片7的配置间隔L2被设定成比构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7的配置间隔L1宽(L1＜L2)。

在图1的真空泵P1中，作为构成颗粒移送层PN的叶片NB的具体的结构，该叶片NB如图2(a)所示地与构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7相邻地设置。

通过采用如前所述的相邻的构造，在图1的真空泵P1中，构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7中的与构成颗粒移送层PN的叶片NB相邻的旋转叶片7(71、74)的高度被构成颗粒移送层PN的叶片NB延长，由此，构成最上层的排气层PT(PT1)的多个旋转叶片7呈作为这些整体而上游端7A的高度不同构造。

作为如前所述的相邻的具体的结构例，在图1的真空泵P1中，如图2(a)所示，前述的叶片NB和旋转叶片7采用作为一个零件被一体地设置的构造。

即，在图1的真空泵P1中，如图2(a)所示，构成最上层的排气层PT(PT1)的多个旋转叶片7、7…中相对于至少某一张的旋转叶片7(71、74)的整体(具体地为旋转叶片7的直径D方向及厚度T方向整体)采用构成颗粒移送层PN的叶片NB被一体地设置的构造(以下称作“叶片一体构造”)。

在图2(a)的例子中，通过采用如前所述的叶片一体构造，公开了位于两张旋转叶片72、73的两侧的两张旋转叶片71、74的上游端7A比其他旋转叶片72、73、75的上游端7A高的结构，但不限于此。位于上游端7A的较高的旋转叶片71、74间的旋转叶片72、73的张数能够根据需要适当增减。

《颗粒移送层的动作说明》

若参照图18，则设想的是，由于真空腔CH内的化学处理附带地生成的微粒状的处理副产物在真空腔CH内漂浮・扩散，由于自重、气体分子的移送效果向真空泵P1的吸气口2下落。此外，设想的是，附着堆积于真空腔CH的内壁面的堆积物、附着堆积于压力调整阀BL的堆积物等也由于振动等剥落，由于自重向真空泵Z的吸气口2下落。

若参照图2(a)，则由于如前所述的下落而来到吸气口2的颗粒Pa从吸气口2进一步下落，最先向颗粒移送层PN入射。并且，入射的颗粒Pa与构成颗粒移送层PN的叶片NB碰撞。

此时，在颗粒移送层PN中，相对于叶片NB碰撞的多个颗粒中的、通过与位于基于叶片NB的旋转的进行方向前侧的该叶片NB的斜面FS(以下称作“叶片NB的前斜面FS”)的碰撞而被向气体分子排出方向反射的颗粒(以下称作“排气方向反射颗粒”)的比例增加，被向吸气口2方向弹回的颗粒(以下存在“逆流颗粒”)的比例减少。该理由如下述《考察1》和《考察2》所述。

《考察1》

在该考察1中，研究构成颗粒移送层PN的叶片NB与构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7相相邻地设置的构造例。

在图1的真空泵P1中，在省略颗粒移送层PN的情况下(相当于以往的真空泵)，最上层的排气层PT(PT1)的颗粒的碰撞可能区域Z1(参照图2(a))基于下式(1)被确定。

另一方面，如图1的真空泵P1所示地具备颗粒移送层PN的情况下(相当于本发明的真空泵)，该颗粒移送层PN的颗粒的碰撞可能区域Z2(参照图2(a))基于下式(2)被确定。

Z1＝L1×Vp/Vr　…式(1)

Z2＝L2×Vp/Vr　…式(2)

L1：旋转叶片7的配置间隔

L2：叶片NB的配置间隔

Vp：颗粒Pa的下落速度

Vr：旋转叶片7、叶片NB的旋转速度(周速度)

在图1的真空泵P1中，构成颗粒移送层PN的叶片NB的张数比构成最上层的排气层PT1的旋转叶片7的前述的张数少，由此，构成颗粒移送层PN的叶片NB的配置间隔L2与构成最上层的排气层PT1的旋转叶片7的配置间隔L1相比被较宽地设定。

若考虑该点地将上式(1)和上式(2)比较研究，则Z2比Z1大(Z2＞Z1)，所以，如前所述地在颗粒移送层PN中排气方向反射颗粒的比例增加，逆流颗粒的比例减少。该理由主要是因为，若颗粒的碰撞可能区域变宽，则在旋转叶片7、叶片NB处与向气体分子排出方向倾斜的斜面碰撞而被向气体分子排出方向反射的概率和与沿吸气口2方向逆流的概率的较高的面(具体地为位于前述的倒角面及倒角部的上部的凸圆弧面)碰撞的概率相比有优势。

《考察2》

图3是在不具备颗粒移送层的真空泵(相当于以往的真空泵)中下落的颗粒的碰撞可能区域的说明图，图4是在具备颗粒移送层的图1的真空泵(相当于本发明的真空泵)中下落的颗粒的碰撞可能区域的说明图。

在考察2中，对前述的高度不同构造进行研究。

若参照图3，则在不具备前述的高度不同构造、即省略颗粒移送层PN的真空泵(相当于以往的真空泵)中，关于最上层的排气层P(PT1)的直径D部(参照图2(c))的颗粒的碰撞可能区域Zp1，根据下式(3)求出。

Zp1＝{(πD/N-T)Vp}/(Vr)　…式(3)

N：构成最上层的排气层的旋转叶片7的张数

D：直径D部的尺寸(参照图2(c))

T：构成最上层的排气层的旋转叶片7的直径D部的轴直角厚度(参照图2(c))

Vp：颗粒的下落速度

Vr：旋转叶片7的直径D部的旋转速度(周速度)

若参照图4，则关于前述的高度不同构造的层差的高度(突出高度)Zp2，基于下式(4)被确定。

下式(4)将图2(a)的两张旋转叶片72、73如图3那样地考虑成n张旋转叶片7、7…，对于位于n张旋转叶片7、7的两侧的旋转叶片71、74的上游端7A比其他旋转叶片(71、74以外)的上游端高的高度不同构造应用。

Zp2＝{(πD・n/N)Vp}/(Vr)　…式(4)

n：位于上游端较高的旋转叶片71、74间的旋转叶片的张数

D：直径D部的尺寸(参照图2(c))

N：构成最上层的排气层的旋转叶片7的张数

Vp：颗粒Pa的下落速度

Vr：旋转叶片7的直径D部的旋转速度(周速度)。

在图2(c)的直径D部中，若将n张旋转叶片7和位于该两侧的旋转叶片7(71、74)的层差如图4所示设为Zp2以上，则向附图标记71和74的旋转叶片间的空间(图2中相当于L2)下落的颗粒不会与n张旋转叶片7碰撞而是与附图标记74的旋转叶片的前表面碰撞。并且，颗粒向附图标记74的旋转叶片的前表面的碰撞可能区域被根据下式(5)的后述的Zp3确定。

具备前述的高度不同构造的、即具备颗粒移送层PN的图1的真空泵(相当于本发明的真空泵)中，构成最上层的排气层PT(PT1)的多个旋转叶片7作为它们整体呈上游端7A的高度不同的高度不同构造。该高度不同构造如前所述，与构成颗粒移送层PN的叶片NB相邻的旋转叶片7的高度被前述叶片NB延长，所以在该考察2中，考虑成“存在上游端高叶片NB的高度Zp2的旋转叶片”。

这样地考虑的情况下，最上层的排气层PT(PT1)的直径D部(参照图2(c))中的颗粒的碰撞可能区域Zp3(参照图4)基于下式(5)被确定。

Zp3＝[{πD(n＋1)/N-T)}Vp]/(Vr)　…式(5)

N：构成最上层的排气层的旋转叶片7的张数

D：直径D部的尺寸(参照图2(c))

T：构成最上层的排气层的旋转叶片7的直径D部的轴直角厚度(参照图2(c))

Vp：颗粒的下落速度

Vr：旋转叶片7的直径D部的旋转速度(周速度)

n：位于上游端较高的旋转叶片71、74间的旋转叶片的张数。

若参照图4，则从旋转叶片7观察的颗粒的相对速度Vc被根据直径D部(参照图2)的旋转叶片7的旋转速度Vr和颗粒的下落速度Vp求出。在图4中，若将上游端较高的旋转叶片7(71、74)的间隔乃至区间设为叶片间隔L′，则从图4的A地点入射的颗粒(在叶片间隔L′内能够入射(下落)至最下游侧的颗粒)在叶片间隔L′的范围内下落至位于旋转叶片7(74)末端的延长线上的B′地点。从旋转叶片7(74)的上端面7A至B′地点的下落距离为前式(5)所求出的Zp3。在具备颗粒移送层PN的图1的真空泵(相当于本发明的真空泵)中，在该Zp3的范围内没有倒角等的叶片面，所以下落至B′地点的颗粒能够进一步下落，最终与旋转叶片7(74)的前表面、具体地为该旋转叶片7(74)的向下斜面的C′地点碰撞。

从以上的说明可知，在具备颗粒移送层PN的图1的真空泵(相当于本发明的真空泵)中，旋转叶片7(74)的上端面7A至C′地点的颗粒的下落距离Zp4为该颗粒的碰撞可能区域，该碰撞可能区域(下落距离Zp4)比从前式(5)所得到的碰撞可能区域Zp3大。

总之，若将基于前述的高度不同构造的层差的高度设为Zp2，则从图4的A点入射的颗粒碰撞于B点，但若将这样的层差设为Zp2以上，则该颗粒不与n张旋转叶片7碰撞，而与旋转叶片7(74)的前表面(例如旋转叶片7(74)的向下斜面的C′地点)碰撞。

这里，将上式(3)和上式(5)比较研究。此时，若为了简单而无视上式(3)和上式(5)中的旋转叶片7的厚度T来考虑，则采用如前所述地层差的高度为Zp2以上的高度不同构造的情况，即上式(5)的情况，与上式(3)的情况相比，颗粒Pa的碰撞可能区域被放大(n＋1)倍，所以排气方向反射颗粒的比例增加，逆流颗粒的比例减少。该理由主要是因为，若颗粒的碰撞可能区域较宽，则在旋转叶片7、叶片NB处与向气体分子排出方向倾斜的斜面碰撞而被向气体分子排出方向反射的概率和与吸气口2方向逆流的概率较高的面(具体地为以往例中说明的倒角面及位于倒角部的上部的凸圆弧面)碰撞的概率相比有优势。

另外，在叶片NB被除了旋转叶片7之外另外设置的构造中也与上述动作相同。

《颗粒移送层PN的其他实施方式(其1)》

在图1的真空泵P1中，作为颗粒移送层PN的具体的结构，采用相对于旋转叶片7的整体设置叶片NB的结构，但不限于此。例如，也可以是，如图5(a)(b)(c)所示，采用在旋转叶片7的长度L方向的一部分设置叶片NB的结构，如图5(d)(e)所示，采用在旋转叶片7的厚度T方向的一部分设置叶片NB的结构，借助这样的结构也能够得到前述的作用效果(排气方向反射颗粒的比例增加、逆流颗粒的比例减少)。

《颗粒移送层PN的其他实施方式(其2)》

在图1的真空泵中，如图2(a)所示，作为构成最上层的排气层PT(PT1)的多个旋转叶片7的具体的结构，多个旋转叶片7的间隔构成为相同的间隔，但不限于此。例如，如图6所示，由于前述的高度不同构造而上游端变高的旋转叶片7(74)、与位于该旋转叶片7(74)的旋转进行方向前侧的旋转叶片73(以下称作“先行叶片7(73)”)的配置间隔能够与其他旋转叶片7的配置间隔相比被较宽地设定。

若参照图6，则采用如前所述的配置间隔的设定的情况下，如前所述地通过与叶片NB的前斜面FS的碰撞而反射的排气方向反射颗粒难以与先行叶片7(73)碰撞，由于与先行叶片7(73)的背面(朝向旋转方向背侧的吸气口2方向的斜面。以下也相同)的碰撞的反射而被向吸气口2方向弹回的颗粒(这也是逆流颗粒的一种)减少，颗粒的排气效率进一步提高。

《颗粒移送层PN的其他实施方式(其3)》

在图1的真空泵中，如图2(a)所示，作为构成最上层的排气层PT(PT1)的多个旋转叶片7的具体的结构，多个旋转叶片7的下游端7B构成为相同的高度，但不限于此。例如，如图7(a)所示，先行叶片7(73)的下游端7B也可以采用与其他的旋转叶片7的下游端7B相比向吸气口2方向凹进的结构(以下称作“底提高构造”)，如图7(b)所示，也可以是将先行叶片7(73)的下游端7B的一部分切削来设为底提高构造。

若参照图7(a)(b)，则在采用如前所述的底提高构造的情况下，也如前所述，由于与叶片NB的前斜面FS的碰撞而反射的排气方向反射颗粒难以与先行叶片7(73)的背面碰撞，由于与先行叶片7(73)的背面的碰撞的反射而被向吸气口2方向弹回的颗粒(这也是逆流颗粒的一种)减少，颗粒的排气效率进一步提高。

《颗粒移送层PN的其他实施方式(其4)》

在图1的真空泵P1中，采用多个旋转叶片7作为整体其上游端7A为高度不同构造，即采用旋转叶片7的上游端7A被叶片NB延长而变高的构造(以下称作“单侧延长叶片构造”)，但不限于此。

例如，除了如前所述的单侧延长叶片构造，进而，如图8所示，由于前述的高度不同构造而上游端7A变高的旋转叶片7(71、74)的下游端7B也能够采用以比其他旋转叶片7(72、73、75)的下游端7B长的方式延长的构造(以下称作“两侧延长叶片构造”)。作为这样的两侧延长叶片构造的具体的结构例，另外，在图8中，由于与为了得到前述的高度不同构造所使用的叶片NB等同叶片NB而将旋转叶片7(71、74)的下游端7B延长，但不限于这样的延长方式。

但是，旋转叶片7与转子6一体地旋转，所以基于该旋转的离心力从旋转叶片7的固定端向自由端的方向作用，或从旋转叶片7的旋转中心(具体地为转子轴5的轴心)向放射方向作用。一般的旋转叶片7设置成其形状绕与旋转轴(具体地为转子轴5)呈直角且呈放射方向的直线(以下为叶片的形状中心)对称。这是为了减少下述风险的措施，所述风险为，由基于如前所述的旋转的离心力引起而产生于旋转叶片7的力的力矩绕旋转叶片的形状中心不平衡，由此，在旋转叶片7的根部(固定端)产生螺纹力矩而疲劳破损等的风险。

在之前说明的单侧延长叶片构造中，仅旋转叶片7的上游端7A被延长，所以考虑到容易产生绕旋转叶片7的形状中心的螺纹力矩的不平衡，由于这样的螺纹力矩而旋转叶片7的固定端附近、即位于转子6的外周面侧的部分疲劳破坏等，旋转叶片7可能会损伤。

与此相对，在之前说明的两侧延长叶片构造中，在旋转叶片7(71、74)的上游端7A和下游端7B的双方设置有等同的叶片NB，所以如前所述的螺纹力难以产生，也难以发生由螺纹力引起的疲劳破坏等和旋转叶片7的损伤。

《颗粒移送层PN的其他实施方式(其5)》

在图1的真空泵P1中，作为构成颗粒移送层PN的叶片NB的具体的结构，该叶片NB采用与构成最上层的排气层PT1的旋转叶片7相邻地设置的结构、及作为该相邻的具体的结构例而采用叶片NB和旋转叶片7作为一个零件被一体地设置的构造(参照图2(a))，但不限于此。

作为如前所述的相邻的具体的其他结构例，例如如图9(a)所示，也可以是，相对于构成最上层的排气层PT(PT1)的多个旋转叶片7中的至少某一张旋转叶片7(71、74)的整体或其一部分，构成颗粒移送层PN的叶片NB作为其他零件被安装的结构。在这样的其他零件的结构中，前述“旋转叶片的整体或其一部分”的解释是基于前述的《颗粒移送层PN的其他实施方式(其1)》中的说明的，省略其详细说明。

此外，在采用作为前述其他零件构成的前述叶片NB的情况下，借助作为该其他零件的叶片NB，构成最上层的排气层PT(PT1)的多个旋转叶片7为其上游端7A的高度不同的高度不同构造，所以得到前述的作用效果(排气方向反射颗粒的比例增加、逆流颗粒的比例减少)。

如前所述，采用作为别零件构成的叶片NB的情况下，在构成颗粒移送层PN的叶片NB和构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7(71)之间，例如，也有如图9(b)那样地产生间隙或如图9(c)那样地产生相对的偏离的情况。产生该间隙、偏离的结构也被包含于前述“相邻”，得到前述的作用效果(排气方向反射颗粒的比例增加、逆流颗粒的比例减少)。如前所述的间隙、偏离有在设计上根据需要积极地设置的情况、由于与加工精度的关系而被必然地设置的情况。

如前所述地将构成颗粒移送层PN的叶片NB设为其他别零件的结构中，也可以应用之前说明的《颗粒移送层PN的其他实施方式(其1)》至《颗粒移送层PN的其他实施方式(其4)》的结构。

在采用如前所述地作为其他零件构成的叶片NB的结构中，该叶片NB、即构成颗粒移送层PN的叶片NB、构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7(71)是各自的叶片面直接相向的构造，在这样直接相向的叶片面间不存在例如固定叶片8那样的固定零件。这点也与之前说明的叶片一体构造(参照图2(a))相同。

《颗粒移送层PN的其他实施方式(其6)》

在图1的真空泵中，作为颗粒移送层PN的具体的结构，构成颗粒移送层PN的叶片NB采用与构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7相邻地设置的结构，但不限于此。

例如，如图10所示，构成颗粒移送层PN的叶片NB可以采用设置于从构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7离开既定距离的位置的结构，借助该结构，得到前述的作用效果(排气方向反射颗粒的比例增加、逆流颗粒的比例减少)。

《颗粒移送层PN的其他实施方式(其7)》

在如之前说明的图9(a)那样地构成颗粒移送层PN的叶片NB作为其他零件被安装的结构中，该叶片NB的具体的安装构造例如如图11所示，也可以采用如下方式：准备能够嵌入转子6上端面的凹部61的第1安装部件62，在第1安装部件62的外周面(具体地为设置于第1安装部件62的外周的凸缘62A的外周面)支承前述叶片NB，并且以将第1安装部件62嵌入前述凹部61的状态将第1安装部件62和转子轴5的末端借助螺栓BT螺纹紧固固定。

在使用如前所述的第1安装部件62的叶片NB的安装方式中，有气体滞留于转子6上端面的凹部61内的可能性，所以优选的是，具备在第1安装部件62设置气体排出孔63或者在第1安装部件62的凸缘62A和转子6上端面之间设置气体排出槽64等气体排出机构。

为了使包括转子6、旋转叶片7等的旋转体整体的旋转平衡，图11所示的叶片NB配置成从该旋转体的旋转中心观察如图12所示地旋转对称。对于这样的配置结构，也能够应用于之前说明的图1至图10(除了图3)的叶片NB、后述的图13、图4的叶片NB。

《颗粒移送层PN的其他实施方式(其8)》

关于如前所述地作为其他零件构成的叶片NB的具体的安装构造，例如也可以采用图13所示的安装构造。在该图13的安装构造中，准备能够相对于转子轴5的末端安装的第2安装部件65，在该第2安装部件65的外周面支承前述叶片NB，并且将第2安装部件65和转子轴5的末端借助螺栓BT螺纹紧固固定。

《颗粒移送层PN的其他实施方式(其9)》

进而，作为构成为其他零件的前述叶片的具体的安装构造，虽省略图示，但也能够采用相对于转子6的吸气口侧的上端部借助螺栓将前述叶片螺纹紧固固定的方式。

《颗粒移送层PN的其他实施方式(其10)》

在图1的真空泵P1中，如图2(a)所示，采用构成颗粒移送层PN的叶片NB的仰角θ1、构成最上层的排气层PT(PT1)的多个旋转叶片7的仰角θ2被设定成相同角度的结构(θ1＝θ2)，但不限于此。

例如，也可以构成为，如图14所示那样的仰角的设定、即构成颗粒移送层PN叶片NB的仰角θ1设定成比构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7的仰角θ2小(θ1＜θ2)。

采用如前所述的仰角的结构的情况为，构成颗粒移送层PN的叶片NB相对于构成最上层的排气层PT(PT1)的旋转叶片7(71、74)突出的形态，与先行叶片的方向相比，向叶片下端间的空间的方向、即从旋转体(具体地为包括转子6、旋转叶片7等旋转体)的轴向向下靠近方向的角度反射，所以由于与叶片NB的前斜面FS的碰撞而反射的排气方向反射颗粒难以与先行叶片7(73)的背面碰撞，由于与先行叶片7(73)的碰撞的反射被向吸气口2方向弹回的颗粒(这也是逆流颗粒的一种)减少，颗粒的排气效率进一步提高。

此外，如前所述的仰角的设定不仅如图14所示叶片NB被设置成其他零件，对于如图6所示叶片NB和旋转叶片7被一体设置的结构也能够应用。

《颗粒移送层PN的其他实施方式(其11-1及11-2)》

由于之前说明的高度不同构造产生的层差的高度(深度)不限于一种，也可以构造成多个层差的高度(深度)的组合。例如，可以台阶状地形成(参照图15)，也可以设置成锥状地高度变化那样的形状(参照图16)。进而，虽省略图示，但作为多个层差的高度(深度)的组合例，也能够采用设定成这样的层差的高度(深度)不均的结构(层差高度或深度不均的结构)。总之，多个层差的高度(深度)的组合能够根据需要适当改变。此外，根据旋转叶片的半径方向位置，也可以改变层差的高度。

图15是颗粒移送层PN的其他实施方式(其11-1)、具体地为作为多个层差的高度的组合例而层差的高度台阶状地变化的结构的说明图。此外，图16为颗粒移送层PN的其他实施方式(其11-2)、具体地为作为多个层差的高度的组合例而层差的高度锥状地变化的结构的说明图。

这里，若例如参照图4，则在该图4的例子中，由于前述的高度不同构造而上游端7A变高的旋转叶片7(71、74)与位于其间的旋转叶片7、7的层差的高度(深度)构成为一律相同的Zp2或Zp2以上的Zp3。

与此相对，若参照图15，则在该图15的例子中，采用以在第n张旋转叶片7(80)处由前述的高度不同构造产生层差的高度(深度)为Zp2以上的方式台阶状地变化(h1＜h2＜h3)的结构(以下称作“台阶形状式结构”)。

因此，在该台阶形状式结构中，由于高度不同构造而上游端7A变高的旋转叶片7(76、80)和位于其间的旋转叶片7(77、78、79)的层差的高度(深度)h1、h2、h3并非一律相同，设定成向旋转叶片7的旋转方向按顺序逐层变低(变深)。采用这样地设定的台阶形状式结构的情况下，从图15所示的微粒Pa的飞行轨迹可知，微粒Pa也不会与旋转叶片7(77、78、79)碰撞，得到前述的作用效果(排气方向反射颗粒的比例增加、逆流颗粒的比例减少)。

采用前述台阶形状式结构的情况下，位于上游端7A变高的旋转叶片7(76、80)间的旋转叶片7(77、78、79)的上游端7A均由不倾斜的平面构成。

若参照图16，则在该图16的例子中，采用以在第n张旋转叶片7(80)处由于高度不同构造而产生的层差的高度(深度)为Zp2以上的方式锥状地变化(h4＜h5＜h6)的结构(以下称作“锥形状式结构”)。

因此，在该锥形状式结构中，由于前述的高度不同构造而上游端7A变高的旋转叶片7(76、80)和位于其间的旋转叶片7(77、78、79)的层差的高度(深度)h4、h5、h6也并非一律相同，设定成向旋转叶片7的旋转方向连续地变低(变深)。采用这样地设定的锥形状式结构的情况下，如根据图16所示的微粒Pa的飞行轨迹可知，微粒Pa也不会与旋转叶片7(77、78、79)碰撞，得到前述的作用效果(排气方向反射颗粒的比例增加、逆流颗粒的比例减少)。

采用前述锥形状式结构的情况下，位于上游端7A变高的旋转叶片7(76、80)间的旋转叶片7(77、78、79)的上游端7A均由以既定角度倾斜的倾斜面构成。

但是，旋转叶片7的配置间隔与高度的比例设定成能够将气体分子向下游侧有效地移送的最佳的值，所以若旋转叶片7的高度不同，则一部分的旋转叶片7从该最佳的设定值偏离，有导致作为真空泵整体的排气性能的下降的可能。由此，优选的是，在确保排气性能的基础上旋转叶片7的高度的差较小。

这点在之前说明的图15的台阶形状式结构、图16的锥形状式结构中，采用以在第n张旋转叶片7(80)处由于高度不同构造产生的层差的高度为Zp2以上的方式台阶状或者锥状地变化的结构，所以，例如采用后述的减高式高度不同构造的情况下，旋转叶片7的高度的差也变小，排气性能的下降难以发生。另外，图15的台阶形状式结构、图16的锥形状式结构不仅是后述的减高式高度不同构造，显然也可以在前述的高度不同构造中采用。

《颗粒移送层PN附近的本发明的其他实施方式》

图17是颗粒移送层PN附近的本发明的其他实施方式的说明图。在该图17的实施方式中，在最上层的排气层PT(PT1)的上游(具体地为比颗粒移送层PN靠上游)作为反射机构RF设置有以与构成最上层的排气层PT(PT1)的多个旋转叶片7方向相反的角度倾斜的固定的叶片RF1(以下称作“固定反射叶片RF1”)。

若参照图17，则微粒Pa被构成排气层PT(PT1)的旋转叶片7(以下称作“最上层的旋转叶片7”)向下游方向反射，向构成该排气层PT(PT1)的固定叶片8(以下称作“最上层的固定叶片8”)的方向转移。此时，转移的一部分微粒Pa如图17所示，在最上层的固定叶片8的背面或者上端面被再反射，由此不向最上层的旋转叶片7的前表面入射，在最上层的旋转叶片7间以既定速度排出来向吸气口2、其之前的真空腔CH的方向逆流的概率高。

作为防止由于如前所述的最上层的固定叶片8处的再反射而产生的微粒Pa(以下称作“再反射微粒Pa”)的逆流的机构，反射机构RF发挥功能。即，再反射微粒Pa如图17所示，被固定反射叶片RF1反射，再向最上层的排气层PT(PT1)的方向转移。

但是，如前所述地逆流的再反射微粒Pa如前所述在最上层的旋转叶片7间以既定速度穿过，所以作为该穿过所需的速度成分，具有与最上层的旋转叶片的倾斜并行(旋转方向)的速度成分。由此，构成为，在图17的实施方式中，如上所述，固定反射叶片RF1设为以与最上层的旋转叶片7方向相反的角度倾斜的形状，由此，能够将逆流的再反射微粒Pa借助固定反射叶片RF1有效地捕集。

固定反射叶片RF1的张数、倾斜角度等能够考虑由固定反射叶片RF1产生的微粒Pa的反射、作为真空泵整体的排气效率等且根据需要适当改变。

在图17的实施方式中，比真空泵P1的吸气口2靠下游地设置反射机构RF，由此，采用在真空泵PI内配置反射机构RF的结构，但不限于此。虽省略图示，但反射机构RF例如也可以设置于将真空泵P1和真空腔CH连接的路径的途中。

本发明不限于以上说明的实施方式，在本发明的技术的思想内能够由在本领域具有通常的知识的人进行多种变形。

例如，从之前说明的《颗粒移送层PN的其他实施方式(其1)》至《颗粒移送层PN的其他实施方式(其11-2)》的结构、以及《颗粒移送层PN附近的本发明的其他实施方式》的结构能够根据需要使用适当的组合。

以上说明的实施方式的真空泵在从吸气口2至排气口3之间具有作为将气体分子排出的机构发挥功能的多个排气层PT，该多个排气层PT针对每个排气层PT，构成为借助被放射状地以既定间隔配置的多个旋转叶片7和固定叶片8将气体分子排出。在由这样的构造构成的多个排气层PT中，也可以是，设置成减高式高度不同构造，即设置成使构成最上层的排气层PT1的多个旋转叶片7的至少一部分的上游端7A的高度变低(减高)，由此作为这些整体呈上游端7A的高度不同的高度不同构造，呈沿气体分子的排气方向移送颗粒的颗粒移送层。这样的颗粒移送层也与前述的颗粒移送层PN相同地发挥功能。

附图标记说明

1　 外装壳

2 　吸气口

3　 排气口

4　 定子柱

5　 转子轴

6　 转子

61　 转子上端面的凹部

62　 第1安装部件

62A　凸缘

63　 气体排出孔

64　 气体排出槽

65　 第2安装部件

7　 旋转叶片

8　 固定叶片

9　 螺纹槽排气部定子

91　 螺纹槽

BL　 压力调整阀

BT　 螺栓

CH　 真空腔

D　 旋转叶片的直径

EG　 叶片边缘部

FS　 构成颗粒移送层的叶片的前斜面

GE　 最终间隙

L1　 构成最上层的排气层的旋转叶片的配置间隔

L2　 构成颗粒移送层的旋转叶片的配置间隔

MB1　径向磁轴承

MB2　轴向磁轴承

MO　 驱动马达

MS　 倒角部

MC　 倒角部的上部

P1　 真空泵

Pa　 微粒

PN　 颗粒移送层

PS　 螺纹槽泵层

PT　 排气层

PT1　最上层的排气层

PTn　最下层的排气层

R　 螺纹槽排气流路

RF　 反射机构

RF1　固定反射叶片

S　 泵内排气口侧流路

Z　 以往的真空泵。

Claims (19)

1.一种真空泵，前述真空泵在从吸气口至排气口之间具有作为将气体分子排出的机构发挥功能的多个排气层，前述多个排气层构成为，针对排气层，借助被放射状地以既定间隔配置的多个旋转叶片和固定叶片将前述气体分子排出，其特征在于，

在前述多个排气层中的最上层的排气层至前述吸气口之间，作为沿前述气体分子的排气方向移送颗粒的颗粒移送层，具备与构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片一同旋转且比构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的张数少的张数的叶片。

2.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，

构成前述颗粒移送层的前述叶片被与构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片相邻地设置。

3.如权利要求1或2所述的真空泵，其特征在于，

相对于构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片中的至少某一张旋转叶片的整体或其一部分，一体地设置构成前述颗粒移送层的前述叶片。

4.如权利要求1至3中任一项所述的真空泵，其特征在于，

构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片中的与构成前述颗粒移送层的前述叶片相邻的旋转叶片的高度由于构成前述颗粒移送层的前述叶片被延长，由此，构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片作为它们整体呈上游端的高度不同的高度不同构造。

5.如权利要求4所述的真空泵，其特征在于，

构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的由于前述高度不同构造而上游端变高的旋转叶片与位于该旋转叶片的旋转进行方向前侧的旋转叶片的配置间隔被比其他前述多个旋转叶片的配置间隔宽地设定。

6.如权利要求4所述的真空泵，其特征在于，

构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的位于由于前述高度不同构造而上游端变高的旋转叶片的旋转进行方向前侧的前述旋转叶片的下游端，与其他前述多个旋转叶片的下游端相比向前述吸气口方向凹进。

7.如权利要求4所述的真空泵，其特征在于，

构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的由于前述高度不同构造而上游端变高的旋转叶片的下游端以比其他前述多个旋转叶片的下游端长的方式被延长。

8.如权利要求4至7中任一项所述的真空泵，其特征在于，

构成为，由前述高度不同构造产生的层差的高度台阶状地变化。

9.如权利要求4至7中任一项所述的真空泵，其特征在于，

构成为，由前述高度不同构造产生的层差的高度锥状地变化。

10.如权利要求1至9中任一项所述的真空泵，其特征在于，

相对于构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的至少某一张旋转叶片的整体或其一部分，构成前述颗粒移送层的前述叶片被作为其他零件安装。

11.如权利要求1至10中任一项所述的真空泵，其特征在于，

构成前述颗粒移送层的前述叶片的仰角被设定成比构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片的仰角小。

12.如权利要求1至11中任一项所述的真空泵，其特征在于，

构成前述颗粒移送层的前述叶片被设置于从构成前述最上层的排气层的前述多个旋转叶片离开的位置。

13.一种叶片零件，其特征在于，

被用于权利要求1至权利要求12中任一项所述的真空泵，具备构成前述颗粒移送层的前述叶片。

14.一种真空泵，前述真空泵在从吸气口至排气口之间具有作为将气体分子排出的机构发挥功能的多个排气层，前述多个排气层构成为，针对排气层，借助被放射状地以既定间隔配置的多个旋转叶片和固定叶片将前述气体分子排出，其特征在于，

使构成最上层的排气层的前述多个旋转叶片的至少一部分的上游端的高度变低，由此，作为它们整体呈上游端的高度不同的高度不同构造，呈沿前述气体分子的排气方向移送颗粒的颗粒移送层。

15.如权利要求14所述的真空泵，其特征在于，

构成为，由前述高度不同构造产生的层差的高度台阶状地变化。

16.如权利要求14所述的真空泵，其特征在于，

构成为，由前述高度不同构造产生的层差的高度锥状地变化。

17.一种转子，其特征在于，

被用于权利要求1至权利要求12或权利要求14至权利要求16中任一项所述的真空泵，具备构成前述颗粒移送层的前述叶片。

18.如权利要求1至权利要求12或权利要求14至权利要求16中任一项所述的真空泵，其特征在于，

在前述最上层的排气层的上游，作为反射机构，设置有以与构成该最上层的排气层的前述多个旋转叶片方向相反的角度倾斜的固定的叶片。

19.一种固定的叶片，其特征在于，

被用于权利要求18所述的真空泵，在前述最上层的排气层的上游，作为前述反射机构，以与构成该最上层的排气层的前述多个旋转叶片方向相反的角度倾斜。